JPS6224369A - 画像情報処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はマスク処理機能を備えた画像情報処理装置に係
り、特に複数枚の画像に対してマスク処理を行う画像情
報処理装置に関するものである。

［従来の技術］ 一般に画像編集を行う際、画像データの一部にマスクを
かけ画像の一部分のみを切り出したい場合が多い。しか
もこの切り出しの形状が矩形や正多角形以外の複雑な形
状である場合が多く、かかる場合従来良く行う方式とし
て切り出しくマスク）用のヒツトマツプメモリを持ち、
このビットマツプメモリの内容に応じて取り出すべきデ
ータか捨てるデータかを選択し、所望の切り出し選択を
行う方式がある。

このマスク用ビットマツプメモリからのデータで画像デ
ータにマスクをかける方式は、一枚の画像の内から所望
の領域内のデータのみ抽出し、その結果を指定されたメ
モリに書き込む事が多い。

しかもこのメモリは一般にディザ法や濃度パターン法等
で２値化された画像データをストアする。

ビットマツプメモリである事が多い。これは高解像の画
像を取り扱う時、画像データを格納するメモリのコスト
を著しく低減するからである。

−かかる方法において、複数のマスクされた画像を指定
されたメモリへ合成する場合は、各画像を順番にメモリ
へ重ね書きし、後から書かれる画像データに優先度を設
ける方式がとられる。第２図（ａ）（ｂ）はこの説明図
で簡単のため円形にマスクされた画像Ａと、ハート型に
マスクされた画像Ｂの合成を示す。Ａの画像を先にメモ
リに作成し、続いてＢの画像を合成した結果、第２図（
ａ）の様に両者の重なった部分は後から行ったＢの画像
に書き加えられ、結果として処理画像Ｂが優先される。

これはメモリの画像データが既にディザ法等により２値
化されていて、Ａの画像の重なる画像部分の原始データ
が失われてしまっているためＡの画像を優先させる処理
が不可能となるためである。

一方、！７！２図（ｂ）の様に両者の画像が川なった部
分Ｃを両者の画像が重なる様に（即ち透かし）行いたい
という要望があるが、かかる方法は前述従来の方法では
不可能である。

又、高解像の画像を取り扱う時にはマスキング用ビット
マツプメモリの容量が太きくなり、コストアップとなる
欠点があった。更にはマスキングによる切り出し処理を
した後、画像を拡大した場合、マスクの斜めエツジがギ
ザギザになるという問題もあった。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は上述従来例の欠点に鑑みなされたもので、複数
枚の画像データに任意のマスク処理を行うとともに画像
データの任意の重ね合わせを可能にした画像情報処理装
置を提供することを目的とする。

また本発明はマスク情報の平滑化を可能にした画像情報
処理装置を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ この問題を解決するための一手段として、例えば第１図
に示す実施例の画像情報処理装置は、マスク情報格納手
段としてのマスクメモリ３と、マスク情報変換手段とし
てのマスク処理回路６、マスク手段及び合成７段として
の画像処理回路７とを備える。

［作用］ かかる第１図の構成において、ビット合成器４により、
入力された画像情報に２ビットのマスク情報を付加した
ｌＯビットの画像情報を作成する。該画像情報は変倍処
理回路５によって拡大・縮小等が行われる。一方２ビッ
トのマスク情報はマスク処理回路６によって平滑化のた
めに変換される０画像処理回路７ではマスク処理回路６
よりのマスク情報に従って複数の画像に対するマスク処
理と画像の選択出力及び複数の画像の合成を行ない、２
値化回路８を通してビットマツプメモリ９に画像情報を
格納する。

［実施例］ 以下、添付図面に従って本発明の実施例を詳細に説明す
る。

［画像情報処理装置のブロック図の説明（第１図）］ 第１図は本発明の画像情報処理装置行のブロック図を示
したものである。イメージデータ１は例えばＴＶカメラ
やＣＣＤセンサ等から読み出された時系列画像データを
Ａ／Ｄ変換した８ビットテータである。かかるイメージ
データ１はラスク画像データ２として順次入力され、ビ
ット合成器４によってマスクメモリ３からの２ビットの
出力と合成され第３図に示すような１０ビットテータと
なる。

なお第１図において、線上の数字はデータのヒツト数を
示している。

第４図（ａ）（ｂ）はマスクメモリ３の内容の一例を示
した図で、ハート型の内部６０はすべてデータがｌ、斜
線部６１はデータがすべて０となっている。第４図（ａ
）は通常のＮＸＸＮＹ画素のマスク情報を示し、第４図
（ｂ）は第４図（ａ）のマスク情報をｘ、ｙ方向にｌ／
に間引いた場合の図で、メモリ容量は第４図（ａ）の１
／に２倍となっている。

