JPS62188024A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層
を磁気記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関し、さ
らに詳しくは、耐食性に優れかつ摩擦係数が小さくて走
行安定性および耐久性に優れた前記の磁気記録媒体の製
造方法に関する。
を磁気記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関し、さ
らに詳しくは、耐食性に優れかつ摩擦係数が小さくて走
行安定性および耐久性に優れた前記の磁気記録媒体の製
造方法に関する。
コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層を磁気記録媒
体とした磁気記録媒体は、通常、コバルトもしくはコバ
ルト合金などを真空蒸着、スパッタリング等によって基
体フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に通した
特性を有するが、反面、表面に金属が露出して、いるた
め空気中の酸素によって酸化されやすく、磁気特性が低
下したり、また腐食生成物の成長によって磁気記録媒体
の走行不良を生じるなどの欠点がある。また磁気ヘッド
との摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、走行安
定性や耐久性に劣るという難点がある。
体とした磁気記録媒体は、通常、コバルトもしくはコバ
ルト合金などを真空蒸着、スパッタリング等によって基
体フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に通した
特性を有するが、反面、表面に金属が露出して、いるた
め空気中の酸素によって酸化されやすく、磁気特性が低
下したり、また腐食生成物の成長によって磁気記録媒体
の走行不良を生じるなどの欠点がある。また磁気ヘッド
との摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、走行安
定性や耐久性に劣るという難点がある。
このため、従来からこの種のコバルトを主成分とする強
磁性金属薄膜層の耐食性および走行安定性を改善すべく
、強磁性金属薄膜層の表面を酸化性ガスまたは酸素を含
むガスによりグロー放電処理(特開昭58−17544
号、特開昭58−41439号)したり、オゾン雰囲気
に曝してCO3O4を形成(特開昭58−26319号
、特開昭58−26322号)したり、また強磁性金属
薄膜層を高温多湿雰囲気に曝してCo3O4を表面に形
成する(特公昭42−20025号公報)ことが行われ
ている。
磁性金属薄膜層の耐食性および走行安定性を改善すべく
、強磁性金属薄膜層の表面を酸化性ガスまたは酸素を含
むガスによりグロー放電処理(特開昭58−17544
号、特開昭58−41439号)したり、オゾン雰囲気
に曝してCO3O4を形成(特開昭58−26319号
、特開昭58−26322号)したり、また強磁性金属
薄膜層を高温多湿雰囲気に曝してCo3O4を表面に形
成する(特公昭42−20025号公報)ことが行われ
ている。
ところが、グロー放電処理やオゾン雰囲気に曝す方法で
はCo3O4を形成するのに時間がかかるため実用性に
乏しく、また高温多湿雰囲気に曝す方法ではアモルファ
スのCo(014)2が形成されやすく、安定に再現性
よ(Co304を形成することが難しい。さらにこれら
の方法で形成されたCO3O4等のCO不I)J態膜は
、摩擦係数が高いため良好な走行安定性が得られず、走
行安定性を改善するため、これらの上に潤滑剤層を設け
ようとしても、潤滑剤層を可及的に薄くかつ均一に接着
性よく被着形成することが難しく、走行安定性を充分に
改善することができない。
はCo3O4を形成するのに時間がかかるため実用性に
乏しく、また高温多湿雰囲気に曝す方法ではアモルファ
スのCo(014)2が形成されやすく、安定に再現性
よ(Co304を形成することが難しい。さらにこれら
の方法で形成されたCO3O4等のCO不I)J態膜は
、摩擦係数が高いため良好な走行安定性が得られず、走
行安定性を改善するため、これらの上に潤滑剤層を設け
ようとしても、潤滑剤層を可及的に薄くかつ均一に接着
性よく被着形成することが難しく、走行安定性を充分に
改善することができない。
この発明はかかる現状に鑑み、鋭意研究を重ねた結果な
されたもので、基体上にコバルトを主成分とする強磁性
金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層の
少なくとも表面側部分にCo2O3の水和物またはCO
3O4の水和物を形成した後、この強磁性金属薄膜層を
水分付着処理することによって、強磁性金属薄膜層の耐
食性を充分に向上させるとともに、吸着水による潤滑効
