JPS62237966A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPS62237966A JPS62237966A JP8193986A JP8193986A JPS62237966A JP S62237966 A JPS62237966 A JP S62237966A JP 8193986 A JP8193986 A JP 8193986A JP 8193986 A JP8193986 A JP 8193986A JP S62237966 A JPS62237966 A JP S62237966A
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- JP
- Japan
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- substrate
- rotated
- coating material
- air
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 18
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 13
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置に関する
。
。
本発明においては回転する基板に対して離間して配置し
た制御板により、空気の流速を調節し、薄膜の厚さを制
御する。
た制御板により、空気の流速を調節し、薄膜の厚さを制
御する。
例えばビデオディスクの原盤を製造する場合、基板上に
フォトレジスト等の薄膜が形成される。
フォトレジスト等の薄膜が形成される。
第５図は斯かる薄膜形成装置の正面図を表している。同
図において１はモータであり、基台２を回転させる。３
はコーティング材料の飛散を防止するカバーである。基
台２上に載置された基板４はモータ１により回転され、
回転する基板４−ヒにノルズ５からフォトレジスト等の
コーティング材料が吐出される。モータ１はこのとき比
較的低速で回転され、基板４の上面全体がコーティング
材料で被覆されるようになされる。
図において１はモータであり、基台２を回転させる。３
はコーティング材料の飛散を防止するカバーである。基
台２上に載置された基板４はモータ１により回転され、
回転する基板４−ヒにノルズ５からフォトレジスト等の
コーティング材料が吐出される。モータ１はこのとき比
較的低速で回転され、基板４の上面全体がコーティング
材料で被覆されるようになされる。
しかる後モータ１は高速で回転され、遠心力により不要
なコーティング材料が除去され、コーティング材料の厚
さが薄くされる。さらに乾燥されて基板４上にフォトレ
ジストの薄膜をコーティングした原盤が得られる。
なコーティング材料が除去され、コーティング材料の厚
さが薄くされる。さらに乾燥されて基板４上にフォトレ
ジストの薄膜をコーティングした原盤が得られる。
この原盤に光学的にビデオ信号を記録し、現像したもの
からスタンパが製造され、スタンパから大量のレプリカ
が製造される。
からスタンパが製造され、スタンパから大量のレプリカ
が製造される。
このように従来の薄膜形成装置は基板の回転速度を調整
することにより薄膜の厚さを制御するようにしているた
め、薄膜の厚さを均一に成形することが困難であった。
することにより薄膜の厚さを制御するようにしているた
め、薄膜の厚さを均一に成形することが困難であった。
例えば第６図に示すように。
基板」二にコーティングされる薄膜の厚さｔは、基板の
回転中心からの距離（半径）ｒが大きくなると厚くなる
、すなわち内周部を目標値りになるようにすると、外周
部が目標値りより厚くなる欠点があった。
回転中心からの距離（半径）ｒが大きくなると厚くなる
、すなわち内周部を目標値りになるようにすると、外周
部が目標値りより厚くなる欠点があった。
本発明は薄膜形成装置において、モータと、モータによ
り回転され、載置された基板を回転させる基台と、回転
される基板」−に所定の材料を吐出するノズルと、基板
−Ｌに吐出された材料に接触しないように基板から所定
距離離間するとともに、離間する距離が、基板の半径方
向において異なっている制御板とを備えることを特徴と
する。
り回転され、載置された基板を回転させる基台と、回転
される基板」−に所定の材料を吐出するノズルと、基板
−Ｌに吐出された材料に接触しないように基板から所定
距離離間するとともに、離間する距離が、基板の半径方
向において異なっている制御板とを備えることを特徴と
する。
基台」二に載置された基板がモータにより回転される。
ノズルよりコーティング材料が回転する基板」−に吐出
される。基板に対向して配置された制御板が、基板の半
径方向において異なった速度の気流を発生させ、この気
流がコーティング材料に作用してその厚さが制御される
。
される。基板に対向して配置された制御板が、基板の半
径方向において異なった速度の気流を発生させ、この気
流がコーティング材料に作用してその厚さが制御される
。
第１図乃至第３図は本発明の薄膜形成装置の正面図、側
面図及び平面図を各々表している。これらの図において
第５図における場合と対応する部分には同一の符号を符
してあり、その詳述は省略する。第１図乃至第３図にお
いて１１は制御板であり、基板４と対向する面１２を有
している。制御板１１は、第３図に示すように、基板４
（基台２）の回転中心１３から放射状に（半径線状に）
配置されている。また第２図に示すように面］２は基板
４から所定距離離間しており、その離間距離は基板４の
回転方向に徐々に小さくなるようになされている。さら
