JPS62156656A - 写真材料の製法 - Google Patents
写真材料の製法Info
- Publication number
- JPS62156656A JPS62156656A JP61280946A JP28094686A JPS62156656A JP S62156656 A JPS62156656 A JP S62156656A JP 61280946 A JP61280946 A JP 61280946A JP 28094686 A JP28094686 A JP 28094686A JP S62156656 A JPS62156656 A JP S62156656A
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- JP
- Japan
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- group
- weight
- compound
- sodium
- acid
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は写真材料の製法またはさらに殊に、感光性の、
芳香族ジアゾニウム壌縮合生成物の特別なりラス、染料
および少量の水に不溶のポリビニルアセタール樹脂を含
有する平板印刷版に関する。材料の画像に応じた露光後
、こnは有機溶剤を含有しない水性現像液を用いて現像
可能である。
芳香族ジアゾニウム壌縮合生成物の特別なりラス、染料
および少量の水に不溶のポリビニルアセタール樹脂を含
有する平板印刷版に関する。材料の画像に応じた露光後
、こnは有機溶剤を含有しない水性現像液を用いて現像
可能である。
従来の技術
芳香族ジアゾニウム塩、殊にジフェニルアミン−4−ジ
アゾニウム塙?活性カルボニル化合物、有利にホルムア
ルデヒドと反応させることにより、重、縮合生成′吻を
製造することは公邸である。
アゾニウム塙?活性カルボニル化合物、有利にホルムア
ルデヒドと反応させることにより、重、縮合生成′吻を
製造することは公邸である。
このような縮合生成物は印刷板の製造で大規模に使用さ
nる。
nる。
ホルムアルデヒド縮合生成物が未だに製造され、大規模
に使用されているにもかかわらず、こnはその組成およ
び特性が限定さnた度合にのみ変化するという欠点を有
する。
に使用されているにもかかわらず、こnはその組成およ
び特性が限定さnた度合にのみ変化するという欠点を有
する。
さらに最近、変化性の問題は、その製造で第二の成分を
カルボニル化合物の代わ9に、ホルムアルデヒドと縮合
できるジアゾニウム塩と反応させる、混合縮合生成物の
製造によp解決した。
カルボニル化合物の代わ9に、ホルムアルデヒドと縮合
できるジアゾニウム塩と反応させる、混合縮合生成物の
製造によp解決した。
この生成物およびその使用は米国特許
第3867147号明細書に記載されている。
こnは高品質放!1線感性材料、殊に印刷板を生じ、大
工業的規模で使用さnる。
工業的規模で使用さnる。
しかし、この縮合生成物の欠点はこれらの縮合物の好−
Aな代表物・と含有するバインダー不含層の露光におい
て、ジアゾニウム基の全てが分解するわけではないとい
うことである。姑果として、親油性が減少する。光の作
用下に、分解さ釘なかったジアゾニウム基はさらに、貯
蔵のために使用さnる親水法ポリマーと反応して、イン
キ−反発反応生成物を形成する。
Aな代表物・と含有するバインダー不含層の露光におい
て、ジアゾニウム基の全てが分解するわけではないとい
うことである。姑果として、親油性が減少する。光の作
用下に、分解さ釘なかったジアゾニウム基はさらに、貯
蔵のために使用さnる親水法ポリマーと反応して、イン
キ−反発反応生成物を形成する。
縮合生成物中の親油性第二成分の量の」着火によシ、よ
シ高い程度親油性である縮合物が得らnl しかしこn
らの縮合物の現像はさらに困難で、標準的に好適な代表
者と比べて、貯蔵のためにあまシ適していない。
シ高い程度親油性である縮合物が得らnl しかしこn
らの縮合物の現像はさらに困難で、標準的に好適な代表
者と比べて、貯蔵のためにあまシ適していない。
ヨーロッパ特許第126875号明細層には、a)ホル
ムアルデヒドとの縮合を受ける芳香族ジアゾニウム塩、 b)単官能性第二成分お工び C)多官能性第二成分 の縮合生成物である、高親油性縮合生成物が記載されて
いる。
ムアルデヒドとの縮合を受ける芳香族ジアゾニウム塩、 b)単官能性第二成分お工び C)多官能性第二成分 の縮合生成物である、高親油性縮合生成物が記載されて
いる。
発明を達成する7ヒめの手段
従って本発明の課題は、感光性組成物を用いて基質をコ
ーティングし、この組成物は、1)ポリ♂ニルアセター
ル樹脂約1〜約21重R%および 11)染料約1.1〜約22重量%および111)g光
性、ジアゾニウム基含有重縮合生成物約66〜約92チ
、この生成物は a)式I: 2X 〔式中R1、R2およびR3は各々別々に水素9子、ハ
ロゲン伸子、1〜3の炭素原子を有するアルキル基、ま
たは1〜6の炭素原子を有するアル;キシ基七表わし、 又はジアゾニウム塩の陰イオンを表わす〕に相当するジ
アゾニウム塩の、 b)強酸性媒体中、最初に式…: R’−0−(EH2−R5 〔式中R4は水素原子、アルキル基または脂肪族アシル
基金表わし、 R5は非置換またはハロゲン伸子、アルキル基、ハr2
)fン化アルキル基、1〜3の炭素原子を有するアルコ
キシ基、カルボキシ基、アリール基、了り−ルメルカプ
ト基、またはアリールオキシ基によジ置換されている、
単核または多核芳香族基?:表わす〕に相当する化合物
およびその後 C)化合物…から生じる蒸上用いて直接ジアゾニウム塩
Iの単位に架橋さnる、式■:R6−0−OH−R8−
OH2−0−R7〔式中R6およびR7は各々別々に水
素原子、アルキル基または脂肪族アシル基を表わし、R
”Iti%香Ts炭化水素、フェノール、フェノールエ
ーテル、芳香族チオエーテル、芳香h 襟素環式化合物
または有機酸アミドの基を表わす〕に相当する化合物で
の縮合により書らfる;その後アクチン照IJ、1で前
記のコーティングさ釘た基質に画像P(応じて籟光し、
非画像部分音Aン水釣80〜約95M量係および B)ナトリウム、カリウム、および水酸化アンモニウム
、ケイ酸塩、リン酸塩、重炭酸塩、シュウ自鳩、カルボ
ン酸基、懺酸塩、塩化物、m・r止環、安息香酸基、ホ
ウ酸塩、クエン酸塩、サリチル酸塩およびビロリン酸塩
の群刀1ら選択さnた化合物1釉または数趨約7.7〜
約17M:f%、および C)陰イオン界面活性剤約0.5〜約6.0重量%から
成る現像液組成を有する非有機浴剤を用いて非画像部分
を除去することから成る写真材料の↓法倉提供すること
である。
ーティングし、この組成物は、1)ポリ♂ニルアセター
ル樹脂約1〜約21重R%および 11)染料約1.1〜約22重量%および111)g光
性、ジアゾニウム基含有重縮合生成物約66〜約92チ
、この生成物は a)式I: 2X 〔式中R1、R2およびR3は各々別々に水素9子、ハ