果を充分に発揮させて、摩擦係数を充分に小さくし、走
行安定性および耐摩耗性を充分に向上させたものである
。また水分付着処理後、さらにその上に潤滑剤層を形成
することによって、摩擦係数をさらに一段と小さくし、
走行安定性および耐摩耗性をさらに一段と向上させたも
のである。
されたもので、基体上にコバルトを主成分とする強磁性
金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層の
少なくとも表面側部分にCo2O3の水和物またはCO
3O4の水和物を形成した後、この強磁性金属薄膜層を
水分付着処理することによって、強磁性金属薄膜層の耐
食性を充分に向上させるとともに、吸着水による潤滑効
果を充分に発揮させて、摩擦係数を充分に小さくし、走
行安定性および耐摩耗性を充分に向上させたものである
。また水分付着処理後、さらにその上に潤滑剤層を形成
することによって、摩擦係数をさらに一段と小さくし、
走行安定性および耐摩耗性をさらに一段と向上させたも
のである。
この発明において、強磁性金属薄膜層の少なくとも表面
側部分に形成されるCo2O3の水和物またはCO3O
4の水和物は、コバルトもしくはコバルト合金を酸素ガ
ス存在下に真空蒸着するなどして、コバルトを主成分と
し、少なくとも表面側部分にCoOからなるコバルトの
酸化物層を有する強磁性金属薄膜層を形成し、しかる後
、これを少な(とも酸素と水分の存在下で加熱処理する
か、酸素と水蒸気の存在下でグロー放電処理するなどの
方法で形成される。
側部分に形成されるCo2O3の水和物またはCO3O
4の水和物は、コバルトもしくはコバルト合金を酸素ガ
ス存在下に真空蒸着するなどして、コバルトを主成分と
し、少なくとも表面側部分にCoOからなるコバルトの
酸化物層を有する強磁性金属薄膜層を形成し、しかる後
、これを少な(とも酸素と水分の存在下で加熱処理する
か、酸素と水蒸気の存在下でグロー放電処理するなどの
方法で形成される。
このCO2O3の水和物またはCO3O4の水和物は、
CO203・nH20またはCO3O4・nH2Oで表
され、式中のnは0.1〜8の範囲内であることが好ま
しく、さらに0.1〜2の範囲内であることがより好ま
しい。またこのCo2O3の水和物またはCO3O4の
水和物は、酸素ガスと水分の存在下での加熱処理条件、
あるいは酸素と水蒸気の存在下でのグロー放電処理条件
などにより、強磁性金属薄膜層を構成するコバルトもし
くはコバルト合金の柱状粒子の周囲全体に形成されたり
、あるいは柱状粒子の表面部分にのみ形成される。酸素
ガスと水分の存在下で加熱処理する際の熱処理温度は、
約140℃以下、特に約35〜100℃の範囲内とする
のがこのましく、さらに約40〜90℃の範囲内にする
のがより好ま、しい。また熱処理時における湿度は70
%RH以下が好ましく、湿度がこれ以上高くなると、強
磁性金属層の表面側部分にアモルファスのCo(OH)
2が生成しやすくなるため好ましくない。また酸素と水
蒸気の存在下でグロー放電処理する際の酸素と水蒸気の
比率は、容積比(酸素対水蒸気)にして1.0対0.0
5〜1.0対1.0の範囲内にするのが好ましく酸素が
少なすぎると酸化反応の進行が充分でなくなり、水蒸気
が少なすぎると水和反応が効率良く進まない。
CO203・nH20またはCO3O4・nH2Oで表
され、式中のnは0.1〜8の範囲内であることが好ま
しく、さらに0.1〜2の範囲内であることがより好ま
しい。またこのCo2O3の水和物またはCO3O4の
水和物は、酸素ガスと水分の存在下での加熱処理条件、
あるいは酸素と水蒸気の存在下でのグロー放電処理条件
などにより、強磁性金属薄膜層を構成するコバルトもし
くはコバルト合金の柱状粒子の周囲全体に形成されたり
、あるいは柱状粒子の表面部分にのみ形成される。酸素
ガスと水分の存在下で加熱処理する際の熱処理温度は、
約140℃以下、特に約35〜100℃の範囲内とする
のがこのましく、さらに約40〜90℃の範囲内にする
のがより好ま、しい。また熱処理時における湿度は70
%RH以下が好ましく、湿度がこれ以上高くなると、強
磁性金属層の表面側部分にアモルファスのCo(OH)
2が生成しやすくなるため好ましくない。また酸素と水
蒸気の存在下でグロー放電処理する際の酸素と水蒸気の
比率は、容積比(酸素対水蒸気)にして1.0対0.0
5〜1.0対1.0の範囲内にするのが好ましく酸素が
少なすぎると酸化反応の進行が充分でなくなり、水蒸気
が少なすぎると水和反応が効率良く進まない。
このようにしてCo2O3の水和物またはC。
304の水和物が、強磁性金属薄膜層の少なくとも表面
側部分に形成されると、強磁性金属薄膜層の少なくとも
表面側部分は、Cooからなるコバルトの酸化物層と、
CO2O3・nH2OまたはC0304・n H20で
表されるCo2O3の水和物またはCo3O4の水和物
