JPS62222431A - 磁気記録媒体の表面処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、磁気デスク、磁気テープ等の塗布後のその表面平
滑化処理方法は他の装置による表面研磨またはプレス、
カレンダロール等の機械的前処理平滑化を行った後、さ
らに超仕上加工やパフ等によって表面平滑化処理をして
いた。その前処理の段階での塗膜粗さは当然平滑性にす
ぐれたものであれば研磨時間も短縮でき、さらにはヘッ
ドの近接：４．！ｌ！ｌＩ特性を向上させることから信
頼性を高め、高密度化可能なＳ／Ｎ　（信号対雑音比）
の向上にもつながる。しかし、従来法では、磁気塗料に
含まれる磁性粉、樹脂、溶剤、添加物等の混合９分散化
処理技術等で行っていたため、溶剤等の蒸発。

乾燥または硬化中による内部撹乱によってしばしば表面
凹凸粗れが出来、その表面平滑化処理が困難であった。

また一部には表面平滑化のために低周波（，５０）−Ｉ
　ｚ　）の交流磁界を印加し、印加磁界外に取り出すこ
とによってその後の表面張力で平滑化を行う方法（昭和
５９年電子通償学会Ｎα２０９）、高周波（数Ｋ　Ｈｚ
　）によって平滑化する方法（特開昭５４−２９６１１
　）が知られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、より簡単で処理効果の大なる塗膜表面平滑化
の方法を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は第１図に示すように１片側磁極または両側磁極
を記録媒体の記録方向に相離して設置させ、磁性粉の保
磁力（Ｈｅ）以上のパルス磁界を磁性層に印加させるこ
とにより、高Ｓ／Ｎ比、かつ塗布面粗さの小さい磁気デ
ィスクを得ることを特徴とするものである。

〔作用〕

従来の印加磁界はＴ）Ｃ（永久磁石も含」）またはＡＣ
磁界単独であるのに対し１本発明は磁気記録媒体の磁性
粉体粒子を均一に配向保持する磁界と０Ｎ−ＯＦＦ磁界
とを印加することにより均一磁性体の緻密性を向上させ
るものである。

上記の方法により、特に記録媒体が１μｍ前後の薄膜で
、さらに、膜面の凹凸が全面にわたり極めて微小で１表
面平滑性がすぐれ、かつ、電気特性、並びに磁気特性が
すぐれた磁気記録媒体を得ることができる。

一般に、記録再生出力を高めるためには残留磁束を増加
させれば良い。このための一つとしては、塗布膜ＪＴｈ
を厚くすることである。しかし、塗布膜厚を厚くすれば
高周波特性は劣化する。高周波特性を良くするためには
塗布膜厚を薄くすることに加え角形比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　
ｍを高くするかあるいはＳ／Ｎを向上する必要がある。

そこで従来技術では、表面平滑性がすぐれ、かつＢ　ｒ
　／　ＢｍまたはＳ／Ｎの高い磁気テープ、高密用磁気
ディスク等の塗布膜Ｊりの低減を実現することは困薙で
あった。

本発明は上記の難点を克服したものである。すなわち、
パルス磁界を印加することによって記録媒体の磁性体粒
子配置の向上と、さらに磁気異方性を有効に働かせるこ
とにより面アレなく、Ｓ／Ｎを大きくならしめることが
できる。

従来、例えば遠心塗布法により１μｍ前後の磁性薄膜を
アルミニウム円板面等に形成せしめた場合、膜７ｇが小
さいことによる出力低下を補うために、磁場配向や磁性
粉含率の増加等が行われている。但し、従来採用されて
いる磁場配向は単に磁性体記録再生方向に配向（Ｂｒ７
８ｍで０．６５〜０．８５）させることを目的としてい
るため。

表面の平滑性による機械的な信頼性に欠ける。また、磁
性粉含率の増加は分解能の低下や機械的強度の低下をき
たすため、これには限界があり、一般にディスク等では
磁性粉含率を６０％前後、磁気テープ等では８０％前後
にしている。

近年高記録密度化とともに、塗布膜厚の薄膜化が進みそ
れにつれて機械的強度の低下、電気信号の出力低下、高
周波での分解能不足が一段と問題となってきた。したが
って高出力でしかも分解能にすぐれ、かつ信頼性の高い
磁気記録媒体を得るためにはより高度のＳ／Ｎの高い技
術が必要となった。

例えば、記録密度３００００　Ｂ　Ｐ　Ｉの磁気ディス
クを得る場合１回転塗布法により円板の内周部で０．４
５　±０．０１　　ａｍ、外周部で約０．７５　±０．
１　μｍの磁性塗膜を形成せしめ、これを加熱硬化後、
内周部で約０．３０　±０．０５　μｍ、外周部で約０
．６０　±０．０５　μｍになるように研削する。この
際、Ｓ／Ｎに関する塗布硬化後の表面粗さくＲａ）が０
．０３５　　μｍ以下にすることがのぞましい。つまり
、膜厚の１／１３以下にするのがよりのぞましい。こう
することによって機械的な信頼性、ディスクに対するヘ
ッドの？ｒＪ、′ｌｊＪ特性さらに高周波での分解能が
すぐれた高密度記録媒体を得ることが可能となる。

