JPS62187447A - スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−3−(2−ニトロフエニルチオ)−プロピオン酸エステルの製法 - Google Patents

スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−3−(2−ニトロフエニルチオ)−プロピオン酸エステルの製法

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JPS62187447A
JPS62187447A JP2698486A JP2698486A JPS62187447A JP S62187447 A JPS62187447 A JP S62187447A JP 2698486 A JP2698486 A JP 2698486A JP 2698486 A JP2698486 A JP 2698486A JP S62187447 A JPS62187447 A JP S62187447A
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methoxyphenyl
threo
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JP2698486A
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Yasumasa Nakamoto
中本 泰正
Yoriyasu Ishizuka
石塚 仍康
Osamu Futsukaichi
二日市 修
Taisan Yoshino
吉野 泰山
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Nihon Iyakuhin Kogyo Co Ltd
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Nihon Iyakuhin Kogyo Co Ltd
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  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えば、狭心症又は本態性高血圧症の治療薬
として公知の医薬化合物である下記式([) %式% で表わされるd−3−アセトキシ−シス−2,3−ジヒ
ドロ−5−(2−(ジメチルアミノ)エチル:]−2−
(4−メトキシフェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン
−4(5//)−オン塩酸塩の製造中間体として有用な
下記式(I) II COIl OOR 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、で表わされるス
レオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)
−3−(2−ニトロフェニルチオ)−グミピオン酸エス
テルの新規な製法に関する。
更に詳しくは、本発明は、従来公知文献未記載の下記式
(11) %式% 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、で表わされるス
レオ−2,3−ジヒドロキシ−5−(4−メトキシフェ
ニル)−グミピオン酸エステルと下記式(II) で表わされる2−ニトロチオフェノールを反応させるこ
とを特徴とする上記式(I)公知化合物の新規製法に関
する。
下記式I In )新規化合物は、例えば、下記式%式
%) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされる公知化合物トランス−4−メトキシ桂皮酸
エステルに酸化剤を作用させることによって製造するこ
とができ、本発明は、上記式(IV)化合物て酸化剤を
作用させて上記式(m)化合物を形成し、該式(Ill
 )化合物と前記式(■)2−ニトロチオフェノールを
反応させることを特徴とする前記式(1)公知化合物の
新規製造法にも関する。
上記式(XI )で表わされる公知化合物1−3−アセ
トキ7−ンスー2,5−ジヒドロ−5−〔2−(ジメチ
ルアミノ)エチル)−2−(4−メトキシフェニル)−
1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン塩酸塩は
、′塩酸ジルチアゼム1び本態性高血圧症の治療薬とし
て有用な公知化物である〔新開発医薬品便覧第3版、5
43頁、1983年参照〕。
本発明者等は、前記式(XI)で表わされる塩酸ジルチ
アゼムの製造に関して研究を行って来た。
その結果、従来公知文献未記載の前記式(III)化合
物の合成に成功し、且つ該式(1■)新規化合物が前記
式(Xl)塩酸ジルチアゼムの製造中間体として有用な
前記式(I)公知化合物スレオ−2−ヒドロキシ−3−
(4−メトキシフェニル)−3−(2−ニトロフェニル
チオ)−クロピオン酸エステルの製造に有用であること
を発見し且つ新規な方法による合成に成功した。
本発明者等の研究によれば、該原料式(III)新  
   “規化合物は、例えば、下記式(EV) 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、で表わされるト
ランス−4−メトキシ桂皮酸エステルに酸化剤を作用さ
せる酸化反応によって、容易に且つ高収率、高純度をも
って、工業的に有利に製造でき、上記式(I)公知化合
物は、たとえば上述のようにして得ることのできる下記
式(m)1I   C0OR 但し式中、Rは低級アルキル基、たとえばメチル基、エ
チル基などを示す、 新規化合物と下記式(II) で表わされる2−ニトロチオフェノールを反応せしめる
こと、たとえば、ルイス酸の存在下に脱水反応せしめる
ことによって、容易に且つ高収率、高純度をもって工業
的に有利に製造できることがわかった。
更に、上記式(I)化知化合物の従来製法としては、下
記式 %式% R:エステル残基たとえばメチル基 で表わされるトランス−3−(4−メトキシフェニル)
グリジッド酸エステルト上記(■1X2−ニトロチオフ
ェノールとをルイス酸の存在下に縮合反応させる方法が
知られている〔特開昭57−1 42963号; 1.
