JPS6224423A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、フロッピーディスク媒体、磁気テープ媒体等
に代表される磁気記録媒体用の磁気記録媒体、しかもそ
の磁性膜が薄膜から成る磁気記録媒体とその製造方法に
関するものである。

（従来技術） フロッピーディスク媒体、磁気テープ媒体等に代表され
る磁気記録媒体には、それぞれ特徴ある磁気記録媒体が
使われている。その構造は、基本的に、それぞれの媒体
に適した形状の可撓性基体と、その上に形成された保磁
力（Ｈｅ）が３００〜１５０００ｅ程度の磁性膜と、化
学的安定性を保証する為に必要に応じ設けられた保護膜
と、磁気ヘッドとの接触摩耗について長期信頼性を保証
する為に必要に応じ設けられた潤滑剤とから成る。

（従来技術の問題） 磁気記録媒体には多くの要請事項があるがその中でも特
に重要な高信頼度の保証に関し、現在は潤滑剤が不可欠
とされるようになりてきている。

潤滑剤の中でも固体のものは、磁気ヘッドとの摩耗によ
り散逸してしまうため、長期信頼性保証は内錐であり、
比較的散逸量の少ない液体潤滑剤を多用する傾向にある
。しかし、液体潤滑剤の塗布量を多くすると磁気ヘッド
の摺動面（スライダー面）にも密着し、いわゆる“吸着
現象”を生じ動摩擦係数も増大するため媒体走行乱れを
発生するという欠点があった。一方液体潤滑剤の塗布量
を少くすると潤滑剤としての作用を為さなくなり、摩擦
のため劣化を生じるという問題があり、結局潤滑剤の塗
布厚には例えば１００人±２０にといった極めて厳しい
条件が課せられていた。また可撓性基体の表面粗さがｘ
ｏｏＡ以下になると特に磁気テープではテープ同志の吸
着を生じ媒体走行乱れを生じるという欠点もあった。

（発明の目的） 本発明の目的は磁気記録媒体に昧せられた長期信頼性の
保証に対する上述の様な現実的難点を克服するための、
磁気記録媒体及びその製造方法を提供することにある。

（発明の構成） 本発明は可撓性基体と、その表面に設けられた磁性膜と
、その磁性膜の表面に設けら−れた保護膜とを含みしか
も前記保護膜がその膜厚を越えない範囲でその表面に凹
凸を有し、前記保護膜の表面に前記保護膜の母材の化成
処理膜もしくは、潤滑剤を有する構造を持ち、又、前記
磁性膜、前記保護膜、前記保護膜表面の凹凸加工、前記
保護膜の化成処理膜及び前記潤滑剤の形成工程を有する
製造方法より成る。さらに可撓性基体の片方の面には前
記磁性膜、前記凹凸付き保護膜、前記化成処理膜を設け
もう一方の面には、前記可撓性基体の機械的強度を大き
く変えないで凹凸を設けることを特徴とする。

（構成の詳細な説明） 本発明は可撓性磁気記録媒体の表面に形成された微細な
凹凸が摩耗特性を改良し、かつ潤滑剤を塗布する場合で
も液体潤滑剤の塗布膜厚のマージンを大巾に広げ得る、
即ち、前記微細な凹凸程度のマージンを優るこことが出
来るという新しい知見をもとてなされたもので、この知
見をさらに実用的観点から磁気記録媒体としての適切な
構成に適用したものである。