ロゲン伸子、1〜3の炭素原子を有するアルキル基、ま
たは1〜6の炭素原子を有するアル;キシ基七表わし、 又はジアゾニウム塩の陰イオンを表わす〕に相当するジ
アゾニウム塩の、 b)強酸性媒体中、最初に式…: R’−0−(EH2−R5 〔式中R4は水素原子、アルキル基または脂肪族アシル
基金表わし、 R5は非置換またはハロゲン伸子、アルキル基、ハr2
)fン化アルキル基、1〜3の炭素原子を有するアルコ
キシ基、カルボキシ基、アリール基、了り−ルメルカプ
ト基、またはアリールオキシ基によジ置換されている、
単核または多核芳香族基?:表わす〕に相当する化合物
およびその後 C)化合物…から生じる蒸上用いて直接ジアゾニウム塩
Iの単位に架橋さnる、式■:R6−0−OH−R8−
OH2−0−R7〔式中R6およびR7は各々別々に水
素原子、アルキル基または脂肪族アシル基を表わし、R
”Iti%香Ts炭化水素、フェノール、フェノールエ
ーテル、芳香族チオエーテル、芳香h 襟素環式化合物
または有機酸アミドの基を表わす〕に相当する化合物で
の縮合により書らfる;その後アクチン照IJ、1で前
記のコーティングさ釘た基質に画像P(応じて籟光し、
非画像部分音Aン水釣80〜約95M量係および B)ナトリウム、カリウム、および水酸化アンモニウム
、ケイ酸塩、リン酸塩、重炭酸塩、シュウ自鳩、カルボ
ン酸基、懺酸塩、塩化物、m・r止環、安息香酸基、ホ
ウ酸塩、クエン酸塩、サリチル酸塩およびビロリン酸塩
の群刀1ら選択さnた化合物1釉または数趨約7.7〜
約17M:f%、および C)陰イオン界面活性剤約0.5〜約6.0重量%から
成る現像液組成を有する非有機浴剤を用いて非画像部分
を除去することから成る写真材料の↓法倉提供すること
である。
前記ジアゾニウム化合物はさらに完全に上記ヨーロッパ
特許第126875号明細書に記載されている。
特許第126875号明細書に記載されている。
本発明で使用さnる、縮合可能な化合物■および夏が訪
導される、基本構造の例はベンゼン、ビフェニル、ジフ
ェニルエーテル、ジフェニルスルフィド、ジフェニルメ
タン、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、尿素、
シュウ酸アミドおよびスクシン酸アミドを包含する。芳
香族基本構造はさらに置換基、たとえばアルキル、アル
コキシ、またはヒドロキシ基を有する。
導される、基本構造の例はベンゼン、ビフェニル、ジフ
ェニルエーテル、ジフェニルスルフィド、ジフェニルメ
タン、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、尿素、
シュウ酸アミドおよびスクシン酸アミドを包含する。芳
香族基本構造はさらに置換基、たとえばアルキル、アル
コキシ、またはヒドロキシ基を有する。
上記一覧は基R5およびR8を含有する、物質の最も重
要な基を包含する。他の可能性は米国特許第38671
47号明a書およびポーベンーワイ/l/ (Houb
en−Weyl ) 、メトーデン デアオルガニッシ
ョン ヒエミー(Methoden derorgan
ischen Ohemie ) (@Methods
of OrganicOhemistry”)、第4
版、vo114/2、第193〜402ページ、1カル
ボニルおよびチオカルボニル化合物の重付加または縮合
生成物”に挙げられており、その内容はこの結果参照さ
nる。
要な基を包含する。他の可能性は米国特許第38671
47号明a書およびポーベンーワイ/l/ (Houb
en−Weyl ) 、メトーデン デアオルガニッシ
ョン ヒエミー(Methoden derorgan
ischen Ohemie ) (@Methods
of OrganicOhemistry”)、第4
版、vo114/2、第193〜402ページ、1カル
ボニルおよびチオカルボニル化合物の重付加または縮合
生成物”に挙げられており、その内容はこの結果参照さ
nる。
本発明による縮合生成物の製造で、2つの縮合反応は有
利に同じ縮合媒体中、混合縮合生成物の公知與造でも慣
用的に使用さnる、比較的穏やかな条件下に進行する。
利に同じ縮合媒体中、混合縮合生成物の公知與造でも慣
用的に使用さnる、比較的穏やかな条件下に進行する。
方法中、縮合工程の挙げらnた順序への固執は欠くこと
のできないものである。しかし、最初の縮合工程で得ら
iた生成物を分離することは必要でなく、即ち2つの反
応は“ワンショット方法”で行なってよい。
のできないものである。しかし、最初の縮合工程で得ら
iた生成物を分離することは必要でなく、即ち2つの反
応は“ワンショット方法”で行なってよい。
結果として、第一工程でジアゾニウム塩lの単官能性化
合物■との反応およびその後に限っての多官能性化合物
Iとの反応を生じることが必要である。こnらの反応状
態のみが、澄明溶液を形成するために水中に溶解する、
粗細合物が生じることを保証する。化合物■として次の
化合物または短鎖アルコールとのそのエーテル化生成物
または短鎖脂肪族カルボン酸とのエステル化生成物が使
用さnる: ベンジルアルコール、4−メチル−ベンジルアルコ−h
、4− イン7’口ざルペンジルアルコール、4−、>
1トキシーベンジルアルコール、4−カルボキシ−ベン
ジルアルコール、4−フェニル−ベンジルアルコール、
4−フェノキシ−ベンジルアルコール、4−p−トルイ
ルオキシ−ペンシルアルコール、4−o−トルイルオキ
シ−ベンジルアルコール、4−クロロフェノキシ−ベン
ジルアルコール、ベンゾヒトロール、4−フエニルメル
カフトーベンジルアルコール、4−フルオロ−ベンジル
アルコール、6−フルオロ−ベンジルアルコール、2−
フルオロ−ベンジルアルコール、41’ロローベンジル
アルコール、3−クロロ−ベンジルアルコール、2−ク
ロロ−ベンジルアルコールおよび2−フルオロ−6−ク
ロロ−ベンジルアルコール:2−ヒドロキシメチル−ナ
フタレン、4−ヒドロキシメチル−チオフェン、1−ヒ
ドロキシメチル−ジフェニルオキシド、N−ヒドロキシ
メチル−安息香酸アミド、N−ヒドロキシメチル尿素お
よび2−ヒドロキシ−ヒドロキシメチル−ベンゼン。
合物■との反応およびその後に限っての多官能性化合物
Iとの反応を生じることが必要である。こnらの反応状
態のみが、澄明溶液を形成するために水中に溶解する、
粗細合物が生じることを保証する。化合物■として次の
化合物または短鎖アルコールとのそのエーテル化生成物
または短鎖脂肪族カルボン酸とのエステル化生成物が使
用さnる: ベンジルアルコール、4−メチル−ベンジルアルコ−h
、4− イン7’口ざルペンジルアルコール、4−、>
1トキシーベンジルアルコール、4−カルボキシ−ベン
ジルアルコール、4−フェニル−ベンジルアルコール、
4−フェノキシ−ベンジルアルコール、4−p−トルイ
ルオキシ−ペンシルアルコール、4−o−トルイルオキ
シ−ベンジルアルコール、4−クロロフェノキシ−ベン
ジルアルコール、ベンゾヒトロール、4−フエニルメル
