JPS62194254A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 343
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 88
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 151
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 119
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 84
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 57
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 176
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 90
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 77
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 66
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 60
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 55
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 25
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 11
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 37
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 abstract description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 7
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 abstract description 7
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 abstract description 7
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 abstract 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 69
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 53
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 50
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 45
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 30
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 27
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 27
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 26
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 26
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 22
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 21
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 19
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 15
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 15
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 13
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 13
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 13
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 13
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 13
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 12
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 12
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 12
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 12
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 11
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrobenzofuran Chemical compound C1=CC=C2OCCC2=C1 HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004422 alkyl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- VZWXIQHBIQLMPN-UHFFFAOYSA-N chromane Chemical compound C1=CC=C2CCCOC2=C1 VZWXIQHBIQLMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 8
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000004421 aryl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 8
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 8
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 7
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 6
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 6
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical group CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N octane-1-sulfonamide Chemical group CCCCCCCCS(N)(=O)=O QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N pyrazolo[3,4-d]triazole Chemical compound N1=NN=C2N=NC=C21 MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003413 spiro compounds Chemical group 0.000 description 5
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical compound NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 4
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 4
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 4
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 4
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100175482 Glycine max CG-3 gene Proteins 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- 150000002371 helium Chemical class 0.000 description 3
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 3
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 3
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- KOFZTCSTGIWCQG-UHFFFAOYSA-N 1-bromotetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCBr KOFZTCSTGIWCQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical group NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMHAHUAQAJVBIW-UHFFFAOYSA-N [methyl(sulfamoyl)amino]methane Chemical group CN(C)S(N)(=O)=O QMHAHUAQAJVBIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000005199 aryl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- PTFYQSWHBLOXRZ-UHFFFAOYSA-N imidazo[4,5-e]indazole Chemical compound C1=CC2=NC=NC2=C2C=NN=C21 PTFYQSWHBLOXRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007764 o/w emulsion Substances 0.000 description 2
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 2
- XFLNVMPCPRLYBE-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate;tetrahydrate Chemical class O.O.O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O XFLNVMPCPRLYBE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical class CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 1
- IFPMZBBHBZQTOV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trinitro-2-(2,4,6-trinitrophenyl)-4-[2,4,6-trinitro-3-(2,4,6-trinitrophenyl)phenyl]benzene Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C1C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C(C=2C(=C(C=3C(=CC(=CC=3[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)C(=CC=2[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)=C1[N+]([O-])=O IFPMZBBHBZQTOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzodioxole Chemical compound C1=CC=C2OCOC2=C1 FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-1,2-ethanediol Chemical compound OCC(O)C1=CC=CC=C1 PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOSFMYBATFLTAQ-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(benzimidazol-1-yl)propan-2-ol Chemical compound C1=CC=C2N(CC(O)CN)C=NC2=C1 AOSFMYBATFLTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRBLHUVHOWWBEN-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-diethylbenzene-1,4-diamine;hydrochloride Chemical compound Cl.CCNC1=CC=C(NCC)C=C1 HRBLHUVHOWWBEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVRZMTHMPKVOBP-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dimethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CNC1=CC=C(NC)C=C1 PVRZMTHMPKVOBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001462 1-pyrrolyl group Chemical group [*]N1C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 10H-phenoxazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3OC2=C1 TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- ALQQNXBDAKRPOQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethyl-2-phenylhydrazinyl)ethanol Chemical compound OCCNN(CC)C1=CC=CC=C1 ALQQNXBDAKRPOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfonimidic acid Chemical group CC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUXJHBAJZQREDB-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanamide Chemical group CCC(C)C(N)=O XUXJHBAJZQREDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XFZGWACRWMVTJM-UHFFFAOYSA-N 3-heptadecylpyrrolidine-2,5-dione Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCC1CC(=O)NC1=O XFZGWACRWMVTJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVDCCBZEETUVQC-UHFFFAOYSA-N 3-octadecylpyrrolidine-2,5-dione Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1CC(=O)NC1=O ZVDCCBZEETUVQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- QZHXKQKKEBXYRG-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=C(N)C=C1 QZHXKQKKEBXYRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTOCKMVNXPZCJW-UHFFFAOYSA-N 4-n-dodecyl-4-n-ethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 MTOCKMVNXPZCJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJSFSXLZYFTKV-UHFFFAOYSA-N 4-n-methylbenzene-1,4-diamine;hydrochloride Chemical compound Cl.CNC1=CC=C(N)C=C1 IJJSFSXLZYFTKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHHASXMVMHKBLP-UHFFFAOYSA-N Bennol Natural products C1CC(C2)(CO)C=CC32C(O)CC2C(C)(C)CCCC2(C)C31 JHHASXMVMHKBLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical group CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000295146 Gallionellaceae Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICTGZZCWICGWMG-UHFFFAOYSA-N NO.[S] Chemical class NO.[S] ICTGZZCWICGWMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000018936 Vitellaria paradoxa Nutrition 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005193 alkenylcarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004659 aryl alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- ZFSFDELZPURLKD-UHFFFAOYSA-N azanium;hydroxide;hydrate Chemical compound N.O.O ZFSFDELZPURLKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)[13C]1=[13CH][13CH]=[13CH][13CH]=[13CH]1 KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- XZOWIJDBQIHMFC-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical group CCCC(N)=O.CCCC(N)=O XZOWIJDBQIHMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical group CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- PBHVCRIXMXQXPD-UHFFFAOYSA-N chembl2369102 Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1C(C1=CC=C(N1)C(C=1C=CC(=CC=1)S(O)(=O)=O)=C1C=CC(=N1)C(C=1C=CC(=CC=1)S(O)(=O)=O)=C1C=CC(N1)=C1C=2C=CC(=CC=2)S(O)(=O)=O)=C2N=C1C=C2 PBHVCRIXMXQXPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000009034 developmental inhibition Effects 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- PCAXGMRPPOMODZ-UHFFFAOYSA-N disulfurous acid, diammonium salt Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O PCAXGMRPPOMODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COMFSPSZVXMTCM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-sulfonimidic acid Chemical group CCCCCCCCCCCCS(N)(=O)=O COMFSPSZVXMTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000012992 electron transfer agent Substances 0.000 description 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004050 homopiperazines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N indophenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=C1C=CC(=O)C=C1 RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005948 methanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHUSZTNVOIISNY-UHFFFAOYSA-N n-[2-(4-amino-3-methylanilino)ethyl]methanesulfonamide;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CC1=CC(NCCNS(C)(=O)=O)=CC=C1N PHUSZTNVOIISNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLJDCQWROXMJAZ-UHFFFAOYSA-N n-[2-(4-amino-n-ethyl-3-methylanilino)ethyl]methanesulfonamide;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CS(=O)(=O)NCCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 CLJDCQWROXMJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZERHIULMFGESH-QBZHADDCSA-N n-phenylacetamide Chemical group CC(=O)[15NH]C1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-QBZHADDCSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N piperidine-2,6-dione Chemical group O=C1CCCC(=O)N1 KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ol Chemical group OC1=CC=CC=N1 UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K sodium nitrilotriacetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CC([O-])=O DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000011272 standard treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical group O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ARZGWBJFLJBOTR-UHFFFAOYSA-N tetradecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCCCCCCCC(N)=O ARZGWBJFLJBOTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UTLZBWAGLRNNAY-UHFFFAOYSA-J thorium(4+);dicarbonate Chemical compound [Th+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O UTLZBWAGLRNNAY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/3003—Materials characterised by the use of combinations of photographic compounds known as such, or by a particular location in the photographic element
- G03C7/3005—Combinations of couplers and photographic additives
- G03C7/3008—Combinations of couplers having the coupling site in rings of cyclic compounds and photographic additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、ざらに詳し
くは色再現性が改良され、かつ色素自伝の光に対する変
褪色性および光により生じる黄変が共に改良されたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。
くは色再現性が改良され、かつ色素自伝の光に対する変
褪色性および光により生じる黄変が共に改良されたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。
[発明の背景]
従来から、ハロゲン化銀写真感光材料を画像露光し、発
色現像することにより芳香族第1級アミン系発色現像主
薬の酸化体と発色剤とがカップリング反応を行って、例
えばインドフェノール、インドアニリン、インダミン、
アゾメチン、フェノキサジン、フェナジンおよびそれら
に類似する色素が生成し、色画像が形成されることは良
く知られているところである。このような写真方式にお
いては通常減色法による色再現方法が採られ、青感性、
緑感性ならびに赤感性の感光性ハロゲン化銀乳剤層に、
それぞれ余色関係にある発色剤、すなわちイエロー、マ
ゼンタおよびシアンに発色するカプラーを含有せしめた
ハロゲン化銀カラー写真感光材料が使用される。
色現像することにより芳香族第1級アミン系発色現像主
薬の酸化体と発色剤とがカップリング反応を行って、例
えばインドフェノール、インドアニリン、インダミン、
アゾメチン、フェノキサジン、フェナジンおよびそれら
に類似する色素が生成し、色画像が形成されることは良
く知られているところである。このような写真方式にお
いては通常減色法による色再現方法が採られ、青感性、
緑感性ならびに赤感性の感光性ハロゲン化銀乳剤層に、
それぞれ余色関係にある発色剤、すなわちイエロー、マ
ゼンタおよびシアンに発色するカプラーを含有せしめた
ハロゲン化銀カラー写真感光材料が使用される。
上記のイエロー色画像を形成させるために用いられるカ
プラーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラ
ーが挙げられ、またマゼンタ色画像形成用のカプラーと
しては例えばビラン1コン、ピラゾロベンズイミダゾー
ル、ピラゾロトリアゾールまたはインダシロン系カプラ
ーが知られており、さらにシアン色画像形成用のカプラ
ーとしては、例えばフェノールまたはナフトール系カプ
ラーが一般的に用いられる。
プラーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラ
ーが挙げられ、またマゼンタ色画像形成用のカプラーと
しては例えばビラン1コン、ピラゾロベンズイミダゾー
ル、ピラゾロトリアゾールまたはインダシロン系カプラ
ーが知られており、さらにシアン色画像形成用のカプラ
ーとしては、例えばフェノールまたはナフトール系カプ
ラーが一般的に用いられる。
マゼンタ色素を形成するために広く使用されているカプ
ラーとしては、例えば1.2−ピラゾロ−5−オン類が
ある。この1.2−ピラゾロ−5−オン類のマゼンタカ
プラーから形成される色素は550nm付近の主吸収以
外に、430nm付近の副吸収を有していることが大き
な問題であり、これを解決するために種々の研究がなさ
れてきた。
ラーとしては、例えば1.2−ピラゾロ−5−オン類が
ある。この1.2−ピラゾロ−5−オン類のマゼンタカ
プラーから形成される色素は550nm付近の主吸収以
外に、430nm付近の副吸収を有していることが大き
な問題であり、これを解決するために種々の研究がなさ
れてきた。
1、2−ピラゾロ−5−オン類の3位にアニリノ基を有
するマゼンタカプラーは上記副吸収が小さく、特にプリ
ント用カラー画像を得るために有用である。これらの技
術については、例えば米国特許第2,343, 703
号、英国特許第1,059,994号等公報に記載され
ている。しかし、保存中の光、熱及び湿度による黄変(
Yスティン)が著しいため大きな問題であった。
するマゼンタカプラーは上記副吸収が小さく、特にプリ
ント用カラー画像を得るために有用である。これらの技
術については、例えば米国特許第2,343, 703
号、英国特許第1,059,994号等公報に記載され
ている。しかし、保存中の光、熱及び湿度による黄変(
Yスティン)が著しいため大きな問題であった。
上記マゼンタカプラーの430nm付近の副吸収を更に
減少させるための手段として、例えば英国特許第1,
047, 612号に記載されているピラゾロベンズイ
ミダゾール類、米国特許第3,770,447号に記載
のインダシロン類、また同第3, 725, 067号
、英国特許第1,252,418号、同第1,334,
515号、特開昭59−162548号、同59−17
1956号等に記載のピラゾロトリアゾール類等のマゼ
ンタカプラーが提案されている。これらのカプラーから
形成される色素は、43Onm付近の副吸収が前記の3
位にアニリノ基を有する1.2−ピラゾロ−5−オン類
から形成される色素に比べて著しく小さく色再現上好ま
しく、ざらに光、熱及び湿度に対する未発色部のY−ス
ティンの発生も極めて小さく好ましいという利点を有す
るものである。
減少させるための手段として、例えば英国特許第1,
047, 612号に記載されているピラゾロベンズイ
ミダゾール類、米国特許第3,770,447号に記載
のインダシロン類、また同第3, 725, 067号
、英国特許第1,252,418号、同第1,334,
515号、特開昭59−162548号、同59−17
1956号等に記載のピラゾロトリアゾール類等のマゼ
ンタカプラーが提案されている。これらのカプラーから
形成される色素は、43Onm付近の副吸収が前記の3
位にアニリノ基を有する1.2−ピラゾロ−5−オン類
から形成される色素に比べて著しく小さく色再現上好ま
しく、ざらに光、熱及び湿度に対する未発色部のY−ス
ティンの発生も極めて小さく好ましいという利点を有す
るものである。
しかしながら、前記ピラゾロトリアゾール類等のマゼン
タカプラーから形成されるアゾメチン色素画像の光に対
する堅牢性は慨して著しく低い。
タカプラーから形成されるアゾメチン色素画像の光に対
する堅牢性は慨して著しく低い。
この欠点は感光材料、特に直接観賞用の感光材料におい
て必要な性能である[画像の記録・保存性」を旧なうこ
とにつながる。殊に近年、写真の保存状態も多様化して
きており、単なる保存からディスプレイ的な要素が強く
なっているためこの問題は更に深刻であり、大幅な改良
が強く望まれている。
て必要な性能である[画像の記録・保存性」を旧なうこ
とにつながる。殊に近年、写真の保存状態も多様化して
きており、単なる保存からディスプレイ的な要素が強く
なっているためこの問題は更に深刻であり、大幅な改良
が強く望まれている。
上記の光堅牢性を向上させる技術としては、例えば特開
昭59−125732号公報には、1H−ピラゾロ−[
3,2−C]−s−トリアゾール型マゼンタカプラーに
フェノール系またはフェニルエーテル系化合物を併用す
る方法が開示されているが、その効果の大きさは未だネ
ト分であった。
昭59−125732号公報には、1H−ピラゾロ−[
3,2−C]−s−トリアゾール型マゼンタカプラーに
フェノール系またはフェニルエーテル系化合物を併用す
る方法が開示されているが、その効果の大きさは未だネ
ト分であった。
また、前記のマゼンタカプラーの構造を変化させること
で光堅牢性を改良する技術としては、例えば特開昭60
−43659@公報には、1日−ピラゾロ[1,5−b
]−ピラゾール系化合物をマゼンタカプラーとして用
いることが提案されているが、形成される色素の分光吸
収特性上、例えば吸収最大が長波化してしまうという問
題が生じてしまう。
で光堅牢性を改良する技術としては、例えば特開昭60
−43659@公報には、1日−ピラゾロ[1,5−b
]−ピラゾール系化合物をマゼンタカプラーとして用
いることが提案されているが、形成される色素の分光吸
収特性上、例えば吸収最大が長波化してしまうという問
題が生じてしまう。
以上の如く、前記ピラゾロトリアゾール類等のマゼンタ
カプラーを用いた場合の光堅牢性は、プリント用写真材
料に応用されるレベルには未だ改良されていないのが現
状である。
カプラーを用いた場合の光堅牢性は、プリント用写真材
料に応用されるレベルには未だ改良されていないのが現
状である。
更に本発明者等は前に前記ピラゾロトリアゾール類等の
マゼンタカプラーの光堅牢性改良手段として該カプラー
含有層以外に特定の化合物を添加することを提案した。
マゼンタカプラーの光堅牢性改良手段として該カプラー
含有層以外に特定の化合物を添加することを提案した。
この方法によって光堅牢性が一段と改良されたが、写真
技術の進歩により写真製品の光堅牢性に対する要求はさ
らに高まることが予想され、本発明者等はより高い光堅
牢性を達成すべく更なる研究を進めた過程にて本発明を
見出したものである [発明の目的] 本発明の目的は、色再現性に優れ、かつマゼンタ色画像
の光堅牢性および光により生じる黄変(以下光スティン
と称す)が共に著しく改良されたハロゲン化銀写真感光
材料を提供することである。
技術の進歩により写真製品の光堅牢性に対する要求はさ
らに高まることが予想され、本発明者等はより高い光堅
牢性を達成すべく更なる研究を進めた過程にて本発明を
見出したものである [発明の目的] 本発明の目的は、色再現性に優れ、かつマゼンタ色画像
の光堅牢性および光により生じる黄変(以下光スティン
と称す)が共に著しく改良されたハロゲン化銀写真感光
材料を提供することである。
[発明の構成]
本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層のハロゲン
化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において
、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層には下記一
般式[a ]で表わされるマゼンタカプラー及び下記一
般式[I]で表わされるマゼンタカプラー並びに下記一
般式[b ]で表わされる化合物が油滴として含有され
ているハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において
、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層には下記一
般式[a ]で表わされるマゼンタカプラー及び下記一
般式[I]で表わされるマゼンタカプラー並びに下記一
般式[b ]で表わされる化合物が油滴として含有され
ているハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
一般式[a ]
Ar
[式中、Arはアリール基を表わし、Yは水素原子又は