以下、図面を用いて詳細に説明する。第１図は本発明の
構成を示す図で、同図（ａ）は可撓性基体１の表面に磁
性膜２を設け、その上に自らの膜厚を越えない範囲で微
小凹凸を有する保護膜３を設けた磁気記録媒体を、同図
ｆｂ）は、同図（ａ）で示した構成の表面に潤滑剤４を
設けた磁気記録媒体を、同図（ｃ）は同図（ａ）で示し
た（Ａ成の深物膜３の表面に保護膜３を母材としで化成
処理した化成処理＠５を設けた磁気記録媒体を、同図（
ｄ）は同図（ｃ）で示した構成の化成処理膜５の表面に
Ｉ′１７ｊ滑剤４を設けた磁気記録媒体をそれぞれ示す
。同図（ｅ）は可撓性基体１の片方の而（以下Ａ面と称
す）に磁性膜２を設け、その上に自らの膜厚を越えない
範囲で微小凹凸を有する保護膜３を設け、一方、０〕撓
性基体１のもう一方の而（以下３面と称す）には、この
可撓性基体１の機械的強度を大きく変えない範囲（望ま
しくは基体１の膜厚の１０％以下）で凹凸を設けた磁気
記録体を、同図（ｆ）は同図（ｅ）で示した構成の表面
に潤滑剤４を設けた磁気記録体を、同図（ｇ）は同図（
ｅｌで示した構成の保護膜３の表面に保護膜３を母材と
して化成処理した化成処理膜５を設けた磁気記録体を、
同図（ｈ７は同（Ｗ　（ｇ’）で示した構成の化成処理
膜５の表面に潤滑剤４を設けた磁気記録体をそれぞれ示
す。フロッピーディスクとしては、同図・ａｔ乃至（ｄ
）に示した構成が、磁気テープとしては同図（ｅ）乃至
（ｈ）に示した構成が適する。

第２図は第１図で示した本発明による磁気記録媒体を製
造するための方法を示す図で、可撓性基体２０の表面を
清浄にするための表面処理を施す工程２１と１次いで母
性膜を形成する工程２２と、その上に沫−膜を形成する
工程２３と１次いで。

この保護膜の表面に凹凸を形成する工程２４と、この段
階で第１図（ａ）の磁気記録媒体が完成し、さらに潤滑
剤を塗布する工程２５を経るとｇ１図（ｂ）の磁気記録
媒体が完成し、また前記凹凸形成工程２４に続いて、そ
の保護膜自身を化成処理する工程２６．を経ると第１図
（ｅ）磁気記録媒体が完成し、引続き潤滑剤塗布工程２
７を経ると第１図（ｄ）の磁気記録媒体が完成する。以
上はフロッピーディスクに適した工程であるが磁気テー
プに適した工程としては、可撓性基体２０のＢ面に、こ
の基体の機械的強ばを大きく変えない範囲で凹凸を形成
する工程２８を最初に行い、次いでＡ面に対し、フロッ
ピーディスク用と同様の工程で、即ち、Ａ面の表面処理
を行う工程２１′、Ａ面′の磁性膜形成工程２ｉ、ｈ面
の保護膜形成工程２ざ、Ａ面の保護膜に凹凸を形成する
工程２イを経て第１図（ｅ）の磁気記録媒体が完成し、
さらに潤滑剤をＡ面又はＢ匣又はＡ面Ｂ面両方に塗布す
る工程を経ると第１図（ｆ）の磁気記録媒体が完成し、
また前記Ａ面の保護膜に凹凸を形成する工程２４′に経
いて、この保護膜自身を化成処理する工程２６′を経る
と第１図（ｇ）の磁気記録媒体が完成し引続きＡ面又は
Ｂ面又はＡ面Ｉｌ１画方に塗布する工程を経ると第１１
１１（ｈ）の磁気記録媒体が完成する。なお前記工程２
８は最初に行う必要はなく前記工程２１′乃至２７′の
間のいずれかの後に行っても良い。

第３図は従来の磁気記録媒体の構成の一例で。

可撓性基体３１上に磁性膜３２を形成し、その上に保護
膜３３を形成したもの、さらに潤滑剤３４を塗布したも
のを示したもので１両面に磁性膜３２を有する同図（ａ
）及び（ｂ）はフロッピーディスク用の。

片面にのみ磁性膜３２を有する同図（ｅ）及び（ｄ）は
磁気テープ用の構成である。

本発明に使用できる材料の一例を以下に示す。

まず可撓性基体１としては、ポリエステル、ポリイミド
、ポリアミド、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポ
リメチルメタクリレート、ポリテトラフルオルエチレン
、ポリトリフルオルエチレン。

エチレン又はプロピレン等の重合体又は共重合体。

塩化ビニルの重合体又は共重合体、ポリ塩化ビニリデン
、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート等の有
機高分子フィルムが通し、またこのフィルムの表面に５
ｉＯ１、ＡＪ１０３　、５ｉｌＮ４　、Ｃｒ、　Ｔｉ　
。

