JPH02108223A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、強磁性金属薄膜層を磁気記録層とした磁気
記録媒体およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、
耐食性および耐久性に優れた前記の磁気記録媒体および
その製造方法に関する。

〔従来の技術〕

強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつくら
れ、高密度記録に適した特性を有するが、反面磁気ヘノ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、また
長期間保存すると腐食されてドロップアウト数が増加す
るなどの問題が生じ易く、特に、保存環境が工業地帯等
の亜硫酸ガス濃度の高い地域ではこの傾向が著しい。

このため、従来から強磁性金属薄膜層に不働態化傾向の
強い金属元素を添加するなどして耐食性を改善すること
が行われており、たとえば、コバルトを主成分とする強
磁性金属薄膜層にＣｒなどの不働態化傾向の強い金属元
素を添加することが試みられている。（特開昭５９−６
１１０５号）〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、コバルトを主成分とする強磁性金属薄膜層に
Ｃｒなどの不働態化傾向の強い金属元素を添加する方法
では、かなり耐食性が改善されるものの、亜硫酸ガスを
含む高温多湿下における防食効果が未だ充分でなく、腐
食の進行を防止することが困難であった。

〔課題を解決するための手段〕

この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果なさ
れたもので、強磁性金属薄膜層上に、強磁性金属の硫化
物からなる保護膜層を設けることによって、特に、亜硫
酸ガスを含む高温多湿下における耐食性を充分に向上さ
せたものである。また、強磁性金属の硫化物からなる保
護膜層上にさらに潤滑剤層を設けることによって、耐食
性および耐久性をさらに一段と向上させたものである。

この発明において、強磁性金属薄膜層上に形成される強
磁性金属の硫化物からなる保護膜層は、少なくとも硫化
水素を含む気体中で強磁性金属薄膜層の表面処理を行う
ことによって形成され、特に、強磁性金属薄膜層がコバ
ルトまたはニッケルを主成分とするものである場合は、
硫化水素と緩和な反応条件下で表面反応を進ませること
によって、酸またはアルカリ水溶液に難溶で、亜硫酸ガ
ス、硫化水素、酸化窒素、塩素等の腐食性ガスを含む高
温多湿下で安定な、コバルトまたはニッケルを主成分と
する強磁性金属の硫化物からなる保護膜層が形成され、
亜硫酸ガスを含む高温多湿下における耐食性が向上され
る。

このようにして、強磁性金属薄膜層を少なくとも硫化水
素を含む気体中で表面処理する場合、磁気記録媒体が磁
気テープのように可撓性のよいベースフィルムを用いた
ものであるときは、ロール状に巻き込まれた磁気テープ
原反を、密閉容器中にて硫化水素ガスを含む気体で加圧
下で表面処理するなどの方法で行われ、このときの表面
処理は、表面処理を効果的に行うため加圧条件１ｋｇ／
ｃｄ以上の加圧下で行うのが好ましい。また、反応速度
を制御するため、反応温度、反応時間以外に気体中の硫
化水素ガスの濃度を調節したり、アンモニアガス等の反
応緩和剤を添加するなどの手段を講じてもよい。

この他、強磁性金属薄膜層上に形成される強磁性金属の
硫化物からなる保護膜層は、強磁性金属薄膜層の表面に
イオウ化合物をスパッタリングすることによっても形成
され、このときも強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニ
ッケルを主成分とするものであると、前記の硫化水素を
含む気体中で表面処理する場合と同様に、酸またはアル
カリ水溶液に難溶で、亜硫酸ガス、硫化水素、酸化窒素
、塩素等の腐食性ガスを含む高温多湿下で特に安定な、
コバルトまたはニッケルを主成分とする強磁性金属の硫
化物からなる保護膜層が形成され、亜硫酸ガスを含む高
温多湿下における耐食性が向上される。

このようにして、少なくとも硫化水素を含む気体中で強
磁性金属薄膜層の表面処理を行うか、あるいは強磁性金
属薄膜層にイオウ化合物をスパッタリングするなどの方
法で形成されるこの種の強磁性金属の硫化物からなる保
護膜層は、強磁性金属をＭで表すと、Ｍ、Ｓ型、ＭｓＳ
ｚ型、ＭＳ型、Ｍ３Ｓ４型、ＭｔＳｚ型、Ｍ　Ｓ　ｚ型
、ＭＳ、型など種々の硫化物からなるものが得られ、い
ずれも優れた防食効果を有するが、ＭＳ型およびＭ。