Chem、  Sac、  pEI?−K / N  
7’ RA N S 、  I、1725(1984)
:)。
この従来法の反応方式によれば、本発明方法における式
(m)新規化合物とは別異のエポキシ構造を有する上記
式で示されるトランス−3−(4−メトキシフェニル)
グリジッド酸エステルの式(■)2−ニトロチオフェノ
ールに、よる環開裂機構により、水分子の生成を伴なう
ことなしに前記式(1)公知化合物が形成される。これ
に対して、本発明者等の研究によれば式(III)新規
化合物と式(■)2−ニトロチオフェノールとを反応き
せる本発明O反応方式によれば、式(m)新規化合物1
分子と式(If )化合物1分子とから水分子の形成を
伴って式(I)公知化合物が形成されるという、上記従
来方式とは異なった反応機構によって式(I)化合物が
得られることがわかった。
従って、本発明の目的は、前記式(1)で表わされる公
知化合物スレオ−2−ヒドロキシ−6−(4−メトキシ
フェニル)−5−(2−ニトロフェニルチオ)−グロビ
オン酸エステルの新規な製。
法を提供するにある。
本発明の上記目的及び更に多くの他の目的ならびに利点
は、以下の記載から一層明らかとなるであろう。
本発明方法によれば、前記式(m)新規化合物と前記式
(■)2−ニトロチオフェノールを反応させることによ
り、前記式(1)化合物が製造でき、該式(Ill )
新規化合物は、容易に入手可能な容易に製造することが
できる。
上記式(III )化合物の製造態様を含めて、本発明
方法による式(■)スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ
)−グロピオン酸エステルの製法を図式的に示すと、以
下のように示すことができる。
〃 ([V) II  C0OR−一−−−−−−−−−−→(In 
) con COO/? 上記図式に於いて、Ifは低級アルキル基(たとえば、
メチル基、エチル基等)を示す。
上記図式に示した式(1)化合物製造の一態様に於テ、
式(■)トランス−4−メトキシ桂皮酸エステルは例え
ば/、Org、Chem、26.2991 (1961
)及びChem、  Ber、。
ヱ!、2663(1966)に記載の方法を利用もしく
は応用することにより、容易に製造することができる。
上記図式の態様において新規な式(In )スレオ−2
,5−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)−
グロピオン酸エステルは、例えハ適当な反応溶媒中で式
(1■)化合物と酸化剤又は酸化剤及び共酸化剤とを接
触させる態様で実施することができる。
たとえば、酸化剤として例えば四酸化オスミウムを使用
し、又、反応溶媒として例えば、乾繰したエーテル、ベ
ンゼン、ピリジン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル又はこれらの任
意の割合の混合溶媒を使用する態様;さらに、例えば、
触媒量の四酸化オスミウムと共酸化剤として例えば塩素
M−? ト’Jウム、塩素酸カリウム、塩素酸バリウム
、塩素酸銀等の如き塩素^又はN−メチルモルホリンN
−オキシド、トリエチルアミンN−オキシド等の如き3
級アミンN−オキシド化合物とを使用し、又、反応溶媒
として例えば水、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メ
タノール、エタノール、6級−ブチルアルコール、アセ
トン又はこれらの任意の割合の混合溶媒を使用する態様
;さらに例えば、触媒量の四酌化オスミウムと共酸化剤
として例えば過酸化水素とを使用し、又、反応溶媒とし
て例えば無水のエチルエーテル、5級−ブチルアルコー
ル、アセトン又はこれらの任意の割合の混合溶媒を使用
する態様;さらに例えば、触媒量の四酸化オスミウムと
5級−ブチルアルコールとテトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシドとを水溶媒中で使用する態様;又例えば、オ
スミ9ム酸カリウムとか塩素酸ナトリウムとを酢酸水溶
液中で使用する態様;さら罠例えば、ヨウ素酸カリウム
とヨウ素と酢「ジカリウムとを酢酸溶媒中で使用する態
様;さらに例えば、過マンガン酸塩、例えば過マンガン
酸カリウム、又は過マンガン酸アンモニウム塩fA、例
えば過マンガン酸ベンジルトリエチルアンモニウム、過
マンガン酸テトラブチルアンモニウム、過マンガン酸セ
チルトリメチルアンモニウム、過マンガン酸トリカプリ
ルメチルアンモニウム、過マンガン酸トリオクチルメチ
ルアンモニウム、過マンガン酸ベンジルトチメチルアン
モニウム、過マンガン酸ジメチルドデシルエチルアンモ
ニウム、過マンガン酸ジメチルエテルヘキサデシルアン
モニウム、過マンガン酸ヘキサデシルトリメチルアンモ
ニウム、過マンガン酸テトラデシルトリメチルアンモニ
ウムζ過マンガン酸テトラエテルアンモニウム、過マン
ガン酸テトラ−π−グロピル7ンモニウム、過マンガン
酸テトラブチルアンモニウム等、又は過マンガン酸ホス
ニウム塩炉、例えば、過マンガン酸テトラブチルホスホ
ニウム、過マンガン酸エチルトリフェニルホスホニウム
、過マンガン酸エチルトリオクチルホスホニタム、過マ
ンガン酸トリプテルヘキサデシルホスホニ9ム等を酸化
剤として用い、反応溶媒として例えば無水塩化メチレン
、3級−ブチルアルコール、トルエン、酢酸エチル、ジ
エチルエーテル、アセトン、ジグロピルケトン、水又は
これらの任意の割合の混合溶媒を使用する態様;等を例
示することができる。
酸化剤の使用量は適当に選択変更できるが、式(1v)
化合物に対して例えば約1〜約2倍モル量を例示できる
。四酸化オスミウムを触媒として使用する場合は式([
V)化合物に対して例えば約0゜1〜約0.001倍モ
ル量の使用量を例示でき、その場合の共酸化剤の使用量
としては、式(!■)化合物に対して例えば約1〜2倍
モル量を例示することかできる。反応溶媒の使用量は適
宜に選択できるが、式(rV)化合物に対して例えば約
5〜約50倍容量の如き使用量を例示することができる
