JPS62187433A - スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−プロピオン酸エステル及びその製法 - Google Patents
スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−プロピオン酸エステル及びその製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば、狭心症又は本態性高血圧症の治療薬
として公知の医薬化合物である下記式■で表わされるd
−3−アセトキシ−シス−2,3−ソヒドロー5−C2
−(ヅメチルアミノ)エチル)−2−(4−メトキシフ
ェニル)−1,5−ペンゾテアゼピy−4(5//)−
オン塩酸塩の製造中間体として有用な従来公知文献未記
載の合成中間体及びその製法に関する。
として公知の医薬化合物である下記式■で表わされるd
−3−アセトキシ−シス−2,3−ソヒドロー5−C2
−(ヅメチルアミノ)エチル)−2−(4−メトキシフ
ェニル)−1,5−ペンゾテアゼピy−4(5//)−
オン塩酸塩の製造中間体として有用な従来公知文献未記
載の合成中間体及びその製法に関する。
更に詳しくは、下記式(I)
HC0OR
但し式中、Rは低級アルキル基を示す、で表わされるス
レオ−2,3−ソヒドロキシー6−(4−メトキシフェ
ニル)−プロピオン酸エステルに関する。
レオ−2,3−ソヒドロキシー6−(4−メトキシフェ
ニル)−プロピオン酸エステルに関する。
上記式(I)新規化合物は、たとえば、下記式卸但し式
中、Rは低級アルキル基を示す、で表ワサれるトランス
−4−メトキシ桂皮酸エステルに酸化剤を作用させるこ
とによって製造でき、本発明はまた上記製法にも関する
。
中、Rは低級アルキル基を示す、で表ワサれるトランス
−4−メトキシ桂皮酸エステルに酸化剤を作用させるこ
とによって製造でき、本発明はまた上記製法にも関する
。
上記弐閃で表わされる公知化合物d−5−アセトキシ−
シス−2,3−ソヒドロー5−[2−(ツメチルアミノ
)エチル:l−2−(4−メトキシフェニル)−1,5
−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン塩酸塩は、6塩
酸ゾルチアゼム”とも呼称される公知医薬化合物であっ
て、労作性狭心症、陣旧性心筋梗塞における狭心症の改
善、及び本態性高血圧症の治療薬として有用な公知化合
物である〔新開発医薬品便覧第3版、543頁、198
3年参照〕。
シス−2,3−ソヒドロー5−[2−(ツメチルアミノ
)エチル:l−2−(4−メトキシフェニル)−1,5
−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン塩酸塩は、6塩
酸ゾルチアゼム”とも呼称される公知医薬化合物であっ
て、労作性狭心症、陣旧性心筋梗塞における狭心症の改
善、及び本態性高血圧症の治療薬として有用な公知化合
物である〔新開発医薬品便覧第3版、543頁、198
3年参照〕。
本発明者等は、前記式■で表わされる塩酸ゾルチアゼム
の製造に関して研究を行って来た。その結果、従来公知
文献に未記載の下記式(I)H0H If C0OR 但し式中、Rは低級アルキル基、たとえばメチル基、エ
チル基などを示す、 で表わされるスレオ−2,3−ソヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−プロピオン酸エステルの合成に
成功し、晴、つ鎖式(I)化合物が前記式■化合物の合
成中間体として極めて有用な新規化金物であることを発
見した。
の製造に関して研究を行って来た。その結果、従来公知
文献に未記載の下記式(I)H0H If C0OR 但し式中、Rは低級アルキル基、たとえばメチル基、エ
チル基などを示す、 で表わされるスレオ−2,3−ソヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−プロピオン酸エステルの合成に
成功し、晴、つ鎖式(I)化合物が前記式■化合物の合
成中間体として極めて有用な新規化金物であることを発
見した。
本発明者等の研究によれば、上記式(T)新規化合物は
、たとえば下記式(I1) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされるトランス−4−メトキシ桂皮酸エステルに
酸化剤を作用させる酸化反応によって、容易に月つ高収
率、高純度をもって、工業的に有利に製造できることを
発見した。
、たとえば下記式(I1) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされるトランス−4−メトキシ桂皮酸エステルに
酸化剤を作用させる酸化反応によって、容易に月つ高収
率、高純度をもって、工業的に有利に製造できることを
発見した。
従って、本発明の目的け、例えば、医薬化合物として有
用な前記弐■化合物の製造中間体として有用な、前記式
(I)で表わされるスレオ−2,3−ある。
用な前記弐■化合物の製造中間体として有用な、前記式
(I)で表わされるスレオ−2,3−ある。
本発明の上記目的及び更に多くの他の目的ならびに利点
は、以下の記載から一層明らかとなるであろう。本発明
の前記式(I>新規化合物は、例えば、前記式(TI)
で表わされるトランス−4−メトキシ桂皮酸エステルか
ら容易に製造することができる。
は、以下の記載から一層明らかとなるであろう。本発明
の前記式(I>新規化合物は、例えば、前記式(TI)
で表わされるトランス−4−メトキシ桂皮酸エステルか
ら容易に製造することができる。
この態様による前記式<I)化合物の製造例を図式的に
示すと、以下のように示すことができる。
示すと、以下のように示すことができる。
H(!F)
H0B
(I)
但し式中、Rは低級アルキル基を示す。
上記式(I)で表わされる本発明新規化合物を製造する
上記態様例において、式(田で表わされる化合物はたと
えば、J、 Org、 Chem、 26 、2991
(I961)およびCh、em、 Ber、、 99
r 2663(I966)に記載の方法を利用もしくは
応用することにより、容易に製造することができる。
上記態様例において、式(田で表わされる化合物はたと
えば、J、 Org、 Chem、 26 、2991
(I961)およびCh、em、 Ber、、 99
r 2663(I966)に記載の方法を利用もしくは
応用することにより、容易に製造することができる。
式(2)化合物に酸化剤を作用させて式(I)化合物を
製造する方法は、たとえば、適当な反応溶媒中で式(6
)化合物と酸化剤又は酸化剤及び共酸化剤とを接触させ
る種々の態様で実施することができる。
製造する方法は、たとえば、適当な反応溶媒中で式(6
)化合物と酸化剤又は酸化剤及び共酸化剤とを接触させ
る種々の態様で実施することができる。
たとえば、酸化剤として例えば四酸化オスミウムを使用
し、又、反応溶媒として例えば、乾燥したエーテル、ベ
ンゼン、ピリジノ、ソオキサン、テトラヒドロフラン、
クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル又はこれらの任
意の割合の混合溶媒を使用する態様;さらに、例えば、
触媒量の四酸化オスミウムと共酸化剤として例え、ば塩
素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、塩素酸バリウム、塩
素酸銀等の如き塩素酸塩類又はN−メチルモルホリンN
−オキシド、トリエチルアミンN−オキシド等の如き6
級アミンN−オキシド化合物とを使用し、又、反応溶媒
として例えば水、テトラヒドロ7ラン、ソオキサン、メ
タノール、エタノール、3級−ブチルアルコール、アセ
トン又はこれらの任意の割合の混合溶媒を使用する態様
:さらに、例えば、触媒量の四酸化オスミウムと共酸化
剤として例えば過酸化水素とを使用し、又、反応溶媒と
して例えば無水のエチルエーテル、3級−ブチルアルコ
ール、アセトン又はこれらの任意の割合の混合溶媒を使
用する態様;さらに例えば、触媒量の四酸化オスミウム
と3級−ブチルアルコールとテトラエチルアンモニウム
ヒドロキシドとを水溶媒中で使用する態様;又例えば、
オスミウム酸カリウムと塩素酸ナトリウムとを酢酸水溶
液中で使用する態様;さらに例えば、ヨウ素酸カリウム
とヨウ素と酢酸カリウムとを酢酸溶媒中で使用する態様
;さらに例えば、過マンガン酸塩、例えば過マンがン酸
カリウム、又は過マンガン酸アンモニウム塩類、例えば
過マンがン酸ペンノルトリエチルアンモニウム、過マン
ガン酸テトラブチルアンモニウム、過マンガン酸セチル
トリメチルアンモニウム、過マンガン酸トリカグリルメ
チルアンモニウム、過マンガン酸トリオクチルメチルア
ンモニウム、過マンガン酸ペンツルトリメチルアンモニ
ウム、過マンガン酸ツメチルドデシルエチルアンモニウ
ム、過マンガン酸ツメチルエチルヘキサデシルアンモニ