の2層構造となり、腐食のメカニズムであるコバルトカ
チオンの拡散が阻止されて、腐食が良好に阻止され、強
磁性金属薄膜層の耐食性が充分に向上される。また、高
温多湿下に放置した場合に腐食生成物によって生じる走
行性の劣化も防止され、摩擦係数が充分に低減されて走
行安定性が充分に向上される。
側部分に形成されると、強磁性金属薄膜層の少なくとも
表面側部分は、Cooからなるコバルトの酸化物層と、
CO2O3・nH2OまたはC0304・n H20で
表されるCo2O3の水和物またはCo3O4の水和物
の2層構造となり、腐食のメカニズムであるコバルトカ
チオンの拡散が阻止されて、腐食が良好に阻止され、強
磁性金属薄膜層の耐食性が充分に向上される。また、高
温多湿下に放置した場合に腐食生成物によって生じる走
行性の劣化も防止され、摩擦係数が充分に低減されて走
行安定性が充分に向上される。
このようにして少なくとも表面側部分にCo2O3の水
和物またはCO30,の水和物が形成された強磁性金属
薄膜層への水分付着処理は、このCo2O3の水和物ま
たはCo3O4の水和物が形成された強磁性金属薄膜層
を、相対湿度が65%以上の水蒸気中にさらすか、ある
いはこの強磁性金属薄膜層に水粒を吹きつけるか、もし
くはこの強磁性金Ji!薄膜層を水中に浸漬するか、ま
たはこの強磁性金属薄膜層に水を塗布するなどして行わ
れ、このような水分付着処理が行われると、Co2O3
の水和物またはCo3.04の水和物が形成された強磁
性金属薄膜層に水が良好に吸着され、この吸着水によっ
て優れた潤滑効果が発揮されるため、摩擦係数が充分に
低減されて、走行安定性および耐摩耗性が充分に向上さ
れる。
和物またはCO30,の水和物が形成された強磁性金属
薄膜層への水分付着処理は、このCo2O3の水和物ま
たはCo3O4の水和物が形成された強磁性金属薄膜層
を、相対湿度が65%以上の水蒸気中にさらすか、ある
いはこの強磁性金属薄膜層に水粒を吹きつけるか、もし
くはこの強磁性金Ji!薄膜層を水中に浸漬するか、ま
たはこの強磁性金属薄膜層に水を塗布するなどして行わ
れ、このような水分付着処理が行われると、Co2O3
の水和物またはCo3.04の水和物が形成された強磁
性金属薄膜層に水が良好に吸着され、この吸着水によっ
て優れた潤滑効果が発揮されるため、摩擦係数が充分に
低減されて、走行安定性および耐摩耗性が充分に向上さ
れる。
このような水分付着処理は、常温で行っても水分の付着
、保持が良好に行われ、充分な効果が発揮されるが、温
度を40℃以上にして行うとC。
、保持が良好に行われ、充分な効果が発揮されるが、温
度を40℃以上にして行うとC。
2o3の水和物またはCo3O4の水和物が形成された
強磁性金属層膜層上への水分の付着、保持が一段と良好
になり、吸着水による潤滑効果がさらに向上して摩擦係
数が一段と低減されるため、40℃以上の温度で行うの
が好ましく、温度が高いほど良好な結果が得られる。特
に水蒸気中にさらして行う場合は、強磁性金属薄膜層表
面に充分な水分の付着、保持が行われるように、温度が
40℃以上で、相対湿度が65%以上の水蒸気中にさら
して行うのが好ましく、相対湿度が高いほど、また温度
が高いほど良好な結果が得られる。
強磁性金属層膜層上への水分の付着、保持が一段と良好
になり、吸着水による潤滑効果がさらに向上して摩擦係
数が一段と低減されるため、40℃以上の温度で行うの
が好ましく、温度が高いほど良好な結果が得られる。特
に水蒸気中にさらして行う場合は、強磁性金属薄膜層表
面に充分な水分の付着、保持が行われるように、温度が
40℃以上で、相対湿度が65%以上の水蒸気中にさら
して行うのが好ましく、相対湿度が高いほど、また温度
が高いほど良好な結果が得られる。
このように、Co2O3の水和物またはCo3O4の水
和物が形成された強磁性金属薄膜層に、水分付着処理を
行うと摩擦係数が充分に低減されて走行安定性および耐
摩耗性が充分に向上されるが、この上にさらに潤滑剤層
を形成すると、このCo2O3の水和物またはCo3O
4の水和物が形成された強磁性金属薄膜層に付着した水
分と、この上に被着形成された潤滑剤層とが、相乗的に
相互作用して、潤滑剤層の強磁性金属薄膜層に対する接
着性が改善されるとともに、吸着水および:a滑剤層の
潤滑効果が極めて良好に発揮され、摩擦係数がさらに一
段と低減されて、走行安定性および耐摩耗性がさらに一
段と向上される。
和物が形成された強磁性金属薄膜層に、水分付着処理を
行うと摩擦係数が充分に低減されて走行安定性および耐
摩耗性が充分に向上されるが、この上にさらに潤滑剤層
を形成すると、このCo2O3の水和物またはCo3O
4の水和物が形成された強磁性金属薄膜層に付着した水
分と、この上に被着形成された潤滑剤層とが、相乗的に
相互作用して、潤滑剤層の強磁性金属薄膜層に対する接
着性が改善されるとともに、吸着水および:a滑剤層の