芳香族第1級アミン発色現像主薬の酸化体とカップリン
グして色素が形成されるときに離脱する基を表わす。
芳香族第1級アミン発色現像主薬の酸化体とカップリン
グして色素が形成されるときに離脱する基を表わす。
×1はハロゲン原子、アルコキシ基、又はアルキル基を
表わす。
表わす。
R1はベンゼン環に@換可能な基を表わす。
nは1又は2の整数を表わす。また、nが2の時はR1
は同じであっても異なった基でもよい。]一般式[I] [式中、Zは含窒素複素環を形成守るに必要な非金属原
子群を表わし、該2により形成される環は置換基を有す
るものも含む。Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体
との反応により離脱しうる置換基を表わす。またRは水
素原子又は置換基を表わす、] 一般式[bl たは原子群を表わす。R2、R3、R4およびR5はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アル
キルカルバモイル−ルカルバモイル基、アシJし基また
はシアン基を表わす。
は同じであっても異なった基でもよい。]一般式[I] [式中、Zは含窒素複素環を形成守るに必要な非金属原
子群を表わし、該2により形成される環は置換基を有す
るものも含む。Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体
との反応により離脱しうる置換基を表わす。またRは水
素原子又は置換基を表わす、] 一般式[bl たは原子群を表わす。R2、R3、R4およびR5はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アル
キルカルバモイル−ルカルバモイル基、アシJし基また
はシアン基を表わす。
R2、R3、R4およびR5の中から選ばれる任意の2
つが結合して環を形成してもよく、R2、Ra 、R+
およびR5の中から選ばれる任意の1つがQで表わされ
る原子群と結合して環を形成してもよい。] [発明の具体的構成] 本発明に係る前記一般式[a ]で表わされるマゼンタ
カプラーについて説明する。
つが結合して環を形成してもよく、R2、Ra 、R+
およびR5の中から選ばれる任意の1つがQで表わされ
る原子群と結合して環を形成してもよい。] [発明の具体的構成] 本発明に係る前記一般式[a ]で表わされるマゼンタ
カプラーについて説明する。
一般式[a ]において、Arはアリール基であり、特
に置換基を有するフェニル基が好ましい。
に置換基を有するフェニル基が好ましい。
Arで表わされるフェニル基の置換基としては、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基
、スルファモイル基、スルホニル基、スルホンアミド基
およびアシルアミノ基等が挙げられ、Arで表わされる
基は2IgA以上の置換基を有するものが好ましい。
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基
、スルファモイル基、スルホニル基、スルホンアミド基
およびアシルアミノ基等が挙げられ、Arで表わされる
基は2IgA以上の置換基を有するものが好ましい。
以下に置換基の具体的な例を挙げる。
ハロゲン原子:塩素原子、臭素原子、フッ素原子等
アルキル基:メチル基、エチル基、1so−プロピル基
、ブチル基、[−ブチル基、し−ペンチル基等であるが
、特に炭素原子yi11〜5のアルキル基が好ましい。
、ブチル基、[−ブチル基、し−ペンチル基等であるが
、特に炭素原子yi11〜5のアルキル基が好ましい。
アルコキシ基:メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
5ec−ブトキシ基、1so−ベンジルオキシ基等であ
るが、特に炭素原子数1〜5のアルコ。
5ec−ブトキシ基、1so−ベンジルオキシ基等であ
るが、特に炭素原子数1〜5のアルコ。
キシ基が好ましい。
アリールオキシ基:フェノキシ基、β−ナフトキシ基等
であるが、このアリール部分には更にArで表わされる
アリール基に述べているのと同様な置換基を有してもよ
い。
であるが、このアリール部分には更にArで表わされる
アリール基に述べているのと同様な置換基を有してもよ
い。
アルコキシカルボニル基:上述したアルコキシ基の付い
たカルボニル基を言い、メトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基等であるが、このアルキル部分の
炭素原子数が1〜5のものが好ましい。
たカルボニル基を言い、メトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基等であるが、このアルキル部分の
炭素原子数が1〜5のものが好ましい。
カルバモイル基:カルバモイル基、ジメチルカルバモイ
ル基等のフルキルカルバモイル基スルファモイル基:ス
ルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルス
ルファモイル基、エチルスルファモイル基等のアルキル
スルファモイル基 スルホニル基:メタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、ブタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基 スルホンアミド基:メタンスルボンアミド基、トルエン
スルホンアミド基等のアルキルスルホンアミド基、アリ
ールスルホンアミド基 アシルアミノ基:アセトアミノ基、ピバロイルアミノ基
、ベンズアミド旦等 Arで表わされるフェニル基の買換基としては、特に好
ましくはハロゲン原子であり、その中でも塩素原子が最
も好ましい。
ル基等のフルキルカルバモイル基スルファモイル基:ス
ルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルス
ルファモイル基、エチルスルファモイル基等のアルキル
スルファモイル基 スルホニル基:メタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、ブタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基 スルホンアミド基:メタンスルボンアミド基、トルエン
スルホンアミド基等のアルキルスルホンアミド基、アリ
ールスルホンアミド基 アシルアミノ基:アセトアミノ基、ピバロイルアミノ基
、ベンズアミド旦等 Arで表わされるフェニル基の買換基としては、特に好
ましくはハロゲン原子であり、その中でも塩素原子が最
も好ましい。
Yは水素原子又は芳香族第1級アミン発色現像主薬の酸
化体とカップリングして色素が形成されるときに離脱す
る基を表わす。具体的には、例えばハロゲン原子、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリー
ルチオ基、アルキルチオ基、−N ン<zは窒素原子
と共に炭素原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子の中
から選ばれた原子と5ないし6員環を形成するに要する
原子群を表わす。)等がある。
化体とカップリングして色素が形成されるときに離脱す
る基を表わす。具体的には、例えばハロゲン原子、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリー
ルチオ基、アルキルチオ基、−N ン<zは窒素原子
と共に炭素原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子の中
から選ばれた原子と5ないし6員環を形成するに要する
原子群を表わす。)等がある。
以下に具体的な例を挙げる。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子およびフッ
素原子等が挙げられる。
素原子等が挙げられる。
アルコキシ基としては、エトキシ基、ベンジルオキシ基
、メトキシエチルカルバモイルメトキシ基、およびテト
ラデシルカルバモイルメトキシ等が挙げられる。
、メトキシエチルカルバモイルメトキシ基、およびテト
ラデシルカルバモイルメトキシ等が挙げられる。
アリールオキシ基としては、フェノキシ基、4−メトキ
シフェノキシ基および4−ニトロフェノキシ基等が挙げ
られる。
シフェノキシ基および4−ニトロフェノキシ基等が挙げ
られる。
アシルオキシ基としては、アセトキシ基、ミリストイル
オキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
オキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
アリールチオ基としては、フェニルチオ基、2−ブトキ
シ−5−オクチルフェニルチオLJ a3よび2.5−
ジヘキシルオキシフェニルチオ基等が挙げられる。
シ−5−オクチルフェニルチオLJ a3よび2.5−
ジヘキシルオキシフェニルチオ基等が挙げられる。
アルキルチオ基どしては、メチルチオ基、オクヂルチ1
基、ヘキサデシルチオ基、ベンジルチオ基、2−(ジエ
チルアミノ)エチルチオ基、エトキシカルボニルメチル
チオ基、エトキシエチルチオ基およびフェノキシエチル
チオ基等が挙げられる。
基、ヘキサデシルチオ基、ベンジルチオ基、2−(ジエ
チルアミノ)エチルチオ基、エトキシカルボニルメチル
チオ基、エトキシエチルチオ基およびフェノキシエチル
チオ基等が挙げられる。
ル塁、トリアゾリルMt3よびテトラゾリル基等が挙げ
られる。
られる。
×1はハロゲン原子、アルコキシ基またはアルキル基を
表わす。
表わす。
具体的な例を以下に挙げる。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子およびフッ
素原子等が挙げられる。
素原子等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基、5ec−ブトキシ基およびiso −ペンデル
オキシ基等の炭素原子数1〜5のアルコキシ基が好まし
い。
キシ基、5ec−ブトキシ基およびiso −ペンデル
オキシ基等の炭素原子数1〜5のアルコキシ基が好まし
い。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、1so−プ
ロピル基、ブチル基、t−ブチル基およびt−ペンチル
基等であるが、特に炭素原子数が1〜5のアルキル基が
好ましい。
ロピル基、ブチル基、t−ブチル基およびt−ペンチル
基等であるが、特に炭素原子数が1〜5のアルキル基が
好ましい。
xlとしては、特に好ましくはハロゲン原子であり、中
でも塩素原子が好ましい。
でも塩素原子が好ましい。
R1はベンゼン環に置換可能な基を表わし、nは1又は
2からなる整数を表わす。nが2のときR1は同じでも
異なっていてもよい。
2からなる整数を表わす。nが2のときR1は同じでも
異なっていてもよい。
R1で示されるベンゼン環に置換可能な基としてはハロ
ゲン原子、R’−1R”0−1R”’
0 られる。
ゲン原子、R’−1R”0−1R”’
0 られる。
R′はそれぞれ置換基を有するものも含むアルキル基、
アルケニル基もしくはアリール基を表ねす。RJL 、
RJJIおよびRmlはそれぞれR′と同義の基または
水素原子を表わす。R′、R″、R″′およびR″′と
して、これらの中でも好ましいのはR” C0NH−(
例えばテトラデシルカルボンアミド基等) 、R” S
O2NH−(例えばベンゼンばオクタデシルスクシンイ
ミド基等)である。
アルケニル基もしくはアリール基を表ねす。RJL 、
RJJIおよびRmlはそれぞれR′と同義の基または
水素原子を表わす。R′、R″、R″′およびR″′と
して、これらの中でも好ましいのはR” C0NH−(
例えばテトラデシルカルボンアミド基等) 、R” S
O2NH−(例えばベンゼンばオクタデシルスクシンイ
ミド基等)である。
以下にマゼンタカプラーの具体例を示すがこれに限定さ
れない。
れない。
以下余白
−へ ω
Σ 芝 Σ
寸 Ll’)ロト
Σ Σ Σ ≧
M−12−8C,□H25
M 13 5cHzcozc2Hs14
−8CH2COOH 16−3CH,C0NH。
−8CH2COOH 16−3CH,C0NH。
17 S CH2CH20Cz Hs18
−5CH2CH20H 19−8CH2CH2NH8O2CH3しM3 S○2C4H9 (1,(す 以下余白 これらの前記一般式[a ]で表わされるマゼンタカプ
ラーは、例えば、米田特許第2.600.788号、同
第3,062,653号、同第3,684,514号、
同第1,183.515号、ベルギー特許第1,130
,287号、特公昭44−26589号、同45−20
036号、同第45−、’11473号及び待聞昭49
−111631号等に記載されている。
−5CH2CH20H 19−8CH2CH2NH8O2CH3しM3 S○2C4H9 (1,(す 以下余白 これらの前記一般式[a ]で表わされるマゼンタカプ
ラーは、例えば、米田特許第2.600.788号、同
第3,062,653号、同第3,684,514号、
同第1,183.515号、ベルギー特許第1,130
,287号、特公昭44−26589号、同45−20
036号、同第45−、’11473号及び待聞昭49
−111631号等に記載されている。
一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラーは通常ハ
ロゲン化銀1モル当りI X 10−3モル乃至1モル
、好ましくは1X10−2モル乃至8X10−1モルの
範囲で用いることができる。
ロゲン化銀1モル当りI X 10−3モル乃至1モル
、好ましくは1X10−2モル乃至8X10−1モルの
範囲で用いることができる。
以下余白
本発明に係る前記一般式[I]で表わされるマゼンタカ
プラーについて説明する。
プラーについて説明する。
一般式[I]
で表わされるマゼンタカプラーに於いて、Zは含窒素複
素環を形成するに必要な非金民原子群を表わし、該Zに
より形成される環は置換基を有するものも含む。
素環を形成するに必要な非金民原子群を表わし、該Zに
より形成される環は置換基を有するものも含む。
Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り2!i脱しうる置換基を表わす。
り2!i脱しうる置換基を表わす。
またRは水素原子または置換基を表わす。
前記Rの表わす置換基としては、例えばハロゲン原子、
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基
、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニ
ル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、
スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ7基
、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スル7アモイル7ミ7基、アルコキシカルボニ
ルアミ7基、アリールオキシカルボニルアミ7基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、フ
ルキルチオ基、7リールチオ基、へ′″テロ環チオ基が
挙げられる。
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基
、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニ
ル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、
スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ7基
、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スル7アモイル7ミ7基、アルコキシカルボニ
ルアミ7基、アリールオキシカルボニルアミ7基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、フ
ルキルチオ基、7リールチオ基、へ′″テロ環チオ基が
挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。
げられ、特に塩素原子が好ましい。
Rt′表されるフルキル基としては、炭素数1〜32の
もの、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2〜
32のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基と
しては炭素数3〜12、特に5〜7のものが好ましく、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分
岐でもよい。
もの、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2〜
32のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基と
しては炭素数3〜12、特に5〜7のものが好ましく、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分
岐でもよい。
また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル、基は置換基〔
例えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シ
クロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カ
ルバモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカ
ルボニルの如(カルボニル基を介して置換するもの、更
にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的にはヒド
ロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ
、シロキン、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸
素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミ/(ジアル
キルアミ/等を含む)、スルファモイルアミ7、アルコ
キシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミ
/、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド
等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、ア
リールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル
、スルフアモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、
ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等)〕を有
していてもよい。
、シクロアルキル基、シクロアルケニル、基は置換基〔
例えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シ
クロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カ
ルバモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカ
ルボニルの如(カルボニル基を介して置換するもの、更
にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的にはヒド
ロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ
、シロキン、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸
素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミ/(ジアル
キルアミ/等を含む)、スルファモイルアミ7、アルコ
キシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミ
/、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド
等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、ア
リールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル
、スルフアモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、
ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等)〕を有
していてもよい。
具体的には例えばメチル基、エチル基、インプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.1’−ノベンチル/ニル基、
2−クロル−t−フ+ル基、トリ7ルオロメチル基、1
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、2,4−ノーし一アミル
7エ7キシメチル基、アニリノ基、1−フェニルイソプ
ロピル基、3−!I−ブタンスルホンアミノ7ヱ7キシ
プロピル基、3−4’−1α−[4”(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル ル7ミ/)フェニルプロピル基、3−14’−(ff−
(2”、4”−ジーし一アミルフェノキシ)ブタンアミ
ド〕フェニル)−プロピル基、4−〔Q−(。
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.1’−ノベンチル/ニル基、
2−クロル−t−フ+ル基、トリ7ルオロメチル基、1
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、2,4−ノーし一アミル
7エ7キシメチル基、アニリノ基、1−フェニルイソプ
ロピル基、3−!I−ブタンスルホンアミノ7ヱ7キシ
プロピル基、3−4’−1α−[4”(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル ル7ミ/)フェニルプロピル基、3−14’−(ff−
(2”、4”−ジーし一アミルフェノキシ)ブタンアミ
ド〕フェニル)−プロピル基、4−〔Q−(。
ークロル7工7キシ)テトフデカンアミド7二/キシ〕
プロピル基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等が挙げられる。
プロピル基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等が挙げられる。
Rで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミ7基等)を有していてもよい。
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミ7基等)を有していてもよい。
具体的には、フェニル基、4−t−ブチル7エ、ニル基
、2,4−ノーし一アミルフェニル基、4−テトラデカ
ンアミドフェニル基、ヘキサテ°シロキシフェニル基、
4 t ( a−( 4 J / t−ブチル7エ
/キシ)テトラデカンアミド〕フェニル蟇等が挙げられ
る。
、2,4−ノーし一アミルフェニル基、4−テトラデカ
ンアミドフェニル基、ヘキサテ°シロキシフェニル基、
4 t ( a−( 4 J / t−ブチル7エ
/キシ)テトラデカンアミド〕フェニル蟇等が挙げられ
る。
Rで表されるヘテロ環基としては5〜7只のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又拙合していてもよい。
しく、置換されていてもよく、又拙合していてもよい。
具体的には2−フリル基、2−チェニル基、2−ビリミ
ノニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
ノニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
Rt’表されるアシル基としては、例えばアセチル基、
フェニル7セチル基、ドデカ/イル基、a−2.4−ジ
−t−7ミルフエノキシプタ/イル基等のフルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシルオキシベン
ゾイル基、p−タロルベンゾイル基等のアリールスルホ
ニル基等が挙げられる。
フェニル7セチル基、ドデカ/イル基、a−2.4−ジ
−t−7ミルフエノキシプタ/イル基等のフルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシルオキシベン
ゾイル基、p−タロルベンゾイル基等のアリールスルホ
ニル基等が挙げられる。
R″C表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル
基、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基
、ベンゼンスルホニル基、p− )ルエンスルホニル基
の如きアリールスルホニル基等が挙げられる。
基、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基
、ベンゼンスルホニル基、p− )ルエンスルホニル基
の如きアリールスルホニル基等が挙げられる。
Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル!,3ー7二ノキシプチ
ルスルフイニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニルi、、−ペンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。
ニル基、オクチルスルフィニル!,3ー7二ノキシプチ
ルスルフイニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニルi、、−ペンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。
R″r表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホ
スホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキ
シホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノ
キシホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、
フェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が
挙げられる。
スホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキ
シホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノ
キシホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、
フェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が
挙げられる。
Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N,N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N −エチル−N−ドデシルカルバ
モイル基、N−13−(2.4−ノーt−アミル7二7
キシ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N,N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N −エチル−N−ドデシルカルバ
モイル基、N−13−(2.4−ノーt−アミル7二7
キシ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。
以下余白
Rで表されるスルファモイル基はアルキル基、7リール
基(好ましくはフェニル基)等が置換してい−( モJ
: < 、例えばN−プロピルスルファモイル基、N,
N−ノエチルスル7Tモイル基、N−(2−ペンタデシ
ルオキシエチル)スルファモイル基、N−エチル−N−
ドデシルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイ
ル基等が挙げられる。
基(好ましくはフェニル基)等が置換してい−( モJ
: < 、例えばN−プロピルスルファモイル基、N,
N−ノエチルスル7Tモイル基、N−(2−ペンタデシ
ルオキシエチル)スルファモイル基、N−エチル−N−
ドデシルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイ
ル基等が挙げられる。
Rt’表されるスピロ化合物残基としては例乏ばスピロ
[3.3]ヘプタン−1−イル等が挙げられる。
[3.3]ヘプタン−1−イル等が挙げられる。
Rで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ[2,2.1]ヘプタン−1−イル、トリシクロ[3
.3.1.1コ゛71デカン−1−イル、7、7−ノメ
チルービシクロ[2.2.1]へブタン−1−イル等が
挙げられる。
ロ[2,2.1]ヘプタン−1−イル、トリシクロ[3
.3.1.1コ゛71デカン−1−イル、7、7−ノメ
チルービシクロ[2.2.1]へブタン−1−イル等が
挙げられる。
Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プコボキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2−ドデシルオキシエトキシ基
、7エネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プコボキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2−ドデシルオキシエトキシ基
、7エネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。
R″c表されるアリールオキシ基としては7エ二ルオキ
シが好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置
換基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく
、例えばフェノキシ基、p−j−ブチル7エ/キシ基、
m−ペンタデシル7エ/キシ基等が゛挙げられる。
シが好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置
換基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく
、例えばフェノキシ基、p−j−ブチル7エ/キシ基、
m−ペンタデシル7エ/キシ基等が゛挙げられる。
R1’表されるヘテa環オキシ基としては5〜7貝のへ
テロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基
を有していでもよく、例えば、3t4.5.6−チトラ
ヒド゛ロビラニルー2−オキシ基、1−フェニルテトラ
ゾール−5−オキシ基が挙1デられる。
テロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基
を有していでもよく、例えば、3t4.5.6−チトラ
ヒド゛ロビラニルー2−オキシ基、1−フェニルテトラ
ゾール−5−オキシ基が挙1デられる。
R1?表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換
されていてもよく、例えば、トリエチルシロキシ基、ト
リエチルシロキシ基、ツメチルブチルシロキシ基等が挙
げられる。
されていてもよく、例えば、トリエチルシロキシ基、ト
リエチルシロキシ基、ツメチルブチルシロキシ基等が挙
げられる。
R″C表される7シルオキシ基としては、例えばアルキ
ルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等
が挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的に
はアセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基等が挙げられる。
ルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等
が挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的に
はアセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基等が挙げられる。
R″C表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、
アリール基等が置換していてもよく、例えばN−エチル
カルバモイルオキシ基、N、N−ノエチルカルバモイル
オキシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げ
られる。
アリール基等が置換していてもよく、例えばN−エチル
カルバモイルオキシ基、N、N−ノエチルカルバモイル
オキシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げ
られる。
Rで表されるアミ7基はアルキル基、アリール基(好ま
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミ/基、アニリノ基、I−クロルアニリ7基、
3−ペンタデシルオキシ力ルポニルアニリ7基、2−ク
ロル−5−ヘキサテ゛カンアミドアニリ7基等が挙げら
れる。
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミ/基、アニリノ基、I−クロルアニリ7基、
3−ペンタデシルオキシ力ルポニルアニリ7基、2−ク
ロル−5−ヘキサテ゛カンアミドアニリ7基等が挙げら
れる。
R″Ch表されるアシルアミ7基としては、アルキルカ
ルボニルアミ7基、アリールカルボニルアミ7基(好ま
しくはフェニルカルボニルアミ7基)等が挙げられ、更
に置換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α
−エチルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド
基、ドデカンアミド基、2,4−ジ−t−7ミルフエノ
キシアセトアミド基、α−3−L−ブチル4−ヒドロキ
シ7エ7キシプタンアミド基等が挙げられる。
ルボニルアミ7基、アリールカルボニルアミ7基(好ま
しくはフェニルカルボニルアミ7基)等が挙げられ、更
に置換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α
−エチルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド
基、ドデカンアミド基、2,4−ジ−t−7ミルフエノ
キシアセトアミド基、α−3−L−ブチル4−ヒドロキ
シ7エ7キシプタンアミド基等が挙げられる。
Rで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミ7基、アリールスルホニルアミ7基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。
ホニルアミ7基、アリールスルホニルアミ7基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。
具体的には′ンチルスルホニル7ミ7基、ベンタテシル
スルホニルアミ7基、ベンゼンスルホンアミド基、p−
トルエンスルホンアミY基、2−メトキシ−5−t−7
ミルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。
スルホニルアミ7基、ベンゼンスルホンアミド基、p−
トルエンスルホンアミY基、2−メトキシ−5−t−7
ミルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。
RT″表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状の
ものでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハ
ク酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク酸イミド基、7
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。
ものでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハ
ク酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク酸イミド基、7
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。
Rで表されるフレイド基は、アルキル基、アリ、−ル基
(好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよ
く、例えばN−エチルウレイド基、N−メチル−N−デ
シルウレイド基、N7二二ルウレイド基、N−p−トリ
ルウレイド基等が挙げられる。
(好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよ
く、例えばN−エチルウレイド基、N−メチル−N−デ
