JPS62201845A

JPS62201845A - 不飽和アルデヒドの製造方法

Info

Publication number: JPS62201845A
Application number: JP61045104A
Authority: JP
Inventors: Junzo Odera; 純蔵大寺; Shigeaki Suzuki; 繁昭鈴木; Takashi Onishi; 大西　孝志; Yoshiji Fujita; 芳司藤田
Original assignee: Kuraray Co Ltd
Current assignee: Kuraray Co Ltd
Priority date: 1986-02-28
Filing date: 1986-02-28
Publication date: 1987-09-05
Also published as: JPH032138B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は一般式％式％（式中、Ｒはアシル基を表わす。）で示される不飽和アルデヒドの製造方法に関する。

本発明の方法によシ製造される一般式（１）で示される
不飽和アルデヒドは医薬または飼料添加剤として使用さ
れているビタミン人またはそのカルボン酸エステルの合
成中間体として有用でるる〔例えば、ケミストリー−ｖ
　ｐ　−；ｉ：　（Ｃｈｅｍｉａｔｒ）ｒ　Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ　）１９８５年、第１８８３〜１８８６頁など参照
〕。

〔従来の技術〕

従来、一般式（１）で示される不飽和アルデヒドの５９
８−７セトキシー２．６−シメチルー２，６−オクタジ
ェナールは３．７−シメチルー２．６−オクタジニニル
アセタートを二酸化セレンで酸化することによシ製造さ
れることが知られている。

〔テトラヘドロｙ−ｖターズ（Ｔａｔｒａｈｅｄｒｏｎ
　Ｌｅｔｔｅｒｓ　）１９７３年、第２８１〜２８４頁
参照〕〔発明が解決しようとする問題点〕上記従来の８−アセトキシル２，６−シメチルー２．６
−オクタジェナールの製造方法において使用される二酸
化セレンは栂性を有しかつ昇華性を有しておシ、取シ扱
いに厳重な注意を要する。従って、この方法は工業的規
模では実施し難い。

しかして、本発明の目的は、容易に入手できる工業原料
から簡便にかつ安価にしかも好収率で一般式（１）で示
される不飽和アルデヒドを製造する方法を提供すること
にある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によれば、上記の目的は、一般式（式中、Ｒは前
記定義のとおシである。）で示される塩素化オレフィン
性化合物をアルカリ金属ヨウ化物またはハロゲン化鋼の
存在下に一般式％式％（）（式中　Ｂ２はアルキル基を表わし、ＲａおよびＲ４は
同一または異なシそれぞれアルキル基もしくはシクロア
ルキル基を異わすかまたは一緒になって酸素原子によっ
て中断されていてもよいアルキレン基を表わす。）で示されるアミンオキシドと反応させることを特徴とす
る前記一般式（Ｉ）で示される不飽和アルデヒドの製造
方法を提供することによって達成嘔れる０前記の一般式中のＲ”、Ｒ”、　Ｒ’およびＲを詳しく
説明するＯＲはアシル基を表わし、なかでもホルミル基
、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基などの低級
アルカノイル基が好ましい。Ｒ２はアルキル基を表わし
、特にメチル基、エチル基、プロピル基、インプロピル
基、ブチル基などの低級アルキル基が好ましい。Ｒ３お
よびＲ４は同一または異なりそれぞれアルキル基もしく
はシクロアルキル基を表わすか、または−緒になって酸
素原子によって中断されていてもよいアルキレン基を表
わす。ここで、アルキル基としてはメチル基、エチル基
、プロピル基、インプロピル基、ブチル基などの低級ア
ルキル基が好ましく、またシクロアルキル基としてはシ
クロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基などの低級ア
ルキル基で置換されていてもよいシクロヘキシル基が好
ましい。また、アルキレン基としてはテトラメチレン基
、ペンタメチレン基などが例示され、また酸素原子によ
って中断されているアルキレン基としては例えば３−オ
キサペンタメチレフ基などが挙げられる。

一般式（ＩＩ）で示される塩素化オレフィン性化合切と
一般式（Ｉ）で示されるアミンオキシドとの反応はアル
カリ金属ヨウ化物またはハロゲン化銅の存在下に行なわ
れる。