ウム、週マンガン酸ヘキサデシルトリメチルアンモニウ
ム、過マンガン酸テトラデシルトリメチルアンモニウム
、過マンガン酸テトラエチルアンモニウム、過マンガン
酸テトラ−n−7’oピル7ンモニウム、過マンガン酸
テトラブチルアンモニウム等、又は過マンガン酸ホスホ
ニウム塩類、例えば、過マンガン酸テトラプチルホスホ
ニウム、過マンガン酸エチルトリフェニルホスホニウム
、過マンガン酸エチルトリオクチルホスホニウム、過マ
ンガン酸トリブチルヘキサデシルホスホニウム等を酸化
剤として用い、反応溶媒として例えば無水塩化メチレン
、3級−ブチルアルコール、トルエン、酢酸エチル、ソ
エチルエーテル、アセトン、ヅプロビルケトン、水又は
これらの任意の割合の混合溶媒を使用する態様;等を例
示することができる。
し、又、反応溶媒として例えば、乾燥したエーテル、ベ
ンゼン、ピリジノ、ソオキサン、テトラヒドロフラン、
クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル又はこれらの任
意の割合の混合溶媒を使用する態様;さらに、例えば、
触媒量の四酸化オスミウムと共酸化剤として例え、ば塩
素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、塩素酸バリウム、塩
素酸銀等の如き塩素酸塩類又はN−メチルモルホリンN
−オキシド、トリエチルアミンN−オキシド等の如き6
級アミンN−オキシド化合物とを使用し、又、反応溶媒
として例えば水、テトラヒドロ7ラン、ソオキサン、メ
タノール、エタノール、3級−ブチルアルコール、アセ
トン又はこれらの任意の割合の混合溶媒を使用する態様
:さらに、例えば、触媒量の四酸化オスミウムと共酸化
剤として例えば過酸化水素とを使用し、又、反応溶媒と
して例えば無水のエチルエーテル、3級−ブチルアルコ
ール、アセトン又はこれらの任意の割合の混合溶媒を使
用する態様;さらに例えば、触媒量の四酸化オスミウム
と3級−ブチルアルコールとテトラエチルアンモニウム
ヒドロキシドとを水溶媒中で使用する態様;又例えば、
オスミウム酸カリウムと塩素酸ナトリウムとを酢酸水溶
液中で使用する態様;さらに例えば、ヨウ素酸カリウム
とヨウ素と酢酸カリウムとを酢酸溶媒中で使用する態様
;さらに例えば、過マンガン酸塩、例えば過マンがン酸
カリウム、又は過マンガン酸アンモニウム塩類、例えば
過マンがン酸ペンノルトリエチルアンモニウム、過マン
ガン酸テトラブチルアンモニウム、過マンガン酸セチル
トリメチルアンモニウム、過マンガン酸トリカグリルメ
チルアンモニウム、過マンガン酸トリオクチルメチルア
ンモニウム、過マンガン酸ペンツルトリメチルアンモニ
ウム、過マンガン酸ツメチルドデシルエチルアンモニウ
ム、過マンガン酸ツメチルエチルヘキサデシルアンモニ
ウム、週マンガン酸ヘキサデシルトリメチルアンモニウ
ム、過マンガン酸テトラデシルトリメチルアンモニウム
、過マンガン酸テトラエチルアンモニウム、過マンガン
酸テトラ−n−7’oピル7ンモニウム、過マンガン酸
テトラブチルアンモニウム等、又は過マンガン酸ホスホ
ニウム塩類、例えば、過マンガン酸テトラプチルホスホ
ニウム、過マンガン酸エチルトリフェニルホスホニウム
、過マンガン酸エチルトリオクチルホスホニウム、過マ
ンガン酸トリブチルヘキサデシルホスホニウム等を酸化
剤として用い、反応溶媒として例えば無水塩化メチレン
、3級−ブチルアルコール、トルエン、酢酸エチル、ソ
エチルエーテル、アセトン、ヅプロビルケトン、水又は
これらの任意の割合の混合溶媒を使用する態様;等を例
示することができる。
酸化剤の使用量は適当に選択変更できるが、式(I1)
化合物に対して例えば約1〜約2倍モル量を例示できる
。四酸化オスミウムを触媒として使用する場合は式(2
)化合物に対して例えば約0.1〜約0.001倍モル
量の使用量を例示でき、その場合の共酸化剤の使用量と
しては、式α0化合物に対して例えば約1〜約2倍モル
量を例示することができる。反応溶媒の使用量は適宜に
選択できるが、式(中化合物に対して例えば約5〜約5
0倍容量の如き使用量を例示することができる。
化合物に対して例えば約1〜約2倍モル量を例示できる
。四酸化オスミウムを触媒として使用する場合は式(2
)化合物に対して例えば約0.1〜約0.001倍モル
量の使用量を例示でき、その場合の共酸化剤の使用量と
しては、式α0化合物に対して例えば約1〜約2倍モル
量を例示することができる。反応溶媒の使用量は適宜に
選択できるが、式(中化合物に対して例えば約5〜約5
0倍容量の如き使用量を例示することができる。
反応温度及び反応時間も適当に選択決定できるが、例え
ば、約−80°〜約+60℃及び約1時間〜約20日間
の如き条件を例示することができる。
ば、約−80°〜約+60℃及び約1時間〜約20日間
の如き条件を例示することができる。
これらの過マンガン酸アンモニウム塩類、又は過マンガ
ン酸ホスホニウム塩類は第四級アンモニウムハライド又
は第四級ホスホニウムハライドの如き相間移動触媒と過
マンガン酸カリウムとから、文献Angew、 Che
tn、、 Int、 Ed、 Engt、 18゜68
(I979)に記載の製法を利用又は応用することによ
り結晶性化合物として製造することができ、さらに文献
CIIEMISTRY LETTER5゜443 (
I979)K記載の製法を利用又は応用することにより
溶液として例えば塩化メチレン溶液として製造すること
も出来る。そして結晶性化合物として又は溶液として調
製した該酸化剤のいずれをも該酸化反応に用いることが
できる。例えば以上に記載したような態様により製造す
ることのできる本発明式(I)化合物は、既述のように
、例えば前記式■で表わされる公知医薬化合物塩酸ツル
チアゼムの製造中間体として極めて有用である。
ン酸ホスホニウム塩類は第四級アンモニウムハライド又
は第四級ホスホニウムハライドの如き相間移動触媒と過
マンガン酸カリウムとから、文献Angew、 Che
tn、、 Int、 Ed、 Engt、 18゜68
(I979)に記載の製法を利用又は応用することによ
り結晶性化合物として製造することができ、さらに文献
CIIEMISTRY LETTER5゜443 (
I979)K記載の製法を利用又は応用することにより
溶液として例えば塩化メチレン溶液として製造すること
も出来る。そして結晶性化合物として又は溶液として調
製した該酸化剤のいずれをも該酸化反応に用いることが
できる。例えば以上に記載したような態様により製造す
ることのできる本発明式(I)化合物は、既述のように
、例えば前記式■で表わされる公知医薬化合物塩酸ツル
チアゼムの製造中間体として極めて有用である。
以下、本発明式(I)化合物利用の一態様として、前記
弐■化合物の製法について説明する。上記利用態様は下
記式で表わすことができる。
弐■化合物の製法について説明する。上記利用態様は下
記式で表わすことができる。
E COOR
(I)
C/72CH,N (CH3)2
へ
C772CH2# (C1l、) 2
・HCl
■
本発明の式CI)化合物は、反応溶媒中でルイス酸の存
在下で2−二トロチオフエノールとの脱水反応に付すこ
とにより、スレオ型、エリスロ型の混合物を形成し、該
混合物を適当な溶媒から再結晶等により精製することに
より弐〇11で表わされる公知のスレオ−2−ヒドロキ
シ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−二トロ
フェニルチオ)−プローオン酸エステルを得ることがで
きる。
在下で2−二トロチオフエノールとの脱水反応に付すこ
とにより、スレオ型、エリスロ型の混合物を形成し、該
混合物を適当な溶媒から再結晶等により精製することに
より弐〇11で表わされる公知のスレオ−2−ヒドロキ
シ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−二トロ
フェニルチオ)−プローオン酸エステルを得ることがで
きる。
反応溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素、ソクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ソオキサン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、
アセトニトリル又はこれらの任意の割合の混合溶媒等を
例示することができる。
、四塩化炭素、ソクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ソオキサン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、
アセトニトリル又はこれらの任意の割合の混合溶媒等を
例示することができる。
その使用量には特別な制約はなく、適当に選択できるが
、例えば式(I)化合物に対して約10〜約40倍容量
の如き使用量を例示することができる。
、例えば式(I)化合物に対して約10〜約40倍容量