マスクメモリ３からのデータの取り出しタイミングはＸ
、ｙ方向それぞれに１／ｋに間引かれているためイメー
ジデータのｋＸｋ画素単位に行われる。マスクメモリ３
の内容はＯ又は１で構成されていて、０の時はイメージ
データの取り出し禁市（後述のビットマツプメモリ８へ
の書き込み禁止）、ｌの時はビットマツプメモリ８への
書き込み許可を意味する。

ラスク画像データ２とマスクデータは、前述したように
ビット合成器４により第３図の様にマスクデータを最上
位２ビットに書込んだ１０ビットデータとされ、前述の
様にｋＸｋ画素の画像データに対して１つのマスクデー
タが繰返し付加される。

ビット合成された画像データ１０は後段の変倍処理回路
５において、画像の変倍、即ち拡大、縮小等の変換がな
される。いま画像の拡大の場合について説明を行うと、
例えば縦横３倍に拡大する場合は、ラスク的に出力され
たイメージデータ１画素を主走査方向に３画素分同じデ
ータを続けて出力し、副走査方向に３ライン分同じライ
ンデータを出力すれば良い。このためイメージデータの
出力はライン毎にポーズする事が出来るものとする。

変倍処理回路５により変倍処理した後、１０ビットの画
像データのうちの２ビットのマスクデータは、マスク処
理回路６においてマスクエツジの平滑化処理に用いられ
、荒いマスク目による画像のギザギザのエツジを平滑化
する。その後画像処理回路７において２つのマスクでの
重複部分での透かし処理等を行う。しかる後、２値化回
路８においてディザ法等で画像データの２値化を行い、
ビットマツプメモリ９に結果を格納する。

［マスクメモリ構成の説明 （第５図（ａ）　　（ｂ）　）　］ 第５図（ａ）はマスクＡ、マスクＢから成る２つのマス
クデータを有するマスクメモリ３を示したもので、各マ
スクは各々深さ１ビットのビットマツプメモリ構成であ
るが、重複画像を考慮して第５図（ｂ）の様にコート化
して２ビットのマスクメモリとして取り扱う方が便利で
ある。即ち第５図（ｂ）に示す様に、マスクデータ：０
０（メモリは書き込み禁止）、０１（画像Ｂのみ）、ｌ
Ｏ（画像Ａのみ）、１１（画像ＡとＢの透かし）なるコ
ード情報を：’ｒｔｌりつける。

［マスクｑｉ滑化回路の説明 （第６図（ａ）（ｂ）、第７図（ａ）（ｂ））］第６図
（ａ）（ｂ）はマスクモ滑化回路のブロック図である。

ここでは簡単のためマスクデータが１ヒツトの場合につ
いて説明する。

第６図（ａ）において人力された画像データ２４は、シ
フトレジスタ２３ａ、２３ｂにより１ライン分ずつの遅
延をうけ、３ラインのマスク情報が同時に出力される。

各ラインの出力は１画素遅延素子２２ａ〜２２ｆにより
遅延を受ける。従ってタップ２１ａ〜２１ｉからは同時
に３Ｘ３のマトリクス内の画像データが取り出される。

第６図（ｂ）は１ビットのマスクデータに基づいて発生
される前述の３×３のマスクデータ２１ａ〜２１ｉの変
換のブロック図である。

９つのでスクデータ２１ａ〜２１ｉは加算器３０で加算
され、０〜９の範囲をもつ４ビットデータ３１として出
力される。この加算されたデータ３１は次段のコンパレ
ータ３２により、ある一定の閾値データ３３と比較され
２値化されてデータ３４として出力される。この閾値デ
ータ３３はマニュアル等で適宜設定出来る様にされてい
る。

（この閾値データ３３を変える事により平滑特性か多少
変わる。）以上の結果２値化された出力３４が得られる
。

第７図（ａ）はマスクデータが１ビットの場合のマスク
処理を行う前の状態を示したもので、第７１Ｎ　（ｂ）
は処理後のマスクデータを示したものである。

第７図（ａ）において、斜線部が０（即ちマスクする部
分）を示し、実際は線７０に沿った斜め４５０のマスク
を期待したいのだが、荒いマスクデータ又は変倍作用（
拡大作用）等によりマスク目が拡大され、図に示される
様に荒いギザギザになっている。

第７図（ｂ）は処理を行った結果を示す図で、各数値は
３×３のマトリクスでのマスクデータの加算結果３１を
示している。今閾値データ３３を５に選び。

データ≧５　→　出力＝１ データく５　→　出力＝Ｏ となる方に決めたとすると、第７図（ｂ）の斜線部がＯ
となる。この結果、斜めエツジ部は線７０に近くなり、
より自然な平滑化されたものとなるため、マスクされ抽
出された画像の境界は滑らかにみえるようになる。