に第１図に示すように、面１２の基板４に対して最も近
接した部分の基板４からの離間距離は、回転中心１−３
から離れる程（外周に行く程）小さくなるようになされ
ている。しかして基台２上にガラス、合成樹脂等よりな
る基板４が載置された状態においてモータ１が通電され
、基板４は比較的低速で回転される。回転する基板４上
にノズル５からコーティング材料としてのフォトレジス
ト（液状）が所定量吐出される。
面図及び平面図を各々表している。これらの図において
第５図における場合と対応する部分には同一の符号を符
してあり、その詳述は省略する。第１図乃至第３図にお
いて１１は制御板であり、基板４と対向する面１２を有
している。制御板１１は、第３図に示すように、基板４
（基台２）の回転中心１３から放射状に（半径線状に）
配置されている。また第２図に示すように面］２は基板
４から所定距離離間しており、その離間距離は基板４の
回転方向に徐々に小さくなるようになされている。さら
に第１図に示すように、面１２の基板４に対して最も近
接した部分の基板４からの離間距離は、回転中心１−３
から離れる程（外周に行く程）小さくなるようになされ
ている。しかして基台２上にガラス、合成樹脂等よりな
る基板４が載置された状態においてモータ１が通電され
、基板４は比較的低速で回転される。回転する基板４上
にノズル５からコーティング材料としてのフォトレジス
ト（液状）が所定量吐出される。
この液状のフォトレジストは基板４が回転しているので
遠心力により基板４全体に塗布される。
遠心力により基板４全体に塗布される。
基板４の全体にフォトレジストが塗布された後基板４は
高速で回転される。基板４の回転に伴いその表面付近の
空気が同一方向に流れる。第１図に示すように、面１２
は外周に行く程基板４との離間距離が直線的又は曲線的
に小さくなるようになされている。従って外周に行く程
空気の流れる速度は速くなり、その分だけフォトレジス
トに作用するせん断力が強くなる。その結果第４図に示
すように、フォトレジスト層の厚さｔを半径ｒの値に拘
らず略一定（目標値Ｄ）にすることができる。
高速で回転される。基板４の回転に伴いその表面付近の
空気が同一方向に流れる。第１図に示すように、面１２
は外周に行く程基板４との離間距離が直線的又は曲線的
に小さくなるようになされている。従って外周に行く程
空気の流れる速度は速くなり、その分だけフォトレジス
トに作用するせん断力が強くなる。その結果第４図に示
すように、フォトレジスト層の厚さｔを半径ｒの値に拘
らず略一定（目標値Ｄ）にすることができる。
各半径位置における離間距離、換言すれば離間距離の半
径に対する関数は、基板４の回転速度、フォトレジスト
の粘度、溶媒の蒸発速度、面１２の形状等によって変化
するが、実験的に求めることが可能である。一般的に離
間距離は数１０μｍから数１００μｍの範囲となる。
径に対する関数は、基板４の回転速度、フォトレジスト
の粘度、溶媒の蒸発速度、面１２の形状等によって変化
するが、実験的に求めることが可能である。一般的に離
間距離は数１０μｍから数１００μｍの範囲となる。
原理的には第１図に示すように面１２を半径ｒが大きく
なるにつれ基板４に近づけるようにするだけでよい。し
かしながら面１２を基板４の回転方向に対して平行に設
けると、気流が面１２の端部に衡突したとき乱れが発生
する。そこで第２図に示すように、面１２を基板４の回
転方向にくさび状に傾斜させる（離間距離を回転方向に
直線的又は曲線的に徐々に小さくさせる）ようにするの
が好ましい。このようにすると、乱れの発生を防止する
ことができるばかりでなく、空気が圧縮され、気流によ
るフォトレジスト層に対する作用をより大きく、効果的
にすることができる。
なるにつれ基板４に近づけるようにするだけでよい。し
かしながら面１２を基板４の回転方向に対して平行に設
けると、気流が面１２の端部に衡突したとき乱れが発生
する。そこで第２図に示すように、面１２を基板４の回
転方向にくさび状に傾斜させる（離間距離を回転方向に
直線的又は曲線的に徐々に小さくさせる）ようにするの
が好ましい。このようにすると、乱れの発生を防止する
ことができるばかりでなく、空気が圧縮され、気流によ
るフォトレジスト層に対する作用をより大きく、効果的
にすることができる。
基板４はフォトレジスト層が乾燥、固化するまで回転さ
れる。
れる。
尚以上においては制御板１１を１枚だけ設けたが、複数
枚設けてもよい。また制御板１１は上下方向又は水平方
向に移動自在とし、基台２に対して基板４を着脱すると
き支障のない位置に移動させ、基板４を装着した後、あ
るいは基板４の全体にフォトレジスト層が被覆された後
高速回転される前に、基板４ （フォトレジスト層）に
接触しない所定位置迄移動させるようにして、操作性を
向上させることができる。さらにまた面１２の傾斜角度
、曲率等を固定とせず、アクチュエータ等（図示せず）
により変化させることができる。この場合動作開始後の
時間、基板４の回転速度、フォトレジスト層の厚さ等を
随時検出するようにして、面１２の角度、曲率等を自動
的に制御することができる。さらに本発明は面１２と基
板４との離間距離を基板４の半径方向において任意の値
に異ならせることにより、厚さが半径方向に一定でない
薄膜を形成する場合にも応用が可能である。
枚設けてもよい。また制御板１１は上下方向又は水平方
向に移動自在とし、基台２に対して基板４を着脱すると
き支障のない位置に移動させ、基板４を装着した後、あ
るいは基板４の全体にフォトレジスト層が被覆された後
高速回転される前に、基板４ （フォトレジスト層）に
接触しない所定位置迄移動させるようにして、操作性を
向上させることができる。さらにまた面１２の傾斜角度
、曲率等を固定とせず、アクチュエータ等（図示せず）
