JPH0468686B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、円形磁気記録材料が、非磁性支持材
料とその上に両側に塗られた磁気層から成り、こ
の磁気層が、重合体結合剤中に細かく分散した異
方性磁気粒子を含み、その際これら粒子が、磁気
層の固化中に配向磁界を加えることによつて円形
に配向される、円形磁気記録材料の製造方法に関
する。 公知のように磁気メモリデイスクは、中心に適
当な保持および駆動手段を収容するため同心切欠
きを備えたアルミニウムまたはアルミニウム合金
製円板に、重合体結合剤中に細かく分散した磁化
可能な材料を含む分散液を塗り、続いてこの被覆
を乾燥させ、固化し、かつ続いて研摩するように
して作られる。被覆のためいわゆるスピンコーテ
イング法は特に優れており、その際支持円板は回
転させられ、かつ被覆混合物が塗られ、このこと
は、例えば米国特許第3198657号明細書に記載さ
れている。磁気層を塗る別の公知の方法は、支持
円板を被覆混合液に浸すかまたは混合物を散布す
ることによつて行われる。 可撓支持材料をベースにしたメモリデイスク
は、連続した帯状フイルムに磁気分散層を備え、
層を乾燥し、かつ可撓磁気デイスクを押抜くよう
にして大量に作られる。しかしながら可撓媒体に
おいても、特に磁気層品質に高度な要求が課され
る場合、前記スピンコーテイング法、浸漬または
散布法によつて個別被覆を行うことができる。 公知のように特に２酸化クロムおよびガンマ酸
化鉄（）を使用した際針状である磁化可能な粒
子を配向した場合、磁気記録担体の記憶特性を改
善することができる。その際分散液中の針状粒子
の長軸は、単軸形状異方性のため同時に磁化容易
方向をなし、この長軸は、均一磁界によつて予定
の記録方向および担体表面に対して平行に向けら
れている。均一な磁界は、通常永久磁石または直
流給電電磁石によつて発生される直流磁界であ
り、この磁界の磁力線は、記録方向および担体表
面に対して平行に延びている。粒子の配向を改善
するため同時に交番磁界を使用することも、すで
に開示されている（ドイツ連邦共和国特許出願公
告第1118483号明細書）。 米国特許第3176281号明細書に記載されたよう
なデイスク状磁気記録担体を利用する際、情報は
同心円トラツクに記録される。異方性粒子の配向
によつて記録方向の残留磁気を増加する、テープ
状記録担体により公知の利点をデイスク状記録媒
体にも転用しようとする場合、磁気粒子を記録デ
イスクの回転軸線の接線方向に向けなければなら
ないので、ここで通常の方法および装置は不適当
である。 円形記録デイスクの中心に垂直に取付けた導体
によるリング状磁界の発生は、接線方向における
磁気粒子の均一な配向には適していない。なぜな
らば磁界の強さは、外方に向つて大幅に低下し、
それにより内側トラツクの配向は外側トラツクの
ものとは相違してしまうからである。 ドイツ連邦共和国特許出願公開第1952627号明
細書に、表面に磁気異方性銅コバルト層を蒸着し
た磁気デイスクスタツクの製造装置が開示されて
いる。この装置は、複数の面によつて区切られた
磁束横断面を含み、その際記録担体は、磁束横断
面の区切られていない側からこの中に挿入されか
つ取出される。しかしドイツ連邦共和特許出願公
開第1952627号明細書に示された装置は、デイス
クを挿入するため全デイスク面に相当する横断面
が導体によつて区切られておらず、従つて磁界の
発生には利用されず、その結果合成磁界の不均一
性のため表面層と下層の異つた配向が生じる、と
いう欠点を有する。 まだ固化しない被覆を有する支持円板を電流導
体の平行な２つの面の間に挿入することもすでに
提案されており、その際電流導体は、支持円板の
両側において支持円板面に対して平行に、円側円
板部分から半径方向に外側円板境界へと通じるよ
うに配置されており、かつ両方の面に通された電
流導体において逆向きになつた電流方向によつ
て、磁界が発生され、この磁界の中心面内に前記
支持円板が置かれ、それにより円板面の磁気異方
性粒子は、円板面に対して垂直な回転軸線に関す
る接線方向に向けられ、かつ乾燥によつて固定さ
れる（ドイツ連邦共和国特許出願公開第2435096
号明細書）。同様に異方性磁気粒の円形配向を行
うため、ドイツ連邦共和国特許第2357517号明細
書に記載された方法を利用することができる。そ
の際まだ液状の磁気層に、２対のそれぞれ同極性
の磁極の間の対称面内に形成された磁界が作用す
