JPS59121839A - スピン塗布装置 - Google Patents
スピン塗布装置Info
- Publication number
- JPS59121839A JPS59121839A JP22318782A JP22318782A JPS59121839A JP S59121839 A JPS59121839 A JP S59121839A JP 22318782 A JP22318782 A JP 22318782A JP 22318782 A JP22318782 A JP 22318782A JP S59121839 A JPS59121839 A JP S59121839A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- exhaust
- chuck
- wafer
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明はスピン塗布装置、詳しくは均一な排気状態が得
られるウェハ等の処理６ご用いるチェンバに関する。
られるウェハ等の処理６ご用いるチェンバに関する。
（２）技術の背景
例えばウェハ上にレジストを塗布してレジスト膜を形成
するには、第１図に概ＩＩＩ＠断面図で示される装置が
用いられ、同図において、１はチェンバ、２はチャック
のスピンヘッド、３はスピンヘッド２上に載置された試
料例えばウェハ、４はチャック、５はスピンヘッドを回
転しチャック４を排気するためのモータ等を収納した排
気回転機構、６は空気取入口、７は排気口を示し、チェ
ンバ１はクリーンブース内に配置され、排気ロアは図示
しない排気ダクトに連結されてチェンバ１内の空気を排
気し、空気取入口６からはクリーンブース内のクリーン
エヤが入る構成となっている。
するには、第１図に概ＩＩＩ＠断面図で示される装置が
用いられ、同図において、１はチェンバ、２はチャック
のスピンヘッド、３はスピンヘッド２上に載置された試
料例えばウェハ、４はチャック、５はスピンヘッドを回
転しチャック４を排気するためのモータ等を収納した排
気回転機構、６は空気取入口、７は排気口を示し、チェ
ンバ１はクリーンブース内に配置され、排気ロアは図示
しない排気ダクトに連結されてチェンバ１内の空気を排
気し、空気取入口６からはクリーンブース内のクリーン
エヤが入る構成となっている。
ウェハ３が配置され終ると、図示しないノズルがウェハ
３の上方ムこ動いてきて、ノズルから所定の量のレジス
トが滴下され、続いてノズルは引っ込められ、次にスピ
ンヘッドが高速回転してレジストを遠心力によってウェ
ハ上に均一に拡げる（スピンコーティング、回転塗布）
。
３の上方ムこ動いてきて、ノズルから所定の量のレジス
トが滴下され、続いてノズルは引っ込められ、次にスピ
ンヘッドが高速回転してレジストを遠心力によってウェ
ハ上に均一に拡げる（スピンコーティング、回転塗布）
。
上記のレジストのスピン塗布が終るとチェンハエの下半
部分はスピンヘット２、チャック４、排気回転機構５と
共に下方に動き、図示しないアームで【／シストが塗布
されたウェハをつかんで次の工程へ移す移送機構上にお
き、別の新しいウエハをスピンヘッド２の上におき、続
いてチェンノ＼゛１の下半部分が上昇して図示の位置に
戻り、以上上記した工程を繰り返す。
部分はスピンヘット２、チャック４、排気回転機構５と
共に下方に動き、図示しないアームで【／シストが塗布
されたウェハをつかんで次の工程へ移す移送機構上にお
き、別の新しいウエハをスピンヘッド２の上におき、続
いてチェンノ＼゛１の下半部分が上昇して図示の位置に
戻り、以上上記した工程を繰り返す。
（３）従来技術と問題点
上記したレジストのスピンコーティングにおいて、試料
の上方で空気流が均一にならず、塗布″されるレジスト
の脈理、膜厚分布に重大な影響を及ぼず。脈理とはレジ
ストの表面が波のようになることであり、この波の頂と
谷との間の間隔（脈理の上下幅）がある数値（数百オン
グストローム程度）を超えないことが要求され、また膜
厚分布がウェハ全面にわたって均一であることは、以後
のエツチング等との関係で重要である。脈理、膜厚分布
は、スピンヘッドの回転数、レジストの粘度等にも左右
されるのであるが、ウエノ＼上の空気流が均一であるか
否かにも大いに影響される。かくして、前記空気流の均
一性を保障する目的で、チェンバの形状、排気量等につ
いて多くの改良が加えられてきたが、前記した脈理、膜
厚分布において不良と判定される事例を無にすることは
きわめて困難である。
の上方で空気流が均一にならず、塗布″されるレジスト
の脈理、膜厚分布に重大な影響を及ぼず。脈理とはレジ
ストの表面が波のようになることであり、この波の頂と
谷との間の間隔（脈理の上下幅）がある数値（数百オン
グストローム程度）を超えないことが要求され、また膜
厚分布がウェハ全面にわたって均一であることは、以後
のエツチング等との関係で重要である。脈理、膜厚分布
は、スピンヘッドの回転数、レジストの粘度等にも左右
されるのであるが、ウエノ＼上の空気流が均一であるか
否かにも大いに影響される。かくして、前記空気流の均
一性を保障する目的で、チェンバの形状、排気量等につ
いて多くの改良が加えられてきたが、前記した脈理、膜