の如き使用量を例示することができる。
又、2−ニトロチオフェノールの使用量としては、式(
I)化合物に対して例えば約1〜約2倍モル量の如き使
用量を例示することができる。
I)化合物に対して例えば約1〜約2倍モル量の如き使
用量を例示することができる。
尚、2−ニトロチオフェノールはC,A、55゜130
94α(I953)に記載の方法を利用して製造するこ
とができる。
94α(I953)に記載の方法を利用して製造するこ
とができる。
上記反応において利用するルイス酸の例としてハ、例え
ば3フツ化ホウ素(エチルエーテルコンブレックス又は
メタノールコンプレックスとして使用することもできる
)、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第2スズ、塩化第1ス
ズ、臭化第2スズ、臭化第1スズ、ヨウ(lJ2スズ、
ヨウ(lJ1スズ、フッ化第1スズ、硫酸、リン酸、ポ
リリン酸、過塩素酸、ステアリン酸第1スズ、オクチル
酸第1スズ、等を例示することができる。
ば3フツ化ホウ素(エチルエーテルコンブレックス又は
メタノールコンプレックスとして使用することもできる
)、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第2スズ、塩化第1ス
ズ、臭化第2スズ、臭化第1スズ、ヨウ(lJ2スズ、
ヨウ(lJ1スズ、フッ化第1スズ、硫酸、リン酸、ポ
リリン酸、過塩素酸、ステアリン酸第1スズ、オクチル
酸第1スズ、等を例示することができる。
その使用量は、適当に選択変更できるが、式(I)化合
物に対して例えば約0.1〜約1倍モル量の如き使用量
を例示することができる。
物に対して例えば約0.1〜約1倍モル量の如き使用量
を例示することができる。
の
反応条件は使用するルイスi類、その使用量などにより
適当に変更できるが、例えば約−20゜〜約+100℃
、好ましくけ約06〜約80℃で、例えば約10〜約4
0時間、好ましくは約1〜約6時間の如き反応条件を例
示することができる。
適当に変更できるが、例えば約−20゜〜約+100℃
、好ましくけ約06〜約80℃で、例えば約10〜約4
0時間、好ましくは約1〜約6時間の如き反応条件を例
示することができる。
式(I)化合物と2−二トロチオフエノールとから該脱
水反応によシ得られる生成物は通常式(ホ)で表わされ
るスレオ型(2位の水酸基と3位の2−ニトロフェニル
チオ基との配位がスレオ型である)とその異性体である
若干のエリスロ型(2位の水酸基と3位の2−ニトロフ
ェニルチオ基との配位がエリスロ型である)の混合物と
して得られるので、適当な再結晶溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール、イングロ・ξノール又はこれらの任意
の割合の混合物等を用いて、該混合物を再結晶等による
精製操作に付すことにより、式(ホ)で表わされる所望
のスレオ型を容易に得ることができる。
水反応によシ得られる生成物は通常式(ホ)で表わされ
るスレオ型(2位の水酸基と3位の2−ニトロフェニル
チオ基との配位がスレオ型である)とその異性体である
若干のエリスロ型(2位の水酸基と3位の2−ニトロフ
ェニルチオ基との配位がエリスロ型である)の混合物と
して得られるので、適当な再結晶溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール、イングロ・ξノール又はこれらの任意
の割合の混合物等を用いて、該混合物を再結晶等による
精製操作に付すことにより、式(ホ)で表わされる所望
のスレオ型を容易に得ることができる。
このようにして得ることのできる式(ホ)で表わされる
スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル
)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸エ
ステルを反応溶媒中でそのエステル基の加水分解反応に
賦することにより式(ト)で表ワされる公知のスレオ−
2−ヒドロキシ−5−(4−メトキシフェニル)−3−
(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸を製造する
ことができる。
スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル
)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸エ
ステルを反応溶媒中でそのエステル基の加水分解反応に
賦することにより式(ト)で表ワされる公知のスレオ−
2−ヒドロキシ−5−(4−メトキシフェニル)−3−
(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸を製造する
ことができる。
反応溶媒としては例えば、水、メタノール、エタノール
、テトラヒドロフラン、ソオキサン、ソメトキシエタン
又はこれらの任意の割合の混合溶媒等を例示することが
できる。その使用量にはとくべつな制約はないが、式o
rt+化合物に対して例えば約5〜約!IO倍容量の如
き使用量を例示することができる。加水分解はアルカリ
性条件下で行うのが好ましく、例えば水酸化す) IJ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシ
ウム等を水溶液又はアルコール溶液として添加して行う
ことができる。
、テトラヒドロフラン、ソオキサン、ソメトキシエタン
又はこれらの任意の割合の混合溶媒等を例示することが
できる。その使用量にはとくべつな制約はないが、式o
rt+化合物に対して例えば約5〜約!IO倍容量の如
き使用量を例示することができる。加水分解はアルカリ
性条件下で行うのが好ましく、例えば水酸化す) IJ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシ
ウム等を水溶液又はアルコール溶液として添加して行う
ことができる。
その使用量としては式(イ)化合物に対して例えば約0
.5〜約5倍モル量の如き使用量を例示することができ
る。
.5〜約5倍モル量の如き使用量を例示することができ
る。
反応条件は適当に選択できるが、例えば約0゜〜約80
℃で例えば約30分〜約10時間の如き条件を例示する
ことができる。
℃で例えば約30分〜約10時間の如き条件を例示する
ことができる。
反応終了後は、例えば塩酸等を用いて酸性溶液として析
出する結晶を戸数することにより、式e乃化合物を得る
ことができる。
出する結晶を戸数することにより、式e乃化合物を得る
ことができる。
式1)3化合物より式■化合物を製造する一連の製造法
については同一出願人の出願に係わる特願昭60−00
2207号に詳しく記載しであるが、以下に改めて記載
して説明する。
については同一出願人の出願に係わる特願昭60−00
2207号に詳しく記載しであるが、以下に改めて記載
して説明する。
上述のようKして得ることのできる弐■で表わされるd
i−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン
酸は常法に従い光学活性な有機塩基を用いて光学分割し
て、例えば前記式Mで表ワされるd−スレオ−2−ヒド
ロキシ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−ニ
トロフェニルチオ)−プロピオン酸の光学活性な有機塩
基の塩(例えばl−ノルエフェドリン塩)に変換するこ
とができる。
i−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン
酸は常法に従い光学活性な有機塩基を用いて光学分割し
て、例えば前記式Mで表ワされるd−スレオ−2−ヒド
ロキシ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−ニ
トロフェニルチオ)−プロピオン酸の光学活性な有機塩
基の塩(例えばl−ノルエフェドリン塩)に変換するこ
とができる。
例えば、上記ラセミ型(d1体)の弐■化合物を適当な
溶媒中で光学活性有機塩基と反応させて対応する2種の
ノアステレオマ−を形成させた後、溶媒に対する溶解度
差を利用して、必要な一方のノアステレオマ−を難溶性
の結晶性塩として晶出させ、これを分取することにより
光学分割を行うことができる。この光学分割に利用する
分割試剤の例トシては、d−N−ペンツルエフエトリン
、d−N−メチルエフェドリン〔以上二者は薬学雑誌、
第76巻、1227頁(I956年)に記載の製法を参
考にして製造できる〕、l−ノルエフェドリン〔薬学雑
誌、゛第48巻、947頁(I928年)に記載の製法
を利用して製造できる〕等の光学活性有機塩基を例示す
ることができる。
溶媒中で光学活性有機塩基と反応させて対応する2種の
ノアステレオマ−を形成させた後、溶媒に対する溶解度
差を利用して、必要な一方のノアステレオマ−を難溶性