反応温度及び反応時間も適当に選択決定できるが、例え
ば、約−80°〜約+60℃及び約1時間〜約20日間
の如き条件を例示することができる。
これらの過マンガン酸アンモニ9ム塩顛、又は過マンガ
ン酸ホスニウム塩類は第四級アンモニウムハライド又は
第四級ホスホニウムハライドの如き相間移動触媒と過マ
ンガン酸カリウムとから、文献Angetw、  Ch
em、  Lnt 、  Ed、  Engl 。
二且、68(1979)に記載の製法を利用又は応用す
る仁とにより結晶性化合物として製造することができ、
さらに文献CHEMISTRYLETTER5,443
(1979)に記載の製法を利用又は応用することによ
り溶液として例えば塩化メチレン溶液として製造するこ
とも出来る。
そして結晶性化合物として又は溶液として調製した該酸
化剤のいずれをも該酸化反応に用いることができる。こ
の様にして得られる式([11)化合物は、反応溶媒中
でルイス酸の存在下で式(II)2−ニトロテオフエノ
ールとの脱水反応に付すことによりスレオ型、エリスロ
型の混合物を形成し、該混合物を適当な溶媒から再結晶
等により精製することにより式(I)で表わされる公知
のスレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニ
ル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−fロピオン酸
エステルに転化することができる。
反応溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、
アセトニトリル又はこれらの任意の割合の混合溶媒等を
例示することができる。
その使用量には特別な制約はなく、適当に選択できるが
、例えば式(III)化合物に対して約10〜約40倍
容量の如き使用量を例示することができる。
又、2−ニトロチオフェノールの使用量としては、式+
 III )化合物に対して例えば約1〜約2倍モル量
の如き使用量を例示することができる。
尚、2−ニトロチオフェノールはC,A、53.130
94α(1953)に記載の方法を利用して製造するこ
とができる。
上記反応において利用するルイス酸の例としてハ、例え
ば57ツ化ホウ素(エチルエーテル−y7グレツクス又
はメタノールコンプレックスとして使用することもでき
る。)、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第2スズ、塩化第
1スズ、°臭化第2スズ、臭化第1スズ、ヨウ化第1ス
ズ、ヨウ化第1スズ、フッ化第1スズ、硫酸、リン酸、
ポリリン酸、過塩素酸、ステアリン酸第1スズ、オクチ
ル酸第1スズ等を例示することができる。
その使用量は、適当に選択変更できるが、式([II)
化合物に対して例えば約0.1〜約1倍モル量の如き使
用量を例示することができる。
反応条件は使用するルイス酸の種類、その使用量などに
より適当に変更できるが、例えば約−20°〜約+10
0℃、好ましくは約0°〜約80℃で例えば約10分〜
約72時間好ましく 1@約1〜約6時間の如き反応条
件を例示することができる。
式(m)化合物と2−ニトロチオフェノールとから該脱
水反応により得られる生成物は通常式(1)で表わされ
るスレオ型(2位の水酸基と3位の2−ニトロフェニル
チオ基との配位がスレオ型でめる。)とその異性体であ
る若干のエリスロ型(2位の水酸基と3位の2−ニトロ
フェニルチオオ基との配位がエリスロ型である。)の混
合物として得られるので、適当な再結晶溶媒、例えばメ
タノール、エタノール、イングロ/ぐノール又はこれら
の任意、の割合の混合物等を用いて、該混合物を再結晶
等による精製操作に付すことにより、式(I)で表わさ
れる所望のスレオ型を容易て得ることができる。
例えば以上に記載したような態様により製造することの
できる式(1)化合物は、既述のように、例えば前記式
(XI)で表わされる公知医薬化合物塩酸ジルチアゼム
の製造中間体として極めて有用である。
以下、式(I)化合物利用の一態様として、前記式(X
I)化合物の製法について説明する。
上記利用態様は下記式で表わすことができる。
C00R 0O11 (V) 0OII (■1) oon (Vl!り (IX) C1l、C112N (C1l、) 。
(X) 前述のようにして得ることのできる式(I)で表ワサレ
ルスレオー2−ヒドロキシ−5−<4−メトキシフェニ
ル)−5−(2−二トロフェニルテオ)−ノロピオン酸
エステルを反応溶媒中でそのエステル基の加水分解反応
に賦することによシ式11V)で表わされる公知のスレ
オ−2−ヒドロキシ−5−(4−メトキシフェニル)−
3−+2−二トロフェニルテオ)−ゾロピオン酸t 製
造することかできる。
反応溶媒としては例えば、水、メタノール、エタノール
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン
又はこれらの任意の割合の混合溶媒等を例示することが
できる。その使用量にはとくべつな制約はないが、式(
f、)化合物に対して例えば約5〜約30倍容量の如き
使用量を例示することができる。加水分解はアルカリ性
条件下で行うのが好ましく、例えば、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化リテ9ム、水酸化カルシウム
等を水溶液又はアルコール溶液として添加して行うこと
ができる。
その使用量としては式(f)化合物に対して例えば約0
.5〜約5倍モル量の如き使用量を例示することができ
る。
反応条件は適当に選択できるが、例えば約0゜〜約80
℃で例えば約30分〜約10時間の如き条件をfす示す
ることかできる。
反応終了後は、例えば塩酸等を用いて酸性溶媒として析
出する結晶を戸数することにより式(V)化合物を得る
ことができる。
式(V)化合物より式(XI)化合物を製造する一連の
製造法、については同一出願人の出願に係わる特願昭6
0−002207号に詳しく記載しであるが以下に改め
て記載して説明する。
このようにして得ることのできる式(V)で表わされる
