JPS6227779U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6227779U JPS6227779U JP11901485U JP11901485U JPS6227779U JP S6227779 U JPS6227779 U JP S6227779U JP 11901485 U JP11901485 U JP 11901485U JP 11901485 U JP11901485 U JP 11901485U JP S6227779 U JPS6227779 U JP S6227779U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- wafer
- holds
- utility
- scope
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第１図は従来の回転塗布装置の概略断面図、第
２図は同じく動作の説明に供する図、第３図及び
第４図は本考案の一例を示す概略断面図及び平面
図、第５図は同じく動作の説明に供する図、第６
図は本考案の他の例を示す該略断面図である。 １…回転ステージ、２…枠体、４…ウエハー、
６…吸い込み管、１５…環状吸込み口。
２図は同じく動作の説明に供する図、第３図及び
第４図は本考案の一例を示す概略断面図及び平面
図、第５図は同じく動作の説明に供する図、第６
図は本考案の他の例を示す該略断面図である。 １…回転ステージ、２…枠体、４…ウエハー、
６…吸い込み管、１５…環状吸込み口。
Claims (1)
- 真空吸着によつてウエハーを保持する回転可能
なステージと、該ステージと同心円状の環状吸い
込み口を具備することを特徴とする回転塗布装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11901485U JPS6227779U (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11901485U JPS6227779U (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6227779U true JPS6227779U (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=31005998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11901485U Pending JPS6227779U (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6227779U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS549919A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-25 | Hitachi Ltd | Photoresist coating device |
| JPS59121839A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-14 | Fujitsu Ltd | スピン塗布装置 |
| JPS60119014A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-26 | アンプ インコーポレーテッド | ハーネス製造方法および装置 |
-
1985
- 1985-08-02 JP JP11901485U patent/JPS6227779U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS549919A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-25 | Hitachi Ltd | Photoresist coating device |
| JPS59121839A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-14 | Fujitsu Ltd | スピン塗布装置 |
| JPS60119014A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-26 | アンプ インコーポレーテッド | ハーネス製造方法および装置 |