の結晶性塩として晶出させ、これを分取することにより
光学分割を行うことができる。この光学分割に利用する
分割試剤の例トシては、d−N−ペンツルエフエトリン
、d−N−メチルエフェドリン〔以上二者は薬学雑誌、
第76巻、1227頁(I956年)に記載の製法を参
考にして製造できる〕、l−ノルエフェドリン〔薬学雑
誌、゛第48巻、947頁(I928年)に記載の製法
を利用して製造できる〕等の光学活性有機塩基を例示す
ることができる。
これらの分割試剤の使用量は適宜に選択変更できるが、
式■化合物に対して約当量で使用するのが普通である。
式■化合物に対して約当量で使用するのが普通である。
上記光学分割に利用する分割溶媒の例としては、例えば
メタノール、エタノール、イングロ/ぐノ−ル、酢酸エ
チル、メチルイソブチルケトン又はこれらの任意の割合
の混合物等を挙げることができる。その使用量は適当に
選択変更できるが、弐〇)、つ化合物に対して例えば約
5〜約40倍容量の如き使用量を例示することができる
。
メタノール、エタノール、イングロ/ぐノ−ル、酢酸エ
チル、メチルイソブチルケトン又はこれらの任意の割合
の混合物等を挙げることができる。その使用量は適当に
選択変更できるが、弐〇)、つ化合物に対して例えば約
5〜約40倍容量の如き使用量を例示することができる
。
上記光学分割の実施に際して、温度及び時間は適宜に選
択できるが、例えば約0°〜約50℃で約5〜約24時
間の如き条件を例示することができる。
択できるが、例えば約0°〜約50℃で約5〜約24時
間の如き条件を例示することができる。
上述のようにして得ることのできる前記式M化合物を、
たとえば反応溶媒中で、酢酸のカルボキシル基における
反応性誘導体と、必要により有機塩基の存在下で、反応
せしめることによシ前記式めで表わされるl−スレオ−
2−アセトキシ−6−(4−メトキシフェニル)−3−
(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸に変換する
ことができる。利用する反応溶媒の例としては、たとえ
ハクロロホルム、塩化メチレン、ソクロロメタン、アセ
トニトリル、N、N−ツメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、ニトロメタン等及びこれ
らの任意の割合の混合物を例示することができる。その
使用量は適宜に選択変更できるが、弐M化合物に対して
たとえば約2〜約30倍容量の如き使用量を例示するこ
とができる。
たとえば反応溶媒中で、酢酸のカルボキシル基における
反応性誘導体と、必要により有機塩基の存在下で、反応
せしめることによシ前記式めで表わされるl−スレオ−
2−アセトキシ−6−(4−メトキシフェニル)−3−
(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸に変換する
ことができる。利用する反応溶媒の例としては、たとえ
ハクロロホルム、塩化メチレン、ソクロロメタン、アセ
トニトリル、N、N−ツメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、ニトロメタン等及びこれ
らの任意の割合の混合物を例示することができる。その
使用量は適宜に選択変更できるが、弐M化合物に対して
たとえば約2〜約30倍容量の如き使用量を例示するこ
とができる。
上記反応に利用する酢酸のカルボキシル基における反応
性誘導体の例としては、たとえば酢酸ハライド、無水酢
酸、1−アセチル−3−ペンツルイミダゾリウムプロミ
ド、1−アセチル−6−メチルイミダシリウムヨーソド
、1−アセチル−3−メチルイミダゾリウムモノメチル
硫酸塩等の反応性誘導体を例示することができる。その
使用量は適当に選択変更できるが、例えば弐M化合物に
対して約1〜約2倍モルの如き使用量を例示することが
できる。
性誘導体の例としては、たとえば酢酸ハライド、無水酢
酸、1−アセチル−3−ペンツルイミダゾリウムプロミ
ド、1−アセチル−6−メチルイミダシリウムヨーソド
、1−アセチル−3−メチルイミダゾリウムモノメチル
硫酸塩等の反応性誘導体を例示することができる。その
使用量は適当に選択変更できるが、例えば弐M化合物に
対して約1〜約2倍モルの如き使用量を例示することが
できる。
反応に際して、上記反応性誘導体として酢酸ハライド又
は無水酢酸を使用する場合には、有機塩基として、例え
ばピリジノ又はトリエチルアミン等の存在下に反応を行
うことも出来る。この際、利用する有機塩基の使用量は
適当に選択変更できるが、酢酸ハライド又は無水酢酸に
対して例えば約1〜約5倍モルの使用量を例示すること
ができる。
は無水酢酸を使用する場合には、有機塩基として、例え
ばピリジノ又はトリエチルアミン等の存在下に反応を行
うことも出来る。この際、利用する有機塩基の使用量は
適当に選択変更できるが、酢酸ハライド又は無水酢酸に
対して例えば約1〜約5倍モルの使用量を例示すること
ができる。
反応温度及び反応時間も適当に選択できるが、例えば約
0°〜約100℃及び約5〜約24の如き条件を例示す
ることができる。
0°〜約100℃及び約5〜約24の如き条件を例示す
ることができる。
反応後、反応生成物液から常法によシ光学活性な有機塩
基を収率よく回収することができ、回収した光学活性な
有機塩基は上記光学分割に反復して再使用することがで
きる。
基を収率よく回収することができ、回収した光学活性な
有機塩基は上記光学分割に反復して再使用することがで
きる。
前記式(イ)化合物は、たとえば上述のようにして得る
ことのできる式■化合物を還元することによりそのニト
ロ基をアミノ基に変換する態様で容易に且つ収率よく製
造することができる。
ことのできる式■化合物を還元することによりそのニト
ロ基をアミノ基に変換する態様で容易に且つ収率よく製
造することができる。
この態様による式■化合物の製造に際して、還元は還元
剤による還元反応で行うこともできるし、或は又、接触
水素化による還元反応で行うこともできる。還元剤によ
る還元は、ニトロ基の還元に通常利用される還元剤、た
とえば硫化金属、多硫化金属、亜鉛、鉄、錫等の金属と
鉱酸類を用いる方法で行なうことができる。又、接触水
素化は、貴金属触媒、例えば・ぞラソウム炭素、白金炭
素、等を触媒とする接触水素化法等により行うことがで
きる。反応溶媒の例としては、たとえば酢酸、酢酸エチ
ル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ソ
オキサン、1.2−ソメトキシエタン等及びこれらの任
意の割合の混合物を例示することができる。その使用量
は適当に選択できるが、例えば式■化合物に対して約5
〜約30倍容量の如き使用量を例示することができる。
剤による還元反応で行うこともできるし、或は又、接触
水素化による還元反応で行うこともできる。還元剤によ
る還元は、ニトロ基の還元に通常利用される還元剤、た
とえば硫化金属、多硫化金属、亜鉛、鉄、錫等の金属と
鉱酸類を用いる方法で行なうことができる。又、接触水
素化は、貴金属触媒、例えば・ぞラソウム炭素、白金炭
素、等を触媒とする接触水素化法等により行うことがで
きる。反応溶媒の例としては、たとえば酢酸、酢酸エチ
ル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ソ
オキサン、1.2−ソメトキシエタン等及びこれらの任
意の割合の混合物を例示することができる。その使用量
は適当に選択できるが、例えば式■化合物に対して約5
〜約30倍容量の如き使用量を例示することができる。
又水素化反応の促進剤として適量の酸類、例えば塩酸、
過塩素酸等を加える事もさしつかえない。
過塩素酸等を加える事もさしつかえない。
又、接触水素化による還元反応に際して利用する水素化
触媒としてたとえば・ぞラジウム炭素を使用する場合は
5%〜10%のツクラジウム炭素の使用を例示すること
ができる。その使用量にもとくべつな制約はないが、例
えば式へ1化合物に対して約0.1〜約2倍重量の如き
使用量を例示することができる。
触媒としてたとえば・ぞラジウム炭素を使用する場合は
5%〜10%のツクラジウム炭素の使用を例示すること
ができる。その使用量にもとくべつな制約はないが、例
えば式へ1化合物に対して約0.1〜約2倍重量の如き
使用量を例示することができる。
かくして得られる式(イ)化合物を、例えば、1−置換
−2−ハロピリジニウム塩と第三級アミンとの存在下に
、有機溶媒中で室温又は必要により約40°〜約50℃
の如き加温条件下で、約1〜約10時間反応せしめるこ
とにより式(ホ)で表わされるd−5−アセトキシ−シ
ス−2,3−ソヒドロー2− (4−メトキシフェニル
)−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5/7)−オンに
変換することができる。
−2−ハロピリジニウム塩と第三級アミンとの存在下に
、有機溶媒中で室温又は必要により約40°〜約50℃