dt−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオ
ン酸は常法に従い光学活性な有機塩基を用いて光学分割
して、例えば前記式(Vl)で表わされるd−スレオ−
2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)−3−
(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸の光学活性
な有機塩基の塩(例えばl−ノルエフェドリン塩)に変
換することができる。
例えば、上記ラセミ型(dl一体)の式(V)な 化合物を適当な溶媒中で光学活1囁機塩基と反応させて
対応する2種のジアステレオマーを形成させた後、溶媒
に対する溶解度差を利用して、必要な一方のジアステレ
オマーを難溶性の結晶性塩として晶出させ、これを分取
することにより光学分割を行うことができる。この光学
分割て利用する分割試剤の例としては、d−N−ベンジ
ルエフェドリン、d−N−メチルエフェドリン〔以上三
者は薬学雑誌、第76巻、1227頁(1956年)に
記載の製法を参考にして製造できる〕、l−フルニスニ
ドリン〔薬学雑誌、第48巻、947頁(1928年)
に記載の製法を利用して製造できる〕等の光学活性有機
塩基を例示することができる。
これらの分割試剤の使用量は適宜に選択変更できるが、
式(V)化合物に対して約当量で使用するのが普通であ
る。
上記光学分割に利用する分割溶媒の例としては、例えば
メタノール、エタノール、インプロノeノール、酢酸エ
チル、メチルインブチルケトン又はこれらの任意の割合
の混合物等を挙げることができる。その使用量は適当に
選択変更できるが、式(V)化合物に対して例えば約5
〜約40倍容量の如き使用量を例示することができる。
上記光学分割の実施に際して、温度及び時間は適宜に選
択できるが、例えば約06〜約50℃で約5〜約24時
間の如き条件を例示することができる。
上述のようにして得ることのできる前記式(Vl)化合
物を、たとえば反応溶媒中で、酢酸のカルボキシル基に
おける反応性誘導体と、必要により有機塩基の存在下で
、反応せしめることにより前記式(■)で表わされるl
−スレオ−2−アセトキシ−3−(4−メトキシフェニ
ル)−3−(2−二トロフェニルチオ)−プロピオン酸
に変換することができる。利用する反応溶媒の例として
は、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロメ
タン、アセトニトリル、N、N−ジメチルホルムアミド
、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ニトロメタン
等及びこれらの任意の割合の混合物を例示することがで
きる。その使用量は適宜に選択変更できるが、式(Vl
)化合物に対してたとえば約2〜約30倍容量の如き使
用量を例示することができる。
上記反応に利用する酢酸のカルボキシル基における反応
性誘導体の例としては、たとえば酢酸ハライド、無水酢
酸、1−アセテルー3−ベンジルイミダゾリウムプロミ
ド、1−アセテルー3−zメチルイミダゾリウムヨーシ
ト、1−アセテルー3−メチルイミダゾリウムモノメチ
ル硫酸塩等の反応性誘導体を例示することができる。そ
の使用量は適当に選択変更できるが、例えば式(Vl)
化合物に対して約1〜約2倍モルの如き使用量を例示す
ることができる。
反応に際して、上記反応性誘導体として酢酸・・ライド
又は無水酢酸を使用する場合には、有機塩基として、例
えばピリジン又はトリエチルアミン等の存在下に反応を
行うことも出来る。この際、利用する有機塩基の使用量
は適当に選択変更できるが、酢酸ハライド又は無水酢酸
に対して例えば約1〜約5倍モルの使用量を例示するこ
とができる。
反応温度及び反応時間も適当に選択できるが、例えば約
06〜約100℃及び約1〜約10の如き条件を例示す
ることができる。
反応後、反応生成物液から常法により光学活性な有機塩
基を収率よく回収することができ、回収した光学活性な
有機塩基は上記光学分割に反復して再使用することがで
きる。
前記式(Vl)化合物は、たとえば上述のようにして得
ることのできる式(■)化合物を還元することによりそ
のニトロ基をアミン基に変換する態様で容易に且つ収率
よく製造することができる。
この態様による式(■)化合物の製造に際して、還元は
還元剤による還元反応で行うこともできるし、或は又、
接触水素化による還元反応で行うこともできる。還元剤
による還元は、ニトロ基の還元に通常利用される還元剤
、たとえば硫化金属、多硫化金属、亜鉛、鉄、錫等の金
属と鉱酸類を用いる方法で行なうことができる。又、接
触水素化は、貴金属触媒、例えば・ぐラジウム炭素、白
金炭素、等を接触する接触水素化法等により行うことが
できる。反応溶媒の例としては、たとえば酢酸、酢酸エ
チル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン等及びこれらの
任意の割合の混合物を例示することができる。その使用
量は適当に選択できるが、例えば式(■)化合物に対し
て約5〜約30倍容量の如き使用量を例示することがで
きる。又、水素化反応の促進剤として適量の酸類、例え
ば塩酸、過塩素管等を加える事も言しつかえない。
又、接触水素化による還元反応に際して利用する水素化
触媒としてたとえば・ぐラン9ム炭素を使用する場合は
5%〜10%の・ξラジウム炭素の使用を例示すること
ができる。その使用量にもとくべつな制約はないが、例
えば式(■)化合物に対して約0.1〜約2倍重量の如
き使用量を例示することができる。
かぐして得られる式(%IIN)化合物を、例えば、1
−置換−2−ハロピリジニ9ム塩と第三級アミンとの存
在下に、有機溶媒中で室温又は必要により約40″〜約
50℃の如き加温条件下で、約1〜約10時間反応せし
めることにより式([X)で表ワされるd−5−アセト
キシ−シス−2,3−ジヒドロ−2−(4〜メトキシフ
エニル11 。