シルウレイド基、N7二二ルウレイド基、N−p−トリ
ルウレイド基等が挙げられる。
R″C表されるスル7アモイルアミノ基は、アルキル基
、アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されて
いてもよく、例えばN、N−ジブチルスル7アモイルア
ミ/i、N−メチルスル7アモイルアミ7基、N−フェ
ニルスル7アモイルアミ7基等が挙げられる。
、アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されて
いてもよく、例えばN、N−ジブチルスル7アモイルア
ミ/i、N−メチルスル7アモイルアミ7基、N−フェ
ニルスル7アモイルアミ7基等が挙げられる。
R1?表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては
、更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカル
ボニルアミ7基、メトキシエトキシカルボニルアミ7基
、オクタデシルオキシカルボニルアミ7基等が挙げられ
る。
、更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカル
ボニルアミ7基、メトキシエトキシカルボニルアミ7基
、オクタデシルオキシカルボニルアミ7基等が挙げられ
る。
Rで表されるアリールオキシカルボニルアミ7基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミ7基、4−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミ7基、4−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。
Rで表されるアルフキジカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、トチ°シルオキシカルボニル基、
オクタテ°シルオキシカルボニル基、エトキシメトキシ
カルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が
挙げられる。
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、トチ°シルオキシカルボニル基、
オクタテ°シルオキシカルボニル基、エトキシメトキシ
カルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が
挙げられる。
R″C表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換
基を有していてもよく、例えば7エ7キシカルボニル基
、p−クロル7エ/キシカルボニル基、曽−ベンタデシ
ルオキシ7二ノキシ力ルボニル基等が挙げられる。
基を有していてもよく、例えば7エ7キシカルボニル基
、p−クロル7エ/キシカルボニル基、曽−ベンタデシ
ルオキシ7二ノキシ力ルボニル基等が挙げられる。
Rで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、7エネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、7エネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。
Rで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
p−7トキシフエニルチオ基、2−を−オクチルフェニ
ルチオ基、3−オクタテ゛シルフェニルチオ基、2−カ
ルボキシフェニルチオ基、p−アセト7ミノフエニルチ
オ基等が挙げられる。
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
p−7トキシフエニルチオ基、2−を−オクチルフェニ
ルチオ基、3−オクタテ゛シルフェニルチオ基、2−カ
ルボキシフェニルチオ基、p−アセト7ミノフエニルチ
オ基等が挙げられる。
Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有しでいてもよい。例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2.4−77エ/キシ
−1,3,5−)リアゾール−6−チオ基が挙げられる
。
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有しでいてもよい。例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2.4−77エ/キシ
−1,3,5−)リアゾール−6−チオ基が挙げられる
。
Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、臭
素原子、7・ンソ原子等)の他炭素原子、酸素原子、硫
黄原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる
。
る置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、臭
素原子、7・ンソ原子等)の他炭素原子、酸素原子、硫
黄原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる
。
炭素原子を介して直換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 (R3′は前記Rと同義であり、Z′は前記Zと同義で
あり、R2’及びR、/は水素原子、アリール基、アル
キル基又はヘテロ環基を表す、)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。
の他例えば一般式 (R3′は前記Rと同義であり、Z′は前記Zと同義で
あり、R2’及びR、/は水素原子、アリール基、アル
キル基又はヘテロ環基を表す、)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。
酸素原子を介して置換する基としては例えばフルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、フルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシ′オキサリルオキシ基が
挙げられる。
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、フルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシ′オキサリルオキシ基が
挙げられる。
該フルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、2−7エ/キシエトキシ基、2−シア/エ
トキシ基、7エネチルオキシ基、p−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。
エトキシ基、2−7エ/キシエトキシ基、2−シア/エ
トキシ基、7エネチルオキシ基、p−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。
該7リールオキシ基としては、7エ/キシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、具
体的には7エ/キシ基、3−メチル7エ/キシ基、3−
ドデシル7二/キシ基、4−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、4−(a−(3′−ベンタテ゛シルフェノキ
シ)ブタンアミド〕7エ7キシ基、ヘキシデシルカルバ
モイルメトキシ基、4−シア/7エ/キシ基、4−メタ
ンスルホニル7二/キシ基、1−す7チルオキシ基、p
−メトキシフェノキシ基等が挙げられる。
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、具
体的には7エ/キシ基、3−メチル7エ/キシ基、3−
ドデシル7二/キシ基、4−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、4−(a−(3′−ベンタテ゛シルフェノキ
シ)ブタンアミド〕7エ7キシ基、ヘキシデシルカルバ
モイルメトキシ基、4−シア/7エ/キシ基、4−メタ
ンスルホニル7二/キシ基、1−す7チルオキシ基、p
−メトキシフェノキシ基等が挙げられる。
該ヘテロ環オキシ基としては、5〜7貝のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、1−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、1−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。
該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ノルオキシ基等のフルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。
ノルオキシ基等のフルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。
該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
該アルフキジカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。
該アリールオキシカルボニル基としては7エ/キシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。
ボニルオキシ基等が挙げられる。
該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。
オキサリルオキシ基が挙げられる。
該フルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。
キサリルオキシ基等が挙げられる。
硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環子オ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 ・・ 該フルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シア/
エチルチオ基、7エネチルチオ基、ベンノルチオ基等が
挙げられる。
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環子オ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 ・・ 該フルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シア/
エチルチオ基、7エネチルチオ基、ベンノルチオ基等が
挙げられる。
該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、4−/タン
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシル7エネチ
ルチオ基、4−7すフルオロベンクンアミド7エネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5−t−ブチル7ヱニルチオ基等が挙1デられる。
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシル7エネチ
ルチオ基、4−7すフルオロベンクンアミド7エネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5−t−ブチル7ヱニルチオ基等が挙1デられる。
該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−フェニル−1,
2,3,4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。
2,3,4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。
該フルキルオキシチオカルボニルチオ基とじては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。
上記窒素原子を介して置換する基としては、例R1′
えば一般式−N で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル&、717−ルオキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニル基を表し、R4′とR5’
は結合してヘテロ環を形成してもよい、但しR、/とR
1′が共に水素原子であることはない。
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル&、717−ルオキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニル基を表し、R4′とR5’
は結合してヘテロ環を形成してもよい、但しR、/とR
1′が共に水素原子であることはない。
該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、フルキルチオ基、
7リールチオ基、アルキルアミ7基、7リール7ミ/基
、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミノ基、7シ
ル基、アルキルスルホニル基、7リールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミ7基、アリールオキシカルボニルアミ7
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シア7基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、フルキルチオ基、
7リールチオ基、アルキルアミ7基、7リール7ミ/基
、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミノ基、7シ
ル基、アルキルスルホニル基、7リールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミ7基、アリールオキシカルボニルアミ7
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シア7基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。
該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オ′キチル基、2−エチルヘキンル基、2−クロルエ
チル基が挙げられる。
、オ′キチル基、2−エチルヘキンル基、2−クロルエ
チル基が挙げられる。
R、を又はR57で表される7リール基としては、炭素
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該了り−ル基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R1′又はR%’で表されるフルキル基へのr!i
換基として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該
アリール基として具体的なものとしては、例えばフェニ
ル基、1−す7チル基、4−7チlレスルホニルフェニ
ル基が挙げられろ。
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該了り−ル基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R1′又はR%’で表されるフルキル基へのr!i
換基として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該
アリール基として具体的なものとしては、例えばフェニ
ル基、1−す7チル基、4−7チlレスルホニルフェニ
ル基が挙げられろ。
R1′又はR1′で表されるヘテロ環基としては5〜6
只のものが好ましく、縮合環であってもよく、r!l換
基を有してもよい。具体例としては、2−フリル基、2
−キノリル基、2−ビリミノル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、2−ピリジル基等が挙げられる。
只のものが好ましく、縮合環であってもよく、r!l換
基を有してもよい。具体例としては、2−フリル基、2
−キノリル基、2−ビリミノル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、2−ピリジル基等が挙げられる。
R1′又はR%’で表されるスルファモイル基としては
、N−フルキルスルファモイルM、N、N−ノアリール
カルバモイル基、N−7リ一ルスル77モイルM、N、
N−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これら
のフルキル基及びアリール基は前記フルキル基及びアリ
ール基について挙げた置換基を有してていもよい。スル
ファモイル基の具体例としては例えばN、N−ノエチル
スル7Tモイル基、N−メチルスルファモイル基、N−
ドデシルスルファモイル基、N−p−)リルスル7アモ
イル基が挙げられる。
、N−フルキルスルファモイルM、N、N−ノアリール
カルバモイル基、N−7リ一ルスル77モイルM、N、
N−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これら
のフルキル基及びアリール基は前記フルキル基及びアリ
ール基について挙げた置換基を有してていもよい。スル
ファモイル基の具体例としては例えばN、N−ノエチル
スル7Tモイル基、N−メチルスルファモイル基、N−
ドデシルスルファモイル基、N−p−)リルスル7アモ
イル基が挙げられる。
R、を又はR、/で表されるカルバモイル基としては、
N−フルキルカルバモイル基、N、N−ジフルキル力ル
バモイル基、N−7リールカルバモイル基、N、N−ノ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の兵体例としでは例えばN、N−ノエチル力ルパモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバ
干イル基、N−p−シア/フェニルカルバモイル基、N
−p−)リルカルバモイル基が挙げられる。
N−フルキルカルバモイル基、N、N−ジフルキル力ル
バモイル基、N−7リールカルバモイル基、N、N−ノ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の兵体例としでは例えばN、N−ノエチル力ルパモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバ
干イル基、N−p−シア/フェニルカルバモイル基、N
−p−)リルカルバモイル基が挙げられる。
R、を又はR5’で表されるアシル基としては、例えば
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい、アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、2゜3.4.5.6−ベンタブルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい、アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、2゜3.4.5.6−ベンタブルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。
R4′又はR9′で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホこル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホこル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。
R、7又はR5’で表されるアリールオキンカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的には7エ7キシカルボニル基等
が挙げられる。
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的には7エ7キシカルボニル基等
が挙げられる。
R、I又はR5’で表されるアルフキジカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げたに換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、トチ゛
シルオキシカルボニル基、ペンノルオキシカルボニル基
等が挙げられる。
、前記アルキル基について挙げたに換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、トチ゛
シルオキシカルボニル基、ペンノルオキシカルボニル基
等が挙げられる。
R、7及びR5’が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6貝のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばN−7タル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒグントイニル!、3−N−2,4−ジオ
キソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキン−
3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基、
1−ピロリル基、1−ピロリノニル基、1−ピラゾリル
基、1−ピラゾリノニル基、1−ピペリノニル基、1−
ピロリニル基、1−イミダゾリル基、1−イミダゾリニ
ル基、1−インドリル基、1〜イソインドリニル基、2
−イソインドリル基、2−イソインドリニル基、1−ベ
ンゾトリアゾリル基、1−ベンシイミグゾリル基、1−
(1,2,4−)リアゾリル)基、1−(1,2,3−
トリ7ゾリル)基、1−(1”、2.3.4−テトラゾ
リル)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テト
ラヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基
、2−IH−ピリドン基、7タラシオン基、2−オキソ
−1−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基
はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリー
ルオキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミノ
基、アリールアミ7基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルフキジカルボ
ニル基、7リールオキシカルボニル基、イミド基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシル基、へロデン原子等によ
り置換されていてもよい。
5〜6貝のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばN−7タル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒグントイニル!、3−N−2,4−ジオ
キソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキン−
3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基、
1−ピロリル基、1−ピロリノニル基、1−ピラゾリル
基、1−ピラゾリノニル基、1−ピペリノニル基、1−
ピロリニル基、1−イミダゾリル基、1−イミダゾリニ
ル基、1−インドリル基、1〜イソインドリニル基、2
−イソインドリル基、2−イソインドリニル基、1−ベ
ンゾトリアゾリル基、1−ベンシイミグゾリル基、1−
(1,2,4−)リアゾリル)基、1−(1,2,3−
トリ7ゾリル)基、1−(1”、2.3.4−テトラゾ
リル)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テト
ラヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基
、2−IH−ピリドン基、7タラシオン基、2−オキソ
−1−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基
はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリー
ルオキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミノ
基、アリールアミ7基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルフキジカルボ
ニル基、7リールオキシカルボニル基、イミド基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシル基、へロデン原子等によ
り置換されていてもよい。
また2又はZ′により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。
又、一般式(1)及び後述の一般式(II)〜〔■〕に
於ける複素環上の置換基(例えば、R1R1〜R,)が 部分くここにR”、X及びZ IIは一般式〔I〕にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。
於ける複素環上の置換基(例えば、R1R1〜R,)が 部分くここにR”、X及びZ IIは一般式〔I〕にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。
又、z 、z ’、z ”及び後述の71により形/2
!される環は、更に他の環(例えば5〜7只のシクロア
ルケン)が縮合していてもよい。例えば一般式〔■〕に
おいてはR2とR6が、一般式〔■〕においてはR7と
R1とか、互いに結合して環(例えば5〜7貝のシクロ
アルケン、ベンゼン)を形成してもよい。
!される環は、更に他の環(例えば5〜7只のシクロア
ルケン)が縮合していてもよい。例えば一般式〔■〕に
おいてはR2とR6が、一般式〔■〕においてはR7と
R1とか、互いに結合して環(例えば5〜7貝のシクロ
アルケン、ベンゼン)を形成してもよい。
以下余白
一般式〔■〕で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式(II)〜〔■〕により表される。
記一般式(II)〜〔■〕により表される。
一般式(II)
一般式(II[]
N −N −N
一般式[IV)
N −N −NH
一般式(V)
一般式(’/Ij
N −N −Ni1
一般式〔■〕
前記一般式[II)〜〔■〕に於いてR2−R6及びX
は前記R及ゾXと同義である。
は前記R及ゾXと同義である。
又、一般式(1)の中でも好ましいのは、下記一般式〔
〜1〕で表されるものである。
〜1〕で表されるものである。
一般式〔)I〕
式中R1X及びZlは一般式(1)におけるRlX及び
Zと同義である。
Zと同義である。
、 前記一般式(II)〜〔■〕で表されるマゼンタカ
プラーの中で特に好ましいのものは一般式(II)で表
されるマゼンタカプラーである。
プラーの中で特に好ましいのものは一般式(II)で表
されるマゼンタカプラーである。
又、一般式CI)〜(’IIN )における複葉環上の
置換基についていえば、一般式〔■〕においてはRが、
また一般式(II)〜(Sit )においてはR。
置換基についていえば、一般式〔■〕においてはRが、
また一般式(II)〜(Sit )においてはR。
が下記条件1を満足する場合が好ましく更に好主しいの
は下記条件1及び2を満足する場合であり、待に好まし
いのは下記条件1,2及び3を満足する場合である。
は下記条件1及び2を満足する場合であり、待に好まし
いのは下記条件1,2及び3を満足する場合である。
条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。
条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。
、または全く結合していない。
条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。
合である。
前記複素環上の置換基R及びR8として最も好ましいの
は、下記一般式(、、IX )により表されるものであ
る。
は、下記一般式(、、IX )により表されるものであ
る。
一般式([)
%式%
式中R,,R,。及びR1,はそれぞれ水素原子、へロ
デン原子、アルキル基、ジクロフルキル基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基
、ホスホニル基、カルバモイル基、スル77モイル基、
シア7基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基
、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、アミ7基、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミ
ド基、ウレイド基、χルア7モイルアミ7基、アルコキ
シカルボニルアミ7基、アリールオキシカルボニル7ミ
7基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基を表し、R11Rto及びR1+の少なくとも2つ
は水素原子ではな1、% 。
デン原子、アルキル基、ジクロフルキル基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基
、ホスホニル基、カルバモイル基、スル77モイル基、
シア7基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基
、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、アミ7基、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミ
ド基、ウレイド基、χルア7モイルアミ7基、アルコキ
シカルボニルアミ7基、アリールオキシカルボニル7ミ
7基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基を表し、R11Rto及びR1+の少なくとも2つ
は水素原子ではな1、% 。
又、前記R,,R,。及びR1+の中の2つ例えばR,
とR8゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばジクロ
フルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にRIIが結合して有情炭化水素化合物残
基を構成してもよい。
とR8゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばジクロ
フルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にRIIが結合して有情炭化水素化合物残
基を構成してもよい。
R1〜RIIにより表される基は置換基を有してもよく
、R9〜RIIにより表される基の具体例及び該基が有
してもよい置換基としては、前述の一般式(1)におけ
るRが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。
、R9〜RIIにより表される基の具体例及び該基が有
してもよい置換基としては、前述の一般式(1)におけ
るRが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。
又、例えばR1とR1゜が結合して形成する環及びR,
〜R1により形成される有橋炭化水素化合物残基の具体
例及びその有しでもよい置換基としては、前述の一般式
〔I〕におけるRが表すシクロアルキル、シクロアルキ
ル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及びそ
の置換基が挙げられる。
〜R1により形成される有橋炭化水素化合物残基の具体
例及びその有しでもよい置換基としては、前述の一般式
〔I〕におけるRが表すシクロアルキル、シクロアルキ
ル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及びそ
の置換基が挙げられる。
一般式CIりの中でも好ましいのは、
(i)R1〜RIIの中の2つがアルキル基の場合、(
ii)R*〜RIIの中の1つ例えばR11が水素原子
であって、他の2つR1とRtoが結合して根元炭素原
子と共にシクロアルキルを形成する場合、 である。
ii)R*〜RIIの中の1つ例えばR11が水素原子
であって、他の2つR1とRtoが結合して根元炭素原
子と共にシクロアルキルを形成する場合、 である。
更に(i)の中でも好ましいのは、R1−R11の中の
2つがフルキル基であって、他の1つが水素原子または
フルキル基の場合である。
2つがフルキル基であって、他の1つが水素原子または
フルキル基の場合である。
ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に直換基を有
してもよく該フルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式CI)におけるRが衰す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。
してもよく該フルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式CI)におけるRが衰す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。
又、一般式〔1〕におけるZにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるZ、により形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式(II)〜(’T’I)にお
けるR2−R6としては下記一般式CX)で表されるも
のが好ましい。
般式〔■〕におけるZ、により形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式(II)〜(’T’I)にお
けるR2−R6としては下記一般式CX)で表されるも
のが好ましい。
一般式(X)
−R1−3o、−R2
式中R1はアルキレンを、R2はアルキル、シクロアル
キルまたは7リールを表す。
キルまたは7リールを表す。
R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖1
分岐を問わない、またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖1
分岐を問わない、またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。
該置換基の例としては、前述の一般式〔I〕におけるR
がアルキル基の場合該フルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。
がアルキル基の場合該フルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。
置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。
る。
R1で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。
示す。
R2で示されるアルキル基は直鎖1分岐を問わない。
具体的にはメチル、エチル、プロピル、:SQ−ブロビ
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル・ ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オフタグシル、2−
へキシルデシルなどが挙げられる。
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル・ ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オフタグシル、2−
へキシルデシルなどが挙げられる。
R2で示されるシクロアルキル基としては5〜6貝のも
のが好主しく、例えばシクロアキルが挙げられる。
のが好主しく、例えばシクロアキルが挙げられる。
R2で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。
R2で示される了り−ルとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい、該(i2換基としては例えば直鎖ないし分岐
のアルキルの池、前述のR’へのr!L換基として例示
したものが挙げられる。
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい、該(i2換基としては例えば直鎖ないし分岐
のアルキルの池、前述のR’へのr!L換基として例示
したものが挙げられる。
また、置換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。
一であっても異なっていてもよい。
一般式CI)で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式C訂〕で表されるものである。
は、下記一般式C訂〕で表されるものである。
一般式(XI)
式中、R,Xは一般式(1)におけるR、Xと同義であ