の如き加温条件下で、約1〜約10時間反応せしめるこ
とにより式(ホ)で表わされるd−5−アセトキシ−シ
ス−2,3−ソヒドロー2− (4−メトキシフェニル
)−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5/7)−オンに
変換することができる。
この際利用する反応溶媒の例としては、例えばN、N−
ツメチルホルムアミド、N、N−ヅメチルアセトアミド
、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、1,2
−ソメトキシエタン、ソオキサン、アセトニトリル、ベ
ンゼン、塩化メチレン、クロロホルム等及びこれらの任
意の割合の混合溶媒を例示することができる。このよう
な反応溶媒の使用量にはとく°べつな制約はないが式(
5)化合物に対して約10〜約100倍容量の使用量を
例示することができる。
ツメチルホルムアミド、N、N−ヅメチルアセトアミド
、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、1,2
−ソメトキシエタン、ソオキサン、アセトニトリル、ベ
ンゼン、塩化メチレン、クロロホルム等及びこれらの任
意の割合の混合溶媒を例示することができる。このよう
な反応溶媒の使用量にはとく°べつな制約はないが式(
5)化合物に対して約10〜約100倍容量の使用量を
例示することができる。
上記反応に利用する1−置換−2−ハロピリジニウム塩
としては、例えば1−メチル−2−クロロヒリヅニウム
ヨーソド、1−メチル−2−プロモピリソニウムメチル
サルフエート、1−メチル−2−10ローピリジニウム
パラトルエンスルホナート、1−エチル−2−プロモー
ピリソニウムテトラフロロポーレート等を例示すること
ができる。これらは例えばプレチン・オプ・ザ・ケミカ
ル・ソサイエテイ・オプ・ジャ/ぐン、第50巻、18
63頁(I979年)に記載の方法により製造すること
ができる。
としては、例えば1−メチル−2−クロロヒリヅニウム
ヨーソド、1−メチル−2−プロモピリソニウムメチル
サルフエート、1−メチル−2−10ローピリジニウム
パラトルエンスルホナート、1−エチル−2−プロモー
ピリソニウムテトラフロロポーレート等を例示すること
ができる。これらは例えばプレチン・オプ・ザ・ケミカ
ル・ソサイエテイ・オプ・ジャ/ぐン、第50巻、18
63頁(I979年)に記載の方法により製造すること
ができる。
又、上記の1−置換−2−ハロピリジニウム塩の使用量
としては、式6’lD化合物に対して約1〜約2倍モル
の使用量を例示できる。
としては、式6’lD化合物に対して約1〜約2倍モル
の使用量を例示できる。
上記反応に利用する第三級アミンの例としては、例えば
トリエチルアミン、トリーn−ブチルアミ/、N、N−
ツメチルシクロヘキシルアミン、1.4−ソアザビシク
ロ[2,2,2)オクタン、1.5−ソアザビシクロ[
i3.0:]−]5−ノネン1,8−ソアザピシクロC
5,4,0)−7−ウンデセン等を例示することができ
る。このような第三級アミンの使用量も適当に選択でき
るが、例えば、式(イ)化合物に対して約2,0〜約2
.2倍当量の使用量を例示することができる。
トリエチルアミン、トリーn−ブチルアミ/、N、N−
ツメチルシクロヘキシルアミン、1.4−ソアザビシク
ロ[2,2,2)オクタン、1.5−ソアザビシクロ[
i3.0:]−]5−ノネン1,8−ソアザピシクロC
5,4,0)−7−ウンデセン等を例示することができ
る。このような第三級アミンの使用量も適当に選択でき
るが、例えば、式(イ)化合物に対して約2,0〜約2
.2倍当量の使用量を例示することができる。
次いで、上述のようにして得ることのできる式(ホ)化
合物を非プロトン性溶媒中で、KF−At、0゜の共存
下に、例えばN、N−ツメチルアミノエチルクロリドと
反応させることによシ式■のd−3−アセドキシーシス
−2,5−ソヒドロー5−〔2−(ツメチルアミノ)エ
チル)−2−(4−メトキシフェニル)−1,5−ベン
ゾチアゼピン−4(57/)−オン化合物に変換するこ
とができる。
合物を非プロトン性溶媒中で、KF−At、0゜の共存
下に、例えばN、N−ツメチルアミノエチルクロリドと
反応させることによシ式■のd−3−アセドキシーシス
−2,5−ソヒドロー5−〔2−(ツメチルアミノ)エ
チル)−2−(4−メトキシフェニル)−1,5−ベン
ゾチアゼピン−4(57/)−オン化合物に変換するこ
とができる。
反応は室温でも進行するので、とくに冷却もしくは加熱
する必要はないが、例えば約20°〜約30℃の如き反
応温度及び約20°〜約3日の如き反応時間を例示する
ことができる。
する必要はないが、例えば約20°〜約30℃の如き反
応温度及び約20°〜約3日の如き反応時間を例示する
ことができる。
反応は非プロトン性溶媒中で行うのがよく、このような
溶媒の具体例としては、例えばアセトニトリル、1,2
−ソメトキシエタン、テトラヒドロフランなどの如き非
プロトン性溶媒を例示できる。その使用量にはとくべつ
な制約はないが、例えば式(+i!11化合物に対して
約10〜約50倍容量の如き使用量を例示することがで
きる。
溶媒の具体例としては、例えばアセトニトリル、1,2
−ソメトキシエタン、テトラヒドロフランなどの如き非
プロトン性溶媒を例示できる。その使用量にはとくべつ
な制約はないが、例えば式(+i!11化合物に対して
約10〜約50倍容量の如き使用量を例示することがで
きる。
反応は不活性雰囲気下で行うのが好ましく、たとえばア
ルゴン、窒素等の雰囲気下を例示できる。
ルゴン、窒素等の雰囲気下を例示できる。
N、N−ツメチルエチルクロリドの使用量は適宜に選択
できるが、式6/Il〉化合物に対して例えば約1〜約
2倍当量の如き使用量を例示することができる。
できるが、式6/Il〉化合物に対して例えば約1〜約
2倍当量の如き使用量を例示することができる。
反応に用いるKF−At、0.は公知化合物であって、
例えばケミストリー・レター7755頁(I979年)
に記載の方法でAt20.とKF水溶液を接触させ、例
えばロータリー蒸発器巾約50°〜約60℃の如き条件
で水分を除去し、更に乾燥する手法によって製造するこ
とができる。
例えばケミストリー・レター7755頁(I979年)
に記載の方法でAt20.とKF水溶液を接触させ、例
えばロータリー蒸発器巾約50°〜約60℃の如き条件
で水分を除去し、更に乾燥する手法によって製造するこ
とができる。
水分除去後、減圧乾燥もしくは加熱条件下の減圧乾燥を
行うことができ、例えば約75℃前後、m7は約150
℃前後の温度条件下の減圧乾燥を行うことができる。好
ましい乾燥条件の一例として、約150℃前後の温度条
件下の減圧乾燥を例示することができる。
行うことができ、例えば約75℃前後、m7は約150
℃前後の温度条件下の減圧乾燥を行うことができる。好
ましい乾燥条件の一例として、約150℃前後の温度条
件下の減圧乾燥を例示することができる。
KF−At20.の使用量は適宜に選択できるが、式怖
)化合物に対して例えば約1〜約5倍当量(KFとして
)の使用量を例示することができる。
)化合物に対して例えば約1〜約5倍当量(KFとして
)の使用量を例示することができる。
又、KF−At20.におけるKFの含量としては約4
0重量%程度が普通であるが適宜に選択することができ
る。かくして得られた式(力比合物を酸類と接触させる
ことにより容易にその塩の形、例えば公知医薬化合物(
3)に転化できる。
0重量%程度が普通であるが適宜に選択することができ
る。かくして得られた式(力比合物を酸類と接触させる
ことにより容易にその塩の形、例えば公知医薬化合物(
3)に転化できる。
このような塩としては医薬的に許容し得る酸塩(付加塩
)が好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩の如き無機
酸塩、例えば酒石酸塩、クエン酸塩、フマール酸塩の如
き有機酸塩を例示することができる。
)が好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩の如き無機
酸塩、例えば酒石酸塩、クエン酸塩、フマール酸塩の如
き有機酸塩を例示することができる。
以下実施例及び参考例によシ木発明方法を更に詳しく説
明する。
明する。
実m例1 スレオ−2,3−ジヒドロキシ−6−(4
−メトキシフェニル)−プロピオ ン酸メチル (6)→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル2.0Of(I0
,4ミリモル)、N−メチルモルホリンN−オキシド・
2水和物1.75f、アセトン25mr。
−メトキシフェニル)−プロピオ ン酸メチル (6)→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル2.0Of(I0
,4ミリモル)、N−メチルモルホリンN−オキシド・