5−ベンゾチアゼピン−4(5//)−オンに変換する
ことができる。
この際利用する反応溶媒の例としては、例えばN、N−
ジメチルホルムアミド、g$N、N−ジメチルアセトア
ミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、1
.2−ジメトキシエタン、ジオキサン、アセトニトリル
、ベンゼン、塩化メチレン、クロロホル入等及びこれら
の任意の割合の混合溶媒を例示することができる。この
ような反応溶媒の使用量にはとくべつな制約はないが式
(%g)化合物に対して約10〜約100倍容量の使用
量を例示することができる。
上記反応に利用する1−置換−2−ハロピリジニウム塩
としては、例えば1−メチル−2−クロロピリジニウム
ヨーシト、1−メチル−2−ブロモピリジニウムメチル
サルフェート、1−メチル−2−1−クローヒリジニウ
ム・ξラドルエンスルホナート、1−エチル−2−プロ
モーピリジニラ、ムチドラフロロボーレート等を例示す
ることができる。これらは例えばプレチン・オン・ザ・
ケばカル・ノサイエテイ・オン・シャラミン、第50巻
、。
1863頁(1979年)に記載の方法により製造する
ことができる。
又、上記の1−置換−2−ノ・ロピリジニウム塩の使用
量としては、式(vl)化合物に対して約1〜約2倍モ
ルの使用量を例示できる。
上記反応に利用する第三級アミンの例としては、例えば
トリエチルアばン、トリーn−ブチルアミン、N、N−
ジメチルシクロヘキシルアミン、1.4−ジアザビシク
ロC2,2,2”Jオクタン、1.5−ジアザビシクロ
C3,3,0)−5−ノネン、1.8−ジアザビシクロ
(:5.4.0:)−7−ウンデセン等を例示すること
ができる。このような第三級アミンの使用量も適当に選
択できるが、例えば、式([)化合物に対して約2.0
〜約2.2倍当量の使用量を例示することができる。
次いで、上述のようにして得ることのできる式(IX)
化合物を非プロトン性溶媒中で、KF−A120.の共
存下に、例えばN、N−ジメチルアミノエテルクロリド
と反応させることにより式%式% ゾチアピピンー4(5//)−オン化合物に変換するこ
とができる。
反応は室温でも進行するので、とくに冷却もしくは加熱
する必要はないが、例えば約20°〜約30℃の如き反
応温度及び約20°〜約3日の如き反応時間を例示する
ことができる。
反応は非プロトン性溶媒中で行うのがよく、このような
溶媒の具体例としては、例えばアセトニトリル、1,2
−ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどの如き非
プロトン性溶媒を例示できる。その使用量にはとくべつ
な制約はないが、例えば式([X)化合物f対して約1
0〜約50倍容量の如き使用量を例示することができる
反応は不活性雰囲気下で行うのが好ましく、たとえばア
ルゴン、窒素等の雰囲気下を例示できる。
N、N−ジメチルエチルクロリドの使用量は適宜に選択
できるが、式([X)化合物に対して例えば約1〜約2
倍当量の如き使用量を例示することができる。
反応に用いるKF−At20.は公知化合物であって、
例えばケミストリー・レターズ755頁+1979年)
に記載の方法でAt20.とKF水溶液を接触させ、例
えばロータリー蒸発器巾約50°〜約60℃の如き条件
で水分を除去し、更に乾燥する手法によって製造するこ
とができる。
水分除去後、減圧乾燥もしくは加熱条件下の減圧乾燥を
行うことができ、例えば約75℃前後、或は約150℃
前後の温度条件下の減圧乾燥を行うことができる。好ま
しい乾燥条件の一例として、約150℃前後の温度条件
下の減圧乾燥を例示することができる。
KF−/f120.の使用量は適宜に選択できるが、式
([X)化合物に対して例えば約1〜約5倍当量(KF
として)の使用量を例示することができる。
又、KF−A 1,0.におけるKFの含量としては約
40重量%程度が普通であるが適宜に選択することかで
きる。かぐして得られた式(X)化合物を酸類と接触さ
せることにより容易にその塩の形、例えば公知医薬化合
物(Xlに転化できる。
このような塩としては医薬的に許容し得る酸塩(付加塩
)が好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩の如き無機
酸塩、例えば酒石酸塩、クエン酸塩、フマール酸塩の如
き有機酸塩を例示することができる。
以下実施例及び参考例により本発明方法を更に詳しく説
明する。
111 1、  スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−
(4−メトキシフェニル)−プロ ピオン酸メチル。(fV)→(m ) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル2.00.9+1
0.4ミリモル)、N−メチルモルホリンN−オキシド
・2水和物1.75.%、アセトン25m、温にて8日
間攪拌した。
次いでハイドロサルファイドナトリウム0.511ケイ
醒マグネシウム5I、水5 mlを加えて50分攪拌し
た。
反応液を濾過した。p液を儂縮して得た残留物に塩化メ
チレンを加えて抽出した。抽出液を2N−塩酸、次いで
重曹水溶液を用いて洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得た残留物をカラムクロマ
トグラフィー(シリカケル、クロロホルム:酢酸エチル
)による分離、精製操作に賦して表題化合物の白色結晶
1.78 gを得た。収率75.7%。mp84−85
℃。
これをイングロノ’?ノールより再結晶してml)86
−88℃の結晶を得た。
NMR(CDCI、)δ: 2.84 (1//Xd%J =6.511 zSol
l。
D20処理で消失) 3.21 (I If、 d、 J=6.511 z、
 011゜D20処理で消失) 3.78 (5111s ) 3.80 (511,s ) 4.26−4.37 (111,m) 4.90−5.00 (1//、 m)6.88 (2
11,d%J=8.811z )Z31 (2/7. 