一般式（ｎｌ）で示されるアミンオキシドとしては、ト
リメチルアミンＮ−オキシド、トリエチルアミンＮ−オ
キシド、トリプロピルアミンＮ−オキシド、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルシクロヘキシルアミンＮ−オキシド、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルシクロヘキシルアミンＮ−オキシド、Ｎ、Ｎ−ジ
シクロヘキシルメチルアミｙＮ−オキシド、Ｎ−メチル
ビペリジｙ　Ｎ　−、ｔ　＃シト、Ｎ−メチルモルリン
Ｎ−オキシド、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド、Ｎ
−エチルモルホリンＮ−オキシド、Ｎ−プロピルモルホ
リンＮ−オキシドなどが使用される。これらのアミンオ
キシドのうち、一般式（１）で示される不飽和アルデヒ
ドの収率の観点からは、トリエチルアミンＮ−オキシド
、トリプロピルアミンＮ−オキシドなどのトリ（低級ア
ルキル）アミンＮ−オキシド；およびＮ−メチルモルホ
リンＮ−オキシド、Ｎ−エチルモルホリンＮ−オをシト
、　Ｎ−７’ロヒルモルホリンＮ−オキシドなどのＮ−
低級アルキルモルホリンＮ−オキシドを使用することが
好ましい。

また、一般式（ｎｌ）で示されるアミンオキシドの水和
物も使用可能でめる。水和智としては例えばトリメチル
アミンＮ−オキシド・２水和物、Ｎ−メチルモルホリン
Ｎ−オキシド・１水和物などが挙げられる。一般式（ｉ
ｌｌ）で示されるアミンオキ７ドは一般式（ｎ）で示さ
れる塩素化オレフィン性化合物の１モルに対して約１〜
５モルの量で使用するのが好ましい。

アルカリ金属ヨウ化物としては例えばヨウ化リチウム、
ヨウ化カリウム、ヨウ化カリウムなどが使用される。ア
ルカリ金属ヨウ化物の使用量は一般式（ＩＩ）で示され
る塩素化オレフィン性化合物の１モルに対して約１−３
モルのＲ１が好ましい。

また、ハロゲン化銅どしては、例えば塩化銅（１）、臭
化銅（Ｉ）、ヨウ化＠（Ｉ）などのノ・ロゲン化銅（■
）；および塩化鋼（Ｉｆ）、臭化銅（ＩＩ）などのハロ
ゲン化銅（ＩＩ）などが使用される。ハロゲン化銅の使
用量は一般式（■）で示される塩素化オレフィン性化合
物の１モルに対して通常約０．００１〜２．０モルの量
でめシ、特に約０．０１〜０．２モルの童が好ましい。

なお、ハロゲン化銅の存在下に反応を行なう場合、その
反応系に塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム
などのアルカリ金属塩化物を共存させることにより１反
応を促進させることができる。

アルカリ金属塩化物は一般式（Ｕ）で示される塩素化オ
レフィン性化合物の１モルに対して通常約０．１〜２．
０モルの量で使用される。

塩素化オレフィン性化合物とアミンオキシドとの反応に
おいて溶媒の使用は必ずしも必要ではないが、使用でき
る溶媒としてはベンゼン、トルエンなどの炭化水素類；
ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水
素類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；ジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの
エーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドンなどのアミド類などが挙げられる。

溶媒の使用量は一般式（ＩＩ）で示される塩素化オレフ
ィン性化合物の１９に対して約１〜１０ｄの量が好まし
い。反応温度は約２０〜８０℃の範囲が好適である。

このよりにして得られた一般式（１）で示される不飽和
アルデヒドの反応混合物からの分離・精製は例えば次の
方法によシ行なうことができる。反応混合物を、例えば
必・要に応じこれよシ固型物を濾去したのち、水に注き
°、ついでジエチルエーテル、ヘキサン、酢酸エチルな
どで抽出し、抽出液から溶媒を留去し、その残留物を蒸
留、カラムクロマトグラフィーなどで精製することによ
って一般式（１）で示される不飽和アルデヒドを取得す
ることができる。