2水和物1.75f、アセトン25mr。
水6mlの溶液に1%W/V四酸化オスミウム水溶液0
.265 m#: (0,01ミリモル)を添加して室
温にて8日間攪拌した。
.265 m#: (0,01ミリモル)を添加して室
温にて8日間攪拌した。
次いでハイドロサルファイドナトリウム0,52、ケイ
酸マグネシウム5f、水5m/を加えて30分攪拌した
。反応液を濾過した。F液を濃縮して得た残留物に塩化
メチレンを加えて抽出した。抽出液を2N−塩酸、次い
で重曹水溶液を用いて洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物をカラムクロ
マトグラフィー(シリカグル、クロロホルム:酢酸エチ
ル)による分p!を精製操作に賦して表題化合物の白色
結晶1、78 Fを得た。収率75.7%。mV)84
−85℃。これをインゾロ・ぐノールよシ再結晶してm
p86−88℃の結晶を得た。
酸マグネシウム5f、水5m/を加えて30分攪拌した
。反応液を濾過した。F液を濃縮して得た残留物に塩化
メチレンを加えて抽出した。抽出液を2N−塩酸、次い
で重曹水溶液を用いて洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物をカラムクロ
マトグラフィー(シリカグル、クロロホルム:酢酸エチ
ル)による分p!を精製操作に賦して表題化合物の白色
結晶1、78 Fを得た。収率75.7%。mV)84
−85℃。これをインゾロ・ぐノールよシ再結晶してm
p86−88℃の結晶を得た。
NMR(CDC1,)δ:
2.84<18.d、l=6.5Hz、OH,D20処
理で消失) 5.21 (I11,d 、 /=6.5Hz、011
.Dρ処理で消失) 3.78(3ff、S) 3.80(I/7.S) 4.26−4.37 (IH,m) 4.90−5.00 (IH,m) 6.88 (2H,d 、 J=F3.BHz )7、
31 (211、d 、 J=B、BHz )KBr
−+ 。
理で消失) 5.21 (I11,d 、 /=6.5Hz、011
.Dρ処理で消失) 3.78(3ff、S) 3.80(I/7.S) 4.26−4.37 (IH,m) 4.90−5.00 (IH,m) 6.88 (2H,d 、 J=F3.BHz )7、
31 (211、d 、 J=B、BHz )KBr
−+ 。
IRシ、、、a、cm 、3470+3370+1
700.1610,1510,14 40.1310,1220,1170゜1100.10
50,1020,930゜880 .840 .800
.780 。
700.1610,1510,14 40.1310,1220,1170゜1100.10
50,1020,930゜880 .840 .800
.780 。
740 .700 .560
実施例2 スレオ−2,5−ジヒドロキシ−3−(4−
メトキシフェニル)−フロピオ ン酸メチル (ω→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル2.00f(I0
,4ミリモル)、N−メチルモルホリンN−オキシド・
2水和物1.75f、アセトン25−1水6−の溶液に
1%W/V匹酸化オスミウム水溶液2.65++t/(
0,1ミリモル)を添加して室温にて19時間攪拌した
。次いで実施例1に示した場合と同様の処理、取出し操
作に賦して表題化合物の結晶2.049を得た。
メトキシフェニル)−フロピオ ン酸メチル (ω→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル2.00f(I0
,4ミリモル)、N−メチルモルホリンN−オキシド・
2水和物1.75f、アセトン25−1水6−の溶液に
1%W/V匹酸化オスミウム水溶液2.65++t/(
0,1ミリモル)を添加して室温にて19時間攪拌した
。次いで実施例1に示した場合と同様の処理、取出し操
作に賦して表題化合物の結晶2.049を得た。
収率86.9%。mp84−85℃。
実施例3 スレオ−2,3−ソヒドロキシー3−(4
−メトキシフェニル)−フロピオ ン酸メチル (2)→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル4.00f、無水
塩化メチレン40−の溶液を一40℃に冷却し、攪拌し
ながら過マンガン酸ぺ/ツルトリエチルアンモニウム9
72fを80分で添加した。次いで更に−30〜−40
℃で70分攪拌した。次に亜硫酸ソーダ102、水10
0a+/の水溶液を加え、さらに希硫酸50−を約0℃
で15分を要して滴加した。塩化メチレン層を分取し、
重曹水溶液、次いで水を用いて洗浄した稜、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物2.
81Fにインプロピルエーテル30−を加、tて攪拌し
、析出した結晶を戸数した。インプロピルエーテルで洗
浄し表題化合物の結晶1.422を得た。?J)84−
85℃。
−メトキシフェニル)−フロピオ ン酸メチル (2)→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル4.00f、無水
塩化メチレン40−の溶液を一40℃に冷却し、攪拌し
ながら過マンガン酸ぺ/ツルトリエチルアンモニウム9
72fを80分で添加した。次いで更に−30〜−40
℃で70分攪拌した。次に亜硫酸ソーダ102、水10
0a+/の水溶液を加え、さらに希硫酸50−を約0℃
で15分を要して滴加した。塩化メチレン層を分取し、
重曹水溶液、次いで水を用いて洗浄した稜、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物2.
81Fにインプロピルエーテル30−を加、tて攪拌し
、析出した結晶を戸数した。インプロピルエーテルで洗
浄し表題化合物の結晶1.422を得た。?J)84−
85℃。
実施例4 スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−
メトキシフェニル)−プロピオ ン酸メチル (2)→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル4.0Of。
メトキシフェニル)−プロピオ ン酸メチル (2)→(I) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル4.0Of。
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド7.112、
軸線した塩化メチレン60−の溶液を氷冷し、アルゴン
気流下で粉末状の矛マンガン酸カリウム4、939を約
5℃にて徐々に90分を要して加えた。その後更に同温
度で90分攪拌した。
軸線した塩化メチレン60−の溶液を氷冷し、アルゴン
気流下で粉末状の矛マンガン酸カリウム4、939を約
5℃にて徐々に90分を要して加えた。その後更に同温
度で90分攪拌した。
次に亜硫酸ソーダ・7水塩162、水10〇−の溶液を
加えて5分攪拌した。次いで約28%硫酸20−を10
分で加えた。
加えて5分攪拌した。次いで約28%硫酸20−を10
分で加えた。
塩化メチレン層を分取して、重曹水溶液、水の順で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾し、塩化メテレ/を
留去した。得られた残留物2.55gにインプロピルエ
ーテル10−を加えて約20℃にて1夜放置し、析出し
た結晶を戸数し、インプロピルエーテル10ゴにて洗浄
した。
した後、無水硫酸マグネシウムで乾し、塩化メテレ/を
留去した。得られた残留物2.55gにインプロピルエ
ーテル10−を加えて約20℃にて1夜放置し、析出し
た結晶を戸数し、インプロピルエーテル10ゴにて洗浄
した。
乾燥して表題化合物の結晶0.861gを得た。
mp、84−8.5℃。
参考例1 スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メト
キシフェニル)−3−(2−ニト ロフェニルチオ)−プロピオン酸メチ ル(I)→(m) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル1g(4,42ミリモル
)、2−ニトロチオフェノール1.03g、塩化メチレ
ン20−の溶液に塩化第2スズ0.155m(I,32
6ミリモル)塩化メチレン5ゴの溶液を約0℃で加えた
。
キシフェニル)−3−(2−ニト ロフェニルチオ)−プロピオン酸メチ ル(I)→(m) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル1g(4,42ミリモル
)、2−ニトロチオフェノール1.03g、塩化メチレ
ン20−の溶液に塩化第2スズ0.155m(I,32
6ミリモル)塩化メチレン5ゴの溶液を約0℃で加えた
。
同温度で60分攪拌した後、水20−を加えて攪拌した