 d%J=F3.811z )IRvKB”   −+ □a工α  : 3470.3670.1700.16
10. 1510.1440. 1310.1220. 1170、1100. 1050、1020. 930、880.840゜ 800、780、740. 700、560 オン酸メチル。(rV)→(III) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル2.OO,7、(
10,4ミリモル)、N−メチルモルホリンN−オキ7
ド・2水和物1.7!!、アセトン25ゴ、水6 ml
の溶液に1%W/υ四酸化オスミウム水溶!2.65m
e(0,1ミリモル)を添加して室温にて19時間攪拌
した。
次いで実施例1に示した場合と同様の処理、取出し操作
に賦して表題化合物の結晶2.04gを得た。収率86
.9%。m、p84−85℃。
実施例3.  スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(
4−メトキシフェニル)−プロ ピオン酸メチル。(rV)→(In) トランス−4−メトキシ桂皮酸メチル4.00&。
無水塩化メチレン40m1の溶液を一40℃に冷却し、
種畔しながら過マンガン酸ベンジルトリエチルアンモニ
ウム9.72 #を80分で添加した。次いて二更に・
−30〜−40℃で70分攪拌した。
次に亜硫酸ソーダ10.9、水100m1の水溶液を加
え、さらに希硫@ 50 mlを約0℃で15分を要し
て滴加した。
塩化メチレン層を分取し、重曹水溶液、次いで水を用い
て洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去して得た残留物2.81gにイソゾロビルエ
ーテ、ル30−を加えて攪拌し、析出した結晶を戸数し
た。
イングロビルエーテルで洗浄し表題化合物の1、42 
#を得た。収率30.2%。rn p 84−85℃。
18 施例4.  スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3
−(4−メトキシフェニル)−プロ ピオン酸メチル。(1■)→(III)トランス−4−
メトキシ桂皮酸メチル4,007゜ベンジルトリエチル
アンモニウムクロリド7、11g、乾燥した塩化メチレ
ン607dの溶液を氷冷し、アルゴン気流下で粉末状の
過マンガン酸カリウム4.93.9を約5℃にて徐々に
90分を要して加えた。その後更に同温度で90分攪拌
した。
次に亜硫酸ソーダ・7水塩16g、水10〇−の溶液を
加えて5分攪拌した。次いで約28%硫?I! 20 
mlを10分で加えた。
塩化メチレン層を分取して、重重水溶液、水の順で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾し、塩化メチレンを
留去した。得られた残留物2.551にイングロビルエ
ーテル10−を加えて約20℃にて1夜放置し、析出し
た結晶を戸数し、イングロビルエーテル10fIItに
て洗浄した。
乾燥して表題化合物の結晶0.861.9を得た。
収率1a3%。
mp、B4−85℃。
実77J例5.  スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−3−(2− 二トロフェニルチオ)−プロピオン 酸メチル。(ill )→(I) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル11(4,42ミリモル
)、2−ニトロチオフェノール1.03N、塩化メチレ
ン20−の溶液に塩化第2スズ0.155m(1,32
6ミリモル)塩化メチレン5ゴの溶液を約0℃で加えた
同温度で60分攪拌した後、水20−を加えて攪拌した
。塩化メチレン層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。得られた両有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物を
カラムクローrトゲラフイー(シリカゲル、クロロホル
ム:酢酸エチル)による分離精製操作に賦して表題化合
物とそのエリスロ体の混合物結晶1.50.9を得た。
収率93.4%。
この混合物1.50.9にスレオ体の標品1.12.9
を添加し、エタノール112ゴを加えて加熱溶解した。
室温にて一夜放冷して析出した結晶を戸数し乾燥して表
題化合物2.128#(正味1.008g)を得た。収
率62.8%。
mp  157−161℃。
NMR(CDCI、: DMSO−d6−1 : 1 
)δ:3.57(1//、s) 3.74  (311,s ) 4.35−4.50  (1/7.m)4.83 (I
 l11d、  !=5,211 z )6.13  
(1//S d、!=5.911z、011)6.78
−a06+8#、m) 実k 例6.  スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−
メトキシフェニル)−3−(2− ニトロフェニルチオ)−fロピオン 酸メチル。(III )→(【) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−5−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル11(4,42ミリモル
)、2−ニトロチオフェノール0、755 #、塩化メ
チレン20m1の溶液に、塩化第2スズ0.052m(
0,442ミリモル)、塩化メチレン5−の溶液を0℃
で滴加した。
約19℃で19時間攪拌した後、水20−を加えて攪拌
した。塩化メチレン層を分取し、水層を酢酸エチルで抽
出した。得られた両有機層を水で洗浄した後無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物