カフトーベンジルアルコール、4−フルオロ−ベンジル
アルコール、6−フルオロ−ベンジルアルコール、2−
フルオロ−ベンジルアルコール、41’ロローベンジル
アルコール、3−クロロ−ベンジルアルコール、2−ク
ロロ−ベンジルアルコールおよび2−フルオロ−6−ク
ロロ−ベンジルアルコール:2−ヒドロキシメチル−ナ
フタレン、4−ヒドロキシメチル−チオフェン、1−ヒ
ドロキシメチル−ジフェニルオキシド、N−ヒドロキシ
メチル−安息香酸アミド、N−ヒドロキシメチル尿素お
よび2−ヒドロキシ−ヒドロキシメチル−ベンゼン。
好適な化合物■中 R5は・・ロデン原子、アルキル基
、へロデノアルキル基、1〜6の炭素原子’kWfるア
ルコキシ基、フェニル、トルイル、フェニルメルカプト
、フエノキシマタハトルイルオキシ基によ、1合によジ
置換さnているフェニル基である。
、へロデノアルキル基、1〜6の炭素原子’kWfるア
ルコキシ基、フェニル、トルイル、フェニルメルカプト
、フエノキシマタハトルイルオキシ基によ、1合によジ
置換さnているフェニル基である。
こjらの中で、(置換さnている場合)、置換基がp−
位にある化合物が適している。
位にある化合物が適している。
ヒドロキシメチル、メトキシメチルおよびアセトキシ−
メチル基は酸縮合媒体中比較可能な反応付を有する。
メチル基は酸縮合媒体中比較可能な反応付を有する。
11ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩は従来技術
の方法で置換さnているか、置換されていない化合物を
包含する。置換さnていないか、アルキルまたは殊に1
〜3の炭素原子を有するアルコキシ基によシR換さjて
いる、ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩が好適で
ある。アルキルまたはアルコキシ基が6−位にある化合
物が殊に有利である。好適なジアゾニウム化合物の例は
次のアミンから導き出さnたものを包含する; 4−アミノ−6−メトキシージフエニルアミン、4−ア
ミノージフエ、=ルアミン、4′−アミノ−2−メトキ
シ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4−メトキシ−
ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチル−ジフェニ
ルアミン、4−アミノ−3−エチル−ジフェニルアミン
、4′−アミノ−4〜メチル−ジフェニルアミン、4−
アミノ−6−ヘキジルオキシージフエニルアミン、4−
アミノ−6−ニトキシージフエニルアミン、4′−アミ
ノ−2−メトキシ−5−メチル−ジフェニルアミン、4
′−アミノ−6,6′−ジメチル−ジフェニルアミン、
3′クロロ−4−アミノーソフェニルアミン、4′−ア
ミノ−4−n−ブトキシ−ジフェニルアミン、4′−ア
ミノ−5’、4−ジメトキシ−ジフェニルアミンおよび
4′−ブロモ−4−アミノ−ジフェニルアミン。
の方法で置換さnているか、置換されていない化合物を
包含する。置換さnていないか、アルキルまたは殊に1
〜3の炭素原子を有するアルコキシ基によシR換さjて
いる、ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩が好適で
ある。アルキルまたはアルコキシ基が6−位にある化合
物が殊に有利である。好適なジアゾニウム化合物の例は
次のアミンから導き出さnたものを包含する; 4−アミノ−6−メトキシージフエニルアミン、4−ア
ミノージフエ、=ルアミン、4′−アミノ−2−メトキ
シ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4−メトキシ−
ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチル−ジフェニ
ルアミン、4−アミノ−3−エチル−ジフェニルアミン
、4′−アミノ−4〜メチル−ジフェニルアミン、4−
アミノ−6−ヘキジルオキシージフエニルアミン、4−
アミノ−6−ニトキシージフエニルアミン、4′−アミ
ノ−2−メトキシ−5−メチル−ジフェニルアミン、4
′−アミノ−6,6′−ジメチル−ジフェニルアミン、
3′クロロ−4−アミノーソフェニルアミン、4′−ア
ミノ−4−n−ブトキシ−ジフェニルアミン、4′−ア
ミノ−5’、4−ジメトキシ−ジフェニルアミンおよび
4′−ブロモ−4−アミノ−ジフェニルアミン。
4−アミノ−ジフェニルアミンおよび3−メチル−4−
アミノ−ジフェニルアミンが適している。5−メトヤシ
−l−アミノージフェニルアミンが殊に適している。硫
酸水素が有利にジアゾニウム塩の陰イオンとして使用さ
れる。反応は強醪゛謀体中で行なう。
アミノ−ジフェニルアミンが適している。5−メトヤシ
−l−アミノージフェニルアミンが殊に適している。硫
酸水素が有利にジアゾニウム塩の陰イオンとして使用さ
れる。反応は強醪゛謀体中で行なう。
好適な廃合剤は、リン酸、メタンスルホン酸および硫e
を包含し、この斎1は少なくとも40重量%、有利に7
0〜100重量%の濃度で使用さnる。残りは一般に水
であり、しかし、部分的にまたは完全に有機俗剤、たと
えばメタノール、酢酸、N−メチルピロリドンおよびそ
のようなものから構成さnていてもよい。たとえば強リ
ン酸85〜93%、強硫酸80%または強メタンスルホ
ン酸90%またはこれらの戯の湿合物を使用することに
より良好な結果が達成さする。
を包含し、この斎1は少なくとも40重量%、有利に7
0〜100重量%の濃度で使用さnる。残りは一般に水
であり、しかし、部分的にまたは完全に有機俗剤、たと
えばメタノール、酢酸、N−メチルピロリドンおよびそ
のようなものから構成さnていてもよい。たとえば強リ
ン酸85〜93%、強硫酸80%または強メタンスルホ
ン酸90%またはこれらの戯の湿合物を使用することに
より良好な結果が達成さする。
80〜100%、殊に85〜93チ濃度のリン酸は縮合
反応が非常にを、やかに行われる、むしろ穏やかな縮を
斧」である。従って、こnはこnらのむしろ穏和な状態
下に十分すばやく反応する、化合物の全ての組合せのた
めに遇した縮合剤である。
反応が非常にを、やかに行われる、むしろ穏やかな縮を
斧」である。従って、こnはこnらのむしろ穏和な状態
下に十分すばやく反応する、化合物の全ての組合せのた
めに遇した縮合剤である。
80〜100%、殊に90%濃度のメタンスルホン酸は
よシ強い剤である。
よシ強い剤である。
方法は有利に、一方で容易に攪拌および混合できる縮合
混合物が得られるような方法で行う。
混合物が得られるような方法で行う。
使用さ才りる酸のタイプおよび号が決定される場合、縮
合反応Kかけるその能力および酸中の成分の溶性を考庚
すべきである。
合反応Kかけるその能力および酸中の成分の溶性を考庚
すべきである。
一般罠、縮合は約0〜70°C1有利に10〜5o0c
の温度で行う。
の温度で行う。
新規1綜合生成物は、一般に塩の形で分離さfL、他の
所侑の島成分の添加後、この形で@布浴液を製造するた