りRl 、 R2は、一般式〔X〕におけるR I。
りRl 、 R2は、一般式〔X〕におけるR I。
R2と同義である。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を示す。
以下余白
12H25
CI(3
L
CH3
C氾
CH。
■
Iam
2H5
以下余白
C4H。
CIJ25
H3
CH3
■
CH3
C,I(、。
C3Hフ
C2)1s
CH2
CHl
CH3
CH3
JIs
1:kI2
U*H+フ(L)CI。
U*H+フ(L)CI。
JL 3
H3
QC)12CONHCH2C)120Clh0CH2C
H2So□CHヨ C,H5 C2H。
H2So□CHヨ C,H5 C2H。
H3
CH3
CH3
CH3
QC2H。
CH。
R3
CeH+7(U
CH。
■
CH。
C1(3
CH3しali+t(tJ
Cl。
7H15
H3CC)!3
N −N −N
N N N
l、HI’lz+160・ 17フ N −N −NH 「N 2H5 H また前記カプラーはジ皐−ナル・オブ・ザ・ケミカル・
ソサイアテイ(J ournal of theCh
emical S ocieLy) r バーキン(
P erkin) 1(1977) 、 2047〜
2052、米国特許3,725,067号、特開昭59
−99437号、同58−42045号、同59−16
2548号、同59−171956号、同60−335
52号、同60−43659号、同60−172982
号及び同60−190779号等を参考にして合成する
ことがでさる。
l、HI’lz+160・ 17フ N −N −NH 「N 2H5 H また前記カプラーはジ皐−ナル・オブ・ザ・ケミカル・
ソサイアテイ(J ournal of theCh
emical S ocieLy) r バーキン(
P erkin) 1(1977) 、 2047〜
2052、米国特許3,725,067号、特開昭59
−99437号、同58−42045号、同59−16
2548号、同59−171956号、同60−335
52号、同60−43659号、同60−172982
号及び同60−190779号等を参考にして合成する
ことがでさる。
本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀1モル当r) I
Xl0−’モルー 1 モル、好ましくはlXl0−
2モル−8X10−’モルの範囲で用いることができる
。
Xl0−’モルー 1 モル、好ましくはlXl0−
2モル−8X10−’モルの範囲で用いることができる
。
また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。
併用することもできる。
以下余白
前記一般式[a ]で表わされる本発明に係るマゼンタ
カプラーと前記一般式[I]で表わされる本発明に係る
マゼンタカプラーとを組合ゼて用いるとき、一般式[a
]で表わされるマゼンタカプラーのうちの少なくとも
1つど、一般式[I]で表わされるマゼンタカプラーの
うちの少なくとも1つ之を任意の配合岱で任意に組合せ
て用いることができるが、これらのマゼンタカプラーの
金口のうち一般式[I]で表わされるマゼンタカプラー
が30〜90モル%、更には50〜95モル%となる様
に配合するのが好ましい。
カプラーと前記一般式[I]で表わされる本発明に係る
マゼンタカプラーとを組合ゼて用いるとき、一般式[a
]で表わされるマゼンタカプラーのうちの少なくとも
1つど、一般式[I]で表わされるマゼンタカプラーの
うちの少なくとも1つ之を任意の配合岱で任意に組合せ
て用いることができるが、これらのマゼンタカプラーの
金口のうち一般式[I]で表わされるマゼンタカプラー
が30〜90モル%、更には50〜95モル%となる様
に配合するのが好ましい。
次に前記一般式[b ]で表わされる化合物について説
明する。
明する。
一般式[b]において、R2、R3、R4およびR5で
表わされる基のうち、ハロゲン原子としては例えば塩素
、臭素、フッ素等の原子が挙げられる。アルキル基とし
ては直鎖でも分岐でもよく、好ましくは置換基を含めた
炭素数が1乃至40のアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、i−プロビル基、2−エチルヘキシル基、ラ
ウリル旦、ステアリル基等)である。このアルキル基は
置換基を有するものも含み、この場合の置換基としては
具体的にはハロゲン原子(例えば塩素、臭素、フッ素等
の原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ
基、ステアリルオキシ基等)、アリールM(例えばフェ
ニル基、ナフチル基等)、アリールオキシ基(例えばフ
ェノキシ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ
基等)、アラルキルチオ基(例えばベンジルチオ基等)
、アミノ基(例えばピペリジノ基、ジメチルアミ、)基
等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、ベンゾイ
ルオキシ基、フラノイルオキシ基、シクロヘキサノイル
オキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えばブトキ
シカルボニル基、2−エチルへキシルオキシカルボニル
基等)、シクロアルコキシカルボニル基((列えばシク
ロヘキシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカ
ルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、オキ
サリルオキシ暴(例えばエトキシオキサリルオキシ基等
)、カルバモイルオキシF5CVfiJえばヘキシルカ
ルバモイルオキシ基等)、スルホニルオキシ基(例えば
フェニルスルホニルオキシ基等)、アミド基(例えばベ
ンゾイルアミノ基等)、ウレイド基(例えばフェニルウ
レイド基等)、アミノスルファモイル基(例えばジメチ
ルアミノスルファモイル基等)等が挙げられる。R2N
R3、R4およびR5で表わされるシクロアルキル基
としては好ましくは置換基を除く炭素数が3乃至6であ
るシクロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロ
ヘキシル基等)である。このシクロアルキル基は置換基
を有するものも含み、その置換基例としては前記のアル
ギル基における置換基例およびアルキル基などが挙げら
れる。
表わされる基のうち、ハロゲン原子としては例えば塩素
、臭素、フッ素等の原子が挙げられる。アルキル基とし
ては直鎖でも分岐でもよく、好ましくは置換基を含めた
炭素数が1乃至40のアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、i−プロビル基、2−エチルヘキシル基、ラ
ウリル旦、ステアリル基等)である。このアルキル基は
置換基を有するものも含み、この場合の置換基としては
具体的にはハロゲン原子(例えば塩素、臭素、フッ素等
の原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ
基、ステアリルオキシ基等)、アリールM(例えばフェ
ニル基、ナフチル基等)、アリールオキシ基(例えばフ
ェノキシ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ
基等)、アラルキルチオ基(例えばベンジルチオ基等)
、アミノ基(例えばピペリジノ基、ジメチルアミ、)基
等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、ベンゾイ
ルオキシ基、フラノイルオキシ基、シクロヘキサノイル
オキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えばブトキ
シカルボニル基、2−エチルへキシルオキシカルボニル
基等)、シクロアルコキシカルボニル基((列えばシク
ロヘキシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカ
ルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、オキ
サリルオキシ暴(例えばエトキシオキサリルオキシ基等
)、カルバモイルオキシF5CVfiJえばヘキシルカ
ルバモイルオキシ基等)、スルホニルオキシ基(例えば
フェニルスルホニルオキシ基等)、アミド基(例えばベ
ンゾイルアミノ基等)、ウレイド基(例えばフェニルウ
レイド基等)、アミノスルファモイル基(例えばジメチ
ルアミノスルファモイル基等)等が挙げられる。R2N
R3、R4およびR5で表わされるシクロアルキル基
としては好ましくは置換基を除く炭素数が3乃至6であ
るシクロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロ
ヘキシル基等)である。このシクロアルキル基は置換基
を有するものも含み、その置換基例としては前記のアル
ギル基における置換基例およびアルキル基などが挙げら
れる。
R2、R3、R4およびR5で表わされるアリール基と
しては例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、
これらの基は置換基を有するものも含み、その置換基例
としてはアリール基を除く前記のアルキル基における置
換基例およびアルキル基などが挙げられる。R2、R3
、R4およびR5で表わされる7ルコキシカルボニルは
例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等
、アルキルカルバモイル基としては例えばブチルカルバ
モイル ル基としては例えばフェニルカルバモイル基等、またア
シル基としては例えばアセチル基、ベンゾイル基等がそ
れぞれ挙げられ、これらの基は置換基を有するものも含
み、その置換基例としては前記のアルキル基における置
換基例などが挙げられ単なる結合手または原子群を表わ
ずが、Qで表わされる原子群としては、後に説明する一
般式(b−2)乃至(b−5)においてそれぞれ示され
るような原子群であることが特に好ましい。
しては例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、
これらの基は置換基を有するものも含み、その置換基例
としてはアリール基を除く前記のアルキル基における置
換基例およびアルキル基などが挙げられる。R2、R3
、R4およびR5で表わされる7ルコキシカルボニルは
例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等
、アルキルカルバモイル基としては例えばブチルカルバ
モイル ル基としては例えばフェニルカルバモイル基等、またア
シル基としては例えばアセチル基、ベンゾイル基等がそ
れぞれ挙げられ、これらの基は置換基を有するものも含
み、その置換基例としては前記のアルキル基における置
換基例などが挙げられ単なる結合手または原子群を表わ
ずが、Qで表わされる原子群としては、後に説明する一
般式(b−2)乃至(b−5)においてそれぞれ示され
るような原子群であることが特に好ましい。
本発明に係る一般式[b ]で表わされる化合物におい
て、特に下記一般式(b−1)、(1)−2)(b−3
)、(b−4)および(b−5)で表わされる化合物を
好ましく用いることができる。
て、特に下記一般式(b−1)、(1)−2)(b−3
)、(b−4)および(b−5)で表わされる化合物を
好ましく用いることができる。
一般式(b−1)
一般式(b−2)
R+
一般式(b−3)
一般式(b−4)
R斗
一般式(b−5)
上記一般式(b−1)乃至(b−5)において、R2、
Ra 、R4およびR5はそれぞれ前記一般式[b]に
おけるR2 、R3、R4およびR5と゛同一である。
Ra 、R4およびR5はそれぞれ前記一般式[b]に
おけるR2 、R3、R4およびR5と゛同一である。
Rs 、R7、RaおよびRsはそれぞれ前記一般式[
b]におけるR2 、R3、R4およびR5と同義であ
る。一般式(b−1)乃至(b−5>において、R2−
R9の中から選ばれる任意の2つが結合して環を形成し
てもよい。
b]におけるR2 、R3、R4およびR5と同義であ
る。一般式(b−1)乃至(b−5>において、R2−
R9の中から選ばれる任意の2つが結合して環を形成し
てもよい。
本発明では前記一般式(1+−1)で表わされる化合物
の中でも特に下記一般式(b−6>で表わされる化合物
を好ましく用いることができる。
の中でも特に下記一般式(b−6>で表わされる化合物
を好ましく用いることができる。
以下余白
一般式CI、−6)
R,0
式中、Rloは水素原子またはアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基箸)を表わすが、Rloの好ましくは水
素原子である。Yは単なる結合手またはアルキレン基(
例えば−CH2−、+ CH2+y、+ CH2+T
、 + CH2−h等)を表わす、n、は正のg数を表
わすが、好ましくは1〜4である。
ル基、エチル基箸)を表わすが、Rloの好ましくは水
素原子である。Yは単なる結合手またはアルキレン基(
例えば−CH2−、+ CH2+y、+ CH2+T
、 + CH2−h等)を表わす、n、は正のg数を表
わすが、好ましくは1〜4である。
Xはn+=1のときは置換基を表わし、nlが2以上の
ときはn3価の結合基を表わす。
ときはn3価の結合基を表わす。
上記の置換基としては、例えばアルキル基(エチル基等
)、シクロアルキル基(例えばシクロへキシル基等)、
アリール基(例えばフェニル基挙げられる。ここで、R
I+はアルキル基(例えば1so−オクチル基等)、ア
リール基(例えばフエニル基等)、シクロアルキル基(
例えばシクロヘキシル基等)または複素環基(例えば7
ラン、ピリジル等)を表わす、これらの置換基は、さら
に置換基を有していてもよい。
)、シクロアルキル基(例えばシクロへキシル基等)、
アリール基(例えばフェニル基挙げられる。ここで、R
I+はアルキル基(例えば1so−オクチル基等)、ア
リール基(例えばフエニル基等)、シクロアルキル基(
例えばシクロヘキシル基等)または複素環基(例えば7
ラン、ピリジル等)を表わす、これらの置換基は、さら
に置換基を有していてもよい。
上記の01価の結合基としては、I+、が2の場合には
、例えば 等が挙げられ、nlが3の場合には、例えば以下余白 ここでR12およびR42はそれぞれアルキレン基(例
えば−CH2−1+CH2+−3等)またはアこれらの
基にはアルキレン基とアリーレン基が任意に結合して形
成される2価の基も含む。
、例えば 等が挙げられ、nlが3の場合には、例えば以下余白 ここでR12およびR42はそれぞれアルキレン基(例
えば−CH2−1+CH2+−3等)またはアこれらの
基にはアルキレン基とアリーレン基が任意に結合して形
成される2価の基も含む。
n2はOまたは正の整数を表わす。Rh3、R1′3お
よびRI3はそれぞれ水素原子またはアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基等)を表わす。
よびRI3はそれぞれ水素原子またはアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基等)を表わす。
一般式(b−6>において、nlが2以上の場合、−Y
−C−CH2で表わされる基は互いに同Rh。
−C−CH2で表わされる基は互いに同Rh。
−であっても異なっていてもよい。
環〜6員環を分子中に有するポリマーであってもよい。
この場合、上記の環を分子中に有するモノマーから誘導
されるホモポリマーであってもよいし、また該モノマー
と他のビニルモノマーとから誘導されるコポリマーであ
ってもよい。
されるホモポリマーであってもよいし、また該モノマー
と他のビニルモノマーとから誘導されるコポリマーであ
ってもよい。
本発明に係る一般式[b ]で表わされる化合物の中で
も、好ましい1群は少なくとも1つのニー〇 チル結合、エステル結合(例えば、−CO−1一 等)、アミド結合(例えば、−N−8−N−1を有する
ものである。
も、好ましい1群は少なくとも1つのニー〇 チル結合、エステル結合(例えば、−CO−1一 等)、アミド結合(例えば、−N−8−N−1を有する
ものである。
又、環中の酸素原子に直結する炭素原子には、少なくと
も1つの水素原子が結合しているものが好ましい。
も1つの水素原子が結合しているものが好ましい。
以下に本発明に係る一般式[b ]で表わされる化合物
の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されな
い。
の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されな
い。
以下余白
以下余白
以下余白
2つ
0 CH。
U (に l−12) s に Pi−シlO′12以
下余白 CH,−C−CH−COCH。
下余白 CH,−C−CH−COCH。
Hs
cuu<=ztis
Q4
以下余白
RR’
10’F HH
l(l CH,)l
+o9 CH,CI Hll 0
CH20C,Hl )!+++
cH2cp CQ以下余白 + 18 (CHz)z + 1CI (CH2)3120
(CH2)41”21
(CH2)2C=CH7以下余白 本発明に係る一般式[b ]で表わされる化合物は、市
販品として購入してもよい。又、予め二重結合を有する
対応化合物を合成した後、該二重結合を酸化剤(例えば
過酸化水素)により酸化して得ることもできる。又、前
述の6員の環状エーテル化合物は、例えばジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリーLJ、O,C,)、
36巻。
CH20C,Hl )!+++
cH2cp CQ以下余白 + 18 (CHz)z + 1CI (CH2)3120
(CH2)41”21
(CH2)2C=CH7以下余白 本発明に係る一般式[b ]で表わされる化合物は、市
販品として購入してもよい。又、予め二重結合を有する
対応化合物を合成した後、該二重結合を酸化剤(例えば
過酸化水素)により酸化して得ることもできる。又、前
述の6員の環状エーテル化合物は、例えばジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリーLJ、O,C,)、
36巻。
1116頁(1971) 、マクロモレキュールズ(M
acromolecules ) 、 1980. 2
52頁に記載の方法により、5員のものは、例えば英国
特許第867.918号、アン(A nn) 623
. 191頁(1959)に記載の方法により、4員の
ものはドイツ特許第1,021、858号に記載の方法
により合成できる。
acromolecules ) 、 1980. 2
52頁に記載の方法により、5員のものは、例えば英国
特許第867.918号、アン(A nn) 623
. 191頁(1959)に記載の方法により、4員の
ものはドイツ特許第1,021、858号に記載の方法
により合成できる。
一般式[blで表わされる化合物の使用0は、一般式[
alで表わされるマゼンタカプラーおよび一般式[I]
で表わされるマゼンタカプラーの総ヱ100重迅部に対
して1〜1000重口部が好ましく、5〜200重1部
の範囲が特に好ましい。
alで表わされるマゼンタカプラーおよび一般式[I]
で表わされるマゼンタカプラーの総ヱ100重迅部に対
して1〜1000重口部が好ましく、5〜200重1部
の範囲が特に好ましい。
本発明においては、ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一
層に一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラー、一
般式[1]で表わされるマゼンタカプラーおよび一般式
[b ]で表わされる化合物が油滴として含有されるも
のであるが、これらのハロゲン化銀写真感光材料への添
加方法としては、例えば水中油滴型乳化分散法がある。
層に一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラー、一
般式[1]で表わされるマゼンタカプラーおよび一般式
[b ]で表わされる化合物が油滴として含有されるも
のであるが、これらのハロゲン化銀写真感光材料への添
加方法としては、例えば水中油滴型乳化分散法がある。
水中油滴型乳化分散法は、一般式[a ]で表わされる
マゼンタカプラーおよび一般式[I]で表わされるマゼ
ンタカプラーを一般式[b ]で表わされる化合物およ
び/または後述するような低誘電率の高沸点有機溶媒に
溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダー中に界
面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミ
ル、フロージェットミキサー、超音波装置等の分散手段
により、乳化分散した後、目的とするハロゲン化銀乳剤
層中に添加すればよい。この方法により、本発明に係る
一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラー、一般式
[I]で表わされるマゼンタカプラーおよび一般式[b
]で表わされる化合物をハロゲン化銀乳剤層中に油滴
として含有させることができる。
マゼンタカプラーおよび一般式[I]で表わされるマゼ
ンタカプラーを一般式[b ]で表わされる化合物およ
び/または後述するような低誘電率の高沸点有機溶媒に
溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダー中に界
面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミ
ル、フロージェットミキサー、超音波装置等の分散手段
により、乳化分散した後、目的とするハロゲン化銀乳剤
層中に添加すればよい。この方法により、本発明に係る
一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラー、一般式
[I]で表わされるマゼンタカプラーおよび一般式[b
]で表わされる化合物をハロゲン化銀乳剤層中に油滴
として含有させることができる。
また本発明に係る一般式[blで表わされる化合物に一
般の高沸点有機溶媒を併用することもできる。
般の高沸点有機溶媒を併用することもできる。
例えば、30℃における誘電率6.0以下のフタル酸エ
ステル、リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド
類、ケトン類、炭化水素化合物等が併用できる。これら
のうち好ましくは、30℃における誘電率6.0以下1
.9以上で100℃における蒸気圧が0.5II1mH
g以下の高沸点有機溶媒である。
ステル、リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド
類、ケトン類、炭化水素化合物等が併用できる。これら
のうち好ましくは、30℃における誘電率6.0以下1
.9以上で100℃における蒸気圧が0.5II1mH
g以下の高沸点有機溶媒である。
これらの有機溶媒を併用する場合には一般式[blで表
わされる化合物に対して10〜200ff1m%、特に
50〜10039%の範囲で用いればよい。
わされる化合物に対して10〜200ff1m%、特に
50〜10039%の範囲で用いればよい。
また写真用添加剤(例えば両会安定剤およびスティン防
止剤等)は、一般式[a ]で表わされるマゼンタカプ
ラー、一般式[I]で表わされるマゼンタカプラーおよ
び一般式[blr表わされる化合物と同−油滴中に溶解
してもよいし、上記したような低yg電率の高沸点有F
M溶媒に溶解してハロゲン化銀乳剤層に添加してもよい
。
止剤等)は、一般式[a ]で表わされるマゼンタカプ
ラー、一般式[I]で表わされるマゼンタカプラーおよ
び一般式[blr表わされる化合物と同−油滴中に溶解
してもよいし、上記したような低yg電率の高沸点有F
M溶媒に溶解してハロゲン化銀乳剤層に添加してもよい
。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えばカラーネ
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわ()直接鑑賞用に供され
るカラー印画紙を用いた場合に本発明方法の効果が有効
に発揮される。
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわ()直接鑑賞用に供され
るカラー印画紙を用いた場合に本発明方法の効果が有効
に発揮される。
このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、単色用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、減色
法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとして、
マゼンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有す
るハロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に
適宜の層数及び層順で積層した構造を有しているが、該
層数及び層順は重点性能、使用目的によって適宜変更し
ても良い。
写真感光材料は、単色用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、減色
法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとして、
マゼンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有す
るハロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に
適宜の層数及び層順で積層した構造を有しているが、該
層数及び層順は重点性能、使用目的によって適宜変更し
ても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料が多色用感光材料で
ある場合、具体的な層構成としては、支持体上に、支持
体側より順次、黄色色素画像形成層、中間層、マゼンタ
色素画像形成灯、中間層、シアン色素画像形成層、中間
層、保護層と配列したものが特に好ましい。
ある場合、具体的な層構成としては、支持体上に、支持
体側より順次、黄色色素画像形成層、中間層、マゼンタ
色素画像形成灯、中間層、シアン色素画像形成層、中間
層、保護層と配列したものが特に好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳剤(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤という。
ン化銀乳剤(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤という。
)には、ハロゲン化銀としての臭化銀、沃臭化銀、沃塩
化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳
剤に使用される任意のものを用いることができる。
化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳
剤に使用される任意のものを用いることができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった後、成長させても良い。種粒子をつ
くる方法と成長させる方法は同じであっても、異なって
も良い。
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった後、成長させても良い。種粒子をつ
くる方法と成長させる方法は同じであっても、異なって
も良い。
ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のD
H,1)A(+をコントロールしつつ逐次同時に添加す
る事により、生成させても良い。成長後にコンバージョ
ン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても良い
。
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のD
H,1)A(+をコントロールしつつ逐次同時に添加す
る事により、生成させても良い。成長後にコンバージョ
ン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても良い
。
本発明のハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコン1−ロール出来る。
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコン1−ロール出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は鉛塩、鉄塩又は錯塩、を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子
表面に包含させる事が出来、また適当な還元的雰囲気に
おく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感
核を付与出来る。
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は鉛塩、鉄塩又は錯塩、を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子
表面に包含させる事が出来、また適当な還元的雰囲気に
おく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感
核を付与出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・アイスクロージヤー17643号記載の方
法に基づいて行う事が出来る。
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・アイスクロージヤー17643号記載の方
法に基づいて行う事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、内部と表面が均一な層から成っていても良いし、
異なる層から成っても良い。
子は、内部と表面が均一な層から成っていても良いし、
異なる層から成っても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても良く、また主として粒子内部に形成されるような
粒子でも良い。
子は、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても良く、また主として粒子内部に形成されるような
粒子でも良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、規則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。これら
粒子において、(100)面と(111)面の比率は任
意のものが使用出来る。
子は、規則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。これら
粒子において、(100)面と(111)面の比率は任
意のものが使用出来る。
又、これら結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な
結晶形の粒子が混合されても良い。
結晶形の粒子が混合されても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即も、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫貿増感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。
る。即も、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫貿増感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、
2種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と共に
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可祈光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、
2種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と共に
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可祈光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及び/又は
写真性能を安定に保つ事を目的として、化学熟成中、及
び/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及び/又は
写真性能を安定に保つ事を目的として、化学熟成中、及
び/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料のバインダー(又は
保護コロイド)としては、ゼラチンを用いるのが有利で
あるが、それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高
分子のグラフトポリマー、蛋白質、8!!誘導体、セル
ロース誘導体、単一あるいiよ共重合体の如き合成親水
性高分子物質等の親水性コロイドも用いる事が出来る。
保護コロイド)としては、ゼラチンを用いるのが有利で
あるが、それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高
分子のグラフトポリマー、蛋白質、8!!誘導体、セル
ロース誘導体、単一あるいiよ共重合体の如き合成親水
性高分子物質等の親水性コロイドも用いる事が出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保護コロイ
ド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
るm添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る事も可能である。
他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保護コロイ
ド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
るm添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る事も可能である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを目的とし
て、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物(ラテック
ス)を含む事が出来る。
の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを目的とし
て、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物(ラテック
ス)を含む事が出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
現像処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミンフェノール誘
導体など)の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成プる色素形成カプラーが用いられる。該色素形成カプ
ラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペクトル
光を吸収する色素が形成されるように選択されるのが普
通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形成カ
プラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形成カ
プラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成カプ
ラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記組み
合わせと異なった用い方でハロゲン化銀カラー写真感光
材料をつくっても良い。
現像処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミンフェノール誘
導体など)の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成プる色素形成カプラーが用いられる。該色素形成カプ
ラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペクトル
光を吸収する色素が形成されるように選択されるのが普
通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形成カ
プラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形成カ
プラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成カプ
ラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記組み
合わせと異なった用い方でハロゲン化銀カラー写真感光
材料をつくっても良い。
本発明に用いられるシアン色素形成カプラーとしては、
フェノール系、ナフトール系の4当伍もしくは2当岱型
シアン色素形成カプラーが代表的であり、その具体例は
米国特許第2,306,410号、同第2,356,4
75号、同第2.362.598号、同第2,367、
531号、同第2.369.929@、同第2.423
.730号、同第2,474,293号、同第2,47
6.008号、同第2,498、466号、同第2,5
45,687号、同第2.728.660号、同第2.