る。 磁気記録担体における記憶密度がますます高く
なる磁気記憶技術の進歩によれば、記録技術の原
則に基づいて磁気層厚をますます減少することが
必要である。一方においてトラツク間隔の減少に
よりかつ他方において線上記録密度の増加により
単一情報（ビツト）のための記録面積は減少し、
一方それに比例して誤り率は増加する。層厚ほぼ
1μｍ、トラツク幅25μｍおよびビツト長さ5μｍの
今日の記録担体では、顕微鏡的に小さな穴（ピン
ホール）のような磁気層の極めてわずかな不規則
性によつてすでに誤り、すなわちデータ記録にお
ける電磁欠陥位置が生じるので、磁気層の均一性
は極度に高くなければならない。磁気層を形成す
る成分の組成の整合と分散および塗付技術の改善
によつて、配向を行わない記憶層では課された要
求はかなりの程度まで満たされるが、このこと
は、公知の方法で試みる限り、異方性磁気粒子を
円形に配向することには成立たない。 それ故に本発明の課題は、支持円板上に塗られ
た異方性磁気粒子をまだ固化しない層内に分散し
て記録方向に、すなわち円形に配向し、かつ同時
に非常に薄い層においても極めて高度な層品質を
得ることができる方法を提供することにある。 まだ液状の分散層における異方性磁気粒子の配
向が、０からゆつくりと磁気粒子の保磁力磁界強
度以上の値まで増加する直流磁界によつて行われ
る場合、異方性磁気粒子、重合体結合剤、有機溶
媒および通常の添加物を含んだ分散液を円形の非
磁性支持円板上に塗り、配向を行う直流磁界を作
用させて分散層内の異方性粒子を支持円板の面に
対して平行にかつ支持円板との面に垂直な回転軸
線に対して接線方向に配向し、被覆を固体磁気層
に変化させ、かつ場合によつては続いて磁気層を
研摩することにより、円形磁化容易方向を持つた
円形磁気記録材料が、所望の特性を持つように製
造可能であるとわかつた。 従つて配向を行う直流磁界は、すぐに磁気粒子
の配向に最適な磁界強度値にされるのではなく、
０から出発してゆつくりと、磁気粒子の保磁力磁
界強度の１ないし７倍以上の値まで、特に保磁力
磁界強度の２ないし４倍にまで増加されるという
ことが本発明にとつて重要である。３ないし60秒
の磁界上昇期間は、一般に溶媒の蒸発によつて層
内粒子がもはや動けなくなる程度に液状被覆が固
化する期間によつて決まる。通常磁界上昇段階に
はほぼ15秒の期間で十分であり、それに続いてさ
らに15秒、層の固化が始まるまで最終磁界強度を
維持する。この時間は、場合によつては加熱空気
または赤外線照射器のような特別の乾燥法を利用
すればさらに短くともよい。 本発明による方法を実施する際次のことは特に
有利であるとわかつた。すなわち磁気粒子の配向
を始める時点から、従つて磁気顔料の保磁力磁界
強度よりわずかに小さい時、およびほとんどど顔
料の配向される間に、従つて顔料保磁力磁界強度
の範囲において、磁界強度をゆつくりと直線的に
上昇させる。ほとんどの磁気粒子が配向されてい
る場合、この時点以後保磁力磁界強度のところま
で磁界は一層迅速に上昇してもよい。 フエロ磁性粒子の配向は次のようにして行うと
有利である。すなわちまだ固化しない磁気被覆を
有する支持円板は、リング状磁界を生じる装置に
挿入され、かつ磁界は、コイル電流の増加によつ
てゆつくりと強められる。相応した装置は、例え
ばドイツ連邦共和国特許出願公開第2435096号明
細書に示されている。 ゆつくりと上昇する磁界中で粒子の配向を行う
別の可能性は次の点にある。すなわちまだ固化し
ない被覆を備えた支持円板を、記録方向に対して
平行に配置された電磁石の磁界のところに通し、
または磁石対の磁界の間を通つて回転させ、その
際ここでも磁界の増強は、コイル電流の増大によ
つて制御される。このような方法および相応した
装置は、ドイツ連邦共和国特許第2357517号明細
書に開示されている。配向磁界の強さは、磁石か
ら被覆までの距離を介して調整してもよい。その
際増強する磁界は、磁石または磁石対から出る磁
界をまだ液状の被覆を備えた回転支持円板に半径
方向および／または軸線方向に供給することによ
り発生される。 本発明による方法によれば、非常に多くの割合
の磁気材料を含む極度に薄い分散層を得ることが
でき、これら層は、方向係数が大きい点で優れて
おり、その際同時に磁気層内の小さな傷または穴
のような欠陥位置により品質が低下することもな
い。磁気層の方向係数とは、配向方向に沿つた残
留磁束とこれに対して横向きの残留磁束との比で