以上本実施例においては３×３のマトリクスについて説
明したがハードウェア等の制約がなければ、さらに大き
いマトリクスを用いれば、より平滑化の作用は大きくす
ることができる。

［他のマトリクスの説明 （第８図（ａ）〜（ｃ））］ 第８図（ａ）は５×５のマトリクスの一例を示す図であ
る。このマトリクスの各要素は重み１で（全て均等に）
加算される。このため加算された結果は０〜２５までの
６ビットの値となるため。

後段の回路もこれに合わせて設計する必要がある。

第８図（ｂ）は３Ｘ３の中心画素に重みを置いた平均化
マトリクスの一例図で平均化走査は中心の値に重点を置
いて行われる。

第８図（Ｃ）は正方形でない場合の平均化マトリクスの
一例を示した図で、前述の如く平均化のマトリクスを大
きくすると平滑化の作用は犬きくなるが、ラインメモリ
（又はシフトレジスタ）笠の部品数が大きくなり、コス
トか相当高くなる。

それに比へ本図に示した主走査（マスクの水平）方向の
みティメンジョンを大きくしたマトリクスを用いると、
例えば主走査方向の遅延素子の追加だけでよくハードコ
ストが安くなるという利点がある。

［マスク処理回路６の説明（第９図］ 第９図は本実施例のマスク処理回路６のブロック図で、
マスクデータが２ビットの場合を示している。

マスクデータは２ヒツトであるため前述の様に００、Ｏ
ｆ、１０．１１の４つの状態をとりうる。今これを上位
ビット、下位ビットに分けて分離すると、上位ビットの
みｌのときは画像Ａのマスク領域を、下位ビットのみが
１のとき画像Ｂのマスク領域を示す。第９図はかかる２
つのマスク領域を同時に平滑化するものである。本回路
では１０ビットの画像データのうち上位２ビットのマス
クデータがマスクデータ分離回路４１において分離され
、かかる２ビットのマスクデータのＭＳＢ　、ＬＳＢ各
々が次段のマスク平滑化回路４３ａ、４３ｂで平滑化さ
れる。このマスク平滑化回路４３ａ、４３ｂの回路は第
６図（ａ）（ｂ）で示したｌヒツトのマスク平滑化回路
と同じである。

平滑化された２つのマスクデータ６２．６３のうちセレ
クタ４５により１種類が選択される。かかる選択はセレ
クト信号４７により行なわれる。

一方２つのマスクの重なり部分はＡＮＤ回路４４により
検出され、ビット合成器４６にょリセレクタ４５の出力
とＡＮＤ回路４４が合成され、再び２ビットの平滑化さ
れたマスクデータ６４に変換される。

なおビット合成器４６では、セレクト信号４７によりＡ
の画像か又はＢの画像かによってセレクタ４５よりの１
ビットのマスクデータと、ＡＮＤ回路４４よりの出力の
いずれかをＭＳＨにするかを決定する。このためビット
合成器４６にはデコーダが含まれている。しかる後ビッ
ト合成器４７で下位８ビットに画像データを付加し１０
ビットの画像データ５０を得る。

［画像処理回路のブロック図の説明 （第１０図）］ 第１０図は画像処理回路７の詳細及び後続回路との接続
を示したものである。

１０ビットの画像データ５０は、再び２ビットのマスク
テーク６５と８ビットの画像データ６６に分離され１画
像データ６６はセレクタ５１へ入力される。セレクタ５
１では最初の画像Ａのマスクデータでそのマスクデータ
６５が１０の時、即ち重なりの無い時にはデコーダ５７
ａよりの信号・　６７によりＸが選択される。マスクデ
ータ６５が毛なりのあることを示す１１の場合にはＹが
選ばれてバッファメモリ５２に画像データ６６が出力さ
れる。この時デコーダ５７ｂがＲ／Ｗ信号６８をＬＯＷ
にしてバッファメモリ５２への書込みを指示する。後段
のセレクタ５４においては、マスクデータ６５が１０の
時、デコーダ５７ｃよりの信号６９によりＸが選ばれ、
Ｘより入力された画像データが次段の２値化回路８に出
力される。マスクデータ６５が１１の時はセレクタ５４
の入力Ｘ、Ｙ、Ｚのいずれも選択されず２値化回路８へ
の出力がなされない。

次に２枚目の画像Ｂの時、マスクデータか０１の時には
セレクタ５１．５４はＸが選ばれ画像データ６６は、２
値化回路８を経てビットマツプメモリ９へ記憶される。

マスクデータ６５が１１の時、セレクタ５１．５４はそ
れぞれＸ、Ｙが選ばれると同時にバッファメモリ５２の
Ｒ／Ｗ信号６８がＨＩＧＨにセットされ、前に記憶され
た画像Ａの領域（第５図（ｂ）における領域１１）が読
み出される。