一般式（ｎ）で示される塩素化オレフィン性化合物は、
・例えば、一般式（式中、Ｒは前記定義のとお夛である。）で示されるオ
レフィン性化合物を（１）水とは非混和性の有機溶媒と
水との二相系において次亜塩素酸と反応させるかまたは
（１１）塩素化インシアヌール酸もしくはそのアルカリ
金属塩と反応させることによシ簡便にかり好収率で製造
することができる０水とは非混和性の有機溶媒と水との二相系における一般
式（Ｆ／）で示されるオレフィン性化合物と次亜塩素酸
との反応について説明する。この反応は通常、さらし粉
を懸濁した水相または次亜塩素酸ナトリウムを含有する
水相と一般式（ＩＶ）で示されるオレフィン性化合物を
溶解した有機溶媒相との二相系にドライアイスを添加す
ることによシ実施される。次亜塩素酸は水の存在下にお
いて場らし粉または次亜塩素酸ナトリウムとドライアイ
スとからその場（ｉｎ　５ｉｔｕ　）で生成する。有機
溶媒としては例えばヘキサン、ベンゼンなどの炭化水素
類；ジクロロメタン、１．２−ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素類ニジエチルエーテル、ジインプロピ
ルエーテルなどのエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル
などのエステル類などが使用される。有機溶媒の使用量
は一般式（ＩＶ）で示されるオレフィン性化合物のＩＩ
に対して約５〜５０ｍの盪が好ましい。括らし粉を用い
る場合、その使用量は一般式（ＩＶ）で示されるオレフ
ィン性化合物の１モルに対してさらし粉中に含有される
次亜塩素酸カルシウムが約０．４〜０．７モルになるよ
うな量が好適である。この場合の水の使用量はさらし粉
の１ｇに対して約５〜５０ｉ１の量が好ましい。

また１次亜塩素酸ナトリウムを使用する場合、その使用
量は一般式（ＩＶ）で示されるオレフィン性化合物の１
モルに対して約０．８〜１６２モルの量が好ましい。こ
の場合、市販されている有効塩素濃度が８．５〜１３．
５％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液をそのまま次亜塩素
酸ナトリウムを含有する水相として使用することが簡便
でめる。ドライアイスはさらし粉中に含有される次亜塩
素酸カルシウムの全量または次亜塩素酸ナトリウムの全
量をそれぞれ炭酸カルシウムまたは炭酸水素ナトリウム
に変換しうる量で使用してもよいが、その量よシも過剰
量で用いることが好ましい０反応源度は約０〜１５℃の
範囲が好適である〇一般式（■）で示されるオレフィン性化合物と塩素化イ
ンクアヌール酸との反応について説明する。

この反応で便用される塩素化インクアヌール酸としては
、例えばトリクロロインシアヌール散、ジクロロインシ
アヌール酸が挙げられる。塩素化インシアヌール酸また
はそのアルカリ金属塩の使用量は、該塩素化インシアヌ
ール酸がトリクロロインシアヌール酸でるる場合には一
般式（ＩＶ）で示、されるオレフィン性化合切の１モル
に対して約０．３〜０．６モルの量が好適で１ムまたジ
グロロインシアヌール酸である場合には一般式（ｆＶ）
で示されるオレフィン性化合物の１モルに対して約０．
５〜１．５モルの量が好適でめる〇−一般式ＩＶ）で示
されるオレフィン性化合物と塩素化インシアヌール酸ま
たはそのアルカリ金属塩との反応は有機溶媒の存在下ま
たは不存在下で行なわれる。有機溶媒としてはヘキサン
、ベンゼンなどの炭化水素類；ジクロロメタン、１．２
−ジクロロエタンナトのハロゲン化炭化水素類；酢酸エ
チル、酢酸メチルなどのエステル類；アセトン、エチル
メチルケトンなどのケトン類などを用いることができる
。有機溶媒の使用量は一般式（ＩＶ）で示されるオレフ
ィン性化合物のＩＩに対して約１〜２０１１Ｌｌの量が
好ましい。この反応は約−５〜１５℃の範囲の温度で行
なうのが好ましい〇このようにして得られた一般式（Ｉｆ）で示される塩素
化オレフィン性化合物の反応混合物からの分離・精製は
例えば次の方法によシ行なうことができる。反応混合物
を、例えば必要に応じこれよシ固浚物を濾去したのち水
、飽和亜硫酸水溶液などに注ぎ、ついでジエチルエーテ
ル、ジクロロメタン、ヘキサンなどで抽出し、抽出液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液などで洗滌し、これよシ
溶媒を留去することによって、一般式（ｎ）で示される
塩素化オレフィン性化合物を粗生成物として取得するこ
とができる。このようにして得られた粗生成物を蒸留、
カラムクロマトグラフィーなどに付することによって高
純度の一般式（Ｉｔ）で示される塩素化オレフィン性化
合物を取得することができる。