めに使用さILる。
所侑の島成分の添加後、この形で@布浴液を製造するた
めに使用さILる。
重縮合生成物はたとえは分離さfL、次の酸の塩として
使用さnる:フッ化水素酸、塩化水素b′、臭化水素酸
のような・・ロゲン水素酸;侃酸、硝酸、リン酸(5価
のリン)、殊にオルトリン酸;無機づソーおよびヘテロ
−多酸、たとえばリンタングスト酸、リンモリブデン酸
、脂肪族または芳香族ホスホン酸またはそのセミエステ
ル、アルソン酸、ホスホン酸、三フッ化酢酸、アミドス
ルホン酸、セレン酸、ホウフッ化水素酸、ヘキサフルオ
ロ−リン酸、過塩素酸;脂肪族および芳香族スルホン酸
、たとえばメタンスルホン酸、ベンゼン−スルホン酸、
トルエンスルホン酸、メシチレンスルホンDIR1p
−クロロベンゼンスルホン酸、2.5−クロロベンゼン
−スルホン酸、スルホサリチル酸、ナフタレン−1−ス
ルホン酸、ナフタレン−2−スルホン酸、2.6−ジー
t−ブチル−ナフタレンジスルホン酸、1.81ニトロ
−ナフタレン−3゜6−ジスルホン酸、4.4’−ジア
ジド−スチルベン−3,6−ジスルホン酸、1.2−ナ
フトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1゜2−
ナフトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸。
使用さnる:フッ化水素酸、塩化水素b′、臭化水素酸
のような・・ロゲン水素酸;侃酸、硝酸、リン酸(5価
のリン)、殊にオルトリン酸;無機づソーおよびヘテロ
−多酸、たとえばリンタングスト酸、リンモリブデン酸
、脂肪族または芳香族ホスホン酸またはそのセミエステ
ル、アルソン酸、ホスホン酸、三フッ化酢酸、アミドス
ルホン酸、セレン酸、ホウフッ化水素酸、ヘキサフルオ
ロ−リン酸、過塩素酸;脂肪族および芳香族スルホン酸
、たとえばメタンスルホン酸、ベンゼン−スルホン酸、
トルエンスルホン酸、メシチレンスルホンDIR1p
−クロロベンゼンスルホン酸、2.5−クロロベンゼン
−スルホン酸、スルホサリチル酸、ナフタレン−1−ス
ルホン酸、ナフタレン−2−スルホン酸、2.6−ジー
t−ブチル−ナフタレンジスルホン酸、1.81ニトロ
−ナフタレン−3゜6−ジスルホン酸、4.4’−ジア
ジド−スチルベン−3,6−ジスルホン酸、1.2−ナ
フトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1゜2−
ナフトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸。
縮合物の分離のために使用さする、他の有機スルホン酸
は米国特許第321944号明則書の、第2〜5段に挙
げら1ており、その内容を参照する。
は米国特許第321944号明則書の、第2〜5段に挙
げら1ており、その内容を参照する。
メシチレンスルホン酸、ナフタレン−2−スルホン酸お
よびメタンスルホン酸が殊に適している。
よびメタンスルホン酸が殊に適している。
ジアゾ−重縮合物の製造のために、ジアゾニウム場1モ
ル当り、化合物n o、i〜1.5モルおよび化合物1
0.5〜1.5モルを通常使用する。
ル当り、化合物n o、i〜1.5モルおよび化合物1
0.5〜1.5モルを通常使用する。
好適な量はジアゾニウム塙1モル当C1fl[]、5〜
1.2モルおよびl008〜1.6モルである。
1.2モルおよびl008〜1.6モルである。
一般にジアゾニウム場11モル当り、第2の成分(Il
オヨび■)約0.4〜3、有利KO,8〜2モルを使用
する。
オヨび■)約0.4〜3、有利KO,8〜2モルを使用
する。
モル比I:■は約0.2〜2:1、有利に0.6〜1.
2:1であるべきである。
2:1であるべきである。
印刷層中で、化合物■が低濃度で存在するジアゾ−重縮
合物は、光に対し同じ感性?有し、しかし校正刷りで劣
ったインキ受容性を示す。
合物は、光に対し同じ感性?有し、しかし校正刷りで劣
ったインキ受容性を示す。
それに加えて、ジアゾニウム塩1モル当p1化合物11
1.3モルまでおよび化合!b11.5モルより多くを
有する縮合物は、感光性層中で減少さnた貯蔵性を有す
る。
1.3モルまでおよび化合!b11.5モルより多くを
有する縮合物は、感光性層中で減少さnた貯蔵性を有す
る。
本発明の方法で製造さnた縮合物の多くの利点の1つは
、こnが錯形成金属塩を含有しない塩の形でさえも、容
易に分離できることである。
、こnが錯形成金属塩を含有しない塩の形でさえも、容
易に分離できることである。
たとえば多くの縮合物は、時おシ水に溶性てあり、相当
するrIRまたはその水溶性塩の添加により縮合混合物
の水溶液から容易に沈殿する、硫61塩、塩化物および
臭化物を生じる。分離工程の細かい記述は次側でみらn
る。
するrIRまたはその水溶性塩の添加により縮合混合物
の水溶液から容易に沈殿する、硫61塩、塩化物および
臭化物を生じる。分離工程の細かい記述は次側でみらn
る。
本発明の重縮合生成物は、多くの利点によ択公知ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物から区別される。ホルムアルデヒ
ドおよびジアゾニウム塩の前記縮合生成物と比較して、
こnは縮合媒体がらよす容易に分離さむいこのようにし
て純粋ななく、一般に光に高い感性を示す。
ニウム塩重縮合生成物から区別される。ホルムアルデヒ
ドおよびジアゾニウム塩の前記縮合生成物と比較して、
こnは縮合媒体がらよす容易に分離さむいこのようにし
て純粋ななく、一般に光に高い感性を示す。
こnらの特性は米国特許第3867147号明細書に記
載さnた混合縮合生成物のものと同様である。こnらの
旨感性生成物と比較して、本発明の生成物はよシ強い明
白なバインダー特性を有するという利点を有する。こn
は、改良されたインキ受容性に反映する、高い親油性に
帰する。
載さnた混合縮合生成物のものと同様である。こnらの
旨感性生成物と比較して、本発明の生成物はよシ強い明
白なバインダー特性を有するという利点を有する。こn
は、改良されたインキ受容性に反映する、高い親油性に
帰する。
使用されるジアゾニウム塩基の量に比較して、米国特許
第3867147号明細書に記載さnている、少なくと
も2つの反応性基を有する第2の成分の量の増大によシ
、縮合物のこのt!!j性を達成するための試みで、減
少さnた貯蔵性の層を任じる生成物が得られる。
第3867147号明細書に記載さnている、少なくと
も2つの反応性基を有する第2の成分の量の増大によシ
、縮合物のこのt!!j性を達成するための試みで、減
少さnた貯蔵性の層を任じる生成物が得られる。
2つの縮合可能な化合物■およびIが、同時て、既に縮
合媒体中に存在するジアゾニウム化合物に添加さnる場
合、水に不溶の縮合物のかなシの量を含有する重縮合物
が得られる。
合媒体中に存在するジアゾニウム化合物に添加さnる場
合、水に不溶の縮合物のかなシの量を含有する重縮合物
が得られる。
同様に、ジアゾニウム化合物を最初に化合物■と反応さ