Ｓ４型のものは、とりわけ保護膜層を形成しやすく、特
に量産性に優れている。このような強磁性金属の硫化物
からなる保護膜層の膜厚は、５０〜３００人の範囲内に
するのが好ましく、３０人より薄くては所期の効果が得
られず、５００人より厚くするとスペーシングロスが大
きくなって電磁変換特性が劣化するおそれがある。

このように、強磁性金属薄膜層上に強磁性金属の硫化物
からなる保護膜層を形成すると、特に、亜硫酸ガスを含
む環境下における耐食性が向上されるが、この保護膜層
上に、さらに潤滑剤層を形成すると、潤滑剤層の潤滑効
果が充分に発揮され、摩擦係数が充分に低減されて、耐
久性および耐食性が一段と向上される。

このような潤滑剤層は、潤滑剤を、トルエン、メチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルム
アミド、ジオキサンなどの適当な溶剤に溶解し、溶解に
よって得られた溶液中に前記の保護膜層を浸漬するか、
あるいはこの溶液を前記の保護膜層上に塗布または噴霧
するなどの方法で形成され、この他、潤滑剤を前記の保
護膜層上に真空蒸着するなどの方法でも形成される。

使用される潤滑剤としては、脂肪族系潤滑剤、フッ素系
潤滑剤、シリコーン系潤滑剤および炭化水素系潤滑剤等
がいずれも好適なものとして使用され、脂肪族系潤滑剤
としては、脂肪酸、脂肪酸の金属塩、脂肪酸エステル、
脂肪酸アミド、脂肪族アルコールなどが使用される。脂
肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、ベヘン酸などが好ましく使用され、
脂肪酸の金属塩としては、これらの脂肪酸のマグネシウ
ム塩、アルミニウム塩、リチウム塩、ナトリウム塩、カ
ルシウム塩、コバルト塩、亜鉛塩、バリウム塩、鉛塩な
どが好適に使用される。また脂肪酸エステルとしては、
ステアリン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリ
ン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグリセリド、オ
レイン酸モノグリセリドなどが好ましく使用され、脂肪
酸アミドとしては、カプロン酸アミド、カプリン酸アミ
ド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ベヘン酸
アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミド、メチレ
ンビスステアリン酸アミドなどが好ましく使用される。

さらに脂肪族アルコールとしては、ステアリルアルコー
ル、ミリスチルアルコールなどが好ましく使用され、こ
の他、トリメチルステアリルアンモニウムクロライド、
塩化ステアロイル等の塩化物、ステアリルアミン、ステ
アリルアミンアセテート、ステアリルアミンハイドロク
ロライド等のアミンなども使用される。

またフッ素系潤滑剤としては、トリクロロフルオロエチ
レン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキ
ルポリエーテル、パーフルオロアルキルカルボン酸など
が好適なものとして使用され、市販品の具体例としては
、ダイキン社製ダイフロイル＃２０、デュポン社製クラ
イトックスＭ、タライトツクスＨ１バイダックスＡＲ，
モンテジソン社製フォンプリンＺ等が挙げられる。さら
にシリコーン系潤滑剤としては１．シリコーンオイル、
変性シリコーンオイル等が挙げられ、炭化水素系潤滑剤
としては、パラフィン、スクアラン、ワックス等が好適
なものとして使用される。

なお、これらの潤滑剤を使用して形成される潤滑剤層は
、これらの潤滑剤のみで構成する他、防錆剤や微粒子を
混在させてもよく、防錆剤とじては、ブチルヒドロキシ
アニソール、ジブチルヒドロキシトルエン、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾトリアゾールラウリルアミン、ハイド
ロキノン、ジメチルアミノエチルメタクリレート、トリ
フェニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリ
ラウリルチオホスファイト、ブチルホスフェート、ジラ
ウリルチオジプロピオネート、ソルビトール、プロピレ
ングリコール、ヒドロキノンなどの、フェノール系、ア
ミン系、リン系、硫黄系、有機酸系、キノン系の防錆剤
が好適なものとして使用される。また微粒子としては、
Ａｌ２Ｏ３、Ｚｒ０ｚ　、Ｃｒ、ｏ３、Ｆｅ３０４　、
Ｆ　ｅｚ　０３、Ｔｉ１ｔ　、Ｓ　ｔｏ、　、ＳｎＯ２
などが好ましく使用される。

