JPS62154602A - 厚膜抵抗体 - Google Patents
厚膜抵抗体Info
- Publication number
- JPS62154602A JPS62154602A JP60293850A JP29385085A JPS62154602A JP S62154602 A JPS62154602 A JP S62154602A JP 60293850 A JP60293850 A JP 60293850A JP 29385085 A JP29385085 A JP 29385085A JP S62154602 A JPS62154602 A JP S62154602A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film resistor
- thick film
- resistance value
- trimming
- resistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は描画あるいは印刷によりセラミック基板上に作
製される厚膜抵抗体に関するものである。
製される厚膜抵抗体に関するものである。
従来の技術
近年、機器の小型化が進むにつれ、電子部品の実装も高
密度化の傾向にある。その実装方法の１つにハイプリン
トＩＣ（以下１１ Ｉ Ｃと呼ぶ）がある。このＨＩＣ
に用いられる抵抗体の製造方法はセラミック基板上に抵
抗体電極ならびに配線パターンの形成後、印刷または描
画により抵抗体を形成する。しかし作製された抵抗体の
抵抗値は印刷、焼成条件などによりバラツキが生じる。
密度化の傾向にある。その実装方法の１つにハイプリン
トＩＣ（以下１１ Ｉ Ｃと呼ぶ）がある。このＨＩＣ
に用いられる抵抗体の製造方法はセラミック基板上に抵
抗体電極ならびに配線パターンの形成後、印刷または描
画により抵抗体を形成する。しかし作製された抵抗体の
抵抗値は印刷、焼成条件などによりバラツキが生じる。
そのため抵抗体にトリミングを行い、抵抗値を増大させ
所望抵抗値を得ている。近年、抵抗体実装も高密度化お
よび抵抗体の小型化の傾向にあるため、まずまずトリミ
ングによる高精度の抵抗値調整が求められている。
所望抵抗値を得ている。近年、抵抗体実装も高密度化お
よび抵抗体の小型化の傾向にあるため、まずまずトリミ
ングによる高精度の抵抗値調整が求められている。
以−ト図面を参照しながら従来の厚膜抵抗体とそのトリ
ミング方法について説明する。第３図は従来の厚膜抵抗
体の平面図を示している。第３図において１は電極であ
り、２はｊ〃厚膜抵抗体ある。
ミング方法について説明する。第３図は従来の厚膜抵抗
体の平面図を示している。第３図において１は電極であ
り、２はｊ〃厚膜抵抗体ある。
第４図は第３図の厚膜抵抗体にトリミングを施し、所望
抵抗値を得たときの厚膜抵抗体の平面図を示している。
抵抗値を得たときの厚膜抵抗体の平面図を示している。
第４図において３はトリミング溝である。
従来の厚膜抵抗体にトリミングを行い所望１１℃抗値を
得るためには、厚膜抵抗体の位置決めを行ったのち、あ
らかじめトリミング溝先端から）氏抗体端までの距Ｍｄ
ｃ以下、抵抗体残り量と呼ぶ）を定め、トリミングを
開始する。トリミング溝先端と抵抗体端までの距離が抵
抗体残り量になっても所望抵抗値にならないときは、全
形成したトリミング溝の近傍（第２図では右側）にトリ
ミング溝を形成し、電流路を防げることにより抵抗値を
変化させ、所望抵抗値を得ていた。
得るためには、厚膜抵抗体の位置決めを行ったのち、あ
らかじめトリミング溝先端から）氏抗体端までの距Ｍｄ
ｃ以下、抵抗体残り量と呼ぶ）を定め、トリミングを
開始する。トリミング溝先端と抵抗体端までの距離が抵
抗体残り量になっても所望抵抗値にならないときは、全
形成したトリミング溝の近傍（第２図では右側）にトリ
ミング溝を形成し、電流路を防げることにより抵抗値を
変化させ、所望抵抗値を得ていた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記のような構成およびトリミング方法
では高速にトリミング溝を形成し、所望抵抗値を得よう
とすると、所望抵抗値になったとき動作し、レーザ光の
照射を停止させるコンパレータ（図示せず）が抵抗値変
化に追従しきれなくなる。このことはトリミング溝形成
速度をあげるほど顕著になる。したがって、従来の厚膜
抵抗体およびそのトリミング方法では、一定の限界トリ
ミング速度があり、高速度トリミングと高精度抵抗値は
両立しないものであった。
では高速にトリミング溝を形成し、所望抵抗値を得よう
とすると、所望抵抗値になったとき動作し、レーザ光の
照射を停止させるコンパレータ（図示せず）が抵抗値変
化に追従しきれなくなる。このことはトリミング溝形成
速度をあげるほど顕著になる。したがって、従来の厚膜
抵抗体およびそのトリミング方法では、一定の限界トリ
ミング速度があり、高速度トリミングと高精度抵抗値は
両立しないものであった。
本発明は上記問題点に鑑み、高精度かつ高速度にトリミ
ングできる厚膜抵抗体を提供するものである。
ングできる厚膜抵抗体を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するための、厚膜抵抗体の電極間かつ
厚膜抵抗体の長さ方向に対して垂直で少なくとも厚ＩＩ
り抵抗体長よりも短い範囲を前記ＩＴ厚膜抵抗体導電率
よりも高導電率の物質で形成したことを特徴とする厚膜
抵抗体であり、抵抗値の微調整用のトリミング溝を前記
高導電率部に施すものである。
厚膜抵抗体の長さ方向に対して垂直で少なくとも厚ＩＩ