772.162号、同第2.895□826号、同第2
,976、146号、同第3,002,836号、同第
3.419.390号、同第3.446.622号、同
第3,476.563号、同第3,737、316号、
同第3.758.308号、同第3.839.044号
、英国特許第478,991号、同第945,542号
、同第1.084,480号、同第1.377、233
号、同第1,388,024号及び同第1..543,
040号の各明細書、並びに特開昭47−37425号
、同50−10135号、同50−25228号、同5
0−112038@、同50−117422号、同50
−130441号、同51−6551号、同51−37
647号、同51−52828号、同51−10884
1号、同 53−109630号、同54−48237
号、同54−66129号、同54−131931号、
同55−32071号の各公報などに記載されている。
フェノール系、ナフトール系の4当伍もしくは2当岱型
シアン色素形成カプラーが代表的であり、その具体例は
米国特許第2,306,410号、同第2,356,4
75号、同第2.362.598号、同第2,367、
531号、同第2.369.929@、同第2.423
.730号、同第2,474,293号、同第2,47
6.008号、同第2,498、466号、同第2,5
45,687号、同第2.728.660号、同第2.
772.162号、同第2.895□826号、同第2
,976、146号、同第3,002,836号、同第
3.419.390号、同第3.446.622号、同
第3,476.563号、同第3,737、316号、
同第3.758.308号、同第3.839.044号
、英国特許第478,991号、同第945,542号
、同第1.084,480号、同第1.377、233
号、同第1,388,024号及び同第1..543,
040号の各明細書、並びに特開昭47−37425号
、同50−10135号、同50−25228号、同5
0−112038@、同50−117422号、同50
−130441号、同51−6551号、同51−37
647号、同51−52828号、同51−10884
1号、同 53−109630号、同54−48237
号、同54−66129号、同54−131931号、
同55−32071号の各公報などに記載されている。
さらに本発明のハロゲン化銀乳剤に用いるシアン色素形
成カプラーとしては、下記一般式[CC−1]および[
CC−2]が好ましい。
成カプラーとしては、下記一般式[CC−1]および[
CC−2]が好ましい。
一般式[CC−1]
ム
式中、R1はアルキル基またはアリール基を表わす。R
2はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
複素環基を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基またはアルコキシ基を表わす。またR3はR1
と結合して環を形成しても良い。Zは水素原子または芳
香族第1級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱可能な基を表わす。
2はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
複素環基を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基またはアルコキシ基を表わす。またR3はR1
と結合して環を形成しても良い。Zは水素原子または芳
香族第1級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱可能な基を表わす。
一般式[CC−2]
式中、R4は炭素原子数1〜4個の直鎖または分岐のア
ルキル基、R5はバラスト基を表わす。
ルキル基、R5はバラスト基を表わす。
Zは一般式[CC−11の7と同義である。R4の特に
好ましくは炭素原子数2〜4個の直鎖又は分岐のアルキ
ル基である。
好ましくは炭素原子数2〜4個の直鎖又は分岐のアルキ
ル基である。
本発明において、一般式[CC−1]のR1で表わされ
るアルキル基は、直鎖もしくは分岐のものであり、例え
ば、メチル基、エチル基、iso −プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、トリデシル
基等であり、またアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基等である。
るアルキル基は、直鎖もしくは分岐のものであり、例え
ば、メチル基、エチル基、iso −プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、トリデシル
基等であり、またアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基等である。
これらのR1で表わされる基は、単一もしくは複数の置
換基を有するものも含み、例えばフェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、ア
ルキルスルホンアミド基(例えば、メヂルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフ
チルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基
(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスル
ファモイル基(例えば、フェニルスルファモイル基等)
、アルキルオキシカルボニルM(例えば、メチルオキシ
カルボニル えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホ
ンアミド基(例えば、N.N−ジメチルアミノスルホン
アミド基等)、アシルアミノ基、カルバモイル基、スル
ホニル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基
、アリールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、
アルキルカルボニルができる。
換基を有するものも含み、例えばフェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、ア
ルキルスルホンアミド基(例えば、メヂルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフ
チルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基
(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスル
ファモイル基(例えば、フェニルスルファモイル基等)
、アルキルオキシカルボニルM(例えば、メチルオキシ
カルボニル えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホ
ンアミド基(例えば、N.N−ジメチルアミノスルホン
アミド基等)、アシルアミノ基、カルバモイル基、スル
ホニル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基
、アリールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、
アルキルカルボニルができる。
これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入されてい
ても良い。
ても良い。
R3で表わされるハロゲン原子は、例えば、フッ素、塩
素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基
等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基等である。
素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基
等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基等である。
R3がR1と結合して環を形成してもよい。
本発明において前記一般式[CG−1]のR2で表わさ
れるアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプ
タアシル基、フッ素原子で置換された、いわゆるポリフ
ルオロアルキル基などである。
れるアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプ
タアシル基、フッ素原子で置換された、いわゆるポリフ
ルオロアルキル基などである。
R2で表わされるアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基であり、好ましくはフェニル基、である。R2
で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、フラン基
等である。R2で表わされるシクロアルキル基は、例え
ば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等である。こ
れらのR2で表わされる基は、単一もしくは複数の置換
基を有するものも含み、例えば、フェニル基に尋人され
る置1!1!lとしては、代表的なものにハロゲン原子
(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキルJ
i<例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ
基、アルコキシ基(例えばメ!〜キシ基、エトキシ基等
)、アルキルスルホンアミド基(例えばメヂルスルホン
アミド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールス
ルホンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、
ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイ
ル基(例えばブチルスルファモイル基等)、アリールス
ルファモイル基(例えば、フェニルスルファモイル基等
)、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メチルオキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例
えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホ
ンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、
アワー/レオキシ基、アルコキシ基、カルボキシルアル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基などを挙げる
ことができる。これらの置換基は2種以上がフェニル基
に導入されていても良い。
フチル基であり、好ましくはフェニル基、である。R2
で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、フラン基
等である。R2で表わされるシクロアルキル基は、例え
ば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等である。こ
れらのR2で表わされる基は、単一もしくは複数の置換
基を有するものも含み、例えば、フェニル基に尋人され
る置1!1!lとしては、代表的なものにハロゲン原子
(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキルJ
i<例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ
基、アルコキシ基(例えばメ!〜キシ基、エトキシ基等
)、アルキルスルホンアミド基(例えばメヂルスルホン
アミド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールス
ルホンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、
ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイ
ル基(例えばブチルスルファモイル基等)、アリールス
ルファモイル基(例えば、フェニルスルファモイル基等
)、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メチルオキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例
えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホ
ンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、
アワー/レオキシ基、アルコキシ基、カルボキシルアル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基などを挙げる
ことができる。これらの置換基は2種以上がフェニル基
に導入されていても良い。
R2で表わされる好ましい基としては、ポリフルオロア
ルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリール
スルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリー
ルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル基もしくはシアノ基を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。
ルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリール
スルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリー
ルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル基もしくはシアノ基を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。
本発明において一般式[CG−1]で表わされるシアン
色素形成カプラーの好ましくは、下記一般式[CG−3
]で表わされる化合物である。
色素形成カプラーの好ましくは、下記一般式[CG−3
]で表わされる化合物である。
一般式[CC−3]
一般式[CG−3]において、R6はフェニル基を表わ
す。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有す
るものも含み、導入される置換基としでは代表的なもの
にハロゲン原子(例えばフッタ・;、塩素、臭素等の各
原子)、アルキル基(例えばメチル基、エチルリ、プロ
ピル基、ブブル阜、オクチル基、ドデシル基等)、ヒド
ロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例え
ばメ1〜キシ基、エトキシ基等)、アルキルスルホンア
ミド基(例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスル
ホンアミド基等)、アリールスルホンアミド基(例えば
フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基
等)、アルキルスルファモイル基(例えばブチルスルフ
ァモイル基等)、アリールスルファモイル基(例えばフ
ェニルスルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニ
ル基(例えばメチルオキシカルボニル基等)、アリール
オキシカルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニル
基等)などを挙げることができる。これらの置換基は2
種以上がフェニル基に置換されていても良い。R6で表
わされる好ましい基としては、フェニル基、またはハロ
ゲン原子(好ましくはフッ素、塩素、臭素の各原子)、
アルキルスルホンアミド基(好ましくはO−メチルスル
ホンアミド基、p−オクチルスルホンアミド基、O−ド
アシルスルホンアミド基)、アリールスルホンアミド基
(好ましくはフェニルスルホンアミド基)、アルキルス
ルファモイル基(好ましくはブチルスルファモイル基)
、アリールスルファモイル基(好ましくはフェニルスル
ファモイルM)、アルキル基(好ましくはメチル基、ト
リフルオロメチル基)、アルコキシ基(好ましくはメト
キシ基、エトキシ基)を置換基として1つまたは2つ以
上有するフェニル基である。
す。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有す
るものも含み、導入される置換基としでは代表的なもの
にハロゲン原子(例えばフッタ・;、塩素、臭素等の各
原子)、アルキル基(例えばメチル基、エチルリ、プロ
ピル基、ブブル阜、オクチル基、ドデシル基等)、ヒド
ロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例え
ばメ1〜キシ基、エトキシ基等)、アルキルスルホンア
ミド基(例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスル
ホンアミド基等)、アリールスルホンアミド基(例えば
フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基
等)、アルキルスルファモイル基(例えばブチルスルフ
ァモイル基等)、アリールスルファモイル基(例えばフ
ェニルスルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニ
ル基(例えばメチルオキシカルボニル基等)、アリール
オキシカルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニル
基等)などを挙げることができる。これらの置換基は2
種以上がフェニル基に置換されていても良い。R6で表
わされる好ましい基としては、フェニル基、またはハロ
ゲン原子(好ましくはフッ素、塩素、臭素の各原子)、
アルキルスルホンアミド基(好ましくはO−メチルスル
ホンアミド基、p−オクチルスルホンアミド基、O−ド
アシルスルホンアミド基)、アリールスルホンアミド基
(好ましくはフェニルスルホンアミド基)、アルキルス
ルファモイル基(好ましくはブチルスルファモイル基)
、アリールスルファモイル基(好ましくはフェニルスル
ファモイルM)、アルキル基(好ましくはメチル基、ト
リフルオロメチル基)、アルコキシ基(好ましくはメト
キシ基、エトキシ基)を置換基として1つまたは2つ以
上有するフェニル基である。
R7はアルキル基またはアリール基である。アルキル基
またはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有する
ものも含み、この置換ヰとしては代表的なものに、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、ヒ
ドロキシル基、カルボキシル基、アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基
、ドデシル基等)、アラルキル基、シアノ基、ニドoH
、アルコキシJli(VIJえばメトキシ基、エトキシ
基)、アリールオキシ基、アルキルスルホンアミド基(
例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミ
ド基等)、アリールスルホンアミド基(例えばフェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、ア
ルキルスルファモイル基(例えばブチルスルファモイル
基等)、アリールスルファモイル基(例えばフェニルス
ルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例
えばメチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカ
ルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)、
アミノスルホンアミド基(例えばジメチルアミノスルホ
ンアミド基等)、アルキルスルボニル基、アリールスル
ホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル
基、アミノカルボニルアミド基、カルバモイル どを挙げることができる。これらの置換基は2種以上が
導入されても良い。
またはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有する
ものも含み、この置換ヰとしては代表的なものに、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、ヒ
ドロキシル基、カルボキシル基、アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基
、ドデシル基等)、アラルキル基、シアノ基、ニドoH
、アルコキシJli(VIJえばメトキシ基、エトキシ
基)、アリールオキシ基、アルキルスルホンアミド基(
例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミ
ド基等)、アリールスルホンアミド基(例えばフェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、ア
ルキルスルファモイル基(例えばブチルスルファモイル
基等)、アリールスルファモイル基(例えばフェニルス
ルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例
えばメチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカ
ルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)、
アミノスルホンアミド基(例えばジメチルアミノスルホ
ンアミド基等)、アルキルスルボニル基、アリールスル
ホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル
基、アミノカルボニルアミド基、カルバモイル どを挙げることができる。これらの置換基は2種以上が
導入されても良い。
R7で表わされる好ましい基としては、n.=Oのとき
はアルキル基、nl−1以上のときはアリール基である
。R7で表わされているさらに好ましい基としては、n
1=0のときは炭素数1〜22個のアルキル基(好まし
くはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基、ドデ゛シル慕)であり、口1 =1以上のとき
はフェニル基、またはアルキル基(好ましくはt−ブチ
ル基、[−アミル基、オクチル基)、アルキルスルホン
アミド基(好ましくはブチルスルホンアミド基、オクチ
ルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、ア
リールスルホンアミド基(好ましくはフェニルスルホン
アミド基)、アミノスルホンアミド基(好ましくはジメ
チルアミノスルホンアミド基)、アルキルオキシカルボ
ニル料(好ましくはメチルオキシカルボニル ルボニル基)を置換基として1つまたは2つ以上有する
フェニル基である。
はアルキル基、nl−1以上のときはアリール基である
。R7で表わされているさらに好ましい基としては、n
1=0のときは炭素数1〜22個のアルキル基(好まし
くはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基、ドデ゛シル慕)であり、口1 =1以上のとき
はフェニル基、またはアルキル基(好ましくはt−ブチ
ル基、[−アミル基、オクチル基)、アルキルスルホン
アミド基(好ましくはブチルスルホンアミド基、オクチ
ルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、ア
リールスルホンアミド基(好ましくはフェニルスルホン
アミド基)、アミノスルホンアミド基(好ましくはジメ
チルアミノスルホンアミド基)、アルキルオキシカルボ
ニル料(好ましくはメチルオキシカルボニル ルボニル基)を置換基として1つまたは2つ以上有する
フェニル基である。
R8はアルキレン基を表わす。直鎖または分岐の炭素原
子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12ffMIの
アルキレン基を表わす。
子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12ffMIの
アルキレン基を表わす。
R9は水素原子またはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素または沃素等の各原子)を表わす。好ましくは水素原
子である。
素または沃素等の各原子)を表わす。好ましくは水素原
子である。
nlはOまたは正の整数であり、好ましくは○または1
である。
である。
Xは一〇−、−CO−、−COO−、
−OCO−、−SO2NR−、−NR’ SO2NR”
−、−S−、−SO−または−SO2−塁の2価基を表
わす。ここで、R′、R″はアルキル基を表わし、RL
、RLJはそれぞれ置換基を右するものも含む。Xの
好ましくは、−〇−、−S−、−SO−、−SO2−基
である。
−、−S−、−SO−または−SO2−塁の2価基を表
わす。ここで、R′、R″はアルキル基を表わし、RL
、RLJはそれぞれ置換基を右するものも含む。Xの
好ましくは、−〇−、−S−、−SO−、−SO2−基
である。
Zは一般式[CC−1]のZと同義である。
本発明において、前記一般式[CC−2]のR4で表わ
される炭素原子数1〜4個の己鎖又は分岐のアルキル基
は、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、iso−
プロピルl、iso−ブチル基、sec−ブチル基、或
いはtert−ブチル基であり、これらは置換基を有す
るものも含む。置換基としてはアシルアミノ基(例えば
アセチルアミノ基)、アルコキシ基く例えばメトキシ基
)等が挙げられる。
される炭素原子数1〜4個の己鎖又は分岐のアルキル基
は、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、iso−
プロピルl、iso−ブチル基、sec−ブチル基、或
いはtert−ブチル基であり、これらは置換基を有す
るものも含む。置換基としてはアシルアミノ基(例えば
アセチルアミノ基)、アルコキシ基く例えばメトキシ基
)等が挙げられる。
R十は好ましくはrA素数原子数2〜4のアルキル基で
ある。
ある。
R5により表わされるバラスト基は、カプラーが適用さ
れる層からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよう
にするのに十分ながさばりをカプラー分子に与えるとこ
ろの大きさと形状を有する有搬基である。
れる層からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよう
にするのに十分ながさばりをカプラー分子に与えるとこ
ろの大きさと形状を有する有搬基である。
代表的なバラスト基としては、全炭素数が8から32の
アルキル基またはアリール基が挙げられる。
アルキル基またはアリール基が挙げられる。
これらのアルキル基またはアリール基は置換基を有する
ものも含む。アリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基,アルコキシ基、アリ−フレオキシ
基、カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ
基、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル アミド基、スルファモイル基、ハロゲン原子が挙げられ
る。また、アルキル基の置換基としてはアルキル基を除
く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられる。
ものも含む。アリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基,アルコキシ基、アリ−フレオキシ
基、カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ
基、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル アミド基、スルファモイル基、ハロゲン原子が挙げられ
る。また、アルキル基の置換基としてはアルキル基を除
く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられる。
とりわけ該バラスト基として好ましいものは、下記一般
式[CC−4]で表わされるものである。
式[CC−4]で表わされるものである。
一般式[CC−4]
一CH−0−Ar
R+oは水素原子または炭素原子数1から12のアルキ
ル基を表わし、Arはフェニル)31のアリール基を表
わし、このアリール基は置換基を右するものも含む。置
換基としてはアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルスル
ホンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものはt
−ブチル基等の分岐のアルキル基である。
ル基を表わし、Arはフェニル)31のアリール基を表
わし、このアリール基は置換基を右するものも含む。置
換基としてはアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルスル
ホンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものはt
−ブチル基等の分岐のアルキル基である。
一般式[CC−1]、[CC−2]および[CG−3]
において、それぞれZで表わされる芳香族第1級アミン
系発色現懺主薬の酸化体との反応により離脱可能な基は
、当業者に周知のものであり、カプラーの反応性を改質
し、またはカプラーから離脱して、ハロゲン化銀カラー
写頁感光材料中のカプラーを含む塗布層もしくはその他
の層において、現像抑i、11、漂白抑制、色補正など
の1能を宋たすことにより右利に作用するものである。
において、それぞれZで表わされる芳香族第1級アミン
系発色現懺主薬の酸化体との反応により離脱可能な基は
、当業者に周知のものであり、カプラーの反応性を改質
し、またはカプラーから離脱して、ハロゲン化銀カラー
写頁感光材料中のカプラーを含む塗布層もしくはその他
の層において、現像抑i、11、漂白抑制、色補正など
の1能を宋たすことにより右利に作用するものである。
代表的なものとしては、例えば塩素、フッ素に代表され
るハロゲン原子、置換・無置換のアルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アリールチオ基、カルバモイルオキシ基、
アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、スルホンアミド
基またはへテロイルチオ基、ヘテロイルオキシ基などが
挙げられる。
るハロゲン原子、置換・無置換のアルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アリールチオ基、カルバモイルオキシ基、
アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、スルホンアミド
基またはへテロイルチオ基、ヘテロイルオキシ基などが
挙げられる。
2の特に好ましいものは、水素原子または塩素原子であ
る。
る。
更に具体的には、特開昭50−10135号、同50−
120334号、同50−130441号、同54−4
8237号、同51−146828号、同54−14’
736号、同47−37425号、同 5〇−1233
41号、同58−95346号、特公昭48−3689
4号、米国特許3.476、563号、同3,737,
316号、同3,227.551号各公報に記載されて
いる。
120334号、同50−130441号、同54−4
8237号、同51−146828号、同54−14’
736号、同47−37425号、同 5〇−1233
41号、同58−95346号、特公昭48−3689
4号、米国特許3.476、563号、同3,737,
316号、同3,227.551号各公報に記載されて
いる。
以下余白
以下に一般式(cc−+、lで表わさ九るシアンカプラ
ーの代表的具体例を示すが、これらに限定されるもので
はない。
ーの代表的具体例を示すが、これらに限定されるもので
はない。
(n)C1zlLs SOzNH
(n)ClgHuSOzNH
C4Hs (n)
C1z上ヒ5(n)
C−3’2
CL
次に一般式(ロ)−2〕で表わされるカプラーの具体例
を示すが、これらに限定されるものでは力い。
を示すが、これらに限定されるものでは力い。
本発明に用いられるイエロー色素形成カプラーとしては
、下記の一般式[Ylで表わされる化合物が好ましい。
、下記の一般式[Ylで表わされる化合物が好ましい。
一般式[Yl
式中、R11はアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等)またはアリール基(例えば
フェニル基、p−メトキシフェニル等)を表わし、R1
2はアリール基を表わし、Ylは水素原子または発色現
像反応の過程でItffllRする基を表わす。
、プロピル基、ブチル基等)またはアリール基(例えば
フェニル基、p−メトキシフェニル等)を表わし、R1
2はアリール基を表わし、Ylは水素原子または発色現
像反応の過程でItffllRする基を表わす。
さらに、イエロー色素形成カプラーどして特に好ましい
ものは、下記一般式[Y′ ]で表わされる化合物が好
ましい。
ものは、下記一般式[Y′ ]で表わされる化合物が好
ましい。
一般式[Y′]
式中RI3はハロゲン原子、アルコキシ基またはアリー
ロキシ基を表わし、Rト、R15、およびR+sは、そ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキ11塁、アルケ
ニル 基、アリーロキシ基、カルボニル基、スルフォニル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバミル
基、スルフォン基、スルファミルスルフォンアミド基、
アシルアミド基、ウレイド基またはアミン基を表わし、
Ylは前述の意味を有する。
ロキシ基を表わし、Rト、R15、およびR+sは、そ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキ11塁、アルケ
ニル 基、アリーロキシ基、カルボニル基、スルフォニル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバミル
基、スルフォン基、スルファミルスルフォンアミド基、
アシルアミド基、ウレイド基またはアミン基を表わし、
Ylは前述の意味を有する。
これらは、例えば米国特許第2, 778, 658号
、同第2,875,057号、同第2,908,573
号、同第3,227、155号、同第3,227,55
0号、同第3,253,924号、同第3,265,5
06号、同第3,277、 155号、同第3,341
、331号、同第3, 369, 895号、同第3,
384,657号、同第3, 408, 194F’j
、同第3,415,(i52号、同第3,447、 9
28号、同第3,551, 155号、同第3, 58
2, 322号、同第3,725,072号、3,89
4,875号等の各明細書、ドイツ特許公開筒1, 5
47, 868号、同第2,057,941号、同第2
, 162, 899号、同!T 2,163,812
号、同第2、213. 4G1号、同第2,219,9
17M、同第2,261,361号、同第2,263,
875号、特公昭49−13576号、特開昭48−2
9432号、同48−66834号、同49−1073
6号、同49−122335号、同50−28834号
、および同50−132926号公報等に記載されてい
る。
、同第2,875,057号、同第2,908,573
号、同第3,227、155号、同第3,227,55
0号、同第3,253,924号、同第3,265,5
06号、同第3,277、 155号、同第3,341
、331号、同第3, 369, 895号、同第3,
384,657号、同第3, 408, 194F’j
、同第3,415,(i52号、同第3,447、 9
28号、同第3,551, 155号、同第3, 58
2, 322号、同第3,725,072号、3,89
4,875号等の各明細書、ドイツ特許公開筒1, 5