このような潤滑剤を用いて形成される潤滑剤層の層厚は
、潤滑効果を充分に発揮させて耐摩耗性を充分に向上さ
せるため５０Å以上にするのが好ましい。しかし、前記
の強磁性金属薄膜層上に積層形成した保護膜層との合計
厚が５００人より厚くなると、スペーシングロスが大き
くなって、電磁変換特性が劣化するおそれがあるため、
前記保護膜層との合計厚が５００Å以下となるようにす
るのが好ましい。

また、この発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜層を
表面に有する基体の裏面に必要に応じてバックコート層
を設けてもよく、このバックコート層は、ベンガラ、硫
酸バリウム、炭酸カルシウム、カーボンブラックなどの
充填剤を、結合剤成分および有機溶剤等とともに混合分
散してバックコート層用塗料を調製し、このバックコー
ト層用塗料を基体の裏面に、塗布、乾燥して形成される
。なお、バックコート層用塗料中には、通常使用されて
いる各種添加剤、たとえば、分散剤、潤滑剤、研磨剤、
帯電防止剤などを適宜に添加使用してもよい。

強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Ｃｏ。

Ｎｉ等の金属、さらにＣＯおよびＮｉを主成分とするＣ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃ。

−Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−ＰＬ、Ｃｏ−Ｔｉ等の合金が特に
好ましく使用されるが、これら以外に、Ｆｅ金属など、
通常、磁気記録媒体に使用される強磁性材がいずれも好
適なものとして使用され、これらの強磁性材からなる強
磁性金属薄膜層は、真空蒸着、イオンブレーティング、
スパッタリング、メツキ等の手段によって基体上に被着
形成される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィルム、アル
ミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラムを基
体とする磁気ディスクや磁気ドラム、さらに磁気カード
など、磁気ヘッドと摺接する構造の種々の形態を包含す
る。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 第１図に示す真空蒸着装置を使用し、厚さ１２μｍのポ
リエステルフィルム１を、真空槽２内の原反ロール３か
ら円筒状キャン４の周側面に沿って走行させ、巻き取り
ロール５に巻き取るようにセットした。同時に、真空槽
２内下部に配置した強磁性材蒸発源６内にコバルト−ニ
ッケル合金（原子比８０；２０）７をセットした。次い
で、真空槽２に連結した排気系８で真空槽２内を５×１
０４トールまで減圧したのち、円筒状キャン４とその直
下に配設した防着板９との間に導入した酸素ガス導入管
１０から酸素ガスを導入し、２×１０−４トールの酸素
雰囲気中で、強磁性材蒸発源６内のコバルト−ニッケル
合金７を加熱蒸発させて、最低入射角５０度で真空蒸着
を行い、ポリエステルフィルム１上に厚さｌ　２００’
人のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属薄膜層
を形成した。

次いで、このコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金
属薄膜層を形成したポリエステルフィルム１を、真空槽
２から取り出して、スチール製密閉容器に移し、硫化水
素ガス２０％、アルゴンガス４０％の組成のガスを１．
２ｋｇ／ｃＩＩＮとなるように加圧充填し、７日間処理
を行って、ＭＳ型のコ／Ｎ／ルトーニッケル合金の硫化
物からなる保護膜層を形成した。なお、処理時の反応温
度は２５°Ｃに保持し、また反応開始２日後、微量のア
ンモニアガスを含む上記反応ガスの再充填を行った。

反応終了後、再び第１図に示す真空蒸着装置を使用して
、コバルト−ニッケル合金の硫化物からなる保護膜層上
に、ステアリン酸リチウムを真空蒸着して、約１００人
の潤滑剤層を形成した。

次に、強磁性金属薄膜層を形成したポリエステルフィル
ムの裏面に、下記のバックコート層用塗料を塗布、乾燥
して厚さが１．０μｍのバックコート層を形成した。し
かる後、所定の巾に裁断して、第２図に示すようなポリ
エステルフィルム１の表面に、強磁性金属薄膜層１１、
保護膜層１２および潤滑剤層１３を順次に積層形成し、
裏面にバックコート層１４を形成した磁気テープＡをつ
くった。

