JPS6263928U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6263928U JPS6263928U JP15534185U JP15534185U JPS6263928U JP S6263928 U JPS6263928 U JP S6263928U JP 15534185 U JP15534185 U JP 15534185U JP 15534185 U JP15534185 U JP 15534185U JP S6263928 U JPS6263928 U JP S6263928U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- wafer
- jig
- coating
- photoresist coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第1図は本考案によるフオトレジスト塗布装置
のスピナーヘツドを示し、a図はその正面図、b
図はa図のA―A′断面図である。 1……回転板、2……吸着部、3……吸着口、
4……短形ウエハ、5……治具、6……切り込み
、7……治具固定ネジ。
のスピナーヘツドを示し、a図はその正面図、b
図はa図のA―A′断面図である。 1……回転板、2……吸着部、3……吸着口、
4……短形ウエハ、5……治具、6……切り込み
、7……治具固定ネジ。
Claims (1)
- スピナヘツドに半導体ウエハを固定しフオトレ
ジストを塗布するフオトレジスト塗布装置におい
て、固定されるウエハの外周の少なくともコーナ
部に接触し、かつウエハ表面と同じ高さを有する
治具を備えたことを特徴とするフオトレジスト塗
布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15534185U JPS6263928U (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15534185U JPS6263928U (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6263928U true JPS6263928U (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=31075956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15534185U Pending JPS6263928U (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6263928U (ja) |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP15534185U patent/JPS6263928U/ja active Pending