セレクタ５１のＸ側を通った画像データとバッファメモ
リ５２からの２つのデータは、加算器５３ａで加算され
た後２つのデータの平均をとるために、除算器５３ｂｒ
ｌ／２される。（これは単に１ビットシフトするだけで
よい、）このデータはセレクタ５４のＹに入力され、セ
レクタ５４を通して２値化回路８に入力され２値化され
てビットマツプメモリ９へ記憶される０以上まとめると
次の表の様になる。

表 デコーダ５７ａ　〜５７ｄは、マスクデータ（２ビット
）及びセレクト信号４７から、セレクタ５１．５４、バ
ッファメモリ５２、ビットマツプメモリ９を制御する制
御信号を作成する。セレクト信号４７は例えば１回目の
画像データのときはＬＯＷレベル、２回目の画像データ
の時はＨＩＧＨレベルになる１ビットの信号である。

なお本実施例において、第１回目と第２回目の画像の順
序を逆にしてもよい、この時第１回目のマスクデータ６
５が１１の時バッファメモリ５２へ占き込み、第２回目
の時はバッファメモリ５２から読み出し平均操作を行う
事は同様である。

更に重なり部分のマスクデータ６５を１１以外にするこ
とにより、例えばセレクタ５４のＺ入力を選択してバッ
ファメモリ５２の出力を２値化回路８に出力するように
して対応する優先した画像をはめこむことができる。

［発明の効果］ 以」二述べた如く本発明によれば、複数の画像データを
それぞれ任意形状に切り出すマスク処理を行い、マスク
された画像データの任意の重ね合わせや合成が可能にな
るという効果がある。

また本発明によればマスク情報を平滑化できるため、例
えばエツジ等の滑らかなマスク処理が可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本実施例の画像情報処理装置の概略ブロック図
。 第２図（ａ）（ｂ）はマスク画像の一例を示す図、 第３図はマスク情報を付加した画像データの一例を示す
図、 ｆｆ１４１ｆｆｌ（ａ）　　（ｂ）はマスクメモリの内
容の一例を示す図、 ｆｆ１５図（ａ）（ｂ）はマスクメモリの構成の一例を
示す図。 第６図（ａ）（ｂ）はマスク平滑化回路のブロック図、 第７図（ａ）（ｂ）は平滑化処理を説明するための図、 第８図（ａ）〜（Ｃ）はマトリクスの一例を示す図、 第９図はマスク処理回路のブロック図、第１Ｏ図は画像
処理回路のブロック図である。 図中、３・・・マスクメモリ、４・・・ビット合成器、
５・・・変倍回路、６・・・マスク処理回路、７・・・
画像処理回路、８・・・２４Ｆｉ化回路、９・・・ビッ
トマツプメモリ、２３ａ、２３ｂ・・・シフトレジスタ
、３０・・・加算器、３２・・・コンパレータ、３３・
・・閾値データ、４１・・・マスクデータ分離回路、４
５，５１，５４・・・セレクタ、４７・・・セレクト信
号、５２・・・バッファメモリ、５７ａ〜５７ｄ・・・
デコーダである。 第３図 第４図 （Ｇ）　　　　　　　　　　（ｂ） 第５図　（Ｇ） 第６図　　（０） 第６図　　（ｂ） 第８図　（Ｇ） 第８図　（ｂ） 第８図　（Ｃ）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくとも１枚分の画像情報に対応するマスク情
   報を格納するマスク情報格納手段と、前記マスク情報に
   対応して画像情報をマスクするマスク手段と、マスクさ
   れた複数枚の画像情報を前記マスク情報に対応して合成
   する合成手段とを備えたことを特徴とする画像情報処理
   装置。
2. （２）所定領域のマスク情報の重みづけ加算を行い、前
   記加算の結果と所定値との比較を行うことにより前記マ
   スク情報を変換するマスク情報変換手段を備えたことを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の画像情報処理装
   置。
3. （３）複数枚の画像情報をラスタデータとして入力し、
   該ラスタデータに少なくとも１ビットの対応するマスク
   情報を付加し、前記画像情報の枚数と前記マスク情報に
   対応して前記複数枚の画像情報にマスク処理または合成
   処理の少なくともいずれかを行うようにしたことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載の画像情報
   処理装置。
4. （４）マスク情報のビット数は対象画像情報の枚数に対
   応し、合成処理では前記マスク情報に基づいて前記対象
   画像情報の対応する画素情報間で所定の計算を行なうよ
   うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の
   画像情報処理装置。