せ、化合物■との縮合全第二工程で行う場合、重縮合物
は水に不溶の成分の高い配分全含有する。
せ、化合物■との縮合全第二工程で行う場合、重縮合物
は水に不溶の成分の高い配分全含有する。
写真材料の製造のために、ジアゾニウム塩重縮合生成物
を好適な溶剤中にまたけ他の層成分と−緒に溶解するか
、生じる溶液を選択された支持体上に塗布する。
を好適な溶剤中にまたけ他の層成分と−緒に溶解するか
、生じる溶液を選択された支持体上に塗布する。
本発明の実施でポリビニルアセタール成分が有利に、非
−溶剤部分の重iを基礎として、約1〜約21%の範囲
の量で光感性組成物中に存在する。さらに好適な範囲は
約2〜15%、さらに有利に約4〜10%である。最も
好適なポリビニルアセタール樹脂はモンサント(Mon
santo)から市販で得らnる、ポリビニルホルマー
ルである。
−溶剤部分の重iを基礎として、約1〜約21%の範囲
の量で光感性組成物中に存在する。さらに好適な範囲は
約2〜15%、さらに有利に約4〜10%である。最も
好適なポリビニルアセタール樹脂はモンサント(Mon
santo)から市販で得らnる、ポリビニルホルマー
ルである。
ジアゾ成分は有利に光感性組成物中、非−浴剤部分の重
量を基にして、約63〜約92%の量で光感性組成物中
に存在する。さらに適した範囲は約66〜約87チ、さ
らに有利に約72〜約82%である。
量を基にして、約63〜約92%の量で光感性組成物中
に存在する。さらに適した範囲は約66〜約87チ、さ
らに有利に約72〜約82%である。
染料成分は有利に感光性組成物中、非溶剤部分の重量を
基にして、約1.1〜約22チの範囲の量で存在する。
基にして、約1.1〜約22チの範囲の量で存在する。
さらに適した範囲は約2.2〜約16.5 % ;さら
に有利に約4.4〜約11%である。最も適し念染料は
顔料である。
に有利に約4.4〜約11%である。最も適し念染料は
顔料である。
オフセット印刷版の製造のために使用さnる支持体は有
利に金属材料、殊にアルミニウムから成る。コーティン
グ工程の前に、アルミニウムを一般に機械的または電気
化学的方法により粗面化し、場合によ#)l’!W改化
工種化工程、場合によりケイ酸塩、あるlの錯体塩、リ
ン酸または他の公知の剤、の漬液で処理する。
利に金属材料、殊にアルミニウムから成る。コーティン
グ工程の前に、アルミニウムを一般に機械的または電気
化学的方法により粗面化し、場合によ#)l’!W改化
工種化工程、場合によりケイ酸塩、あるlの錯体塩、リ
ン酸または他の公知の剤、の漬液で処理する。
感光性層を1湛でまたは高めらfた温度で乾燥する。
種々の他の物質は付加的に、さらなる成分として初耳層
中わずかな量で含有さnてよい。このような付加的な層
成分の例は次のようなものを包含するニリン酸(殊にオ
ルトリン酸)、ホスホン酸およびホスフィン酸のような
酸;硫酸または有機スルホン酸、たとえばトルエンスル
ホン酸のような米国特許第3235582号明細書に挙
げらnた強酸;有機多酸、たとえばポリビニルホスホン
酸。他の添加物は漏光指示薬、可塑剤または界面活性剤
を首む。
中わずかな量で含有さnてよい。このような付加的な層
成分の例は次のようなものを包含するニリン酸(殊にオ
ルトリン酸)、ホスホン酸およびホスフィン酸のような
酸;硫酸または有機スルホン酸、たとえばトルエンスル
ホン酸のような米国特許第3235582号明細書に挙
げらnた強酸;有機多酸、たとえばポリビニルホスホン
酸。他の添加物は漏光指示薬、可塑剤または界面活性剤
を首む。
全ての添加物は、こnがジアゾ棒合物と両立でき、さら
に、ジアゾニウム化合物の光分解にとって本質的な波長
の範囲でのその吸収ができるかぎり低いように選択すべ
きである。
に、ジアゾニウム化合物の光分解にとって本質的な波長
の範囲でのその吸収ができるかぎり低いように選択すべ
きである。
一般に添加物は次の量で使用さnる;二価のリン酸は一
般にジアゾ基1モル当シ肌01〜4モルの量で使用され
る。
般にジアゾ基1モル当シ肌01〜4モルの量で使用され
る。
有機多酸は、これが容易に水浴性であるかぎシ、一般に
ジアゾ基の0.01〜3モルの量でのみ使用さnる。
ジアゾ基の0.01〜3モルの量でのみ使用さnる。
可塑剤、界面活性剤、増感剤、指示薬および独写層に添
加さnる脂肪酸の量は一般に他の層成分のM量を基にし
て、20重量1日上でなく、有利に10重重量上り上で
ない。
加さnる脂肪酸の量は一般に他の層成分のM量を基にし
て、20重量1日上でなく、有利に10重重量上り上で
ない。
層成分に依存して、コーティング蓄液の創造のために使
用さnる溶剤は、たとえば水;メタノールまたはエタノ
ールのようなアルコール;エチレンクリコールモノエチ
ルエーテルノヨウなグリコールエーテル;ジメチルホル
ムアミド2よびジエチルホルムアミドである。
用さnる溶剤は、たとえば水;メタノールまたはエタノ
ールのようなアルコール;エチレンクリコールモノエチ
ルエーテルノヨウなグリコールエーテル;ジメチルホル
ムアミド2よびジエチルホルムアミドである。
純粋形でまたは少量の水を含有する、有機溶剤は有利に
塩化物、臭化物および大部分は水に不溶である、芳香族
スルホン酸、三フッ化ホウ酸場および六フッ化ホウ酸塩
のような、f+fiジアゾ縮合物の塩のために使用する
。これらの場合、この化合物が徐々罠のみ溶解する溶剤
、たとえばジオキサンおよびテトラヒドロフランのよう
なエーテル;酢酸エチルエステル、酢酸ブチル、および
エチレングリコールメチルエーテルアセテートのような
エステル、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノン
のようなケトンおよびそのようなもの、全コーティング
の平均化特性全改良するために、一般にこtらの化合物
の良好外溶剤であるアルコールまたはアミドに添加する
。
塩化物、臭化物および大部分は水に不溶である、芳香族
スルホン酸、三フッ化ホウ酸場および六フッ化ホウ酸塩
のような、f+fiジアゾ縮合物の塩のために使用する
。これらの場合、この化合物が徐々罠のみ溶解する溶剤
、たとえばジオキサンおよびテトラヒドロフランのよう
なエーテル;酢酸エチルエステル、酢酸ブチル、および
エチレングリコールメチルエーテルアセテートのような
エステル、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノン
のようなケトンおよびそのようなもの、全コーティング
の平均化特性全改良するために、一般にこtらの化合物
の良好外溶剤であるアルコールまたはアミドに添加する
。
方法の間、蝮写材料を原図を通してアクチン照射によシ
画像に応じて露光する。炭素アークランフ、水銀高圧ラ
ンプ、パルスキセノンランプおよびそのようなもののよ
うな、長波長紫外線範囲で照射を生じる、り写仙域で慣
用的に使用さnる光詠が画像に応じた4光のために使用
さnる。電子およびレーず一照射も記録画像のために使
用さnる。
画像に応じて露光する。炭素アークランフ、水銀高圧ラ
ンプ、パルスキセノンランプおよびそのようなもののよ