バックコート層用塗料 パルカンＸＣ−７２（キャボッＩ−３００重量部社製、
カーボンブラック） ＶＡＧＨ（Ｕ、Ｃ，Ｃ社製、塩化ビ　１００〃ニル−酢
酸ビニル−ビニルア ルコール共重合体） Ｎ−２３０１（日本ポリウレタンエ　　７０〃業社製、
ウレタン樹脂） コロネートＬ（日本ポリウレタ　　３０〃ン工業社製、
三官能性低分子 量イソシアネート化合物） ミリスチン酸　　　　　　　　　　１０〃ステアリン酸
−ｎ−ブチル　　　　５　〃シクロヘキサノン　　　　
　　　　７５０〃トルエン　　　　　　　　　　　７５
０〃実施例２ 実施例１における強磁性金属薄膜層の形成において、コ
バルト−ニッケル合金（原子比８０：２０）に代えて、
ニッケルーコバルト合金（原子比８５：１５）を強磁性
材蒸発源６にセットした以外は、実施例１と同様にして
厚さ１２００人のニッケルーコバルト合金からなる強磁
性金属薄膜層を形成し、さらに保護膜層、潤滑剤層、バ
ックコート層を形成し、磁気テープＡをつくった。

実施例３ 実施例１において、潤滑剤層の形成を省いた以外は、実
施例１と同様にして、第３図に示すようなポリエステル
フィルム１の表面に、強磁性金属薄膜Ｎ１１および保護
膜層１２を順次に積層形成し、裏面にバックコート層１
４を形成した磁気テープＢをつくった。

実施例４ 実施例２において、潤滑剤層の形成を省いた以外は、実
施例２と同様にして磁気テープＢをつくった。

実施例５ 実施例１と同様にして強磁性金属薄膜層を形成した後、
第４図に示すスパッタリング装置を使用し、強磁性金属
薄膜層を形成したポリエステルフィルム１を、真空槽１
５内の原反ロール１６から円筒状キャン１７の周側面に
沿って走行させ、巻き取りロール１８に巻き取るように
セットした。

同時に、円筒状キャン１７の下方に配設した電極１９上
に、コバルト−ニッケル円板上にイオウ板を接着した複
合ターゲット２０をセットした。次いで、真空槽１５に
連結した排気系２１で真空槽１５内を２Ｘ１０−ｂｆ−
−ルまで減圧したのち、真空槽１５の側壁に取り付けた
ガス導入管２２からアルゴンガスと水素ガスとをＩ：１
で混合した混合ガスを導入し、ガス圧をｏ、ｏｏｓ　ト
ールにして、ポリエステルフィルム１を０．５ｍ／分の
走行速度で走行させながら、イオウ板を接着した複合タ
ーゲット２０に１３．５６Ｍ！Ｉｚの高周波を５Ｗ／ａ
ａの電力密度で印加し、スパンタリングを行って、厚さ
２００人のＭＳ型のコバルトｍ；・７ケル合金の硫化物
からなる保護膜層を強磁性金属薄膜層、Ｌに形成した。

なお、回申２３は電極１９に高周波を印加するための高
周波電源である。

しかる後、実施例１と同様にして潤滑剤層およびバック
コート層を形成し、磁気テープＡをつくった。

実施例６ 実施例５における保護膜層の形成において、複合ターゲ
ットのコバルト−ニッケル円板とイオウ板との面積を調
節して、厚さ２００人のＭｚＳａ型のコバルト−ニッケ
ル合金の硫化物からなる保護膜層を形成した以外は、実
施例１と同様にして厚さ１２００人のコバルト・−ニッ
ケル合金からなる強磁性金属薄膜層、潤滑剤層４５よび
パンシシｔ−ｉを形成し、磁気テープＡを・′フくった
。

実施例７ 実施例５において、潤滑剤層の形成を省いた以外は、実
施例５と同様にし４て磁気テープＢをつくった。

実施例８ 実施例６において、潤滑剤層の形成を省いた以外は、実
施例６と同様にして磁気テープＢりつく比較例１ 実施例１において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例２ 実施例２において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例２と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例３ 実施例３において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例３と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例４ 実施例４において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例４と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例５ 実施例５において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例５と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例６ 実施例６において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例６と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例７ 実施例７において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例７と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例８ 実施例８において、強磁性材の硫化物からなる保護膜層
の形成を省いた以外は実施例８と同様にして磁気テープ
をつ（った。

各実施例および比較例で得られた磁気テ＝−ブを、８ｍ
１ＶＴＲカセツトに組み込み、インカセット状態で、Ｓ
　Ｏｚ　０．ｌｐｐｍ、　Ｈｚ　Ｓｏ、０５ｐｐＨ，Ｎ
０ｚＯ，ｌｐｐｍ、３５゛Ｃ１７５％ＲＨの雰囲気下に
２４時間保存して腐食加速試験を行った。腐食加速試験
は、保存後の磁気テープの表面を走査型電子顕微鏡で観
察し、腐食生成物の有無を調べた。また、８ｍｍＶＴＲ
を用いて磁気テープを実走行させ、その際の、ヘッド目
詰まり、ＶＴＲの回転シリンダ負荷電流の増加および再
生画像の画質劣化を調べた。