により変化させることができる。この場合動作開始後の
時間、基板４の回転速度、フォトレジスト層の厚さ等を
随時検出するようにして、面１２の角度、曲率等を自動
的に制御することができる。さらに本発明は面１２と基
板４との離間距離を基板４の半径方向において任意の値
に異ならせることにより、厚さが半径方向に一定でない
薄膜を形成する場合にも応用が可能である。
また本発明１まビデオディスクの原盤を作成する場合だ
けでなく、その他所室の基板に薄膜を形成する場合に応
用ができることは明らかである。
けでなく、その他所室の基板に薄膜を形成する場合に応
用ができることは明らかである。
以」二の如く本発明は薄膜形成装置において、モータと
、モータにより回転され、載置された基板を回転させる
基台と、回転される基板」二に所定の材料を吐出するノ
ズルと、基板］二に吐出された材料に接触しないように
基板から所定距離離間するとともに、離間する距離が、
基板の半径方向において異なっている制御板とを備える
ようにしたので、簡単な構成により基板上に形成される
薄膜の厚さを任意に制御することが可能になる。
、モータにより回転され、載置された基板を回転させる
基台と、回転される基板」二に所定の材料を吐出するノ
ズルと、基板］二に吐出された材料に接触しないように
基板から所定距離離間するとともに、離間する距離が、
基板の半径方向において異なっている制御板とを備える
ようにしたので、簡単な構成により基板上に形成される
薄膜の厚さを任意に制御することが可能になる。
第１図は本発明の薄膜形成装置の正面図、第２図はその
側面図、第３図はその平面図、第４図はその特性図、第
５図は従来の薄膜形成装置の正面図、第６図はその特性
図である。 １・・・モータ ２・・・基台 ３・・・カバー ４・・・基板 ５・・・ノズル １１・・・制御板 １２・・・面 １３・・・回転中心 以上
側面図、第３図はその平面図、第４図はその特性図、第
５図は従来の薄膜形成装置の正面図、第６図はその特性
図である。 １・・・モータ ２・・・基台 ３・・・カバー ４・・・基板 ５・・・ノズル １１・・・制御板 １２・・・面 １３・・・回転中心 以上
Claims (1)
- モータと、該モータにより回転され、載置された基板を
回転させる基台と、回転される該基板上に所定の材料を
吐出するノズルと、該基板上に吐出された該材料に接触
しないように該基板から所定距離離間するとともに、離
間する該距離が、該基板の半径方向において異なってい
る制御板とを備えることを特徴とする薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8193986A JPS62237966A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8193986A JPS62237966A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62237966A true JPS62237966A (ja) | 1987-10-17 |
Family
ID=13760458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8193986A Pending JPS62237966A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62237966A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6490063A (en) * | 1987-10-01 | 1989-04-05 | Nec Corp | Spin coating method |
| JPH02308441A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Canon Inc | 光情報記録媒体の製造方法 |
| JP2021068739A (ja) * | 2019-10-17 | 2021-04-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59121839A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-14 | Fujitsu Ltd | スピン塗布装置 |
-
1986
- 1986-04-09 JP JP8193986A patent/JPS62237966A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59121839A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-14 | Fujitsu Ltd | スピン塗布装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6490063A (en) * | 1987-10-01 | 1989-04-05 | Nec Corp | Spin coating method |
| JPH02308441A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Canon Inc | 光情報記録媒体の製造方法 |
| JP2021068739A (ja) * | 2019-10-17 | 2021-04-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
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