47, 868号、同第2,057,941号、同第2
, 162, 899号、同!T 2,163,812
号、同第2、213. 4G1号、同第2,219,9
17M、同第2,261,361号、同第2,263,
875号、特公昭49−13576号、特開昭48−2
9432号、同48−66834号、同49−1073
6号、同49−122335号、同50−28834号
、および同50−132926号公報等に記載されてい
る。
以下に一般式[Ylで表わされるイエロー色素形成カプ
ラーの代表的具体例を示すが、これらに限定されるもの
ではない。
ラーの代表的具体例を示すが、これらに限定されるもの
ではない。
以下余白
UI″1
以下余白
本発明のハロゲン化銀写頁感光材料の乳剤居間で(同−
感色性層間及び/又は異なった感色性層間)、現像主薬
の酸化体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、
鮮鋭性の劣化、粒状性が目立つのを防止するために色カ
ブリ防止剤が用いられる。
感色性層間及び/又は異なった感色性層間)、現像主薬
の酸化体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、
鮮鋭性の劣化、粒状性が目立つのを防止するために色カ
ブリ防止剤が用いられる。
該色カブリ防止剤は、乳剤層自身に用いても良いし、中
間層を隣接乳剤層間に設けて、該中間層に用いても良い
。
間層を隣接乳剤層間に設けて、該中間層に用いても良い
。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いたカラー感光材料には
、色素画像の劣化を防止する画象安定剤を用いることが
できる。
、色素画像の劣化を防止する画象安定剤を用いることが
できる。
本発明において好ましく用いられるii!!i象安定剤
としては、下記一般式[A]〜[H]及び[J]、[K
]を挙げることができる。
としては、下記一般式[A]〜[H]及び[J]、[K
]を挙げることができる。
以下余白
一般式[A]
式中、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、了
り−ル基、又は複素環基を表し、R2、R3、R6、R
6はそれぞれ水素原子、/Xロデン原子、ヒドロキシ基
、フルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ
基またはアシルアミ7基をあられし、R1はアルキル基
、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す。
り−ル基、又は複素環基を表し、R2、R3、R6、R
6はそれぞれ水素原子、/Xロデン原子、ヒドロキシ基
、フルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ
基またはアシルアミ7基をあられし、R1はアルキル基
、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す。
又R1とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
してもよく、その時のR3はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあちわす、又R1とR1が閉環し、5貝の炭化
水素環を形成してもよ(、そのときのR1はアルキル基
、アリール基、または複素環基をあられす、但し、R1
が水素原子で、かつ、R4がヒドロキシ基の場合を除く
。
してもよく、その時のR3はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあちわす、又R1とR1が閉環し、5貝の炭化
水素環を形成してもよ(、そのときのR1はアルキル基
、アリール基、または複素環基をあられす、但し、R1
が水素原子で、かつ、R4がヒドロキシ基の場合を除く
。
前記一般式[A]において、R1は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあられ
すが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tert−
オクチル基、ヘキサデシル基なとの直鎖または分岐のア
ルキル基を挙げることができる。またR1であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに、R1のアリー
ル基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。′!−らにR3で示される複素環基としては、テトラ
ヒドロピラニル基、ビリミノル基などが具体的に挙げら
れる。゛これら各基は置換基を有することができ、例え
ば置換基を有するフルキル基としてベンノル基、ニドキ
シメチル基、置換基をあられすが有するアリール基とし
てメトキシ7エ二ル基、クロルフェニル基、4−ヒドロ
キシ−3,5−ノブチルフェニル基などが早1デられる
。
基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあられ
すが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tert−
オクチル基、ヘキサデシル基なとの直鎖または分岐のア
ルキル基を挙げることができる。またR1であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに、R1のアリー
ル基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。′!−らにR3で示される複素環基としては、テトラ
ヒドロピラニル基、ビリミノル基などが具体的に挙げら
れる。゛これら各基は置換基を有することができ、例え
ば置換基を有するフルキル基としてベンノル基、ニドキ
シメチル基、置換基をあられすが有するアリール基とし
てメトキシ7エ二ル基、クロルフェニル基、4−ヒドロ
キシ−3,5−ノブチルフェニル基などが早1デられる
。
一般式tA]において、R2、R1、R1およびR2は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ7基をあられすが、このうち、フルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記R,について述べた
アルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが
挙げられる。また前記、ハロゲン原子としては、例えば
フッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらに
前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基な
どを具体的に挙げることができる。さらに前記アシルア
ミ7基はR’ C0NH−で示され、ここにおいて、R
′はアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル
、n−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、ペ
ンツルなどの各基)、アルケニル基(例えばアリル、オ
クテニル、オレイルなどの各基)、アリール基(例えば
フェニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)、
またはへテロ環基(例えばピリノル、ピリミジルの各基
)を挙げることがでトる。
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ7基をあられすが、このうち、フルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記R,について述べた
アルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが
挙げられる。また前記、ハロゲン原子としては、例えば
フッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらに
前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基な
どを具体的に挙げることができる。さらに前記アシルア
ミ7基はR’ C0NH−で示され、ここにおいて、R
′はアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル
、n−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、ペ
ンツルなどの各基)、アルケニル基(例えばアリル、オ
クテニル、オレイルなどの各基)、アリール基(例えば
フェニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)、
またはへテロ環基(例えばピリノル、ピリミジルの各基
)を挙げることがでトる。
また前記一般式[A]において、R1はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基については、前記R1
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR1のアルケニル基につ
いては前記R2、R,、R,およびR1について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基については、前記R1
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR1のアルケニル基につ
いては前記R2、R,、R,およびR1について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。
R1とR2は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。
また、R1とR4が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、アリール
)を有してもよい。
環としては、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、アリール
)を有してもよい。
又、R1とR2、またはR1とR4が閉環して形成する
環中の原子なスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし、R2、R4などを連結基として、ビス体を形
成してもよい。
環中の原子なスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし、R2、R4などを連結基として、ビス体を形
成してもよい。
前記一般式[A]で表されるフェノール系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、R
O−基(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
またはへテロ環基を表す。
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、R
O−基(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
またはへテロ環基を表す。
を4個有するビインダン化合物であり、特に好ましくは
下記一般式[A−1]で表すことができる。
下記一般式[A−1]で表すことができる。
一般式[A−1]
式中Rはアルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル
、n−オクチル、tert−オクチル、ベンジル、ヘキ
サデシル)、アルケニル基(例えば、アリル、オクテニ
ル、オレイル)、了り−ル基(例えば、フェニル、ナフ
チル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒドロピラニ
ル、ピリミジル)で表される基をあられす、R9および
R3゜は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フッ
素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチル
、n−ブチル、ベンジル)、アルコキシ基(例えばアリ
ル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基(
例えば7トキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)を表し、
R6は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル、
n−ブチル、ベンノル)、アルケニル基(例えば、2−
プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアリー
ル基(例えばフェニル、メトキシフェニル、クロル7ヱ
ニル、ナフチル)を表t。
、n−オクチル、tert−オクチル、ベンジル、ヘキ
サデシル)、アルケニル基(例えば、アリル、オクテニ
ル、オレイル)、了り−ル基(例えば、フェニル、ナフ
チル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒドロピラニ
ル、ピリミジル)で表される基をあられす、R9および
R3゜は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フッ
素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチル
、n−ブチル、ベンジル)、アルコキシ基(例えばアリ
ル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基(
例えば7トキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)を表し、
R6は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル、
n−ブチル、ベンノル)、アルケニル基(例えば、2−
プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアリー
ル基(例えばフェニル、メトキシフェニル、クロル7ヱ
ニル、ナフチル)を表t。
前記一般式[A]で表される化金物は、米国特許第3,
935,016号、同第3,982,944号、同第4
.254,216号、! Ill 昭55−21004
号、同54−145530号、英国特許公開2,077
.455号、同2,062号、888号、米国特許第3
,784,337、同第3.432300号、同第3,
574,627号、同第3,573,050号、特開昭
52−152225号、同53−20327号、同53
−17729号、同55−6321号、英国特許第1,
347,556号、同公開2.066.975号、特公
昭54−12337号、同48−31625号、米国特
許第3,700,455号などに記載の化合物をも含む
。
935,016号、同第3,982,944号、同第4
.254,216号、! Ill 昭55−21004
号、同54−145530号、英国特許公開2,077
.455号、同2,062号、888号、米国特許第3
,784,337、同第3.432300号、同第3,
574,627号、同第3,573,050号、特開昭
52−152225号、同53−20327号、同53
−17729号、同55−6321号、英国特許第1,
347,556号、同公開2.066.975号、特公
昭54−12337号、同48−31625号、米国特
許第3,700,455号などに記載の化合物をも含む
。
前記一般式[A]で表される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して5〜300モ、ル%が好ましく、よ
り好ましくは10〜200モル%である。
タカプラーに対して5〜300モ、ル%が好ましく、よ
り好ましくは10〜200モル%である。
以下に前記一般式[A]で表される化合物の代表的具体
例を示す。
例を示す。
タイプ(1)
RI
タイプ(2)
タイプ(3)
タイプ(4)
タイプ(5)
タイプ(6)
タイプ(7)
に7 K1
タ イ プ (2)
以下余白
タ イ プ (4)
タ イ プ (5)
タ イ プ (6)
以下余白
A−7
以下余白
一般式[B]
(式中R,お上りR4はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルフキジカ
ルボニル基をあられし、R2は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル
基またはへテロ環基をあられし、R1は水素原子、ハロ
ゲン原子、フルキル基、アルケニル基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基またはアルフキジカルボニ
ル基をあられす。
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルフキジカ
ルボニル基をあられし、R2は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル
基またはへテロ環基をあられし、R1は水素原子、ハロ
ゲン原子、フルキル基、アルケニル基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基またはアルフキジカルボニ
ル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
了り−ル基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミ7基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、入ル7アモイル基などが挙げられる。
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
了り−ル基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミ7基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、入ル7アモイル基などが挙げられる。
またR2とR1は互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよい、R2とR1が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙げられる。
成してもよい、R2とR1が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙げられる。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。
原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロ′アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく
、さらにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロ′アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく
、さらにスピロ環を形成してもよい。
一般式[B]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[B−1]、[B−2]、[B −
3]、[B −4]、[B −5]で示される化合物に
包含される。
用な化合物は一般式[B−1]、[B−2]、[B −
3]、[B −4]、[B −5]で示される化合物に
包含される。
一般式[B −4]
一般式[B−1]
一般式[B−2]
に1
一般式[B−3]
一般式[B −5]
一般式[B−1]、[B −2]、[B−3]、[B
−4]および[B−5]におけるR+% R2、Rコお
よびR1は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を持
ち、R2、RいR1、R,、R9およびR1゜は水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリール
基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあられす。
−4]および[B−5]におけるR+% R2、Rコお
よびR1は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を持
ち、R2、RいR1、R,、R9およびR1゜は水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリール
基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあられす。
一般式[C]
RI
一般式[D]
8重
一
式中R,およびR2は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルフキジカルボニル基をあられす。
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルフキジカルボニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、了り一ルオキシ基、ヒドロキシ基、アル
フキジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ル77モイル基などが挙げられる。
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、了り一ルオキシ基、ヒドロキシ基、アル
フキジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ル77モイル基などが挙げられる。
Yはベンゼン環と共にシクロマンもしくはジクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。
を形成するのに必要な原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。
一般式[C]および[D]で示される化合物のうち、本
発明に符に有用な化合物は一般式[C−1]、[C−2
]、[D−1]および[D −2]で示される化合物に
包含される。
発明に符に有用な化合物は一般式[C−1]、[C−2
]、[D−1]および[D −2]で示される化合物に
包含される。
一般式[C−1]
一般式[C−2]
一般式[D−11
一般式[D −21
一般式[C−1]、[C−2]、[D−1]および[D
−2]におけるR3およびR7は前記一般式[C]お
よび[D]におけるのと同じ意味を持ち、R3、R4、
R7、R,、R,およびR3は水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケニ
ル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基もしくはへテロ環基をあられす、さらにR3とR1
、R1とR9、R7とR6、R6とR7およびR7とR
8とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さらに
該炭素環はアルキル基で置換されてもよい。
−2]におけるR3およびR7は前記一般式[C]お
よび[D]におけるのと同じ意味を持ち、R3、R4、
R7、R,、R,およびR3は水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケニ
ル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基もしくはへテロ環基をあられす、さらにR3とR1
、R1とR9、R7とR6、R6とR7およびR7とR
8とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さらに
該炭素環はアルキル基で置換されてもよい。
前記一般式[C−1]、[C−2]、[D−1]および
[D −2]荷おいて、R,およびR2が水素原子、フ
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロア
ルキル基、R1、R4、R1、R6、R2およびR3が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が待に有用である。
[D −2]荷おいて、R,およびR2が水素原子、フ
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロア
ルキル基、R1、R4、R1、R6、R2およびR3が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が待に有用である。
一般式[C]、[D]で表される化合物は日本化学学会
誌(J、 Chew、Soe、 part C) 19
88.(14)、 1937〜18頁、有機合成化学協
会誌1970.28(1)、 60〜65頁、テトラヘ
ドロン(Tetrahedron Letters)1
973、 (29)、2707〜2710頁に記載され
ている化合物を含み、かつこれらに記載されている方法
に従うて合成することができる。
誌(J、 Chew、Soe、 part C) 19
88.(14)、 1937〜18頁、有機合成化学協
会誌1970.28(1)、 60〜65頁、テトラヘ
ドロン(Tetrahedron Letters)1
973、 (29)、2707〜2710頁に記載され
ている化合物を含み、かつこれらに記載されている方法
に従うて合成することができる。
前記一般式[C]、[D]で表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。
以下余白
以下余白
一般式(E)
式中R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキルしくはヘテロ環基な
表わし、R″は水素原子、ノ)ロデン原子、フルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカルボニル
基を表わす。
ール基、アシル基、シクロアルキルしくはヘテロ環基な
表わし、R″は水素原子、ノ)ロデン原子、フルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカルボニル
基を表わす。
R2およびR4は水素原子、ノ)ロデン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミ
7基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはア
ルコキシカルボニル基を表わす。
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミ
7基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはア
ルコキシカルボニル基を表わす。
以上にあげた基はそれぞれ他の置換基で置換されていて
もよい。例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボ4ル基、7リールオキシカルボニル基、
7シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基等が挙げられる。
もよい。例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボ4ル基、7リールオキシカルボニル基、
7シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基等が挙げられる。
またR1とR2は互いに閉環し、5貝または6員環を形
成してもよい。
成してもよい。
その時R3およびR4は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ/基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ/基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。
原子群を表わす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、了りール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、了りール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。
一般式(E)で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[:E−1]。
用な化合物は一般式[:E−1]。
(E−2)、(E−3)、(E−4)および[E−5]
で示される化合物に包含される。
で示される化合物に包含される。
一般式(E−1)
flR+
一般式(E−2)
1)R1
一般式(E−3)
一般式(E−4)
一般式(E−5)
一般式(E−1)〜(E−5)におけるR 11R2、
R3およびR4は前記一般式(E)におけるのと同じ意
味を持ち、R’、R’、R’、R8,R’お上りRIG
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表
わす、さらにR5とR6、R’とR’、R’とR”、R
”とR’#!びR’とR1’とが互いに環化して炭素環
を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換
されてもよい。
R3およびR4は前記一般式(E)におけるのと同じ意
味を持ち、R’、R’、R’、R8,R’お上りRIG
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表
わす、さらにR5とR6、R’とR’、R’とR”、R
”とR’#!びR’とR1’とが互いに環化して炭素環
を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換
されてもよい。
前記一般式(E−1)〜(E−5)において、R’、R
2,R’およびR4が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式(E−5)において% R
’およびR4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般
式(E−1)〜(E−5)において、R’、R’、R’
、R1,R’およびR16が水素原子、アルキル基、ま
たはシクロアルキル基である化合物が特に有用である。
2,R’およびR4が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式(E−5)において% R
’およびR4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般
式(E−1)〜(E−5)において、R’、R’、R’
、R1,R’およびR16が水素原子、アルキル基、ま
たはシクロアルキル基である化合物が特に有用である。
一般式[E]により表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 1985
.(8)+457−460頁日本化学学会誌(J、 C
hew、 Soc、part C) 1966゜(22
)、 2013〜2016i、(Zh、 Org、 K
him) 1970.(6)。
Tetrahedron Letters) 1985
.(8)+457−460頁日本化学学会誌(J、 C
hew、 Soc、part C) 1966゜(22
)、 2013〜2016i、(Zh、 Org、 K
him) 1970.(6)。
1230〜1237頁に記載されている化合物を含み、
かつこれらに記載されている方法に従って合成すること
ができる。
かつこれらに記載されている方法に従って合成すること
ができる。
前記一般式[E−,11で表される化合物の使用量は、
前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300
モル%が好ましく、より好ましくは1o〜200モル%
である。
前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300
モル%が好ましく、より好ましくは1o〜200モル%
である。
以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。
以下余白
一般式CF)
R2R3
式中R3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。
R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミ7基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルフキジカル
ボニル基をあられす。
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミ7基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルフキジカル
ボニル基をあられす。
Rイは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、7リール基、7リールオキシ基、アシル基、アシル
アミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もしく
はアルコキシカルボニル基をあられす。
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、7リール基、7リールオキシ基、アシル基、アシル
アミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もしく
はアルコキシカルボニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の買換基で置換されてもい
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ、基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ、基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。
又R7とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
してもよい、その時R1およびR4は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ
基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボニル
基をあられす。
してもよい、その時R1およびR4は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ
基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボニル
基をあられす。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。
原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。
一般式[F]で示される化合物のうち、本発明に待に有
用な化合物は一般式[F−1]、[F−2]、[F −
3]、[F−4]および[F−5]で示される化合物に
包含される。
用な化合物は一般式[F−1]、[F−2]、[F −
3]、[F−4]および[F−5]で示される化合物に
包含される。
以下余白
一般式(F−1)
一般式(F−2)
一般式(F−3)
OR’
一般式CF−4)
一般式(F−5)
一般式[F−1]および[F −5]におけるR1、R
2、R1およ[/’R+は前記一般式[F]におけるの
と同じ意味を持ち、R9、R6、R7、R3、R5およ
びR2゜は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、フルケニル基、アルケニルオ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ
環基をあられす。
2、R1およ[/’R+は前記一般式[F]におけるの
と同じ意味を持ち、R9、R6、R7、R3、R5およ
びR2゜は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、フルケニル基、アルケニルオ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ
環基をあられす。
さらにR6とR6、R5とR7、R1とR6、R8とR
9およびR1とR1゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。
9およびR1とR1゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。
また[F−3]、[F −4]および[F−53におい
て2つのR1〜RIGはそれぞれ同一でも異なっていて
もよい。
て2つのR1〜RIGはそれぞれ同一でも異なっていて
もよい。
前記一般式[F−11、[F−2]、[F−3]、[F
−4]および[F−5]においてR1、R2、およびR
3が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、R4が
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基ま
たはジクロフルキル基、さらにR6、RいR7、R6、
R9およびR1゜が水素原子、アルキル基、またはシク
ロアルキル基である化合物が時に有用である。
−4]および[F−5]においてR1、R2、およびR
3が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、R4が
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基ま
たはジクロフルキル基、さらにR6、RいR7、R6、
R9およびR1゜が水素原子、アルキル基、またはシク
ロアルキル基である化合物が時に有用である。
一般式[F]によす表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 1970
t Vat 26,4743″″4751頁、日本化宇
宇会誌1972. ?ぜo;10+ 1987〜199
0頁、シンセサイズ(Synthesis) 1975
. Vol 6t392−393頁、(Ilul 5o
cy Chim+ Be1g ) 1975* Vo1
84(7)、 747〜759頁に記載されている化合
物を含み、かつこれらに記載されている方法に従って合
成することができる。
Tetrahedron Letters) 1970
t Vat 26,4743″″4751頁、日本化宇
宇会誌1972. ?ぜo;10+ 1987〜199
0頁、シンセサイズ(Synthesis) 1975
. Vol 6t392−393頁、(Ilul 5o
cy Chim+ Be1g ) 1975* Vo1
84(7)、 747〜759頁に記載されている化合
物を含み、かつこれらに記載されている方法に従って合
成することができる。
前記一般式[F]で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。
以下に一般式[F]で表される化合物の具体的代表例を
示す。
示す。
以下余白
一般式CG)
R
Rコ
式中R1及びR3は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、了り−ル基、アリールオキシ基、7シル基、アシ
ルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シク
ロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、了り−ル基、アリールオキシ基、7シル基、アシ
ルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シク
ロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシルア
ミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルフキジカルボニル基を表す、 − 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリーノ1基、アリールオキシ基、ヒド
ロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、7シルアミ7基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルフアモイル基等が挙げられる。
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシルア
ミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルフキジカルボニル基を表す、 − 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリーノ1基、アリールオキシ基、ヒド
ロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、7シルアミ7基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルフアモイル基等が挙げられる。
またR2とR3は互いに閉環し、5貝または6貝の炭化
水素環を形成してもよい、この5貝または6貝の炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、7リール
基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換されて
もよい。
水素環を形成してもよい、この5貝または6貝の炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、7リール
基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換されて
もよい。
Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表す、イ
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
一般式CG)で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式(G−1)〜(G−3)で示される化
合物に包含される。
な化合物は一般式(G−1)〜(G−3)で示される化
合物に包含される。
以下余白
一般式[G−1)
1(’
一般式(G−2)
一般式(G−3)
一般式(G−1)〜(G−33におけるR’、R2及び
R3は一般式(G)におけるものと同義であり、R’、
R5,R’、R’、R@及びR1は、それぞれ水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アフレコキシ基、アルケ
ニル基、ヒドロキシ基、アリ−7し基、アリールオキシ
基またはへテロ環基な表す。R4とR’1 R’とR@
、R6とRフ、R7とR8及びR”とR9は互いに閉環
して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環は
アルキル基で置換されてもよい。
R3は一般式(G)におけるものと同義であり、R’、
R5,R’、R’、R@及びR1は、それぞれ水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アフレコキシ基、アルケ
ニル基、ヒドロキシ基、アリ−7し基、アリールオキシ
基またはへテロ環基な表す。R4とR’1 R’とR@
、R6とRフ、R7とR8及びR”とR9は互いに閉環
して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環は
アルキル基で置換されてもよい。
前記一般式(G−1)〜(G−3)において、R1及び
R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、R2が水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、
Rs、 R’、 Rt、 R”及びR1が水素原子、ア
ルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有
用である。
R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、R2が水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、
Rs、 R’、 Rt、 R”及びR1が水素原子、ア
ルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有
用である。
前記一般式[、G]で表される化合物のうち使用量は、
マゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好ましく
、より好ましくは10〜200モル%である。
マゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好ましく
、より好ましくは10〜200モル%である。
以下に一般式[G]で表される化合物の代表的具体例を
示す。
示す。
以下余白
一般式(H)
Rコ
式中R’及びR2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、7シル基、
アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホン7ミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、7シル基、
アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホン7ミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。
R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、ジクロフルキル基またはアル
フキジカルボニル基を表す。
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、ジクロフルキル基またはアル
フキジカルボニル基を表す。
上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルフ
キジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基等が挙げられる。
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルフ
キジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基等が挙げられる。
またR1とR2及びR2とRコは互いに閉環し、5貝ま
たは6Rの炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素環
はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、
7リールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよい。
たは6Rの炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素環
はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、
7リールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよい。
Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インゲン環は上記炭化水素環をa換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
インゲン環は上記炭化水素環をa換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
一般式(H)で示される化合物の中、本発明に。
特に有用な化合物は一般式(H−1)〜(:H−2)で
示される化合物に包含される。
示される化合物に包含される。
一般式(H−1)
一般式(H−2)
一般式(H−3)
一般式(H−1)〜(H−3)におけるR’、R2及び
R3は一般式(H,)におけるものと同義であり、R’
、R5,R@、Rア−R’及びR1、そh−rれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基
またはへテロ環基を表す。またR4とR5% R5とR
6、R6とR7、R7とR1及びR6とR″は互いに閉
環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環
はアルキル基で置換されてもよい。
R3は一般式(H,)におけるものと同義であり、R’
、R5,R@、Rア−R’及びR1、そh−rれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基
またはへテロ環基を表す。またR4とR5% R5とR
6、R6とR7、R7とR1及びR6とR″は互いに閉
環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環
はアルキル基で置換されてもよい。
前記一般式(H−1)〜(H−33において、R’及び
R2がそれぞれ水素原子、アルキル基またはシクロアル
キル基%R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、R’、R
’、R’、R”及(/R’が、ツレぞれ水素原子、アル
キル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有用
である。
R2がそれぞれ水素原子、アルキル基またはシクロアル
キル基%R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、R’、R
’、R’、R”及(/R’が、ツレぞれ水素原子、アル
キル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有用
である。
前記一般式[HJで表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許3.057929号、Chew。
あって、米国特許3.057929号、Chew。
Ber、 1972.95(5)、 1673167
4頁、Chemist−ry L etters、
1980v739−742頁に従って製造できる。
4頁、Chemist−ry L etters、
1980v739−742頁に従って製造できる。
前記一般式[HJで表される化合物マゼンタカプラーに
対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは1
0〜200モル%である。
対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは1
0〜200モル%である。
以下に一般式[HJで表される具体的代表例を示す。
以下余白
一般式(J) −+、
R″−NY
〔式中、R゛は脂1族基、シクロアルキル基またはアリ
ール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複素環
を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、該複
素環を形成する窒素原子を含む非金属原子中、2以上の
へタロ原子がある場合、少なくとも2つのへテロ原子は
互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 R″C″表される脂肪族基としては、置換基を有しても
よい飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和
アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロベニ。
ール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複素環
を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、該複
素環を形成する窒素原子を含む非金属原子中、2以上の
へタロ原子がある場合、少なくとも2つのへテロ原子は
互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 R″C″表される脂肪族基としては、置換基を有しても
よい飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和
アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロベニ。
ル基等が挙げられる。
R1で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
R1で表されるアリール基としては、それぞれ置換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。
R’T衰される脂肪族基、ジクロフルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ7
基、スルファモイル基、スルホン7ミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ7
基、スルファモイル基、スルホン7ミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
前記一般式(J)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貢環の複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少なくとも2つはへテロ原子でなければならず、また、
この少なく゛とも2つのへテロ原子は互いに隣接しては
ならない、一般式[J)で表される化合物の複y1.環
において、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、
マゼンタ色素画像安定化剤としての機能を発揮すること
が出来ないので好ましくない。
貢環の複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少なくとも2つはへテロ原子でなければならず、また、
この少なく゛とも2つのへテロ原子は互いに隣接しては
ならない、一般式[J)で表される化合物の複y1.環
において、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、
マゼンタ色素画像安定化剤としての機能を発揮すること
が出来ないので好ましくない。
前記一般式(J)で表される化合物の前記5〜7貝環の
複素環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
キル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基、スルファモイル基
等であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7
貝環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複素環が
好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよく、スピロ環を形成してもよい。
複素環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
キル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基、スルファモイル基
等であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7
貝環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複素環が
好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよく、スピロ環を形成してもよい。
本発明の前記一般式(J)で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、より好ましく
は10〜200モル%である。
、本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、より好ましく
は10〜200モル%である。
以下に一般式〔J〕で表される代表的具体例を示す。
以下余白
J−63
J−64
■
12H25
前記一般式(J)で2!される化合物の中で、ピベラノ
ン系化合物及びホモピベラクン系化合物は特に好ましく
、さらに好ましくは、下記一般式( J−1 )または
( J−2 3で衰される化合物である。
ン系化合物及びホモピベラクン系化合物は特に好ましく
、さらに好ましくは、下記一般式( J−1 )または
( J−2 3で衰される化合物である。
一般式( J−1 )
一般式( J−2 )
式中、R2及びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す.但し、R2とR1が同時に水
素となることはない.R4〜R”は、それぞれ水素原子
、アルキル基またはアリール基を表す。
またはアリール基を表す.但し、R2とR1が同時に水
素となることはない.R4〜R”は、それぞれ水素原子
、アルキル基またはアリール基を表す。
前記一般式( J−1 )及び( J−2 )において
R2及びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基または
アリール基を表すが、R2またはR3で表されるアルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基
、オクチル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基等が挙げられる.R2またはR
’で表されるアリール基としては、フェニル基等が挙げ
られる.R2またはR1で表されるアルキル基、アリー
ル基は置換基を有してもよく、置換基としては、ノ10
デン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、複素環基等が挙げられる。
R2及びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基または
アリール基を表すが、R2またはR3で表されるアルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基
、オクチル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基等が挙げられる.R2またはR
’で表されるアリール基としては、フェニル基等が挙げ
られる.R2またはR1で表されるアルキル基、アリー
ル基は置換基を有してもよく、置換基としては、ノ10
デン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、複素環基等が挙げられる。
R2とR2(置換基を含む)の炭素原子数の合計は6〜
40が好ましい。
40が好ましい。
前記一般式( J−1 )または( J−2 )におい
て、R4〜R”は、それぞれ水素原子、アルキル基また
はアリール基を表すが、R4−R13で表されるアルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げら
れる.R4〜R”で表されるアリール基としてはフェニ
ル基等が挙げられる。
て、R4〜R”は、それぞれ水素原子、アルキル基また
はアリール基を表すが、R4−R13で表されるアルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げら
れる.R4〜R”で表されるアリール基としてはフェニ
ル基等が挙げられる。
前記一般式(J−1)または(J−2)で褒されろ化合
物の具体例は、前記した例示とベラクン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−62)の中に記載した通りである。
物の具体例は、前記した例示とベラクン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−62)の中に記載した通りである。
次に、前記一般式(J)で衰される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。
合成例−1(化合物J−2の合成)
ピペラジン9.0g及びミリスチルブロマイド55゜を
溶解した100+nQのアセトン中に、無水炭酸カリツ
ム15gを加え、10時間煮沸還流して反応させた。
溶解した100+nQのアセトン中に、無水炭酸カリツ
ム15gを加え、10時間煮沸還流して反応させた。
反応後、反応液をs o O、Qの水にあけた後、酢酸
エチル500 、Qで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシフムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結
晶の目的物が得られた。7セトン300d で再結晶し
て、白色鱗片状の結晶34g(収¥−70%)を得た。
エチル500 、Qで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシフムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結
晶の目的物が得られた。7セトン300d で再結晶し
て、白色鱗片状の結晶34g(収¥−70%)を得た。
融豆55−58℃
合成例−2(化合物J−34の合成)
4−モルホリノ7ニリン18.を酢酸エチル1001d
に溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら、
無水酢酸12rnRを少しずつ加えた。無水酢酸添加後
、水冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチルで再
結晶し、白色粉末状結晶16.5g(収率75%)を得
た。
に溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら、
無水酢酸12rnRを少しずつ加えた。無水酢酸添加後
、水冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチルで再
結晶し、白色粉末状結晶16.5g(収率75%)を得
た。
融点207〜210℃
一般式(K)
式中、R’は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水素
基を表す、RztR’tR’+RS、 R’、 R’は
、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基また
はアリール基を表す、但し、R2とR4及びR3とR’
は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Y
と共に不飽和の5〜7貝環の複索環を形成してもよい、
また、Yが単なる結合手のときは、R5とR7が互いに
結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共に不
飽和の5貝環の複索環を形成してもよい、また、Yが単
なる結合手でないときは% R’とY、R’とYまたは
Y自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Yと共に不飽
和の6貝または7貝の複素環を形成してもよい。
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水素
基を表す、RztR’tR’+RS、 R’、 R’は
、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基また
はアリール基を表す、但し、R2とR4及びR3とR’
は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Y
と共に不飽和の5〜7貝環の複索環を形成してもよい、
また、Yが単なる結合手のときは、R5とR7が互いに
結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共に不
飽和の5貝環の複索環を形成してもよい、また、Yが単
なる結合手でないときは% R’とY、R’とYまたは
Y自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Yと共に不飽
和の6貝または7貝の複素環を形成してもよい。
R’″C′表される脂肪族基としては、置換基を有して
もよい飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽
和アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、
例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げ
られ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基
、プロペニル基等が挙げられる。
もよい飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽
和アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、
例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げ
られ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基
、プロペニル基等が挙げられる。
R1で衰されるシクロアルキル基としでは、置換基を有
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ベンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ベンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
R’″r表される7リール基としては、置換基を有して
もよいフェニル基、ナフチル基を表す。
もよいフェニル基、ナフチル基を表す。
R1で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール!、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ/
基、スル77モイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
基の置換基としては、アルキル基、アリール!、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ/
基、スル77モイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
前記一般式(K)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貝環の複素環を形成するのに必要な単なる結合手または
2価の炭化水素基を表すが、Yが単なる結合手のときは
、さらにR5とR7が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の5貝環の複素環を形成してもよく、また
Yが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場合
には、R5とYまたはR7とYとで不飽和結合を形成し
、不飽和の6貝環の複素環を形成してもよく、またエチ
レン基の場合には、R5とY、R’とYまたはY自身で
不飽和結合を形成し、不飽和の7貝環の複素環を形成し
てもよい、さらにYで表される2価の炭化水素基は置換
基を有してもよく、この置換基には、アルキル基、カル
バモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アシル7ミ
7基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アリール
基、ヘテロ環基等が挙げられる。
貝環の複素環を形成するのに必要な単なる結合手または
2価の炭化水素基を表すが、Yが単なる結合手のときは
、さらにR5とR7が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の5貝環の複素環を形成してもよく、また
Yが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場合
には、R5とYまたはR7とYとで不飽和結合を形成し
、不飽和の6貝環の複素環を形成してもよく、またエチ
レン基の場合には、R5とY、R’とYまたはY自身で
不飽和結合を形成し、不飽和の7貝環の複素環を形成し
てもよい、さらにYで表される2価の炭化水素基は置換
基を有してもよく、この置換基には、アルキル基、カル
バモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アシル7ミ
7基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アリール
基、ヘテロ環基等が挙げられる。
前記一般式〔K〕において、R”、Rコ、R鴫、R5゜
R6及びR7は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが%R2〜R7で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和アルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキ゛ル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル
基等が挙げられる。
R6及びR7は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが%R2〜R7で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和アルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキ゛ル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル
基等が挙げられる。
R2〜R′で表されるシクロアルキル基としては、置換
基を有してもよい5〜7貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
基を有してもよい5〜7貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
R2−R7で表されるアリール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
上記R2〜R7で表される脂肪族基、シクロアルキル基
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、フルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、7
シルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、フルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、7
シルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。
前記一般式(K)で表される化合物は、5〜7貝環の飽
和の複索環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。
和の複索環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。
以下に前記一般式(K)で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式[1)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは
10〜200モル%である。
本発明の前記一般式[1)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは
10〜200モル%である。
前記一般式(K)で表される化合物の代表的具体例を示
す。
す。
以下余白
に−41
次に、前記一般式(K)で表される化合物の代云的合成
例を示す。
例を示す。
合成M−1(化金物に−14の合成)
ピペラジン9,0.及びミリスチルブロマイド28゜を
溶解した60−の7七トン中に、無水炭酸カリウム6.