ある。 次に例によつて本発明による方法を説明し、か
つ比較試験によつて公知技術に対する利点を示
す。 例 １ 長さ0.5μｍ、直径0.08μｍおよび保磁力磁界強
度24KA／ｍの酸化鉄粒子をベースにした、通常
の磁気メモリデイスクの製造のために使われる磁
気分散体を、通常のスピンコーテイング法によつ
て14インチアルミニウム支持円板の両面に塗付す
る。塗付した直後にドイツ連邦共和国特許出願公
開第3010873号明細書に記載されたような配向磁
石によつて、それぞれ両面を被覆した支持円板に
直流磁界を生じる。前記支持円板を60r.p.m.で連
続的に回転させながら磁界は、層の固化が始まる
まで20秒以内に50KA／ｍに増加される。磁気層
を続いて通常のように乾燥し、焼付けしかつ研摩
した後に、方向係数と誤り指数を測定する。 そのため試験送り機構において信号欠落試験
（ミスパルステスト）を行う。そのためデータ試
験ヘツドにより磁束変化周波数2fが書込まれ、同
時に読取られる。誤りとして、振幅平均値の60％
よりも小さな振幅のそれぞれの読取り信号が評価
される。 測定結果は表に示されている。 比較試験Ａ 例１と同様に処理を行うが、配向磁界は、投入
と共に完全な値、50KA／ｍになる。測定結果は
表に示した。 比較試験Ｂ 支持円板の被覆は例１に示すように行われる。
被覆した支持円板を回転しながら揮発性溶媒の一
部を蒸発させ（滞在時間10秒）、それから
50KA／ｍの配向磁界が投入され、その際円板
は、層が固化するまで引続き回転している。後続
処理は、例１に示したように行われる。測定結果
は、表に示した。 例 ２ 例１に示したものと同様に処理されるが、記録
担体の被覆のため、長さ0.6μｍ、直径0.1μｍおよ
び保磁力磁界強度35KA／ｍのCrO₂粒子を含む磁
気分散体を使用する。CrO₂顔料の保磁力磁界強
度に相応して配向磁界は、０から始めて20秒以内
に70KA／ｍまで上昇される。測定結果は表に示
した。 比較試験Ｃ 例２に示すように処理されるが、配向磁界は、
投入と共に70KA／ｍの完全な値にされる。測定
結果は表に示した。 比較試験Ｄ 支持円板の被覆は例２に示すように行われる。
被覆した支持円板を回転しながら揮発性溶媒の一
部を蒸発させ（滞在時間10秒）、それから
70KA／ｍの配向磁界が投入され、その際円板
は、層が固化するまで引続き回転している。後続
処理は、例２に示すように行われる。測定結果は
表に示した。 【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 異方性磁気粒子、重合体結合剤、有機溶媒お
   よび通常の添加物を含んだ分散液を円形の非磁性
   支持円板上に塗り、配向を行う直流磁界を作用さ
   せて磁気層内の異方性粒子を支持円板の面に対し
   て平行にかつ支持円板と同軸の回転円周に対して
   接線方向に配向し、流動磁気層を固化させ、かつ
   場合によつては続いて磁気層を研磨することによ
   り、円形磁化容易方向を持つた円形磁気記録材料
   を製造する方法において、 まだ液状の磁気層における異方性磁気粒子の配
   向が、３〜60秒の間に０から磁気粒子の保磁力以
   上の一定の値まで増加し、その磁界強度で一定時
   間保持される直流磁界によつて行われることを特
   徴とする円形磁気記録材料の製造方法。 ２ 配向を行う直流磁界を、分散液を塗布した支
   持円板を回転させながら、３ないし60秒で０から
   層内に存在する磁気粒子の保磁力の１ないし７倍
   以上の値まで増加させる、特許請求の範囲第１項
   記載の方法。 ３ 増加する電流を流したリングコイルによつて
   磁界が発生され、このコイルの磁束帯内に、まだ
   固化しない磁気層を有する支持板が導入される、
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 磁界が、配向過程の間磁気層に対して一定間
   隔を置いて配置され、かつ増加する電流を流した
   電磁石または電磁石対によつて発生され、まだ固
   化しない磁気層を有する支持体が記録方向に回転
   する、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 磁界強度が、磁気層に対して磁石または磁石
   対の位置を変化させることによつて増加され、ま
   だ固化しない磁気層を有する支持体が記録方向に
   回転する、特許請求の範囲第１項記載の方法。