。塩化メチレン層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。得られた両有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー(シリカケ°ル、クロロホル
ム:酢酸エチル)による分離精製操作に賦して表題化合
物とそのエリスロ体の混合物結晶1.50 fを得た。
。塩化メチレン層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。得られた両有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー(シリカケ°ル、クロロホル
ム:酢酸エチル)による分離精製操作に賦して表題化合
物とそのエリスロ体の混合物結晶1.50 fを得た。
収率93.4%。
この混合物1.50 fにスレオ体(I)の標品1.1
22を添加し、エタノール112−を加えて加熱溶解し
た。室温にて一夜放冷して析出した結晶を戸数し乾燥し
て表題化合物2.128y(正味1.0082)を得た
。収率62.8%。mp、157−161℃。
22を添加し、エタノール112−を加えて加熱溶解し
た。室温にて一夜放冷して析出した結晶を戸数し乾燥し
て表題化合物2.128y(正味1.0082)を得た
。収率62.8%。mp、157−161℃。
NMR(CDCI、’、DMSO−d6−1: 1)δ
:3.57(3H,s) 3.74 (51!、 s ) 4.35−4.50 (I IIXm)4.85 (I
11Xd、 J=5.211z )6.13(I//
、dX J=5.911z、011)6.78−a06
<811X m) 参考例2 スレオ−2−ヒドロキシ−3−<4−メト
キシフェニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プ
ロピオン酸メチル (I)→([[l)スレオ−2,3
−ジヒドロキシ−5−(4−メトキシフェニル)−プロ
ピオン酸メチル1g(4,42ミ17モル)、2−ニト
ロチオフェ/ −/I10.75517.塩化メチレン
20ゴの溶液に塩化第2スズ0.052m1(0,44
2ミリモルフ塩化メチレン5ゴの浴液を02℃で満願し
た。
:3.57(3H,s) 3.74 (51!、 s ) 4.35−4.50 (I IIXm)4.85 (I
11Xd、 J=5.211z )6.13(I//
、dX J=5.911z、011)6.78−a06
<811X m) 参考例2 スレオ−2−ヒドロキシ−3−<4−メト
キシフェニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プ
ロピオン酸メチル (I)→([[l)スレオ−2,3
−ジヒドロキシ−5−(4−メトキシフェニル)−プロ
ピオン酸メチル1g(4,42ミ17モル)、2−ニト
ロチオフェ/ −/I10.75517.塩化メチレン
20ゴの溶液に塩化第2スズ0.052m1(0,44
2ミリモルフ塩化メチレン5ゴの浴液を02℃で満願し
た。
約19℃で19時間償押した後、水20−を加えて攪拌
した。塩化メチレン層を分取し、水層を酢酸エチルで抽
出した。得られた両有機層を水で洗浄した後無水mWマ
グネシウムで乾燥した。爵媒を留去して得られた残留物
にエタノール55ゴを加えて加熱溶解した。室温にて一
夜放冷して析出した結晶を戸数し、乾燥して表題化合物
の結晶0.916gを得た。収率57.0%。
した。塩化メチレン層を分取し、水層を酢酸エチルで抽
出した。得られた両有機層を水で洗浄した後無水mWマ
グネシウムで乾燥した。爵媒を留去して得られた残留物
にエタノール55ゴを加えて加熱溶解した。室温にて一
夜放冷して析出した結晶を戸数し、乾燥して表題化合物
の結晶0.916gを得た。収率57.0%。
ml) 156−160℃。
参考例5 スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メト
キシフェニル)−3−(2−ニト ロフェニルチオ)−プロピオン酸メチ ル(I)→Cm) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル3.75 (I(I6,
58ミリモル)、2−ニトロチオフェノール2.57g
、塩化メチレン37.5mの溶液を氷冷し、57ツ化ホ
ウ素エチルエーテルコンプレツクス0.612ゴ(4,
97ミリモル)、塩化メチレン5ゴの溶液をアA/がン
気流下にて2〜4℃、45分で満願した。さらに引続き
同温度にて150分攪拌した後、次に約22℃で120
分攪拌した。
キシフェニル)−3−(2−ニト ロフェニルチオ)−プロピオン酸メチ ル(I)→Cm) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル3.75 (I(I6,
58ミリモル)、2−ニトロチオフェノール2.57g
、塩化メチレン37.5mの溶液を氷冷し、57ツ化ホ
ウ素エチルエーテルコンプレツクス0.612ゴ(4,
97ミリモル)、塩化メチレン5ゴの溶液をアA/がン
気流下にて2〜4℃、45分で満願した。さらに引続き
同温度にて150分攪拌した後、次に約22℃で120
分攪拌した。
溶媒を留去して得られた残留物にエタノール2〇−を加
えて放置後、析出した結晶を戸数し、イングロビルエー
テルにて洗浄した後、乾燥して表題化合物の結晶4.5
89fを得た。収率72.9%。
えて放置後、析出した結晶を戸数し、イングロビルエー
テルにて洗浄した後、乾燥して表題化合物の結晶4.5
89fを得た。収率72.9%。
m’i)、 156−160℃。
参考例a dt−スレオ−2−ヒドロキシ−6−(4
−メトキシフェニル)−3−(2 −二トロフェニルチオ)−プロピオン 酸 (ホ)→■ スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル
)−5−<2−二トロフェニルチオ)−プロピオン酸メ
チル3.28El、エタノール50服、及び5%(W/
V)苛性ソーダ水溶液17m/を12°〜15℃で90
分攪拌した。反応液を水250 ml、中に入れて攪拌
し、不溶物を炉去した。
−メトキシフェニル)−3−(2 −二トロフェニルチオ)−プロピオン 酸 (ホ)→■ スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル
)−5−<2−二トロフェニルチオ)−プロピオン酸メ
チル3.28El、エタノール50服、及び5%(W/
V)苛性ソーダ水溶液17m/を12°〜15℃で90
分攪拌した。反応液を水250 ml、中に入れて攪拌
し、不溶物を炉去した。
得られたF液に14℃で10%塩酸7.76 Wttを
加えて酸性としだ。析出した結晶を戸数し、水洗し、真
空乾燥した。得られた粗結晶を0.5倍容貴のエタノー
ルから再結晶して表題化合物の結晶2.5772を得た
。収率82.0%。mp166−167℃。
加えて酸性としだ。析出した結晶を戸数し、水洗し、真
空乾燥した。得られた粗結晶を0.5倍容貴のエタノー
ルから再結晶して表題化合物の結晶2.5772を得た
。収率82.0%。mp166−167℃。
NMR(CD、C0CD、−TMS )δ:3.77
(5H,5) 4.60 (IH,ri、J=4Hz)5.0(IH+
d、J=4Z/g) 6.7〜a5 (I0H、m) 参考例s tit−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(
4−メトキシフェニル)−3−(2 −二トロフェニルチオ)−プロピオン 酸のl−ノルエフニトリ/による光学 分割 φ1P)→M dl−スレオ−2−ヒドロキシ−6−(4−メトキシフ
ェニルl−!1−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピ
オンI!1!210gX t−ノルエフェドリン4.5
5gにエタノール150ゴを加えて加熱溶解した。70
分室温で攪拌した後、析出物を戸数し80℃で10時間
乾燥して粗結晶7.32 rtを得た。この粗結晶7.
159をエタノール186葱から再結晶し同様に乾燥し
て塩結晶5.98gを得た。
(5H,5) 4.60 (IH,ri、J=4Hz)5.0(IH+
d、J=4Z/g) 6.7〜a5 (I0H、m) 参考例s tit−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(
4−メトキシフェニル)−3−(2 −二トロフェニルチオ)−プロピオン 酸のl−ノルエフニトリ/による光学 分割 φ1P)→M dl−スレオ−2−ヒドロキシ−6−(4−メトキシフ
ェニルl−!1−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピ
オンI!1!210gX t−ノルエフェドリン4.5
5gにエタノール150ゴを加えて加熱溶解した。70
分室温で攪拌した後、析出物を戸数し80℃で10時間
乾燥して粗結晶7.32 rtを得た。この粗結晶7.