潤滑効果が極めて良好に発揮され、摩擦係数がさらに一
段と低減されて、走行安定性および耐摩耗性がさらに一
段と向上される。
このような潤滑剤層は、潤滑剤を、たとえば、トルエン
、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール、
フレオン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
、ジオキサン等の適当な溶剤に熔解し、溶解によって得
られた溶液をCo2O3の水和物またはCo3O4の水
和物を形成しかつ水分付着処理を行った強磁性金部薄膜
層上に塗布または噴霧するか、あるいは前記溶液中に、
Co2O3の水和物またはCo3O4の水和物を形成し
かつ水分付着処理を行った強磁性金属薄膜層を浸漬する
などの方法で形成され、さらにCo2O3の水和物また
はco3o4の水和物を形成しかつ水分付着処理を行っ
た強磁性金属薄膜層上に潤滑剤を真空蒸着するなどの方
法でも形成される。このようにして形成される潤滑剤層
の層厚は、50〜300人の範囲内にするのが好ましく
、50人より膜厚が薄いとその優れた潤滑効果を充分に
発揮させて摩擦係数を充分に低減することができず、3
00人より厚くするとスペーシングロスが大きくなりす
ぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼす。
、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール、
フレオン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
、ジオキサン等の適当な溶剤に熔解し、溶解によって得
られた溶液をCo2O3の水和物またはCo3O4の水
和物を形成しかつ水分付着処理を行った強磁性金部薄膜
層上に塗布または噴霧するか、あるいは前記溶液中に、
Co2O3の水和物またはCo3O4の水和物を形成し
かつ水分付着処理を行った強磁性金属薄膜層を浸漬する
などの方法で形成され、さらにCo2O3の水和物また
はco3o4の水和物を形成しかつ水分付着処理を行っ
た強磁性金属薄膜層上に潤滑剤を真空蒸着するなどの方
法でも形成される。このようにして形成される潤滑剤層
の層厚は、50〜300人の範囲内にするのが好ましく
、50人より膜厚が薄いとその優れた潤滑効果を充分に
発揮させて摩擦係数を充分に低減することができず、3
00人より厚くするとスペーシングロスが大きくなりす
ぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼす。
使用される潤滑剤としては、脂肪族系潤滑剤、フッ素系
潤滑剤、シリコーン系潤滑剤および炭化水素系潤滑剤等
がいずれも好適なものとして使用され、脂肪族系潤滑剤
としては、脂肪酸、脂肪酸の金属塩、脂肪酸エステル、
脂肪酸アミド、脂肪族アルコールなどが使用される。
潤滑剤、シリコーン系潤滑剤および炭化水素系潤滑剤等
がいずれも好適なものとして使用され、脂肪族系潤滑剤
としては、脂肪酸、脂肪酸の金属塩、脂肪酸エステル、
脂肪酸アミド、脂肪族アルコールなどが使用される。
脂肪酸としては、たとえば、ラウリン酸、ミリスチン酸
、パリミチン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
などが好ましく使用され、またこれらの金属塩としては
、たとえば、これらのリチウム塩、ナトリウム塩、カル
シウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、コ
バルト塩、亜鉛塩、バリウム塩ならびに鉛塩などが好適
なものとして使用される。さらに脂肪酸エステルとして
は、たとえば、ステアリン酸ブチル、ミリスチン酸オク
チル、ステアリン酸モノグリセリド、パリミチン酸モノ
グリセリド、オレイン酸モノグリセリド、ペンタエリス
リトールテトラステアレートなどが好ましく使用され、
脂肪酸アミドとしては、たとえば、・カプロン酸アミド
、カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、バルミチン酸
アミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール
酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミドなどが好ま
しく使用される。また脂肪族アルコールとしては、たと
えば、ステアリルアルコール、ミリスチルアルコールな
どが好ましく使用され、この他、トリメチルステアリル
アンモニウムクロライド、塩化ステアロイル等の塩化物
、ステアリルアミン、ステアリルアミンアセテート、ス
テアリルアミンハイドロクロライド等のアミンなども好
適なものとして使用される。