その結果、比較例１ないし８で得られた磁気テープは、
いずれもＶＴＲカセット内でリールに巻き込まれたテー
プ部分は腐食が認められないものの、ＶＴＲカセット内
の特に腐食性ガスに露出したＶＴＲカセット蓋近傍と、
光透過率検出用窓近傍のテープ部分が腐食していた。そ
して、この腐食部は、ヘッド目詰まり、ＶＴＲの回転シ
リンダ負荷電流の増加が認められ、さらに再生画像の著
しい画質劣化が認められた。これに対し、実施例１ない
し８で得られた磁気テープは、いずれも腐食が全く認め
られず、磁気テープ目詰まり、ＶＴＲの回転シリンダ負
荷電流の増加もなく、さらに再生画像の画質劣化も認め
られなかった。

〔発明の効果〕

以上の腐食加速試験の試験結果から明らかなように、こ
の発明で得られた磁気テープ（実施例１ないし８）は、
いずれも比較例工ないし８で得られた磁気テープに比し
、耐食性が一段と向上されていることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明で使用する真空蒸着装置の概略断面図
、第２図および第３図はこの発明によって得られた磁気
テープの部分拡大断面図、第４図はこの発明で使用する
スパッタリング装置の概略断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、１１・・・強
磁性金属薄膜層、１２・・・保護膜層、１３・・・潤滑
剤層、Ａ、Ｂ・・・磁気テープ（磁気記録媒体）特許出
願人　　日立マクセル株式会社 第１図 第２ス

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
   金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層上に強磁性
   金属の硫化物からなる保護膜層を設けたことを特徴とす
   る磁気記録媒体 ２、強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニッケルを主成
   分とする強磁性金属薄膜層である請求項１記載の磁気記
   録媒体 ３、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
   金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層上に強磁性
   金属の硫化物からなる保護膜層を設け、さらにこの保護
   膜層上に潤滑剤層を設けたことを特徴とする磁気記録媒
   体 ４、強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニッケルを主成
   分とする強磁性金属薄膜層である請求項３記載の磁気記
   録媒体 ５、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
   金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層を
   少なくとも硫化水素を含む気体中で表面処理して、強磁
   性金属薄膜層上に強磁性金属の硫化物からなる保護膜層
   を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 ６、強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニッケルを主成
   分とする強磁性金属薄膜層である請求項５記載の磁気記
   録媒体の製造方法 ７、硫化水素を含む気体中での表面処理を硫化水素ガス
   を主成分として含有する１ｋｇ／ｃｍ＾２以上の加圧雰
   囲気下で行う請求項５および６記載の磁気記録媒体の製
   造方法 ８、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
   金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層の
   表面にイオウ化合物をスパッタリングして、強磁性金属
   薄膜層上に強磁性金属の硫化物からなる保護膜層を形成
   することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 ９、強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニッケルを主成
   分とする強磁性金属薄膜層である請求項８記載の磁気記
   録媒体の製造方法 １０、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁
   性金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層
   を少なくとも硫化水素を含む気体中で表面処理して、強
   磁性金属薄膜層上に強磁性金属の硫化物からなる保護膜
   層を形成し、しかる後、この強磁性金属の硫化物からな
   る保護膜層上に潤滑剤層を形成することを特徴とする磁
   気記録媒体の製造方法 １１、強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニッケルを主
   成分とする強磁性金属薄膜層である請求項１０記載の磁
   気記録媒体の製造方法 １２、硫化水素を含む気体中での表面処理を硫化水素ガ
   スを主成分として含有する１ｋｇ／ｃｍ＾２以上の加圧
   雰囲気下で行う請求項１０および１１記載の磁気記録媒
   体の製造方法 １３、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁
   性金属薄膜層を形成し、次いで、この強磁性金属薄膜層
   の表面にイオウ化合物をスパッタリングして、強磁性金
   属薄膜層上に強磁性金属の硫化物からなる保護膜層を形
   成し、しかる後、この強磁性金属の硫化物からなる保護
   膜層上に潤滑剤層を形成することを特徴とする磁気記録
   媒体の製造方法 １４、強磁性金属薄膜層がコバルトまたはニッケルを主
   成分とする強磁性金属薄膜層である請求項１３記載の磁
   気記録媒体の製造方法