うな、長波長紫外線範囲で照射を生じる、り写仙域で慣
用的に使用さnる光詠が画像に応じた4光のために使用
さnる。電子およびレーず一照射も記録画像のために使
用さnる。
露光後、現像全好適な現像液によジ行う。水および場合
によジアルカリ混合物を含有する界面活性剤の水浴液;
水および場合によりアルカリ混合物を含有する界面活性
剤の水溶液;水性塩浴液:水性酸溶液、たとえば代わる
代わる塩を含有していてよいリン酸浴液;および水性−
アルカリ性現像液、たとえばリン酸またはサリチル酸の
す) IJウム堝の水?16ff?r現像液として使用
する。有機溶剤はこの現像液に添加しない。
によジアルカリ混合物を含有する界面活性剤の水浴液;
水および場合によりアルカリ混合物を含有する界面活性
剤の水溶液;水性塩浴液:水性酸溶液、たとえば代わる
代わる塩を含有していてよいリン酸浴液;および水性−
アルカリ性現像液、たとえばリン酸またはサリチル酸の
す) IJウム堝の水?16ff?r現像液として使用
する。有機溶剤はこの現像液に添加しない。
本発明の重要な特徴は、水に不溶の成分から成る感光注
層が完全に水性の現像液組成物で現像できることである
。μ0ち、現像液は有機溶剤の必要な添加なしの、塩お
よび界面活性剤の水温合物である。
層が完全に水性の現像液組成物で現像できることである
。μ0ち、現像液は有機溶剤の必要な添加なしの、塩お
よび界面活性剤の水温合物である。
本発明の実施で、水成分は有利に現像液組成物の重量を
基にして、約80〜約95%の範囲の量で現像液中に存
在する。さらに適した範囲は約80%〜約92%;およ
びさらに有利には約85%〜約88%である。
基にして、約80〜約95%の範囲の量で現像液中に存
在する。さらに適した範囲は約80%〜約92%;およ
びさらに有利には約85%〜約88%である。
え9抜きの地は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムお
よび水酸化アンモニウム、ケイ酸塩、リン酸塚、重炭酸
塩、シュウ酸塩、炭酸塩、リュウ酸塩、環化物、酢酸塩
、安息香1Lホウ酸塩、クエン酸塩、サリチル@塩およ
びビロリン酸塩から成る群から選択さnfc塩11また
は数種全含有する。
よび水酸化アンモニウム、ケイ酸塩、リン酸塚、重炭酸
塩、シュウ酸塩、炭酸塩、リュウ酸塩、環化物、酢酸塩
、安息香1Lホウ酸塩、クエン酸塩、サリチル@塩およ
びビロリン酸塩から成る群から選択さnfc塩11また
は数種全含有する。
本発明の実施で、堪成分は有利に現像液の重量を基にし
て約7.−7〜約17%の範囲の量で現像液中に存在す
る。さらに好適な範囲は約11.5〜約16%である。
て約7.−7〜約17%の範囲の量で現像液中に存在す
る。さらに好適な範囲は約11.5〜約16%である。
好適な陰イオン界面活性剤は非−排他的にオクチルmH
ナトリウム、デシル硫tl&ナトリウム、ラウリル硫酸
アンモニウム、テトラデシル硫酸ナトリウムおよびラウ
リル?、酸ナトリウムを包含する。
ナトリウム、デシル硫tl&ナトリウム、ラウリル硫酸
アンモニウム、テトラデシル硫酸ナトリウムおよびラウ
リル?、酸ナトリウムを包含する。
本発明の実施で界面活性剤成分は有利に現像液中、現像
液の重量を基にして、約0.6〜約5.0%の量で存在
する。さらに適した範囲は約0.5〜約2.0%、およ
び最も有第1.1には約0.8〜約1.2幅である。
液の重量を基にして、約0.6〜約5.0%の量で存在
する。さらに適した範囲は約0.5〜約2.0%、およ
び最も有第1.1には約0.8〜約1.2幅である。
現像は慣用の方法で、たとえば板の現像液中への浸漬お
よび/または現像液の板上へのこす9つけまたは噴霧に
より行う。工程で、非露光層部分を除去する。
よび/または現像液の板上へのこす9つけまたは噴霧に
より行う。工程で、非露光層部分を除去する。
次側が本発明によシ製造さnた記録材料の新却ジアゾー
重縮合物の製造を詳述する。元素分析の結果に加えて、
こnらの分析値から算出された戸子比が、使用さnるジ
アゾ縮合物をさらに正確にt+Tf′fJづけるために
、多くの例で与えらnる。ある釉の条件で、この比較値
はジアゾニウム壌および共−成分が生成物の生成に関す
る、割合に関わる決定を許す。この比はやや簡単にさむ
た仮定で実施し、即ちこのデータは、企図もさ1ないが
、本発明てよる縮合物の正確な構造の指示ではない。
重縮合物の製造を詳述する。元素分析の結果に加えて、
こnらの分析値から算出された戸子比が、使用さnるジ
アゾ縮合物をさらに正確にt+Tf′fJづけるために
、多くの例で与えらnる。ある釉の条件で、この比較値
はジアゾニウム壌および共−成分が生成物の生成に関す
る、割合に関わる決定を許す。この比はやや簡単にさむ
た仮定で実施し、即ちこのデータは、企図もさ1ないが
、本発明てよる縮合物の正確な構造の指示ではない。
こnらは、しかしながら、その特性が再現可能である縮
合生成物の確虻のために十分である。
合生成物の確虻のために十分である。
上述のように、縮合の状態および殊にまた使用される定
量比は、しばしば佃の特徴づけのために重要である。
量比は、しばしば佃の特徴づけのために重要である。
例で重量部Cp、b、vt、)および容量部(p、b、
v、)はダラムおよびミリリットルに関する。別記しな
いかぎυ、パーセンテージは重量を表わし、温度は℃を
示す。分析価でNは全窒素含量?表わす。
v、)はダラムおよびミリリットルに関する。別記しな
いかぎυ、パーセンテージは重量を表わし、温度は℃を
示す。分析価でNは全窒素含量?表わす。
例で、用語°相線合物″は一般に、通常まだ縮合媒体を
含有する、縮合で得らnる相線合混合物を表わす。
含有する、縮合で得らnる相線合混合物を表わす。
実施例
製造1の例
ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム硫酸塩29.2
p、b、w、を90%濃度のメタンスルホン酸170
p、b、W、に溶解する。4−メチル−ベンジルアルコ
ール12.2 p、b、W、 ’にこの冶金物中に計量
しながら供給し、その後40°Cで2時間線合する。1
.4−ビス−メトキシメチルベンゼン16.6p、b、
w、をその後姉加し、引続き40°Cでさらに2時間線
合する。粗編合物を水5000 p、b、vに浴解し、
その後メシチレンスルホン酸ナトリウムによりその水に
不溶の形に変換する。縮合物35 p、b、w、が得ら
れる。
p、b、w、を90%濃度のメタンスルホン酸170
p、b、W、に溶解する。4−メチル−ベンジルアルコ
ール12.2 p、b、W、 ’にこの冶金物中に計量
しながら供給し、その後40°Cで2時間線合する。1
.4−ビス−メトキシメチルベンゼン16.6p、b、
w、をその後姉加し、引続き40°Cでさらに2時間線
合する。粗編合物を水5000 p、b、vに浴解し、
その後メシチレンスルホン酸ナトリウムによりその水に
不溶の形に変換する。縮合物35 p、b、w、が得ら
れる。
(cニア1.5%、N : 6.5%; 8 : 5.