、パリミチン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
などが好ましく使用され、またこれらの金属塩としては
、たとえば、これらのリチウム塩、ナトリウム塩、カル
シウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、コ
バルト塩、亜鉛塩、バリウム塩ならびに鉛塩などが好適
なものとして使用される。さらに脂肪酸エステルとして
は、たとえば、ステアリン酸ブチル、ミリスチン酸オク
チル、ステアリン酸モノグリセリド、パリミチン酸モノ
グリセリド、オレイン酸モノグリセリド、ペンタエリス
リトールテトラステアレートなどが好ましく使用され、
脂肪酸アミドとしては、たとえば、・カプロン酸アミド
、カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、バルミチン酸
アミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール
酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミドなどが好ま
しく使用される。また脂肪族アルコールとしては、たと
えば、ステアリルアルコール、ミリスチルアルコールな
どが好ましく使用され、この他、トリメチルステアリル
アンモニウムクロライド、塩化ステアロイル等の塩化物
、ステアリルアミン、ステアリルアミンアセテート、ス
テアリルアミンハイドロクロライド等のアミンなども好
適なものとして使用される。
またフッ素系潤滑剤としては、例えばトリクロロフルオ
ロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ
アルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカルボン
酸などが好ましく使用され、市販品の具体例としては、
ダイキン社製グイフロン#20、デュポン社製タライト
フクスM1クライトックスH,パイダックスAR,モン
テジソン社製フォンブリンZなどが挙げられる。さらに
シリコーン系潤滑剤としては、シリコーンオイル、変性
シリコーンオイル等が好適なものとして使用され、炭化
水素系潤滑剤としては、パラフィン、スクアラン、ワッ
クス等が好適なものとして使用される。
ロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ
アルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカルボン
酸などが好ましく使用され、市販品の具体例としては、
ダイキン社製グイフロン#20、デュポン社製タライト
フクスM1クライトックスH,パイダックスAR,モン
テジソン社製フォンブリンZなどが挙げられる。さらに
シリコーン系潤滑剤としては、シリコーンオイル、変性
シリコーンオイル等が好適なものとして使用され、炭化
水素系潤滑剤としては、パラフィン、スクアラン、ワッ
クス等が好適なものとして使用される。
強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Co単体の他、
Coを主成分として含むCo−Cr合金、Go−Ni合
金、Co−P合金、Go−Fe合金、Co−Fe−Cr
合金等のGo金合金好適なものとして使用され、これら
の強罐性材は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパ
ッタリング、メッキ等の手段によって基体フィルム上に
被着され、Goを主成分とした金属から゛なる強磁性金
属薄膜層が形成される。
Coを主成分として含むCo−Cr合金、Go−Ni合
金、Co−P合金、Go−Fe合金、Co−Fe−Cr
合金等のGo金合金好適なものとして使用され、これら
の強罐性材は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパ
ッタリング、メッキ等の手段によって基体フィルム上に
被着され、Goを主成分とした金属から゛なる強磁性金
属薄膜層が形成される。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラム、さらに磁気カードなど、磁気ヘッ
ドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラム、さらに磁気カードなど、磁気ヘッ
ドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示す真空蒸着装置を使用し、厚さ12μmのポ
リエステルフィルム1を、真空槽2内の原反ロール3か
らガイドロール4を介して円筒伏キャン5の周側面に沿
って走行させ、ガイドロール6を介して巻取りロール7
に巻き取るようにセットした。同時に真空槽2内下部に
配置した強磁性材蒸発源8内に、コバルト−ニッケル合