159をエタノール186葱から再結晶し同様に乾燥し
て塩結晶5.98gを得た。
収率85.5%、tn7)178−182℃、〔α〕〃
−56,6° (C1,0、メタノール)。この塩結晶
5.81gに水28−を加え加熱還流し、さらに10チ
塩酸6.9 rdを加えて放冷した。−夜室温で攪拌し
た後析出した結晶を戸数し乾燥してd−スレオ−2−ヒ
ドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−
ニトロフェニルチオ)−フロビオ/酸の結晶3.63
(Jを得た。収率896チ。
−56,6° (C1,0、メタノール)。この塩結晶
5.81gに水28−を加え加熱還流し、さらに10チ
塩酸6.9 rdを加えて放冷した。−夜室温で攪拌し
た後析出した結晶を戸数し乾燥してd−スレオ−2−ヒ
ドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−
ニトロフェニルチオ)−フロビオ/酸の結晶3.63
(Jを得た。収率896チ。
fi2111〜112℃。〔α〕ソ+120.7゜(C
1,0、クロロホルムン 〔α)ニー153.6°(c 1.0 、0AN−Na
OH)参考例6 t−スレオ−2−アセトキシ−3−(
4−メトキシフェニル)−3−(2 −ニトロフェニルチオ)−プロピオン 酸 (V)−61) d−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−フロビオ/
酸のl−ノルエフェドリン塩0.4002に塩化メチレ
ン2mt、N、N−ツメチルホルムアミド1.60m、
ピリジノ0.16−を加えて溶解し、次いで室温にてア
セチルクロリドCLO63m/を満願した。同温度で2
0分攪拌した後、溶媒を留去して得られた残留物を酢酸
エチル20m1に溶解し、次いで希塩酸で洗浄した。
1,0、クロロホルムン 〔α)ニー153.6°(c 1.0 、0AN−Na
OH)参考例6 t−スレオ−2−アセトキシ−3−(
4−メトキシフェニル)−3−(2 −ニトロフェニルチオ)−プロピオン 酸 (V)−61) d−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−フロビオ/
酸のl−ノルエフェドリン塩0.4002に塩化メチレ
ン2mt、N、N−ツメチルホルムアミド1.60m、
ピリジノ0.16−を加えて溶解し、次いで室温にてア
セチルクロリドCLO63m/を満願した。同温度で2
0分攪拌した後、溶媒を留去して得られた残留物を酢酸
エチル20m1に溶解し、次いで希塩酸で洗浄した。
得られた酢酸エチル溶液を食塩水12ゴと6N−塩酸0
.8−との混合液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥して溶媒を留去した。
.8−との混合液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥して溶媒を留去した。
得られた残留物を塩化メチレン8dK溶解した徒、再び
溶媒を留去して真空乾燥した。
溶媒を留去して真空乾燥した。
固体の表題化合物290■を得た。収率92%。
mp4B−55℃。〔α:153−4.6°(cl、o
+メタノール) 参考例7 d−スレオ−2−アセトキシ−3−(2−ア
ミノフェニルチオ)i−’ (4−メトキシフェニル)−プロピオ ン酸 め→α1 1−スレオ−2−アセトキシ−3−(4−メトキシフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−フロビオ/
酸52.5%ノぐラジウム炭素(50%含水物)6fに
窒素気流下で酢酸エチル5〇−を加えた。次に窒素を水
素でよく置換し、18〜19℃、4時間で接触水素化を
行った。反応終了後、触媒を炉別して得たろ液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。表題化合物
4.292を得た。収率92.9%。
+メタノール) 参考例7 d−スレオ−2−アセトキシ−3−(2−ア
ミノフェニルチオ)i−’ (4−メトキシフェニル)−プロピオ ン酸 め→α1 1−スレオ−2−アセトキシ−3−(4−メトキシフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−フロビオ/
酸52.5%ノぐラジウム炭素(50%含水物)6fに
窒素気流下で酢酸エチル5〇−を加えた。次に窒素を水
素でよく置換し、18〜19℃、4時間で接触水素化を
行った。反応終了後、触媒を炉別して得たろ液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。表題化合物
4.292を得た。収率92.9%。
これを酢酸エチルより再結晶して?J)131−133
°C,(α);+338.1° (C101,メタノー
ル)の白色結晶を得た。
°C,(α);+338.1° (C101,メタノー
ル)の白色結晶を得た。
参考例8 d−3−アセトキシ−シス−2,3−ソヒド
ロー2−(4−メトキシフェニ ル)−1,5−ベンゾチアゼピン−4 (5H)−オン ■→傷n 2−クロロ−ピリノン2.75 ml、ジメチル硫酸2
.75−を70°〜80℃の油浴中で2時間加熱した。
ロー2−(4−メトキシフェニ ル)−1,5−ベンゾチアゼピン−4 (5H)−オン ■→傷n 2−クロロ−ピリノン2.75 ml、ジメチル硫酸2
.75−を70°〜80℃の油浴中で2時間加熱した。
放冷後塩化メチレン8omlを加えて溶解した(四級塩
溶液)。
溶液)。
d−スレオ−2−アセトキシ−3−(2−アミノフェニ
ルチオ)−3−(4−メトキシフェニル)−プロピオン
酸8F、塩化メチレ/80−の溶液に氷冷下でトリエチ
ルアミン7、37 mlを加えた後、次に上記の四級塩
溶液を16°〜19℃、1時間で満願した後、さらに引
続き同温度で1時間攪拌した。終了後1N−塩酸40m
で2回、飽和重曹水溶液、水の順で洗い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。啓媒を留去して得た残留物をエタ
ノール22.7rntから再結晶して表題化合物6.1
29を得た。収率81,0チ。mp154−155℃。
ルチオ)−3−(4−メトキシフェニル)−プロピオン
酸8F、塩化メチレ/80−の溶液に氷冷下でトリエチ
ルアミン7、37 mlを加えた後、次に上記の四級塩
溶液を16°〜19℃、1時間で満願した後、さらに引
続き同温度で1時間攪拌した。終了後1N−塩酸40m
で2回、飽和重曹水溶液、水の順で洗い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。啓媒を留去して得た残留物をエタ
ノール22.7rntから再結晶して表題化合物6.1
29を得た。収率81,0チ。mp154−155℃。
〔α) ”n +57.1° (C1,O、クロロホル
ム)参考例9 d−5−アセトキシ−シス−2,6−ジ
ヒドロ・−5−[:2− (ジメチルアミン)エチル]
−2−(4−メトキシフ ェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン −4(5H)−オン塩酸塩。
ム)参考例9 d−5−アセトキシ−シス−2,6−ジ
ヒドロ・−5−[:2− (ジメチルアミン)エチル]
−2−(4−メトキシフ ェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン −4(5H)−オン塩酸塩。
d−5−アセトキシ−シス−2,3−ジヒドロ−2−(
4−メトキシフェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン−
4(5H)−オン 5.0g、アセトニトリル100m
g、 KF−Al、0. 6.35 g、 12%C
W/V)N、N−ジメチルアミンエチルクロリドのトル
エン浴液1五7ゴをアルゴン気流中で15〜20℃にて
48時間攪拌した後、KF−,41,032,OQを追
加し更に24時間攪拌した。
4−メトキシフェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン−
4(5H)−オン 5.0g、アセトニトリル100m
g、 KF−Al、0. 6.35 g、 12%C
W/V)N、N−ジメチルアミンエチルクロリドのトル
エン浴液1五7ゴをアルゴン気流中で15〜20℃にて
48時間攪拌した後、KF−,41,032,OQを追
加し更に24時間攪拌した。
反応終了後、不溶物をろ去しろ液の溶媒を留去した。得
られた残分をトルエン40−に浴解し水12.5dで洗
浄し、ついで飽和食塩水12.5−にて洗浄した。+ル
エン層を炭酸カリウムにて乾燥後、トルエンを留去して
得られた残物にエタノール20ゴを加えて溶解した。冷
却下に1g7%(W/V )塩酸エタノール2.84m
7!を加え析出した結晶をろ取し乾燥して表題化合物の
粗結晶5.27g(粗収軍796%)を得た。
られた残分をトルエン40−に浴解し水12.5dで洗
浄し、ついで飽和食塩水12.5−にて洗浄した。+ル
エン層を炭酸カリウムにて乾燥後、トルエンを留去して
得られた残物にエタノール20ゴを加えて溶解した。冷
却下に1g7%(W/V )塩酸エタノール2.84m
7!を加え析出した結晶をろ取し乾燥して表題化合物の
粗結晶5.27g(粗収軍796%)を得た。
この粗結晶5.0gをエタノール20ゴから再結晶し表
題化合物4.489を得た。母液を濃縮し得られた残分
をエタノール2dから再結晶し表題化合物α26gを得
た。総収量4.74g(総収量75.5%) mp210〜214℃、〔α17+115.5゜((’
1.0、水) 外1名
題化合物4.489を得た。母液を濃縮し得られた残分
をエタノール2dから再結晶し表題化合物α26gを得
た。総収量4.74g(総収量75.5%) mp210〜214℃、〔α17+115.5゜((’
1.0、水) 外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
) 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、 で表わされるスレオ−2,5−ジヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−プロピオン酸エステル。 2、下記式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(II) 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、 で表わされるトランス−4−メトキシ桂皮酸エステルに
酸化剤を作用させることを特徴とする下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされるスレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−プロピオン酸エステルの製法。 3、該酸化剤として四酸化オスミウムを用い共酸化剤と
して第3級アミンN−オキシド化合物を併用する特許請
求の範囲第2項記載の製法。 4、該酸化剤として過マンガン酸塩を使用する特許請求
の範囲第2項記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2698386A JPS62187433A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−プロピオン酸エステル及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2698386A JPS62187433A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−プロピオン酸エステル及びその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62187433A true JPS62187433A (ja) | 1987-08-15 |
Family
ID=12208395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2698386A Pending JPS62187433A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−プロピオン酸エステル及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62187433A (ja) |
-
1986
- 1986-02-12 JP JP2698386A patent/JPS62187433A/ja active Pending
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