前記の一般式（Ｉｌｌ）で示されるアミンオキシドとの
反応に用いる一般式（ＩＩ）で示される塩素化オレフィ
ン性化合物は上記の粗生成物であってもよい。

〔実施例〕

以下、実施例によシ本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例によシ限定されるものではない。

実施例１（ａ）６−クロロ−３，７−シメチルー２，７−オクタ
ジニニルアセタートの製造３．７−シメチルー２．６−オクタジニニルアセター）
　１５．７０．！ｉ／（８０，０ｍｒｎｏｌ）、ジクロ
ロメタン２００ｄおよび次亜塩累敗ナトリクム水溶ｇ（
１，７７ｍｏｌ　／Ａ）４６．０ｍ／（次亜塩素酸ナト
リフＡ　８１．４　ｍｍｏｌ　）をフラスコに入れた。

この混合物にドライアイス１０．２．９を少量ずつ１時
間を要して加えた。この間、フラスコを氷水浴で冷却す
ることにより、内温を１０℃以下に保った。ドライアイ
スの添加終了後、反応混合物を４℃にて１時間攪拌した
。得られた反応混合物に水１００ｊｄを加え、有機Ｊ−
を分離し、水ノーをジクロロメタン１００ｄで抽出した
０有機Ｊ脅を抽出液と合υせたの５１０％亜硫酸ナトリ
ウム水溶液１００　ｍｌで洗滌し、硫酸マグネシウムで
乾燥させた。これから溶媒を留去することによシ、６−
クロロ−３，７−シメチルー２，７−オクタジニニルア
セタートの粗生成物１８．３　、Ｆを得た。ＮＭＲ分析
より、この粗生成物における６−クロロ−３，７−シメ
チルー２．７−オクタジェニルアセタートの純度は８０
％でめる゛ことが判明した。収率ニア９チ０この粗生成
物の一部をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
ー〔溶出液：ヘキサ／／酢酸エチル（体積比）＝　１／
９〜１／３〕で精製することによって単離された６−ク
ロロ−３，７−シメチルー２．７−オクタジニニルアセ
タートの機器分析結果を以下に示す。