金(重量比80:20)9をセットした。次いで、真空
槽2に連結した排気系lOで真空槽2内を5×10−6
トールまで減圧したのち、酸素ガス導入管11から酸素
ガスを0.4β/分の流量で導入し、強磁性材蒸発源8
内のコバルト−ニッケル合金9を加熱蒸発して真空蒸着
を行い、ポリエステルフィルム1上にll:1500人
のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属薄膜層を
形成した。
リエステルフィルム1を、真空槽2内の原反ロール3か
らガイドロール4を介して円筒伏キャン5の周側面に沿
って走行させ、ガイドロール6を介して巻取りロール7
に巻き取るようにセットした。同時に真空槽2内下部に
配置した強磁性材蒸発源8内に、コバルト−ニッケル合
金(重量比80:20)9をセットした。次いで、真空
槽2に連結した排気系lOで真空槽2内を5×10−6
トールまで減圧したのち、酸素ガス導入管11から酸素
ガスを0.4β/分の流量で導入し、強磁性材蒸発源8
内のコバルト−ニッケル合金9を加熱蒸発して真空蒸着
を行い、ポリエステルフィルム1上にll:1500人
のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属薄膜層を
形成した。
次いで、このコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金
属薄膜層を形成したポリエステルフィルム1を、真空槽
2から取り出し、大気圧に保たれた熱処理槽において、
60℃、30%RHの条件下で3時間加熱処理を行った
。
属薄膜層を形成したポリエステルフィルム1を、真空槽
2から取り出し、大気圧に保たれた熱処理槽において、
60℃、30%RHの条件下で3時間加熱処理を行った
。
次ぎに、この加熱処理を終えたポリエステルフィルム1
を、60℃、75%RHに保たれた水分付着処理槽にお
いて、24時間さらして水分付着処理を行い、この水分
付着処理を行った強磁性金属薄膜層上に、さらにフッ素
系脂肪酸エステル〔CF3− (CF2 ) s −(
CH2) OH)の0.1重量%フレオン溶液を塗布し
、乾燥してフ・ノ素系脂肪酸エステルからなる厚さが1
50人の潤滑剤層を形成した。しかる後、所定の幅に裁
断して磁気テープをつくった。
を、60℃、75%RHに保たれた水分付着処理槽にお
いて、24時間さらして水分付着処理を行い、この水分
付着処理を行った強磁性金属薄膜層上に、さらにフッ素
系脂肪酸エステル〔CF3− (CF2 ) s −(
CH2) OH)の0.1重量%フレオン溶液を塗布し
、乾燥してフ・ノ素系脂肪酸エステルからなる厚さが1
50人の潤滑剤層を形成した。しかる後、所定の幅に裁
断して磁気テープをつくった。
実施例2
実施例1における水分付着処理において、処理条件を6
0℃、75%RH124時間から80℃、80%RH1
3時間に変更した以外は実施例1と同様にして磁気テー
プをつくった。
0℃、75%RH124時間から80℃、80%RH1
3時間に変更した以外は実施例1と同様にして磁気テー
プをつくった。
実施例3
実施例1における水分付着処理において、60℃、75
%RHで24時間さらす代わりに、80℃の水粒吹付け
を15分間行った以外は、実施例1と同様にして磁気テ
ープをつくった。
%RHで24時間さらす代わりに、80℃の水粒吹付け
を15分間行った以外は、実施例1と同様にして磁気テ
ープをつくった。
実施例4
実施例1における水分付着処理において、60℃、75
%RHで24時間さらす代わりに、60℃の水中に30
分間浸漬した以外は、実施例1と同様にして磁気テープ
をつくった。
%RHで24時間さらす代わりに、60℃の水中に30
分間浸漬した以外は、実施例1と同様にして磁気テープ
をつくった。
実施例5
実施例1における水分付着処理において、60℃、75
%RHで24時間さらす代わりに、60℃の水を塗布し
た以外は、実施例1と同様にして磁気テープをつくった
。
%RHで24時間さらす代わりに、60℃の水を塗布し
た以外は、実施例1と同様にして磁気テープをつくった
。
実施例6
実施例1において、フッ素系脂肪酸エステルからなる潤
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例1と同様にして磁
気テープをつくった。
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例1と同様にして磁
気テープをつくった。
実施例7
実施例2において、フッ素系脂肪酸エステルからなる潤
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例2と同様にして磁
気テープをつくった。
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例2と同様にして磁