厚分布において不良と判定される事例を無にすることは
きわめて困難である。
（４）発明の目的
本発明は上記従来の問題に鑑み、ウェハ等の試料の上に
レジストの如き有機溶液をスピン塗布するための装置に
おいて、試料上の空気流が均一になるような排気状態が
得られるチェンノ＼を提供することを目的とする。
レジストの如き有機溶液をスピン塗布するための装置に
おいて、試料上の空気流が均一になるような排気状態が
得られるチェンノ＼を提供することを目的とする。
（５）発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、断面がそれぞれ双曲
線を構成するチェンバ上方部分とチェンバ下方部分を互
いに空隙をおいてほぼ平行に配置してチェンバを構成す
ると共に、溶液がスピン塗布されるべき試料のためのチ
ャックとそのスピンヘッドを前記チェンバ内に配設し、
前記空隙から排気するようにしたことを特徴とするスピ
ン塗布装置。
線を構成するチェンバ上方部分とチェンバ下方部分を互
いに空隙をおいてほぼ平行に配置してチェンバを構成す
ると共に、溶液がスピン塗布されるべき試料のためのチ
ャックとそのスピンヘッドを前記チェンバ内に配設し、
前記空隙から排気するようにしたことを特徴とするスピ
ン塗布装置。
（６）発明の実施例
以下本発明実施例を図面によって詳述する。
第２図に本発明の第１実施例が断面図で示され、同図に
おいてチェンバ１１は上方部分１１ａと下方部分１１ｂ
によって構成され、これらの部分は断面がそれぞれ双曲
線の形状のものであり、互いに平行に空隙をおいて配置
され、この空隙はそれを通してチェンバ内の空気が排気
される排気口１２を形成する。
おいてチェンバ１１は上方部分１１ａと下方部分１１ｂ
によって構成され、これらの部分は断面がそれぞれ双曲
線の形状のものであり、互いに平行に空隙をおいて配置
され、この空隙はそれを通してチェンバ内の空気が排気
される排気口１２を形成する。
チェンバ１１内には従来例と同じ構成のチャック１３が
配置され、チャックのスピンヘッド１４の上に試料例え
ばウェハ１５が真空吸着によって保持され、チャック１
３は従来例と同し排気回転機構１６に連結されている。
配置され、チャックのスピンヘッド１４の上に試料例え
ばウェハ１５が真空吸着によって保持され、チャック１
３は従来例と同し排気回転機構１６に連結されている。
ウェハ１５はその上表面が排気口１２の中心線とほぼ同
一平面に位置する如くチャック１３の高さを調整する。
一平面に位置する如くチャック１３の高さを調整する。
排気口１２のまわりには第３図に示される如く複数個例
えば８個の排気ダクトを等間隔に配置しく図には４個の
みを示す）、これらの排気ダクトによって図に矢印Ｉで
示す方向に排気するとクリーンエヤは空気取入口１７か
ら矢印■で示す如くに入ってくるが、チェンバ１１内の
空気流（図に矢印■で示す）は排気量を調節することお
よびチェンバの上記した形状によって均一化される。
えば８個の排気ダクトを等間隔に配置しく図には４個の
みを示す）、これらの排気ダクトによって図に矢印Ｉで
示す方向に排気するとクリーンエヤは空気取入口１７か
ら矢印■で示す如くに入ってくるが、チェンバ１１内の
空気流（図に矢印■で示す）は排気量を調節することお
よびチェンバの上記した形状によって均一化される。
ウェハ１５の交換は、従来例と同様にチェンバ下方部分
１１ｂを排気回転機構１６と共に上下させる構成とし、
または、チャック１３を上昇させ、ウェハ１５を空気取
入口１７から出し入れさせるようにしてもよい。
１１ｂを排気回転機構１６と共に上下させる構成とし、
または、チャック１３を上昇させ、ウェハ１５を空気取
入口１７から出し入れさせるようにしてもよい。
本発明の第４図に示される第２実施例において、チェン
バ１１は第１図のチェンバ１に類似のチェンバ２１内に
配置され、排気口２２を図示しない排気ダクトに連結し
て矢印■の方向に排気することによりチェンバ１１内の
空気は排気口１２から排気される。第１実施例において
スピンヘット１４によって吹き飛ばされたレジストの粒
子が排気ダクトによってすべで完全に排気されなかった
としても、第２実施例においては、チェンバ１１が他の
チェンバ２１内に収納されているので、レジスト粒子が
外部に飛散することがないという利点がある。
バ１１は第１図のチェンバ１に類似のチェンバ２１内に
配置され、排気口２２を図示しない排気ダクトに連結し
て矢印■の方向に排気することによりチェンバ１１内の
空気は排気口１２から排気される。第１実施例において
スピンヘット１４によって吹き飛ばされたレジストの粒
子が排気ダクトによってすべで完全に排気されなかった
としても、第２実施例においては、チェンバ１１が他の
チェンバ２１内に収納されているので、レジスト粒子が
外部に飛散することがないという利点がある。
第２実施例におけるウェハ１５の交換は、チェンバ２１
の下半部が、チェンバ１１の下方部分１１ｂと共に上下
する構成としても、または、チャック１３を上昇させ、
空気取入口１７からウェハを出し入れする構成としても
よい。
の下半部が、チェンバ１１の下方部分１１ｂと共に上下
する構成としても、または、チャック１３を上昇させ、
空気取入口１７からウェハを出し入れする構成としても