ＮＭＲ（ヘキサメチルジシロキサン／ＣＤＣ７！ｓ　）
　　δ：１．６３（８，３Ｍ）　、　１．７５（ｓ、　
３Ｈ）　、　２．００（ｓ、　７１（）　。

４．２７（ｍ、　ＩＭ）　、　４．５３（ｄ、　Ｊ−７
Ｈｚ、　２Ｈ）　。

４．８５（ｍ、　ＩＨ）　、　４．９７（ｓ、　ＩＨ）
　。

５．３３（ｔ、　Ｊ−７Ｈｚ、　ＩＨ）Ｉ　Ｒ（フィル
ム）ν：　１７２５（Ｃ−０）、８９５（ＣＨ２−Ｃ）
ロー１ＦＩ−ＭＳｍ／ｅ（相対強度）＋　２３２（１８
，Ｍ　）＋２３０　（１００，Ｍ　）　、　１９４　（
５８，Ｍ　−Ｈα）（ｂ）８−７セトキンー２．６−シ
メチルー２．６−オクタジェナールの製造６−クロロ−３，７−シメチルー２，７−オクタジニニ
ルアセタート（純度８０％）１．１５ｇ（３，９９ｍｍ
ｏｌ　）、ヨウ化ナトリウム０．９１　ｉ　（６，０ｍ
ｍｏｌ　）およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（
−水和物）　１．３６　、！ｉ’　（１０，０ｒｎｍｏ
ｌ　）を７２スコに入れ、これにＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５　ｍｌを加え、この混合物を５０℃にて４時
間攪拌した０反応終了後、反応混合物に水１０ｄを加え
たのち、ジエチルエーテル７ＯＲ１ずつで２回抽出した
０抽出液を３チ硫酸、飽和炭酸水累ナトリウム水溶液お
よび１０％亜硫酸ナトリウム水溶液各２Ｏｍで１）貝次
洗滌したのち硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後の溶
液から溶媒を留去して得た残渣をシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフィー〔溶出液：酢酸エチル／ヘキサ
ン（体積比）＝１／９〜１／３’）により精製して、８
−アセトキシ−２，６−シメチルー２，６−オクタジェ
ナール０．６２７　ｇを得た。収率ニア５チ。得られた
８−アセトキシ−２，６−シメチルー２，６−オクタジ
ェナールの機器分析結果を以下に示す。

ＮＭＲ（ヘキサメチルジシロキサン／ＣＤα３）δ：１
．６７　（ｍ、　６１（）　；　１．９３〜２．７７　
（ｍ、　７Ｈ）　；４．５３（ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ、　２
Ｂ）　；　５．４０（ｍ、　ＩＨ）　；６．４０（ｍ、
　ＩＨ）　；　９．３７．１０．１１　（ｓ、合わせて
ＩＨ）ＩＪフィルム）ν：　２７００（Ｃ）ＩＯ）、１
７２０（Ｃ−０）。

１６７０（Ｃ＝０）ｃｒｒＩ−１ＦＩ−ＭＳｍ／ｅ（相対強度）：　２１０（１００，Ｍ
　）。

２１１　（２３，Ｍ”＋１　）　、　１５０　（１８，
、Ｍ”−ＣＨ５ＣＯ２Ｈ）実施例２〜８１番（ｉ’Ｈａ　　　　ＣＨ３ ■ ０＝ＣＨＣ＝ＣＨＣＨｚＣＨｚＣ−ＣＨＣＨｚＯＣＯＣ
Ｈｓ実施例１（ｂ）に記載した操作において、ヨウ化ナ
トリウム０．９１　ｆｌ　（６，０ｍｍｏｌ　）および
Ｎ　−メｆｋ−ＥニルホリンＮ−オキシ）’１．３６．
９　（１０，０ｍｍｏｌ）ＶＣかえて第１表に示すアル
カリ金属ヨウ化物およびアミンオキシドをそれぞれ用い
た他は同様の操作を行ない、８−アセトキシ−２，６−
シメチルー２，６−オクタジェナールを得た。それらの
精米を第１表に示す。

実施例９（ａ）６−りｏ　ｏ　−３，７−シメチルー２．７−、
ｔフタジェニルアセタートの製造み３．７−シメチルー２．６−オクタシエニルアセタ）　
１９．６Ｊｉ’　（０，１０ｍｏｌ　）およびヘキｔ：
ｙ６０ｄをフラスコに入れ、これにトリクロロイソシア
ヌールｆｌｌ　１０．０７ＪＦ　（０，０４３ｍｏｌ　
）を５分間ごとに５回に分けて加えた。この間、フラス
コを冷却することによｐ１内温を５℃以下に保った。添
加終了後、反応液を５℃にて１５時間攪拌した。得られ
た反応混合物から固型物を濾別し、固型物をヘキサン５
０ｄずつで３回洗滌した。濾液を洗液と合わせたのち１
０％亜硫酸ナトリウム水溶液、２％炭酸ナトリウム水ｍ
液および飽和塩化ナトリウム水溶２各５０ｊｆＪで順次
洗滌し、ａｍマグネシウムで乾燥させた。これから溶媒
を留去することによシ、６−クロロ−３，７−シメチル
ー２，７−オクタシエニルアセタートの粗生成物２１．
１０！ｌを得た。ＮＭＲ分析よシこの粗生成物における
６−クロロ−３，７−シメチルー２．７−オクタジニニ
ルアセタートの純度は９２％であることが判明した。収
率：８４％Ｑ（ｂ）８−アセトキシ−２，６−シメチルー２，６−オ
クタジェナールの製造６−クロロ−３，７−シメチルー２，７−オクタジニニ
ルアセタート（純度９ンチ）　２．３６　、Ｆ　（９，
４１ｍｍｏｌ　）　ｓ塩化銅（１）　９２ｍ　（０，９
３ｍｍｏｌ　）　オヨＵトリエチルアミンＮ−オキシド
（純［９５％）３．６５１　（２９，６ｍｍｏｌ　）を
フラスコに入れ、これにジオキサン５ｄを加えたのち、
この混合物を５０℃にて１０時間攪拌した。反応混合物
に水４０ｄを加えたのち、ジエチルエーテル７ｏＩＬｔ
ずつで２回抽出した。抽出液を３％硫酸、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液および飽和塩化アンモニウム水溶２各
２０ｄで順次洗滌し、硫酸マグネシウムで乾燥した。