本発明は薄塗布におけるこれらの問題点を解決したもの
で、記録面の全面にわたり、表面平滑性を有した高信頼
性の塗膜、かつ電気特性および磁気特性のすぐれた磁気
記録媒体を得ることを可能にしたものである。

〔実施例〕

以下実施例をもとに本発明をさらに詳細に説明する。

本発明では、例えば単数の極磁２または一対の磁極（２
本ずつ対をなした磁極でも可）をアルミニウム円板また
は磁気テープの上面、背面または対の設置し、そのアル
ミニウム円板上に回転塗布法（またはロール塗布）で強
磁性体微粉末を高分予納合剤溶液中に分散せしめた磁性
塗料を塗布し、塗膜中の磁性体粒子をパルス磁界で処理
する。この処理により地割れがなく、シかも表面平滑性
を有した高信頼性塗膜が従来より一段とすぐれ、かつ電
気特性のすぐれた磁気ディスクを得ることができる。

第１図は本発明に用いた動作の概念を示したものである
。図において１はディスク基板、１′はテープで、共に
未乾操の磁性塗膜が塗布され移動されている状態をＡ、
Ｂ、Ｃまたはり、Ｅ、Ｆとして示したものである。第１
図にはディスク表面及び裏面における磁極の配置例、す
なわち単数の磁極２、一対の磁極２ａ、２ｂを示した。

本発明の特徴はそれらの磁極にパルス磁界を印加するこ
とである。

針状Ｃｏ−Ｅｐ　ｉ　　ｙ−ＦｅｚＯｓ　（平均粒径０
．３５　　Ｘｏ、０５　　μｍ、保磁力５４４０ａ）３
００ｇ、主としてエポキシ樹脂とフェノール樹脂よりな
る混合バインダー３００ｇ、及びシクロヘキサノンとイ
ソホロンよりなる混合溶剤８５０ｇよりなる塗料をボー
ルミルを用いて製造した。

この塗料をさらにイソホロンで粘度調整して粘度１２０
ｃｐにしてたものをアルミニウム基板（内径１７０ｍｍ
、外径３５６箇、Ｊダさ２圃）に遠心力を用いて塗布（
塗布回転数１５００ｒｐｍで２０秒間、乾燥時塗布膜厚
約０．７０μｍの塗膜になるように）し、第１図に示す
ような平滑化方法で処理を行った。処理時の回転数は１
２ｒｐｍとし、単一磁極の塗膜でのパルス磁界用０００
ｅ（約２Ｆ−Ｉｃ）、また、磁極対をｔ　、　ｓｏｏ〜
３００００θとした。いずれも同時処理で印加時間は１
秒−１秒の０Ｎ−ＯＦＦ同期繰り返しで１分とした。す
なわち、第１図Ａ。

Ｂ、Ｃに示す方法で、まだ塗膜が乾燥する前に、電磁石
２よりパルス磁界を印加した、８図は片面から、０面は
両面から印加したものである。

また、第１図り、Ｅ、Ｆに示す磁気テープ等ではポリイ
ミドまたポリエチレンテレフタレートフィルム（平均速
度１．２　ａｎ　／　ｓａｃ　）に、ロール、ナイフェ
ツジ、ドクターブレード等で約１．０　μｍになるよう
に塗布してなる塗膜に、その塗膜がまだ乾燥する前に、
前記同様電磁石によりパルス磁界を印加せしめた６Ｅは
片面から、Ｆは両面から印加したものである。

なお、上記の電磁石への印加せしめる電流波形を第２図
に示す。すなわち、（ａ）は従来の直流電流波形（ＤＣ
）、（ｂ）は従来の交流電流波形（ＡＣ）、（ｃ）は本
発明のパルス電流波形なるパルス磁界を得るための電流
波形をそれぞれ示したものである。それらの電流波形と
粗さの結果を第１表に示した。

第１表 いずれも、未処理の表面アラサと、従来から行われてい
る（ａ）処理方法または（ｂ）処理方法の表面と、本発
明の（ｃ）処理方法とでは明らかに相違がみられた。

即ち、未処理よりも（ａ）もしくは（ｂ）処理、さらに
本発明の（ｃ）処理の順に塗膜の表面平滑性（表面アラ
サ）と内部の磁性体の磁気的配置がより望ましいものに
なっていることが明らかである。

〔発明の効果〕

このようにして得られた塗膜は電磁気特性がすぐれ、磁
気ディスクまたは磁気テープしてで実用上問題がなかっ
た。

【図面の簡単な説明】

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、強磁性体微粉末を高分子結合剤中に分散せしめこれ
   を非磁性支持体上に塗布することにより磁気記録層を設
   ける磁気記録媒体の製造過程で、磁気記録媒体移動中に
   少なくとも磁性粉の保磁力以上の印加磁界になるように
   片側磁極の電磁石、両側磁極の電磁石またはそれらの電
   磁石対を設置せしめ、形成した未乾操の磁性層をその電
   磁石にパルス電流で得られる磁界中で処理することを特
   徴とする磁気記録媒体の表面処理方法。