2%;c:N:5−38.5:3:1.05)製造例2 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフニー) 32.4 p、b、w、七85%浪度のリ
ン酸170 p、1)、W、に溶解する。4−メチル−
4′−メトキシメチル−ジフェニル−エーテル22.8
p、b−w、をこの溶液に滴加し、こnをその後40
0Gで2時間縮合する。その後4.4′−ヒスーメトキ
シーメチル−ジフェニルエーテル25.8 p、b、W
、 t−この混合物に添加し、引続き40℃でさらに2
77時間縮する。明線合物を水5000 p、b、v、
に溶解する。縮合物の分離は飽和塩化ナトリウム溶液5
[10p、’b、v、の添加により生じる。縮合物の
塩化物を飽和塩化ナトリウム溶液800 p、b、v、
に溶解する。縮合物の塩化物を水800 p、b、v
K溶解し、この溶液から飽和メタンスルホン酸ナトリウ
ム俗液500 p、b、v、のGmによυメタンスルホ
ン酸基が沈殿する。吸込による榛別後、沈殿物全水80
D p、b、v、に浴解し、角び飽和メタンスルホン
酸ナトリウム溶液300 p、b、v、の添加によシ沈
殿する6縮合物59 p、b、w、が得らnる。
2%;c:N:5−38.5:3:1.05)製造例2 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフニー) 32.4 p、b、w、七85%浪度のリ
ン酸170 p、1)、W、に溶解する。4−メチル−
4′−メトキシメチル−ジフェニル−エーテル22.8
p、b−w、をこの溶液に滴加し、こnをその後40
0Gで2時間縮合する。その後4.4′−ヒスーメトキ
シーメチル−ジフェニルエーテル25.8 p、b、W
、 t−この混合物に添加し、引続き40℃でさらに2
77時間縮する。明線合物を水5000 p、b、v、
に溶解する。縮合物の分離は飽和塩化ナトリウム溶液5
[10p、’b、v、の添加により生じる。縮合物の
塩化物を飽和塩化ナトリウム溶液800 p、b、v、
に溶解する。縮合物の塩化物を水800 p、b、v
K溶解し、この溶液から飽和メタンスルホン酸ナトリウ
ム俗液500 p、b、v、のGmによυメタンスルホ
ン酸基が沈殿する。吸込による榛別後、沈殿物全水80
D p、b、v、に浴解し、角び飽和メタンスルホン
酸ナトリウム溶液300 p、b、v、の添加によシ沈
殿する6縮合物59 p、b、w、が得らnる。
(0:65幅; N : 5.0%; s : 5.8
%:C:N : S −45,5: 3 : 1.52
)製造例3 ろ−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフェート32.2 p、b、w、を85%濃度のリン
酸170 p、b、w、に浴解し、4−メチル−4′−
メトキシメチルージフエニA・エーテル22−8 p、
b、w、をこノ浴液に滴mL、742合物全その後40
℃で2時間縮合する。その後4.4′−ビスーメトキシ
ーメチルージフエニルエーテル25.8 p、b、w、
kこの縮合物に添加し、引続き40℃で27時間にわ
たって縮合する。明線合物を水5000 p、b、v、
に浴解し、ナフタレン−2−スルホン酸ナトリウムによ
り水に不溶の形に変換する。縮合物76.5 p、bo
w、が得られ、これはエチレングリコールモノメチルエ
ーテル中車れた溶性を示す。
%:C:N : S −45,5: 3 : 1.52
)製造例3 ろ−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフェート32.2 p、b、w、を85%濃度のリン
酸170 p、b、w、に浴解し、4−メチル−4′−
メトキシメチルージフエニA・エーテル22−8 p、
b、w、をこノ浴液に滴mL、742合物全その後40
℃で2時間縮合する。その後4.4′−ビスーメトキシ
ーメチルージフエニルエーテル25.8 p、b、w、
kこの縮合物に添加し、引続き40℃で27時間にわ
たって縮合する。明線合物を水5000 p、b、v、
に浴解し、ナフタレン−2−スルホン酸ナトリウムによ
り水に不溶の形に変換する。縮合物76.5 p、bo
w、が得られ、これはエチレングリコールモノメチルエ
ーテル中車れた溶性を示す。
(Cニア0.5%;N:4.7%;s:ts、a%;O
CH:4.4%;C:N:s:0CH3=52.5+3
:1:1.2) 例4 塗布溶液を次の組成により製造するニ リン酸(85%) 0.30#ジア
ゾニウム塩” 3.0(1されたフタ
ロシアニングリーン 5. OOg顔 料
6.55%ポリ
ビニルホルマール 5.95%ブチロラクト
ン 43.75%1−メトキシープロノ
ξ)〜ルー(2)43.75%上記成分を連続して、ブ
チロラクトン12.6q 千 k → し −
門 7 円 ・ノ ス R1G 七3FT(−P
ロ レレンクリコールモノメチルエーテル64.7g中
に強力に攪拌しながら添加する。塗布溶液をその後、電
解的に粗面化されおよびポリビニルホスホン酸で前処理
された、アルミニウム基質に適用する。コーティングを
温かい空気で乾燥する。
CH:4.4%;C:N:s:0CH3=52.5+3
:1:1.2) 例4 塗布溶液を次の組成により製造するニ リン酸(85%) 0.30#ジア
ゾニウム塩” 3.0(1されたフタ
ロシアニングリーン 5. OOg顔 料
6.55%ポリ
ビニルホルマール 5.95%ブチロラクト
ン 43.75%1−メトキシープロノ
ξ)〜ルー(2)43.75%上記成分を連続して、ブ
チロラクトン12.6q 千 k → し −
門 7 円 ・ノ ス R1G 七3FT(−P
ロ レレンクリコールモノメチルエーテル64.7g中
に強力に攪拌しながら添加する。塗布溶液をその後、電
解的に粗面化されおよびポリビニルホスホン酸で前処理
された、アルミニウム基質に適用する。コーティングを
温かい空気で乾燥する。
息\
露光さnた板は次の組成の現像液で申し分なく現像さn
る: 水 86
.5 !1安息香酸ナトリウム 1.32
三ホウ酸カリウム4 H2O0,56 オクチル硫酸ナトリウム 1.06クエン酸ナ
トリウム2 H2O2,61サリチル酸ナトリウム
7.95ジアゾニウム塩:4−メチル−4′−
メトキシメチル−ジフェニルエーテルおよび3−メトキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素の重縮合生成
物、その後4.4′−ビスメトキシメチルジフエニルエ
ーテルヲ用いて、メシチレンスルホネートとして沈殿 例5 フタロシアニングリーンの代わりにポリビニルホルマー
ル樹脂中に分散さnたフタロシアニンブルー顔料を用い
る点を除き、例4t−繰り返す。結果は例4と比較でき
る。
る: 水 86
.5 !1安息香酸ナトリウム 1.32
三ホウ酸カリウム4 H2O0,56 オクチル硫酸ナトリウム 1.06クエン酸ナ
トリウム2 H2O2,61サリチル酸ナトリウム
7.95ジアゾニウム塩:4−メチル−4′−
メトキシメチル−ジフェニルエーテルおよび3−メトキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素の重縮合生成
物、その後4.4′−ビスメトキシメチルジフエニルエ
ーテルヲ用いて、メシチレンスルホネートとして沈殿 例5 フタロシアニングリーンの代わりにポリビニルホルマー
ル樹脂中に分散さnたフタロシアニンブルー顔料を用い
る点を除き、例4t−繰り返す。結果は例4と比較でき
る。
例6
ポリビニルホルマール樹脂中に分散する代わジに、ポリ
ビニルブチラール中に分散したフタロシアニンブルー顔
料を用いる点を除き、例4を繰り返す。結果は例4と比
較できる。
ビニルブチラール中に分散したフタロシアニンブルー顔
料を用いる点を除き、例4を繰り返す。結果は例4と比
較できる。
例7
グリーン顔料の代わりに、ポリビニルホルマール樹脂中
に分散さnたキナクリドンピンク顔料を用いる点を除き
、例4を繰り返す。結果は例4と比較可能である。
に分散さnたキナクリドンピンク顔料を用いる点を除き
、例4を繰り返す。結果は例4と比較可能である。
例8
次の表のような現像液を用いる点を除き例4を練り返す
。同様に満足な結果が得らnる。
。同様に満足な結果が得らnる。
軟H2090,8
オクチル硫酸ナトリウム 3.0
リン酸−ナトリウム 2.2
三ホウ酸カリウム 6.0
20リン酸ナトリウム 1.0
リン酸二カリウム
安息香酸ナトリウム
リン酸−カリウム
サリチル酸ナトリウム
クエン酔
クエン酸ナトリウム
重炭酸ナトリウム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、写真材料の製法において i)ポリビニルアセタール樹脂約1〜約21重量%;お
よび ii)染料約1.1〜約22重量%;およびiii)a
)式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2およびR^3は各々別々に水素原
子、ハロゲン原子、1〜3の炭素原子を有するアルキル
基、または1〜6の炭素原子を有するアルコキシ基を表