0gを加え、20時間煮梯還流して反応させた。
溶解した60−の7七トン中に、無水炭酸カリウム6.
0gを加え、20時間煮梯還流して反応させた。
反応後、反応液を300−の水に注ぎ込んだ後、酢酸エ
チル300−で#i畠した。酢酸エチル層を硫、酸マグ
冬シtムで乾燥後、ii″酸エチルを留去すると、白色
結晶のU約物が得られた。ア七トン100T11!1
で再結晶して、白色鱗片状の結晶12g(収率43%)
を得た。
チル300−で#i畠した。酢酸エチル層を硫、酸マグ
冬シtムで乾燥後、ii″酸エチルを留去すると、白色
結晶のU約物が得られた。ア七トン100T11!1
で再結晶して、白色鱗片状の結晶12g(収率43%)
を得た。
pi点175−180℃
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の保護層、中間層等
の親水性コロイド層に感光材料が摩擦等で帯電する事に
起因する放電によるカブリ防止、画像のUV光による劣
化を防止するために紫外線吸収剤を含んでいても良い。
の親水性コロイド層に感光材料が摩擦等で帯電する事に
起因する放電によるカブリ防止、画像のUV光による劣
化を防止するために紫外線吸収剤を含んでいても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び/又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
/又は乳剤居中には、現像処理中にカラー感光材料より
流出するか、もしくは漂白される染料が含有させられて
も良い。
、ハレーション防止層、及び/又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
/又は乳剤居中には、現像処理中にカラー感光材料より
流出するか、もしくは漂白される染料が含有させられて
も良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層、及び/又はその他の親水性コロイド層に感光材料の
光沢を低減する加筆性を高める、感材相互のくつつき防
止等を目標としてマツ1〜剤を添加出来る。
層、及び/又はその他の親水性コロイド層に感光材料の
光沢を低減する加筆性を高める、感材相互のくつつき防
止等を目標としてマツ1〜剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。
せるために滑剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び/
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止、及び(現像促進
、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止、及び(現像促進
、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、写真乳剤層、そ
の他の層はバライタ紙又はα−オレフレインボリマー等
をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢
酸セルロース、5F1酸セルロース、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子からな
るフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗布
出来る。
の他の層はバライタ紙又はα−オレフレインボリマー等
をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢
酸セルロース、5F1酸セルロース、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子からな
るフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗布
出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性、及び/又はその他の特性を向上するための、1ま
たは2以上の下塗層)を介して塗布されても良い。
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性、及び/又はその他の特性を向上するための、1ま
たは2以上の下塗層)を介して塗布されても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光材料を構
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フ
ライングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光
、電子線、X線、γ線、α線などによって励起された蛍
光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いる
ことが出来る。
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フ
ライングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光
、電子線、X線、γ線、α線などによって励起された蛍
光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いる
ことが出来る。
露光時間は通常カメラで用いられる1ミリ秒から1秒の
露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて100マイクロ秒〜1
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、1秒以上よ
り長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれて
も、間欠的に行なわれても良い。
露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて100マイクロ秒〜1
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、1秒以上よ
り長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれて
も、間欠的に行なわれても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。
本発明において発色現像液に使用される芳香族第1級ア
ミン系発色現会主薬は、種々のカラー写貞プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。
ミン系発色現会主薬は、種々のカラー写貞プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。
これらの現像剤はアミンフェノール系及びp−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離
状態より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液11について約0.1g〜約30gの濃度
、好ましくは発色現像液11について約1g〜約15C
Iの濃度で使用する。
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離
状態より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液11について約0.1g〜約30gの濃度
、好ましくは発色現像液11について約1g〜約15C
Iの濃度で使用する。
アミンフェノール系現像剤としては、例えば0−7ミノ
フエノール、p−アミノフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。
フエノール、p−アミノフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。
特に有用な第1綴芳香族アミン系発色現像剤はN、N’
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミンi!ill
、2−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ
)−トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンア
ミドエチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、
N−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン
、4−アミノ−3−メチル−N。
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミンi!ill
、2−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ
)−トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンア
ミドエチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、
N−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン
、4−アミノ−3−メチル−N。
N′−ジエヂルアニリン、4−アミノ−N−(2−メト
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−p−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−p−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて更に発色現像
液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリ・クム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び8n厚化剤な
どを任意に含有せしめることもできる。この発色現像液
のpH値は、通常7以上であり、最も一般的には約10
〜約13である。
第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて更に発色現像
液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリ・クム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び8n厚化剤な
どを任意に含有せしめることもできる。この発色現像液
のpH値は、通常7以上であり、最も一般的には約10
〜約13である。
本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえずど同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸またはU酸、クエン酸等の有機酸で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有1a酸の金瓜鉗塩を形成するために用いられる最
も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸またはアミ
ノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボン
酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アン
モニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえずど同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸またはU酸、クエン酸等の有機酸で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有1a酸の金瓜鉗塩を形成するために用いられる最
も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸またはアミ
ノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボン
酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アン
モニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。
これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。
ができる。
[1]エチレンジアミンテトラ酢駁
[2〕ニトリロトリ酢酸
[3]イミノジ酢酸
[4]エチレンジアミンテトラ酢酸シナ1ヘリウム塩
[5]エチレンジアミンテトラIfテトラ(トリメチル
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如きfi機酸の金属錯塩を
漂白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むこと
ができる。添加剤としては、特にアルカリハライドまた
はアンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナ
トリウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハ
ロゲン化剤、全屈塩、キレート剤を含有させることが望
ましい。
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如きfi機酸の金属錯塩を
漂白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むこと
ができる。添加剤としては、特にアルカリハライドまた
はアンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナ
トリウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハ
ロゲン化剤、全屈塩、キレート剤を含有させることが望
ましい。
また171酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等の
I)H緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサ
イド類等の通常漂白液に添加することが知られているも
のを適宜添加することができる。
I)H緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサ
イド類等の通常漂白液に添加することが知られているも
のを適宜添加することができる。
更に、定着液及び漂白定着液は、亜Ta酸アンモニウム
、亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、m亜硫酸カ
リウム、ffi!I!硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ア
ンモニウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナト
リウム等の亜硫I!1!2塩やIll酸、硼砂、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸尤トリウム、炭酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、重炭
酸カリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウ
ム等の各種の塩から成るpH暖衝剤を単独或いは2種以
上含むことができる。
、亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、m亜硫酸カ
リウム、ffi!I!硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ア
ンモニウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナト
リウム等の亜硫I!1!2塩やIll酸、硼砂、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸尤トリウム、炭酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、重炭
酸カリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウ
ム等の各種の塩から成るpH暖衝剤を単独或いは2種以
上含むことができる。
漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアンM塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアンM塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。
本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹ぎ込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
a塩、過硫酸塩等を適宜添加してもよい。
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹ぎ込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
a塩、過硫酸塩等を適宜添加してもよい。
以下余白
[発明の効果コ
前記一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラーまた
は[I]で表わされるマぜンタカブラーのいずれか一方
および前記一般式[b ]で表わされる化合物の2者が
油滴としてハロゲン化銀乳剤層に含有されている場合に
は、マゼンタ色素画像の光堅牢性は改良されない。また
、一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラーおよび
[I]で表わされるマゼンタカプラーの2者が含有され
ていても、一般式[b ]で表わされる化合物が含有さ
れていなければ、マゼンタ色素画像の光堅牢性、光イエ
ロースティン、暗所保存でのイエロースティンのいずれ
についても充分ではない。
は[I]で表わされるマぜンタカブラーのいずれか一方
および前記一般式[b ]で表わされる化合物の2者が
油滴としてハロゲン化銀乳剤層に含有されている場合に
は、マゼンタ色素画像の光堅牢性は改良されない。また
、一般式[a ]で表わされるマゼンタカプラーおよび
[I]で表わされるマゼンタカプラーの2者が含有され
ていても、一般式[b ]で表わされる化合物が含有さ
れていなければ、マゼンタ色素画像の光堅牢性、光イエ
ロースティン、暗所保存でのイエロースティンのいずれ
についても充分ではない。
これらに対し、一般式[a ]で表わされるマゼンタカ
プラーおよび一般式[I]で表わされるマゼンタカプラ
ー並びに一般式[b ]で表わされる化合物の3者が油
滴として含有されていると、マゼンタ色素画像の光イエ
ロースティンおよび暗所保存でのイエロースティンが著
しく改良される池、光堅牢性も著しく改良されるという
特異な効果を示した。この特異な効果を見い出したこと
は、従来知られた技術からは全く予測できないものであ
った。
プラーおよび一般式[I]で表わされるマゼンタカプラ
ー並びに一般式[b ]で表わされる化合物の3者が油
滴として含有されていると、マゼンタ色素画像の光イエ
ロースティンおよび暗所保存でのイエロースティンが著
しく改良される池、光堅牢性も著しく改良されるという
特異な効果を示した。この特異な効果を見い出したこと
は、従来知られた技術からは全く予測できないものであ
った。
[実施例]
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが本発明
の態様はこれらに限定されない。
の態様はこれらに限定されない。
実施例1
下表に示した層構成の単色写真材料を作成した。
以下余白
なお、第1層に用いるマゼンタカプラー分散液は以下の
(a )〜(C)の要領で作成した。
(a )〜(C)の要領で作成した。
(a)表1に示す比率のマゼンタカプラーを総組で0.
05モル及び表1に示した画像安定剤0、015モルと
をマゼンタカプラーの総重量ど等ωの一般式[b ]で
表わされる化合物および/またはマゼンタカプラーの総
重量と等色の表1に示す高沸点有機溶媒と酢酸エチル1
00m[どの混合溶液に混合し、60℃に加熱して溶解
する。
05モル及び表1に示した画像安定剤0、015モルと
をマゼンタカプラーの総重量ど等ωの一般式[b ]で
表わされる化合物および/またはマゼンタカプラーの総
重量と等色の表1に示す高沸点有機溶媒と酢酸エチル1
00m[どの混合溶液に混合し、60℃に加熱して溶解
する。
(b)写真用ゼラチン40g、純水500dを窄温にて
混合し20分間膨潤させる。次に60℃に加熱し溶解さ
せた後にアルカノールB(デュポン社製)の5%水溶液
を50iN添加し、均一に撹拌する。
混合し20分間膨潤させる。次に60℃に加熱し溶解さ
せた後にアルカノールB(デュポン社製)の5%水溶液
を50iN添加し、均一に撹拌する。
(C)(a )及び(b)にて得られた各溶液を混合し
、超音波分散線にて30分間分散してマゼンタカプラー
分散液を得た。
、超音波分散線にて30分間分散してマゼンタカプラー
分散液を得た。
これらの試料に感光計(小西六写真工業(内装、KS−
7型)を用いて緑色光により光′e!!露光を行なった
後以下の処理を施した。
7型)を用いて緑色光により光′e!!露光を行なった
後以下の処理を施した。
基準処理工程(処理濃度と処理時間)
[11発色現保 38°C3分30秒[2〕漂白定@
33℃ 1分30秒[3]水洗処理 25〜3
0℃ 3分[4]乾 燥 75〜80℃ 約2
分く発色現像液)A ベンジルアルコール 151gニブ−
レンゲリコール 1511j2亜硫酸
カリウム 2,0g臭化ナトリウ
ム 0.7i7塩化ナトリウム
0.2g炭酸カリウム
30.0 (1ヒドロキシルアミン硫Fli
塩3.0(]ポリリン酸(TPPS>
2.5g3−メチル−4−アミノ−N− (β−メタンスルホンアミドエチル) −アニリン硫酸塩 5.5g蛍光増白
剤(4,4’ −ジアミノ スプルペンジスルホン酸誘導体) 1.0g水酸
化カリウム 2.0g水を加えて
全mを111とし、pl−110,20に調整する。
33℃ 1分30秒[3]水洗処理 25〜3
0℃ 3分[4]乾 燥 75〜80℃ 約2
分く発色現像液)A ベンジルアルコール 151gニブ−
レンゲリコール 1511j2亜硫酸
カリウム 2,0g臭化ナトリウ
ム 0.7i7塩化ナトリウム
0.2g炭酸カリウム
30.0 (1ヒドロキシルアミン硫Fli
塩3.0(]ポリリン酸(TPPS>
2.5g3−メチル−4−アミノ−N− (β−メタンスルホンアミドエチル) −アニリン硫酸塩 5.5g蛍光増白
剤(4,4’ −ジアミノ スプルペンジスルホン酸誘導体) 1.0g水酸
化カリウム 2.0g水を加えて
全mを111とし、pl−110,20に調整する。
(漂白定着液)
エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄
アンモニウム2水塩 60gエチレン
ジアミンテトラ酢M 3aチオlii!i
酸アンモニウム(70%溶液) 1oov12亜@
酸アンモニウム(40%溶液) 27.5d炭酸カ
リウムまたは氷酢酸でI)H7,1に調整し水を加えて
全mを12とする。
ジアミンテトラ酢M 3aチオlii!i
酸アンモニウム(70%溶液) 1oov12亜@
酸アンモニウム(40%溶液) 27.5d炭酸カ
リウムまたは氷酢酸でI)H7,1に調整し水を加えて
全mを12とする。
処理後、得られたマゼンタ色素画像の光堅牢性および光
スティンを下記の方法にて試験した。
スティンを下記の方法にて試験した。
く光堅牢性試験〉
(1)明退色性
キセノンフェードメーターを用いて、200時間照射し
た時の初濃度[)o = 1.0の残存率で示した。
た時の初濃度[)o = 1.0の残存率で示した。
残存率= (D/Do ) x 100(D−退色後の
濃度) (2)光スティン試験 上記の照射を施す前後の未発色部の青色温度をそれぞれ
DB SDB とすると、 光スティン=DB’−DBで表示した。
濃度) (2)光スティン試験 上記の照射を施す前後の未発色部の青色温度をそれぞれ
DB SDB とすると、 光スティン=DB’−DBで表示した。
〈暗所保存性〉
(1)明退色性試験
暗所にて77℃、GO%RHの条件下、2週間保存した
時の初濃度Do = 1.0の残存率で示した。
時の初濃度Do = 1.0の残存率で示した。
(2)イエロースティン
又、この時のイエロースティンについても前記の光ステ
ィン試験と同一の方法にて測定を行なった。
ィン試験と同一の方法にて測定を行なった。
これらの試験にて得られた結果を表1に示した。
以下余白
表−1の結果において、試料1乃至試料6において、高
沸点有FA溶媒として用いた一般式[b ]で表わされ
る化合物(15)とS−2を使用した試料の比較を行な
うと、一般式[alで表わされるマゼンタカプラーを単
独で用いた試料2においては、イエロースティン、特に
暗所保存におけるイエロースティンが改良されているも
のの明退色性において若干の劣化を生じている。また、
一般式〔工]で表わされるマゼンタカプラーを単独で用
いた試料4においても明退色性は改良されない。
沸点有FA溶媒として用いた一般式[b ]で表わされ
る化合物(15)とS−2を使用した試料の比較を行な
うと、一般式[alで表わされるマゼンタカプラーを単
独で用いた試料2においては、イエロースティン、特に
暗所保存におけるイエロースティンが改良されているも
のの明退色性において若干の劣化を生じている。また、
一般式〔工]で表わされるマゼンタカプラーを単独で用
いた試料4においても明退色性は改良されない。
しかし、一般式[a ]と[I]のカプラーを掛川した
場合、暗所および明所でのイエロースティンが共に大幅
に改良されるばかりか明退色性においても改良効果を示
すという特異的な効果を示した。
場合、暗所および明所でのイエロースティンが共に大幅
に改良されるばかりか明退色性においても改良効果を示
すという特異的な効果を示した。
この効果は画像安定剤を用いた場合である試料7乃至1
2において更に顕著に表われた。
2において更に顕著に表われた。
又は試料13の如く、公知の高沸点fi機溶媒を用いて
も何ら差しつかえないことも明らかである。
も何ら差しつかえないことも明らかである。
実施例2
表2.3に示すような構成になるトlに各層の塗布液も
FJ製し、支持体側より順次塗設して多口ハロゲン化銀
カラー感光材料を作成し、実施例1と同じli!lkl
!I!及び試験を行なった。鮭芙i & −31−7−
3゜以下余白 表−2 ()内は塗布母または添加mを表わす。
FJ製し、支持体側より順次塗設して多口ハロゲン化銀
カラー感光材料を作成し、実施例1と同じli!lkl
!I!及び試験を行なった。鮭芙i & −31−7−
3゜以下余白 表−2 ()内は塗布母または添加mを表わす。
表 −2(つづき)
以下余白
紫外線吸収剤
紫外線吸収剤
スティン防止剤
以下余白
上記表3の結果より、多層カラー写真材料においても実
施例1と同様の結果が得られていることがわかる。
施例1と同様の結果が得られていることがわかる。
特に本発明に係る試料4乃至10においては、明退色性
に優れ、明所および暗所でのイエロースティンについて
も比較試料に対して飛躍的に減少していることがわかる
。
に優れ、明所および暗所でのイエロースティンについて
も比較試料に対して飛躍的に減少していることがわかる
。
更に上記の試料1乃至10について実写ネガを通してプ
リントを行ない、視感により色再填性を評価したところ
試料3乃至10については特に紫色の再現性が向上して
おり、色純度においても優れていた。
リントを行ない、視感により色再填性を評価したところ
試料3乃至10については特に紫色の再現性が向上して
おり、色純度においても優れていた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロゲン化
銀乳剤層の少なくとも一層には下記一般式[a]で表わ
されるマゼンタカプラー及び下記一般式[ I ]で表わ
されるマゼンタカプラー並びに下記一般式[b]で表わ
される化合物が油滴として含有されていることを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。 一般式[a] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Arはアリール基を表わし、Yは水素原子又は
芳香族第1級アミン発色現像主薬の酸化体とカップリン
グして色素が形成されるときに離脱する基を表わす。 X_1はハロゲン原子、アルコキシ基、又はアルキル基
を表わす。 R_1はベンゼン環に置換可能な基を表わす。 nは1又は2の整数を表わす。また、nが2の時はR_
1は同じであっても異なった基でもよい。]一般式[
I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Zは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原
子群を表わし、該Zにより形成される環は置換基を有す
るものも含む。Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体
との反応により離脱しうる置換基を表わす。またRは水
素原子又は置換基を表わす。] 一般式[b] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Qは▲数式、化学式、表等があります▼と共同
して3員 環〜6員環を形成するのに必要な単なる結合手または原
子群を表わす。R_2、R_3、R_4およびR_5は
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アシ
ル基またはシアノ基を表わす。 R_2、R_3、R_4およびR_5の中から選ばれる
任意の2つが結合して環を形成してもよく、R_2、R
_3、R_4およびR_5の中から選ばれる任意の1つ
がQで表わされる原子群と結合して環を形成してもよい
。]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3675286A JPS62194254A (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3675286A JPS62194254A (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62194254A true JPS62194254A (ja) | 1987-08-26 |
Family
ID=12478466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3675286A Pending JPS62194254A (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62194254A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5262288A (en) * | 1990-07-18 | 1993-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic photosensitive material containing pyrazolone and pyrazoloazole magenta couplers |
-
1986
- 1986-02-21 JP JP3675286A patent/JPS62194254A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5262288A (en) * | 1990-07-18 | 1993-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic photosensitive material containing pyrazolone and pyrazoloazole magenta couplers |
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