よい。
（７）発明の効果
以上詳細に説明した如く、本発明のスピン塗布装置を用
いるときは、チェンバのチャックの上方で均一な空気流
が得られ、レジスト塗布において脈理の上下幅は５００
Å以下に抑えられ、膜厚分布不均一な不良品が著しく減
少し、半導体装置製造の歩留りの向上に効果大であるこ
とが実証された。
いるときは、チェンバのチャックの上方で均一な空気流
が得られ、レジスト塗布において脈理の上下幅は５００
Å以下に抑えられ、膜厚分布不均一な不良品が著しく減
少し、半導体装置製造の歩留りの向上に効果大であるこ
とが実証された。
第１図は従来のスピン塗布装置の断面図、第２図と第４
図は本発明にかかるスピン塗布装置の断面図、第３図は
第２図の装置のチェンバを排気ダクトの配置を示す斜視
図である。
図は本発明にかかるスピン塗布装置の断面図、第３図は
第２図の装置のチェンバを排気ダクトの配置を示す斜視
図である。
Claims (1)
- 断面がそれぞれ双曲線を構成するチェンバ上方部分とチ
ェンバ下方部分を互いに空隙をおいてほぼ平行に配置し
てチェンバを構成すると共に、溶液がスピン塗布される
べき試料のためのチャックとそのスピン−・ソドを前記
チェンバ内に配設し、前記空隙から排気するようにした
ことを特徴とするスピン塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22318782A JPS59121839A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | スピン塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22318782A JPS59121839A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | スピン塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59121839A true JPS59121839A (ja) | 1984-07-14 |
| JPS6260811B2 JPS6260811B2 (ja) | 1987-12-18 |
Family
ID=16794161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22318782A Granted JPS59121839A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | スピン塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59121839A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6227779U (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-19 | ||
| JPS62237966A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-17 | Pioneer Electronic Corp | 薄膜形成装置 |
| US7226514B2 (en) * | 1999-04-08 | 2007-06-05 | Applied Materials, Inc. | Spin-rinse-dryer |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58103132A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | スピンナ−装置 |
-
1982
- 1982-12-20 JP JP22318782A patent/JPS59121839A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58103132A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | スピンナ−装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6227779U (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-19 | ||
| JPS62237966A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-17 | Pioneer Electronic Corp | 薄膜形成装置 |
| US7226514B2 (en) * | 1999-04-08 | 2007-06-05 | Applied Materials, Inc. | Spin-rinse-dryer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6260811B2 (ja) | 1987-12-18 |
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