JPS62169348A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS62169348A JPS62169348A JP1134286A JP1134286A JPS62169348A JP S62169348 A JPS62169348 A JP S62169348A JP 1134286 A JP1134286 A JP 1134286A JP 1134286 A JP1134286 A JP 1134286A JP S62169348 A JPS62169348 A JP S62169348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- field insulating
- insulating film
- groove
- fuse
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は冗長(リダンダンシー)回路を有する半導体装
置に関し、特にヒーーズを溶断することによりてリダン
ダンシー回路を作動せしめる半導体装置に関するもので
ある。
置に関し、特にヒーーズを溶断することによりてリダン
ダンシー回路を作動せしめる半導体装置に関するもので
ある。
従来のりダンダン7−回路含有する半導体装置では、リ
ダンダンシー用のヒーーズの溶断部は半導体装置の素子
間を分離する厚いフィールド絶縁膜上に設けられていた
。
ダンダンシー用のヒーーズの溶断部は半導体装置の素子
間を分離する厚いフィールド絶縁膜上に設けられていた
。
上述した従来の半導体装置では、リダンダンシー回路を
作動せしめる為にヒーーズをレーザー等で焼き切った際
、焼きかすが周辺の回路に飛散し、これが例えば配線金
属上にのった場合には、電気的短絡事故が生じたり、そ
の部分の保護絶縁膜に穴があき半導体装置の信頼性を著
しく低下せしめるという欠点があった。
作動せしめる為にヒーーズをレーザー等で焼き切った際
、焼きかすが周辺の回路に飛散し、これが例えば配線金
属上にのった場合には、電気的短絡事故が生じたり、そ
の部分の保護絶縁膜に穴があき半導体装置の信頼性を著
しく低下せしめるという欠点があった。
本発明は上述したヒーーズ溶断時の焼きかすをヒユーズ
周辺の回路上に飛散させないようにする為に、リダンダ
ンシー用のヒユーズの溶断部が半導体装置のフィールド
絶縁膜に形成された溝の部分にある構造を有している。
周辺の回路上に飛散させないようにする為に、リダンダ
ンシー用のヒユーズの溶断部が半導体装置のフィールド
絶縁膜に形成された溝の部分にある構造を有している。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。1が半導体
基板、2がフィールド絶縁膜、3がフィ−ルド絶縁領域
に作られた溝、4がリダンダンシー用ヒユーズである。
基板、2がフィールド絶縁膜、3がフィ−ルド絶縁領域
に作られた溝、4がリダンダンシー用ヒユーズである。
フィールド絶縁膜2に選択エツチングによって溝3を作
ったのち、リダンダンシーヒーーズとなる物質をその溝
部分に形成する。
ったのち、リダンダンシーヒーーズとなる物質をその溝
部分に形成する。
なお、溝3を作る際のエツチングではフィールド絶縁膜
2を貫通しないようにする必要がある。
2を貫通しないようにする必要がある。
かかる構造によれば、ヒユーズは厚いフィールド絶縁膜
の溝部に設けられているが、この溝内のヒユーズ部分を
溶断することは周知の方法で比較的簡単に可能である。
の溝部に設けられているが、この溝内のヒユーズ部分を
溶断することは周知の方法で比較的簡単に可能である。
以上説明したように本発明はりダンダンシー回路を有す
る半導体装置において、リダンダンシー用ヒーーズを切
断する際に生じる焼けかすをヒ一ズの周辺に飛散させる
ことがない為、焼けかすの付着による不良を防止できる
という効果がある。
る半導体装置において、リダンダンシー用ヒーーズを切
断する際に生じる焼けかすをヒ一ズの周辺に飛散させる
ことがない為、焼けかすの付着による不良を防止できる
という効果がある。
第1図は本発明の一実施例による半導体装置の要部断面
図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・フィールド
絶縁膜、3・・・・・・フィールド絶縁膜に作られた溝
、4・・・・・・リダンダンシー用ヒユーズ。 −7ぐ;) 代理人 弁理士 内 原 日、l 、。
図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・フィールド
絶縁膜、3・・・・・・フィールド絶縁膜に作られた溝
、4・・・・・・リダンダンシー用ヒユーズ。 −7ぐ;) 代理人 弁理士 内 原 日、l 、。
Claims (1)
- 冗長回路および該冗長回路用のヒューズを有する半導体
装置において、前記ヒューズの溶断部が半導体基板のフ
ィールド絶縁膜に形成された溝部分にあることを特徴と
する半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1134286A JPS62169348A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1134286A JPS62169348A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62169348A true JPS62169348A (ja) | 1987-07-25 |
Family
ID=11775359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1134286A Pending JPS62169348A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62169348A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0846050A (ja) * | 1994-08-01 | 1996-02-16 | Nec Corp | 半導体記憶装置およびその製造方法 |
JP2007214177A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Seiko Epson Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100843206B1 (ko) | 2006-10-18 | 2008-07-02 | 삼성전자주식회사 | 퓨즈 패턴과 가드링과의 브리지를 방지할 수 있는 반도체 장치 |
CN109411445A (zh) * | 2016-12-02 | 2019-03-01 | 乐清市风杰电子科技有限公司 | 一种多晶硅熔丝结构的制造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5772368A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-06 | Toshiba Corp | Fusing type semiconductor device and its manufacture |
JPS6084837A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-14 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
-
1986
- 1986-01-21 JP JP1134286A patent/JPS62169348A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5772368A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-06 | Toshiba Corp | Fusing type semiconductor device and its manufacture |
JPS6084837A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-14 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0846050A (ja) * | 1994-08-01 | 1996-02-16 | Nec Corp | 半導体記憶装置およびその製造方法 |
JP2007214177A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Seiko Epson Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100843206B1 (ko) | 2006-10-18 | 2008-07-02 | 삼성전자주식회사 | 퓨즈 패턴과 가드링과의 브리지를 방지할 수 있는 반도체 장치 |
CN109411445A (zh) * | 2016-12-02 | 2019-03-01 | 乐清市风杰电子科技有限公司 | 一种多晶硅熔丝结构的制造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6521971B2 (en) | Metal fuse in copper dual damascene | |
JPS62293740A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH01169942A (ja) | 半導体装置 | |
KR100363410B1 (ko) | 상호접속용도전링크제조방법 | |
JPS584819B2 (ja) | ハンドウタイソウチ | |
JPS62169348A (ja) | 半導体装置 | |
JPH03169049A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPS63198354A (ja) | 半導体装置 | |
JPS5989434A (ja) | 半導体装置 | |
JPH04142760A (ja) | 混成集積回路の製造方法 | |
JPH06338563A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPS61110447A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6122652A (ja) | 半導体装置 | |
JPS60180140A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0230117A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6053047A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6091654A (ja) | 半導体装置におけるレ−ザトリム用ヒユ−ズ | |
KR100301806B1 (ko) | 반도체장치 | |
JPS6348838A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS6334952A (ja) | 半導体装置内の回路選択用ヒユ−ズ | |
JPH02100340A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0415936A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6355955A (ja) | 半導体装置 | |
JPS60119754A (ja) | トリミング用配線 | |
JP2004186304A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 |