にエタノール55m1を加えて加熱溶解した。室温にて
一夜放冷して析出した結晶を戸数し、乾燥して表題化合
物の結晶0.916gを得た。収率57.0%。
mp  156−160°C 実MgYsJ  7.  スレオ−2−ヒドロキン−5
−(4メトキシフエニル)−5−(2−ニ トロフェニルチオ)−プロピオン酸 メチル。+ III )→(I) スレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−プロピオン酸メチル3.75.9(16,5
8ミリモル)、2−ニトロチオフェノール2.57,9
.塩化メチレン37.5 mlの溶液を氷冷し、6フツ
化ホウ素エチルエーテルコングレツクス0.612m 
(4,97ミリモル)、塩化メチレン5 mlの溶液を
アルゴン気流下にて2〜4℃、45分で滴加した。さら
に引続き同温度にて150分攪拌した後、次に約22℃
で120分攪拌した。
溶媒を留去して得られた残留物にエタノール20m1を
加えて放置後、析出した結晶をF取し、イングロビルエ
ーテルにて洗浄した後、乾燥して表題化合物の結晶4.
389.fを得た。収率72.9%。
mp、156−160℃。
参考例 1. dl−スレオ−2−ヒドロキシ−5−(
4−メトキシフェニル)−3− (2−ニトロフェニルチオ)−プロ ピオン酸。(I)→(V) スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル
) −5−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン酸
メチル3.288N、エタノール50rat、及び5%
(w/l苛性ソーダ水溶液17ゴを12°〜15℃で9
a分攪拌した。反応液を水25〇−中に入れて攪拌し、
不溶物を炉去した。
得られた一1pfi、に14℃で10%塩酸7.76 
mlを加えて酸性とした。析出した結晶をF取し、水洗
し、真空乾燥した。得られた粗結晶を0.5倍容量のエ
タノールから再結晶して表題化合物の結晶2.577I
を得た。収率82.0%。
mp166−167℃。
NMR(CD、C0CD、−TMS)δ:3.77(3
//1 g) 4.60(1//、d、J=4Hz) 5.0  (1//、d、/=411z)6.7〜8.
5(10//、m) 参考例 2.dl−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4
−メトキシフェニル)−3− (2−ニトロフェニルチオ)−fロ ピオン酸のl−ノルエフェドリンに よる光学分割。(V)→(M) di−スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフ
ェニル)−3−(2−二トロフェニルチオ)−プロピオ
ン酸1Qg、l−ノルエフェドリン4.5517にエタ
ノール150m7!を加えて加熱溶解した。70分室温
で攪拌した後、析出物を戸数し80℃で10時間乾燥し
て粗結晶7.329を得た。この粗結晶7.1517を
エタノール186ゴから再結晶し同様に乾燥して塩結晶
5.98gを得た。
収率85.5チ、mp17B−182℃、〔α〕男−3
6,6° ((?1.Q、メタノール)この塩結晶5゜
81gに水28ゴを加え加熱還流し、さらに1゜多塩酸
6.97!を加えて放冷した。−夜室温で攪拌した後析
出した結晶をP取し乾燥してd−スレオ−2−ヒドロキ
シ−3−(4−メトキシフェニル)−3−(2−ニトロ
フェニルチオ)−テロピオン酸の結晶3.639を得た
。収率896チ。
mpl 11〜112℃。
〔α:)’、’+120.7° (C1,O,韓クロロ
ホルム)。
(a )2.;−153,6° (C1:(!I、 惑
0. I N −Nαon)。
参考例3. 1−スレオ−2−アセトキシ−3−(4−
メトキシフェニル)−5− (2−ニトロフェニルチオ)−テロ ピオン酸。(Vl)→(■1) d−スレオ−2−ヒドロキシ−6−(4−メトキンフェ
ニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プロピオン
酸のl−ノルエフェドリン塩0.4001に塩化メチレ
ン2 nd%N、N−ジメチルホルムアミド1.60 
mlピリジン0.16 mlを加えて溶解し、次いで室
温にてアセチルクロリド0−063 mlを滴加した。
同温度で20分攪拌した後、溶媒を留去して得られた残
留物を酢酸エチル20 mlに溶解し、次いで希塩酸で
洗浄した。
得られた酢酸エチル溶液を食塩水12−と6N−塩酸0
.8 mlとの混合液で洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥して溶媒を留去した。
得られた残留物を塩化メチレン8 mlに溶解した後、
再び溶媒を留去して真空乾燥した。
固体の表題化合物290〜を得た。収率92%。
mp4B−55℃。〔α〕g−4,bo (C1,O,
林メタノール)。
参考例4  ct−スレオ−2−アセトキシ−5−(2
−アミノフェニルチオ)−3− (4−メトキシフェニル)−プロピ オン酸。(Vl)→(■) l−スレオ−2−アセトキシ−5−(4−メト。
キ7フェニル)−3−(2−二トロフェニルチオ)−テ
ロピオン酸5g、5%・ぐラジウム炭素(50%含水物
)61に窒素気流下で酢酸エテル50tIltを加えた
次に窒素を水素でよく置換し、18〜19℃、4時間で
接触水素化を行った。反応終了後、触媒   ・を戸別
して得たF液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去した。表題化合物4.29 、li’を得た。収率
9269% これを酢酸エチルよシ再結晶してmp131−133℃
、Ca〕’、j+ssa、1° ((?1.Q、轡ヒド
ロー2−(4−メトキシフェニ ル)−1,5−ベンゾチアゼピン− 4(5Hン −オン。 (■ン→(■ン2−クロロピリ