Ｍｏ、’Ｗ等のいずれかを主成分とする非磁性層を有す
る有機高分子フィルムも適し１通常このフィルムの膜厚
としては、フロッピーディスク用には１０〜１５０μｍ
位が、磁気テープ用には５〜５０μｍ位が適する。

磁性膜２としては、保磁力が２０００ｓ以上の磁性層を
少くとも一層は組み込まれていることが必要で、そのよ
うな磁性層を形成する材料としては、ｒ−Ｆｅｚｏｇを
主成分とする金属（Ｃｏ、Ｃｕ、Ｓｉ等）の酸化物との
混合体、　Ｂａ−フェライト。

Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｐ、Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｒｅ−Ｐ。

Ｃｏ　−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｒｅ−Ｐ、Ｃｏ−Ｃｒ　、Ｃｏ−
Ｎｉ　、Ｃｏ−Ｐｔ　、Ｃｏ−Ｒｅ　。

Ｃｏ−８ｍ、Ｆｅ−Ｎｄ、Ｆｅ−Ｂ、Ｃｏ−Ｖ、Ｆｅ−
Ｃｒ−Ｃｏ、ＮｉＦｅ等の合金或いは、これらの合金の
いずれかを主成分とする合金もしくは酸化物又は窒化物
との混合体。

ＣｏとＣｏｏの混合体等が適する。

保護膜３としてはＳｉｎ、　、ＡＩＯ□５ｉｌＮ、　、
ＡＡ’Ｎ。

ＢＮ、Ｓｉ　ｔｃｔｃｒ　、Ｍｏ　＊Ｗ、Ｒｈ＊Ｔｉ　
ｅ又はこれらのいずれかを主成分とする混合体もしくは
合金、非磁性ＮｉＰ。

Ｃｏ０−Ｐ、０Ｂ混合体、　Ｃｏ０−Ｂ、０Ｂ混合体、
　ＣｒＯ等が適する。

潤滑剤４としては、脂肪酸、金属石鹸等の炭化水素、シ
リコーンオイル６．フロロシリコンオイル。

パーフロロアルキルポリエーテル、テトロ７０ロ工チレ
ン低重合体、カーボン、２硫化モリブデン等の固体潤滑
剤、もしくはこれらの混合物を直接又は適当な溶媒に溶
かしたり分散したものが適す　゛る。

次に本発明の一部である製造方法について述べる。可撓
性基体のＢ面に凹凸を設ける工程には、可撓性基体のＢ
面に＃２００〜＃１０００の研磨シートを軽く押し尚て
ながら可撓性基体又は研磨シート又はその双方を移動（
回転動作も含む）する方法や、後述の保獲膜表面に凹凸
を設ける工程に使われる方法（従ってＢ面にも凹凸を持
った保護膜が形成されることになる）が適する。可撓性
基体のＡ面もしくは、フロッピーディスクならば入面Ｂ
面の両方の表面処理工程には前記プラスチックフィルム
の表面を有機溶剤で洗浄又は軽くエツチングする工程或
いは、前記プラスチックフィルム又は前記非磁性層を有
するプラスチックフィルムの表面を逆スパツタ法により
軽くエツチングする工程が含まれる〇 磁性膜を形成する工程としては、基体上に前記合金を蒸
着する方法もしくは、ｒ　−Ｆ１４０ｓを主成分とする
場合は１０’Ｔｏｒｒ以下の酸素分圧下でＦｅを主成分
とする合金を蒸着しその後水素中で還元後大気中で徐々
に酸化する方法（蒸着法）、前記磁性材料のターゲット
を作製し前記基体上にスパッタ法で前記磁性材料の薄膜
を形成する方法もしくはｒ　−Ｆｅ２０Ｂを主成分とす
る場合はＦｅ　、Ｆｅ、０４ｅｒ−Ｆｅ２０Ｂのターゲ
ットより１０−’　Ｔｏｒｒ以下の酸素分圧下でスパッ
タされて形成された酸化鉄を水素中で還元し次いで大気
中で徐々に酸化する方法（スパッタ法）、前記磁性材料
の合金系、主としてＣｏ−Ｐ、Ｃ’ｏＮｉ−Ｐ、Ｃｏ−
Ｎ１−Ｗ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｐ。