気テープをつくった。
実施例8
実施例3において、フッ素系脂肪酸エステルからなる潤
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例3と同様にして磁
気テープをつくった。
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例3と同様にして磁
気テープをつくった。
実施例9
実施例4において、フッ素系脂肪酸エステルからなる潤
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例4と同様にして磁
気テープをつくった。
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例4と同様にして磁
気テープをつくった。
実施例10
実施例5において、フッ素系脂肪酸エステルからなる潤
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例5と同様にして磁
気テープをつくった。
滑剤層の形成を省いた以外は、実施例5と同様にして磁
気テープをつくった。
比較例1
実施例1において、水分付着処理を省いた以外は実施例
1と同様にして磁気テープをつくった。
1と同様にして磁気テープをつくった。
比較例2
実施例1において、加熱処理および水分付着処理を省い
た以外は実施例1と同様にして磁気テープをつくった。
た以外は実施例1と同様にして磁気テープをつくった。
比較例3
実施例1において、水分付着処理およびフッ素系脂肪酸
エステルからなる潤滑剤層の形成を省いた以外は実施例
1と同様にして磁気テープをつ(った。
エステルからなる潤滑剤層の形成を省いた以外は実施例
1と同様にして磁気テープをつ(った。
比較例4
実施例1において、加熱処理、水分付着処理およびフッ
素系脂肪酸エステルからなる潤滑剤層の形成を省いた以
外は実施例1と同様にして磁気テ−プをつくった。
素系脂肪酸エステルからなる潤滑剤層の形成を省いた以
外は実施例1と同様にして磁気テ−プをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
強磁性金属薄膜層表面のxps分析を行った。xps分
析にはVG 5cientific Limlted
社製、製品名ESCALAB5の分析機器を使用し、X
線出力がl0KV、20mAで、CI’Sピーク値を2
84.6 eVにセットし、Jj&出角を0度にして分
析した。第2図はこの文PS分析に基づくCO2P 3
/2のスペクトル図で、この第2図に示すスペクトルの
サテライトピークから明らかなように、coはCooの
状態ではな(Co203またはCo3O4の状態で存在
していることがわかる。
強磁性金属薄膜層表面のxps分析を行った。xps分
析にはVG 5cientific Limlted
社製、製品名ESCALAB5の分析機器を使用し、X
線出力がl0KV、20mAで、CI’Sピーク値を2
84.6 eVにセットし、Jj&出角を0度にして分
析した。第2図はこの文PS分析に基づくCO2P 3
/2のスペクトル図で、この第2図に示すスペクトルの
サテライトピークから明らかなように、coはCooの
状態ではな(Co203またはCo3O4の状態で存在
していることがわかる。
また、各実施例および比較例で得られた磁気テープにつ
いて、スチール試験を行い、スチルライフを測定した。
いて、スチール試験を行い、スチルライフを測定した。
スチール試験は得られた磁気テープを室温、50%RH
の条件下で、日立製作所社製VTRを用いて行い、入力
5Ml−12の信号の出力が6dB低下したときまでの
時間を測定して行った。また摩擦係数は、摺動式動摩擦
係数測定機を用い、固定摺動ピンにRaが0.02のス
テンレスを用い、摺動速度1000m/分で摺動させた
ときの、製造直後と60℃、90%RHの環境下に5週
間静置した後の摩擦係数を測定した。
の条件下で、日立製作所社製VTRを用いて行い、入力
5Ml−12の信号の出力が6dB低下したときまでの
時間を測定して行った。また摩擦係数は、摺動式動摩擦
係数測定機を用い、固定摺動ピンにRaが0.02のス
テンレスを用い、摺動速度1000m/分で摺動させた
ときの、製造直後と60℃、90%RHの環境下に5週
間静置した後の摩擦係数を測定した。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ(実施例1ないし10)は、いずれも比較例工ないし
4で得られた磁気テープに比し、製造直後および静置後
の摩擦係数が小さくて、スチル寿命が長く、このことか
らこの発明の製造方法によれば、耐食性に優れ、摩擦係
数が小さくて走行安定性および耐久性に優れた磁気記録
媒体が得られることがわかる。
プ(実施例1ないし10)は、いずれも比較例工ないし