これから溶媒を留去して得られた残留物をシリカゲルを
用いたカラムクロマトグラフィー〔溶出液：酢酸エチル
／ヘキサン（体積比）−１／９〜１／３，１で精製する
ことによシ、８−７セトキシー２，６−ジ、メチル−２
，６−オクタジェナール１．２１．ｐを得た。

収率：６１％。このものの機器分析結果は実施例１（ｂ
）で得たものの分析結果とよく一致した。

実施例１０〜１９実施例９（ｂ）に記載した操作において、塩化銅（１）
９２ｍｐ　（０，９３ｍｍｏｌ　）　、）　ＩＪ　ｘ、
ｆｌＬｔ７ミ７Ｎ−オキシド３．６５　、ｉｉ’　（２
９，６ｍｍｏｌ　）およびジ、ｔ−？す１５−にかえて
第２表に示すハロゲン化鋼、アミンオキシドおよび溶媒
をそれぞれ用いた他は同様の操作を行ない、８−アセト
キン−２，６−シメチルー２．６−オクタジェナールを
得た。その結果を第２表に示す。

実施例２０実施例９　（ｂ）　Ｋ記載した操作において、反応系中
にさらに塩化リチウム４２　ｍｌ　（０，９９ｍｍｏｌ
　）を添加しかつ反応時間を７時間に変更して反応を行
なった他は同様の操作を行ない、８−７セトキシー２．
６−シメチルー２．６−オクタジェナール１．２３Ｆを
得た。収率：６２チ。このものの機器分析結果は実施例
１（ｂ）で得たものの分析結果とよく一致した。

〔発明の効果〕

本発明によれば、上記の実施例から明らかなとお夛、容
易に入手できる工朶原料から簡便にかつ安価にしかも好
収率で一般式（１）で示される不飽和アルデヒドを製造
することができる。

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（式中、Ｒ＾１はアシル基を表わす。）で示される塩素化オレフイン性化合物をアルカリ金属ヨ
ウ化物またはハロゲン化銅の存在下に一般式Ｒ＾２Ｒ＾３Ｒ＾４Ｎ＾＋−Ｏ＾−（III）（式中、Ｒ＾２はアルキル基を表わし、Ｒ＾３およびＲ
＾４は同一または異なりそれぞれアルキル基もしくはシ
クロアルキル基を表わすかまたは一緒になつて酸素原子
によつて中断されていてもよいアルキレン基を表わす。）で示されるアミンオキシドと反応させることを特徴とす
る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒ＾１は前記定義のとおりである。）で示され
る不飽和アルデヒドの製造方法。２、一般式（II）で示される塩素化オレフイン性化合物
が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（式中、Ｒ＾１は前記定義のとおりである。）で示され
るオレフイン性化合物を（ｉ）水とは非混和性の有機溶
媒と水との二相系において次亜塩素酸と反応させるかま
たは（ｉｉ）塩素化イソシアヌール酸もしくはそのアル
カリ金属塩と反応させることにより製造されたものであ
る特許請求の範囲第１項記載の製造方法。