Ｃｏ　−Ｎｉ　−Ｍｎ　−Ｒｅ　−Ｐ　、　Ｃｏ　−Ｎ
ｉ　−Ｒｅ−Ｐ等を電解メッキもしくは無電解メッキに
より形成する方法（メッキ法）等のいずれかが用いられ
る。

保護膜を形成する工程としては、Ｓｉ、Ａ１等を含む有
機金属を溶媒で分散し、基体表面に塗布後焼成を行うこ
とによりＳｉやＡノの酸化膜乃至窒化膜を形成する方法
（塗布法）、前記保護膜材のうちＳＬ　、Ｃｒ　、Ｍｏ
　、Ｗ、Ｒｈ　、Ｔｔ等の金属又はこれらを主成分とす
る合金を蒸着する方法（蒸着法）、前記保護膜材からな
るターゲットをスパッタする方法（スパッタ法）、非磁
性ＮｉＰ合金を無電解メッキする方法（メッキ法）等の
いずれかが用いられる。

本発明の第一の特徴である保護膜の表面に凹凸を設ける
工程には、保護膜の形成された可撓性基体を直線運動又
は回転運動もしく１１両運動を併用した運動をさせつつ
、保護膜表面に所定の軽荷重で研磨シートを押しつける
方法（研磨法）、エツチング溶液中に超音波を加えなが
ら短時間浸す方法（ウェットエッチ法）、逆スパツタ法
により短時間スパッタエッチする方法（ドライエッチ法
）。

さらには保護膜形成時に凹凸を設ける方法として保護膜
材の蒸着時に基体表面に対する蒸着物質の入射角を８０
°以下の斜め入射にする方法（斜め蒸着法）或いは非磁
性ＮｉＰ膜を無電解メッキ法で形成する際に超音波を加
える方法（超音波メッキ法）等のいずれかが用いられる
。

本発明の第二の特徴である保護膜の表面を化成処理する
工程には、主としてＳｔ　、Ｃｒ　、Ｍｏ　、Ｗ、Ｒｈ
　、Ｔｉもしくはこれらを主成分とする合金、又は非磁
性ＮｉＰを保護膜材とする場合に適し、前記保護膜を有
する基体を弱酸に短時間浸漬する方法（酸処理法）、ク
ロム酸溶液に短時間浸漬する方法（クロメート法）、酸
化性雰囲気で焼成する方法（酸化法）、酸化性雰囲気で
加熱しながら紫外線を照射する方法Ｃ紫外線照射法）、
或いはこれらの方法の併用法のいずれかが用いられる。

潤滑剤を塗布する工程には、潤滑剤を膜厚調整のため必
要に応じ溶剤で稀釈後ローラーコート法、スピンコード
法、スプレー法又は浸漬法等で塗布する工程と、密層力
を強化するための焼成工程と。

必要に応じて余剰分を溶剤等で除去する工程とが含まれ
る。

以下本発明について、さらに具体的にするため本発明の
特徴とする保護膜表面の凹凸形成法と化成処理法を中心
にスパッタ法によるフロッピーディスクと蒸着法による
磁気テープに関し実施例を用いて説明する。

（実施例１） 厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（表面粗さ０．０１
μｍ以内）を可撓性基体１とし、以下入面Ｂ面共にその
表面を１０’Ｔｏｒｒ以下の酸素分圧プラズマ下で表面
クリーニング（表面処理工８）を行い、次いで磁性膜２
として最初にＮｉＦｅ合金を０．５μｍ次いで、ＣｏＣ
ｒ合金を０．２μｍスパッタ法により形成した。磁性膜
２中のＣｏＣｒ合金の膜面に垂直な方向の保磁力は４０
００ｅであった。磁性膜２の保護膜３としてＣｒをスパ
ッタ法により５００Å形成し、次いて逆スパツタを行っ
て平均２００人を除去したところ、表面粗さが最大２０
０大の微細凹凸が形成された。このポリイミドフィルム
を５．２５インチ径のディスク状に打ち抜き、パーフロ
ロアルキルポリエーテル（デュポン社製商品名タライト
ツクス）をスピンコード法で塗布後、エーテルを含んだ
ガーゼで４４＜拭き取って磁気記録媒体とした。このと
きの濶滑膜の厚さは２００士５０人であった。