4で得られた磁気テープに比し、製造直後および静置後
の摩擦係数が小さくて、スチル寿命が長く、このことか
らこの発明の製造方法によれば、耐食性に優れ、摩擦係
数が小さくて走行安定性および耐久性に優れた磁気記録
媒体が得られることがわかる。
第1図はこの発明で使用する真空蒸着装置の概略断面図
、第2図は各実施例および比較例で得られた磁気テープ
のXPS分析によるスペクトル図である。 特許出願人 日立マクセル株式会社 第1図 第2図 B、E (eV)
、第2図は各実施例および比較例で得られた磁気テープ
のXPS分析によるスペクトル図である。 特許出願人 日立マクセル株式会社 第1図 第2図 B、E (eV)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上に、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜
層を形成し、この強磁性金属薄膜層の少なくとも表面側
部分にCo_2O_3の水和物またはCo_3O_4の
水和物を形成した後、この強磁性金属薄膜層を水分付着
処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 2、水分付着処理を、相対湿度が65%以上の水蒸気中
に強磁性金属薄膜層を曝して行う特許請求の範囲第1項
記載の磁気記録媒体の製造方法 3、水分付着処理を、強磁性金属薄膜層に水粒を吹きつ
けて行う特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製
造方法 4、水分付着処理を、水中に強磁性金属薄膜層を浸漬し
て行う特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造
方法 5、水分付着処理を、強磁性金属薄膜層に水を塗布して
行う特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方
法 6、基体上に、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜
層を形成し、この強磁性金属薄膜層の少なくとも表面側
部分にCo_2O_3の水和物またはCo_3O_4の
水和物を形成した後、この強磁性金属薄膜層を水分付着
処理し、さらにこの上に潤滑剤層を形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法 7、水分付着処理を、相対湿度が65%以上の水蒸気中
に強磁性金属薄膜層を曝して行う特許請求の範囲第6項
記載の磁気記録媒体の製造方法 8、水分付着処理を、強磁性金属薄膜層に水粒を吹きつ
けて行う特許請求の範囲第6項記載の磁気記録媒体の製
造方法 9、水分付着処理を、水中に強磁性金属薄膜層を浸漬し
て行う特許請求の範囲第6項記載の磁気記録媒体の製造
方法 10、水分付着処理を、強磁性金属薄膜層に水を塗布し
て行う特許請求の範囲第6項記載の磁気記録媒体の製造
方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2966986A JPS62188024A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2966986A JPS62188024A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62188024A true JPS62188024A (ja) | 1987-08-17 |
Family
ID=12282517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2966986A Pending JPS62188024A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62188024A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017049189A (ja) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 住友金属鉱山株式会社 | コバルト価数の評価方法 |
-
1986
- 1986-02-12 JP JP2966986A patent/JPS62188024A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017049189A (ja) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 住友金属鉱山株式会社 | コバルト価数の評価方法 |
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