ジン2.75d、ジメチル硫酸2、75 mを70°〜
80℃の油浴中で2時間加熱した。放冷後、塩化メチレ
ン80mを加えて溶解した(四機塩溶液鳳 d−スレオ−2−アセトキシ−3−(2−アミノフェニ
ルチオ)−3−(4−メトキシフェニル)−プロピオン
酸8(7,塩化メチレン80dの溶液に水冷下でトリエ
チルアミン7、37 mを加えた後、次に上記の四級塩
心液を16°〜19℃、1時間で滴加した後、さらに引
続同温度で1時間攪拌した。終了後1N−塩酸40m1
で2回、飽和重曹水浴液、水の順で洗い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物をエタ
ノール22.7−から再結晶して表題化合物6.12g
を得た。収率81.0チ。
mp154−155℃。〔α)”;+37.1゜(C1
,0、クロロホルム)。
参考例6 d−3−アセトキシ−シス−2,3−ジヒド
ロ−5−(2−(ジメチルアミ ノ)エチル)−2−(4−メトキシフ ェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン −4(5/7)−オン塩酸塩。
〔(■)→(Xl→(M)〕
d−5−アセトキシ−シス−2,!1−ジヒドロー2−
(4−メトキシフェニル)−1,5−ベンゾチアゼピン
−4(5H)−オン 5.0g、アセトニトリル100
ml、  KF−A12036.3517. 12%C
W’/V)N、N−ジメチルアミンエチルクロリドのト
ルエン浴液13.7 mlをアルゴン気流中で15〜2
0℃にて48時間攪拌した後、KF−At、0.2.O
Qを追加し更に24時間攪拌した。
反応終了後、不啓物をろ去しろ液の溶媒を留去した。得
られた残分をトルエン40−に溶解し水12.5#+7
!で洗浄し、ついで飽和食塩水12.5mlにて洗浄し
た。トルエン層を炭酸カリウムにて乾燥後、トルエンを
留去して得られた残物にエタノール20dを加えて溶解
した。冷却下に18.7%(粗状率79.6チ)を得た
この粗結晶5.0gをエタノール20ゴから再結晶し表
題化合物4.4817を得た。母液を濃縮し得られた残
分をエタノール2−から再結晶し表題化合物0.269
を得た。総状ii4.74g(縮収率75.5%) m’1)210〜214℃、〔α〕■ +115.3゜
(Cj、 Q、水ン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、 で表わされるスレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4
    −メトキシフェニル)−プロピオン酸エステルと下記式
    (II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表わされる2−ニトロチオフェノールを反応させるこ
    とを特徴とする下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされるスレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メト
    キシフェニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プ
    ロピオン酸エステルの製法。 2、下記式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 但し式中、Rは低級アルキル基を示す、 で表わされるトランス−4−メトキシ桂皮酸エステルに
    酸化剤を作用させて、下記式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされるスレオ−2,3−ジヒドロキシ−3−(4
    −メトキシフェニル)−プロピオン酸エステルを形成し
    、該式(III)化合物と下記式(II)▲数式、化学式、
    表等があります▼(II) で表わされる2−ニトロチオフェノールを反応させるこ
    とを特徴とする下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 但し式中、Rは上記したと同義、 で表わされるスレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メト
    キシフェニル)−3−(2−ニトロフェニルチオ)−プ
    ロピオン酸エステルの製法。
JP2698486A 1986-02-12 1986-02-12 スレオ−2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフエニル)−3−(2−ニトロフエニルチオ)−プロピオン酸エステルの製法 Pending JPS62187447A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989005291A1 (en) * 1987-11-30 1989-06-15 Ici Australia Operations Proprietary Limited Enantioselective preparation of substituted aminothiophenol derivatives

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WO1989005291A1 (en) * 1987-11-30 1989-06-15 Ici Australia Operations Proprietary Limited Enantioselective preparation of substituted aminothiophenol derivatives

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