わし、 Xはジアゾニウム塩の陰イオンを表わす) に相当するジアゾニウム塩の、 b)最初に、強酸性媒体中、式II: R^4−O−CH_2−R_5(II) (式中R^4は水素原子、アルキル基または脂肪族アシ
ルラジカルを表わし、 R^5は非置換またはハロゲン原子、アルキル基、ハロ
ゲン化アルキル基、1〜3の炭素原子を有するアルコキ
シ基、カルボキシ基、アリール基、アリールメルカプト
基、またはアリールオキシ基により置換されている、単
核または多核芳香族ラジカルを表わす)の化合物および
その後 c)化合物IIから生じるラジカルで直接ジ アゾニウム塩 I の単位に架橋される、式III:R^6−
O−CH_2−R^8−CH_2−O−R^7(III)
(式中R^6およびR^7は各々別々に水素原子、アル
キル基、または脂肪族アシル基を表わし、R^8は芳香
族炭化水素、フェノール、フェノールエーテル、芳香族
チオエーテル、芳香族複素環式化合物、または有機酸ア
ミドのラジカルを表わす)の化合物を用いる縮合により
得られる感光性、ジアゾニウム基含有重縮合生成物約6
3〜約92重量%; から成る感光性組成物を用いて基質をコーティングし; およびその後アクチン照射により、前記のコーティング
された基質を画像に応じて露光し、非画像部分を、 A)水約80〜約95重量%;および B)ナトリウム、カリウムおよび水酸化アンモニウム、
ケイ酸塩、リン酸塩、重炭酸塩、シユウ酸塩、炭酸塩、
硫酸塩、塩化物、酢酸塩、安息香酸塩、ホウ酸塩、クエ
ン酸塩、サリチル酸塩およびピロリン酸塩から成る群か
ら選択された化合物1種または数種約7.7〜約17重
量%;および C)陰イオン界面活性剤約0.3〜約3.0重量%から
成る現像液組成物を含有する非−有機溶剤を用いて除去
することから成ることを特徴とする、写真材料の製法。 2、基質がアルミニウムまたはアルミニウム合金から成
る、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、染料が顔料である、特許請求の範囲第1項記載の方
法。 4、界面活性剤がオクチル硫酸ナトリウム、デシル硫酸
ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、テトラデシル
硫酸ナトリウムおよびラウリル硫酸ナトリウムから成る
群から選択された化合物1種または数種を含有する、特
許請求の範囲第1項記載の方法。 5、界面活性剤成分がオクチル硫酸ナトリウムを含有す
る、特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、感光性組成物がさらに、酸、露光指示薬、可塑剤お
よび界面活性剤の群から選択された成分1種または数種
を含有する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 7、ポリビニルアセタール成分が約2〜約15重量%の
量で存在する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 8、ジアゾ成分が約68〜約57重量%の量で存在する
、特許請求の範囲第1項記載の方法。 9、染料が約2.2〜約16.5重量%の量で存在する
、特許請求の範囲第1項記載の方法。 10、塩が約11.5〜約13重量%の量で存在する、
特許請求の範囲第1項記載の方法。 11、界面活性剤が約0.5〜約2.0重量%の量で存
在する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 12、R^4、R^6およびR^7が各々水素原子また
は1〜5の炭素原子を有するアルキル基を表わす、特許
請求の範囲第1項記載の方法。 13、R^8がa)1つの芳香族環またはb)単結合ま
たは−O−、−NH−、−CH_2−、または−S−に
より架橋されている2つの芳香族環を有するラジカルを
有する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 14、化合物II約0.1〜1.5モルおよび化合物III
約0.5〜1.5モルを用いる、ジアゾニウム塩( I
)1モルの縮合により行う、特許請求の範囲第1項記載
の方法。 15、ジアゾニウム塩が、非置換または1〜3の炭素原
子を有するアルキルまたはアルコキシ基により置換され
ている、ジフエニルアミン−4−ジアゾニウム塩を含有
する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 16、ジアゾニウム塩が4−アミノ−ジフェニルアミン
、3−メチル−4−アミノジフェニルアミンまたは3−
メトキシ−4−アミノジフェニルアミンから誘導される
ジアゾニウム化合物を含有する、特許請求の範囲第15
項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/802,655 US4692397A (en) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | Process for developing an aqueous alkaline development diazo photographic element |
US802655 | 1985-11-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62156656A true JPS62156656A (ja) | 1987-07-11 |
Family
ID=25184338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61280946A Pending JPS62156656A (ja) | 1985-11-27 | 1986-11-27 | 写真材料の製法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4692397A (ja) |
JP (1) | JPS62156656A (ja) |
CA (1) | CA1281581C (ja) |
DE (1) | DE3639858A1 (ja) |
GB (1) | GB2183858B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03290663A (ja) * | 1990-04-09 | 1991-12-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH04172354A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JPH04172353A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Families Citing this family (12)
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---|---|---|---|---|
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US6756183B2 (en) * | 2001-08-24 | 2004-06-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing lithographic printing plate |
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NL7009571A (ja) * | 1969-07-09 | 1971-01-12 | ||
US3669660A (en) * | 1970-05-21 | 1972-06-13 | Polychrome Corp | Lithographic plate developing composition and process of use thereof |
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-
1985
- 1985-11-27 US US06/802,655 patent/US4692397A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-11-21 DE DE19863639858 patent/DE3639858A1/de not_active Withdrawn
- 1986-11-26 CA CA000523799A patent/CA1281581C/en not_active Expired
- 1986-11-26 GB GB8628254A patent/GB2183858B/en not_active Expired
- 1986-11-27 JP JP61280946A patent/JPS62156656A/ja active Pending
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