（実施例２） 実施例１と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
、保護膜としてのＣｒ膜の逆スパツタシチングに代り、
稀硫酸に５秒浸漬後直ちに水洗乾燥する方法を採用した
。この時の保ｗｋ膜の表面に形成された凹凸は最大３０
０大であった。

（実施例３）− 実■例１と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
保神膜としてのＣｒ１ｌｌ’の逆スパツタエツチングに
代り、Ｃｒ原子が可撓性基体面に約１０″の角度で入射
するように蒸着する方法（膜厚５００人）採用した。こ
の時１呆護膜の表面に形成された凹凸は最大１５０人で
あった。

（実施例４） 実施例１と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
保護膜としてのＣｒスパッタ膜に代り、市販の無電解Ｎ
ｉＰ　ｌツキ浴中に超音波撮動子で超音波を加えながら
１０秒浸漬し非磁性ＮＬＰ膜を５００人形成する方法を
採用した。この時、保護膜の表面に形成された凹凸は最
大１５０人であった。

（実施例５） 実施例１乃至４のフロッピーディスクに対し。

潤滑剤を塗布する前に椰硝酸溶液に３０秒浸漬しその後
２００℃で１０分大気中で焼成し化成処理膜５を形成し
、その後で実施例１と同様の手順で潤滑剤を塗布し磁気
記録媒体とした。

（実施例６） 実施例５と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
化成処理膜５の形成に除し稀硝酸浸漬をクロム酸＆＆に
代えた。

（実施例７） 実施例５と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
、化成処理膜５の形成に除し朽硝酸浸漬に代り大気中で
２００℃に加熱しながら紫外線を照射する方法を採用し
た。

（比較例１） 厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（表面粗さ０、０１
　μｍ以内）を基体３１とし、以下Ａ面、Ｂ面共にその
表面を１０＝　Ｔｏｒｒ以下の酸素分圧プラズマ下で表
面クリーニングを行い１次いで磁性膜３２として最初に
ＮｉＦｅ合金を０．５μｍ次いで、ＣｏＣｒ合金を０．
２μｍスパッタ法により形成した。

この後保藤膜３３としてＣｒをスパッタ法により５００
人形成し５．２５インチ径のディスク状に打ち抜き、こ
の上にパーフロロアルキルポリエーテルをスピンコード
法で塗布後エーテルを含んだガーゼで軽く拭き取り磁気
記録媒体とした。このときの潤滑剤の厚さは２００±５
０人であった。

（比較例２） 比較例１と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
保護膜としてのＣｒ膜形成工程は除外した。

実施例１乃至７と、比較例１及び２とを市販の５．２５
インチフレキシブルディスク媒体に装着してパスウェア
テスト及び媒体走行テストを行ったところ、比較例１及
び２ではいずれもパスウェアテストで６０万１包程度媒
体走行テストでは時々“吸着現象”らしきものが見られ
回転ムラを生じたのに対し、実施列１乃至７はいずれも
パスウェアは３００万回以上、回転ムラ無しという好結
果を得た。

（実施例８） 厚さ１５μｍのポリイミドフィルム（表面粗さ０．０１
μｍ以内）を可撓性基体１としＢ面側を＃４００の研磨
シートを転く押し当てて移動させ表面に平均２０００人
の凹凸を形成した。次いでＡ面をフレオンで洗浄後蒸着
媒体内にセットし、磁性膜２としてＣｏＮｉ合金を酸素
分圧１０’Ｔｏｒｒ以下で蒸着（膜厚１０００人）１１
次いで保護膜３としてＣｒを１０００人蒸着した。この
時の保磁力！１６０００ｅであった。次いで保護膜３の
表面に凹凸を形成するため、＄６０００の研磨シートを
軽くＡ面に押し当て移動させることにより表面に最大５
００人の凹凸Ｒテープとして使い得る磁気記録媒体とし
た。

（実施例９） 実施例８と同様に磁気記録媒体を作成した。但し、Ｂ面
の凹凸形成法として、Ｔｉの蒸着法を採用した。即ち、
このＢ面にＴｉ原子が約１０°の角度で入射するように
１０＝Ｔｏｒｒ以下の酸素分圧のもとで蒸着を行い１０
００λの膜厚まで堆積させたところ表面の凹凸が最大２
００又となった。

（実施例ｉｏ） 実施例８及び９と同様の工程で磁気記録媒体を作成した
。但し保護膜３の凹凸形成法として逆スパツタ法を採用
した。この時の表面粗さは最大２５０にであった。

（実施例１１） 実施例８乃至１０と同様の工程で磁気記録媒体を作成し
た。但し、保護膜３の凹凸形成、ｆモ、クロム酸溶液に
浸漬しその終大気中で２００’Ｃ１０分焼成し化成処理
膜５を形成した。

（実施例１２） 実施例１１と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但
し、化成処理膜５の形成法として、大気中で２００℃に
加熱しながら紫外線を照射する方法を採用した。

（実施例１３） 実施例８′ＰＪ至１２と同様の工程で磁気テープを作成
後さらに各Ａ面にパーフロロアルキルポリエーテルをス
プレー法で塗布し、エーテルを含んだガーゼで軽く拭き
取って磁気記録媒体とした。この時の潤滑剤の膜厚は２
００±５０人であった、（比較例３） 厚さ１５μｍのポリイミドフィルム（表面粗さ０．０１
μｍ以内）を可撓性基体３１とし、Ａ面をフレオンで洗
浄後蒸着媒体内にセットし、磁性膜３２としてＣｏＮｉ
合金を酸素分圧１０−’Ｔｏｒｒ以下で蒸着（膜厚１０
００人）し次いで保護膜３としてＣｒを１０００人蒸着
入出気記録媒体とした。

（比較例４） 比較例３と同様の工程で磁気テープを作成後。

さらにパーフロロアルキルポリエーテルをスプレー法で
塗布しエーテルを含んだガーゼで軽く拭き取って磁気記
録媒体とした。この時の潤滑剤の膜厚は２００±５０人
であった。

実施例８乃至１３と比較例３及び４とを市販のＶＴＲ媒
体に媒体してスチルモード再生テストスタート・ストッ
プテストを行りたところ、潤滑剤の無い実施例８乃至１
２のいずれも３０分前後のスチル再生が可能であったが
、比較例３では約１０分しかもたなかった。この中でも
特に実施例１１及び１２の化成処理をしたものは長時間
の耐久力を示した。また潤滑剤を塗布したものでは、実
施例１３では４５分以上特に化成処理をしたものは。

１時間近くの耐久力を示したのに対し、比較例４では約
３０分根度であった。またスタートストップテストでも
実施例１３はすべてスムースな動きをしたのに対し、比
較例４では、吸着現象が生じ媒体走行乱れを生じた。

また、特に化成処理を有する磁気記録媒体は。

６０℃８５％相対湿度の環境下での腐蝕テストに対し、
殆んど腐蝕点の発生を見なかったが、このような化成処
理膜の無いものは、徐々に腐蝕点が発生しその数も増え
て行くことが分った。

（発明の効果） 以上のように本発明は、従来の磁気記録媒体に比し、耐
久性、媒体走行安定性、対吸着現象に関する潤滑剤膜厚
の許容厚が大きく、しかも化成処理を施したものは化学
的安定性にも優れていることが明らかであろう。このよ
うな特徴は先に述べた実施例に限られるものでなく、特
許請求の範囲に記載された構成と、製造方法を採用する
限りいずれにも備わる長所であることは明らかである。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）　、　（ｂ）　、　（ｃ）　、　（ｄ）　
、　（ｅ）　、　（ｆ）　、　（ｇ）及びｆｌｌ）は本
発明の具体的構成を示したものであり、第２国はもので
、１及び３１は可撓性基体、２及び３２は磁性膜、３及
び３３は保護膜、４及び３４は潤滑剤、５は化成処理膜
である。 ＼−，ノ 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、可撓性基体と、その表面に設けられた磁性膜と、そ
   の磁性膜の表面に設けられた保護膜とを含む磁気記録媒
   体であって、しかも前記保護膜がその膜厚を越えない範
   囲でその表面に凹凸を有することを特徴とする磁気記録
   媒体。 ２、保護膜の表面に潤滑剤を有することを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 ３、可撓性基体と、その表面に設けられた磁性膜と、そ
   の磁性膜の表面に設けられた保護膜とを含む磁気記録媒
   体であって、しかも前記保護膜がその膜厚を越えない範
   囲でその表面に凹凸を有し、さらにその凹凸の形成され
   た前記保護膜の表面に前記保護膜の母材の化成処理膜と
   を有することを特徴とする磁気記録媒体。 ４、化成処理膜の表面に潤滑剤を有することを特徴とす
   る特許請求の範囲第３項記載の磁気記録媒体。 ５、可撓性基体の片方の面に磁性膜と、その磁性膜の表
   面に設けられた保護膜とを有し、しかも前記保護膜には
   、自らの膜厚を越えない範囲で表面に凹凸を有し、前記
   可撓性基体のもう一方の面には前記可撓性基体の機械的
   強度を大きく変えない範囲で凹凸を設けたことを特徴と
   する磁気記録媒体。 ６、保護膜の表面に潤滑剤を有することを特徴とする特
   許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒体。 ７、可撓性基体のもう一方の面の表面に潤滑剤を有する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の磁気記録
   媒体。 ８、可撓性基体の片方の面に磁性膜と、その磁性膜の表
   面に設けられた保護膜とを有し、しかも前記保護膜には
   自らの膜厚を越えない範囲で表面に凹凸を有し、さらに
   その凹凸の形成された前記保護膜の表面に前記保護膜の
   母材の化成処理膜とを有し、前記可撓性基体のもう一方
   の面には、前記可撓性基体の機械的強度を大きく変えな
   い範囲で凹凸を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。 ９、保護膜の表面に潤滑剤を有することを特徴とする特
   許請求の範囲第８項記載の磁気記録媒体。 １０、可撓性基体のもう一方の面の表面に潤滑剤を有す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第８項記載の磁気記
   録媒体。 １１、可撓性基体表面に、磁性膜を形成する工程と、前
   記磁性膜表面に保護膜を形成する工程と、前記保護膜の
   表面に凹凸を設ける工程とを含むことを特徴とする磁気
   記録媒体の製造方法。 １２、可撓性基体表面に磁性膜を形成する工程と、前記
   磁性膜表面に保護膜を形成する工程と、前記保護膜の表
   面に凹凸を設ける工程と、次いで前記保護膜の表面を化
   成処理する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体
   の製造方法。 １３、可撓性基体の片方の面に磁性膜を形成する工程と
   、前記磁性膜表面に保護膜を形成する工程と、前記保護
   膜の表面に凹凸を設ける工程と、前記可撓性基体のもう
   一方の面に凹凸を形成する工程とを含むことを特徴とす
   る磁気記録媒体の製造方法。 １４、可撓性基体の片方の面に磁性膜を形成する工程と
   、前記磁性膜表面に保護膜を形成する工程と、前記保護
   膜の表面に凹凸を設ける工程と、前記保護膜の表面を化
   成処理する工程と、前記可撓性基体のもう一方の面に凹
   凸を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒
   体の製造方法。 １５、保護膜の表面に凹凸を設ける工程後に潤滑剤を塗
   布する工程とを含むことを特徴とする特許請求の範囲第
   １１項及び第１３項記載の磁気記録媒体の製造方法。 １６、保護膜の表面を化成処理する工程後に潤滑剤を塗
   布する工程とを含むことを特徴とする特許請求の範囲第
   １２項及び第１４項記載の磁気記録媒体の製造方法。 １７、可撓性基体のもう一方の面に凹凸を形成後潤滑剤
   を塗布する工程とを含むことを特徴とする特許請求の範
   囲第１３項及び第１４項記載の磁気記録媒体の製造方法
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