り抵抗体長よりも短い範囲を前記ＩＴ厚膜抵抗体導電率
よりも高導電率の物質で形成したことを特徴とする厚膜
抵抗体であり、抵抗値の微調整用のトリミング溝を前記
高導電率部に施すものである。
作用
厚膜抵抗体の一部に１１１記厚膜抵抗体の導電率よりも
高導電率部を形成し、その高導電率部に微調整用トリミ
ング溝を形成することにより、高速かつ高精度の抵抗値
を得ることができる。
高導電率部を形成し、その高導電率部に微調整用トリミ
ング溝を形成することにより、高速かつ高精度の抵抗値
を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。第１図は本発明の一実施例における厚膜抵抗体の
平面図を示すものである。第１図の４は少なくとも前記
ｆｆ膜抵抗体の導電率よりも高導電率の物質で形成され
た高導電体部である。
する。第１図は本発明の一実施例における厚膜抵抗体の
平面図を示すものである。第１図の４は少なくとも前記
ｆｆ膜抵抗体の導電率よりも高導電率の物質で形成され
た高導電体部である。
第２図は本発明の一実施例の厚膜抵抗体にトリミングを
施し、所望抵抗値を得たときの平面図である。
施し、所望抵抗値を得たときの平面図である。
本発明の厚膜抵抗体にトリミングを施し、所望抵抗値を
得る方法はまず微調整トリミング溝形成にはいる目標抵
抗値（例えば所望抵抗値の９８％）と抵抗体残り量を定
める。つぎにトリミング溝形成にはいり第２図のように
抵抗体近傍よりトリミングを開始し、トリミング溝を形
成することにより抵抗値を変化させる。トリミング溝先
端から抵抗体端までの距離が抵抗体残り量になっても目
標抵抗値にならないとき、第２図のように１本口のトリ
ミング溝形成位置の近傍（図では右側）にトリミング溝
を形成する。抵抗値が目標抵抗値になればトリミング溝
を高導電体部４に形成し、所望抵抗値を得ることができ
る。
得る方法はまず微調整トリミング溝形成にはいる目標抵
抗値（例えば所望抵抗値の９８％）と抵抗体残り量を定
める。つぎにトリミング溝形成にはいり第２図のように
抵抗体近傍よりトリミングを開始し、トリミング溝を形
成することにより抵抗値を変化させる。トリミング溝先
端から抵抗体端までの距離が抵抗体残り量になっても目
標抵抗値にならないとき、第２図のように１本口のトリ
ミング溝形成位置の近傍（図では右側）にトリミング溝
を形成する。抵抗値が目標抵抗値になればトリミング溝
を高導電体部４に形成し、所望抵抗値を得ることができ
る。
以上のように本実施例によれば、厚膜抵抗体の一部に前
記厚膜抵抗体の導電率よりも高導電率の導電体部を設け
、その高導電体部に微調整用トリミング溝を形成するこ
とにより高精度の抵抗値を得ることができる。このこと
は導電率が異なる抵抗体に同一トリミング溝の長さだけ
抵抗体に形成したとき、変化する抵抗値の絶対値が高導
電率の抵抗体の方が小さいことから明らかである。つま
り、トリミング溝長さに対する抵抗値変化がゆるやかな
ことを意味する。したがって、高導電体部にトリミング
溝を形成しているときは、レーザの照射を停止させるコ
ンパレータも十分トリミング速度に追従できることにな
り、高精度に抵抗値調整を行うことができる。
記厚膜抵抗体の導電率よりも高導電率の導電体部を設け
、その高導電体部に微調整用トリミング溝を形成するこ
とにより高精度の抵抗値を得ることができる。このこと
は導電率が異なる抵抗体に同一トリミング溝の長さだけ
抵抗体に形成したとき、変化する抵抗値の絶対値が高導
電率の抵抗体の方が小さいことから明らかである。つま
り、トリミング溝長さに対する抵抗値変化がゆるやかな
ことを意味する。したがって、高導電体部にトリミング
溝を形成しているときは、レーザの照射を停止させるコ
ンパレータも十分トリミング速度に追従できることにな
り、高精度に抵抗値調整を行うことができる。
発明の効果
以上のように本発明の厚膜抵抗体は、＋９−膜抵抗体の
電極間かつ厚膜抵抗体の長さ方向に対して垂直で少なく
とも厚膜抵抗体長よりも短い範囲を前記厚膜抵抗体の導
電率よりも高導電率の物質で形成したことを特徴とする
ものであり、抵抗値の微調整用トリミング溝を前記高導
電体部に施すものであるから、高速にトリミングを行な
え、かつ高精度の抵抗値を得ることができる。
電極間かつ厚膜抵抗体の長さ方向に対して垂直で少なく
とも厚膜抵抗体長よりも短い範囲を前記厚膜抵抗体の導
電率よりも高導電率の物質で形成したことを特徴とする
ものであり、抵抗値の微調整用トリミング溝を前記高導
電体部に施すものであるから、高速にトリミングを行な
え、かつ高精度の抵抗値を得ることができる。
第１図は本発明の一実施例における厚膜抵抗体の平面図
、第２図は本発明の厚膜抵抗体にトリミングを施したと
きの平面図、第３図は従来の厚膜抵抗体の平面図、第４
図は従来の厚膜抵抗体にトリミングを施したときの平面
図である。 １・・・・・・電極、２・・・・・・厚膜抵抗体、３・
・・・・・トリミング溝、４・・・・・・高導電体部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名４−−一雰
厚電体郊 ５−１−シミ）グ溝
、第２図は本発明の厚膜抵抗体にトリミングを施したと
きの平面図、第３図は従来の厚膜抵抗体の平面図、第４
図は従来の厚膜抵抗体にトリミングを施したときの平面
図である。 １・・・・・・電極、２・・・・・・厚膜抵抗体、３・
・・・・・トリミング溝、４・・・・・・高導電体部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名４−−一雰
厚電体郊 ５−１−シミ）グ溝
Claims (1)
- 抵抗体の両端に電極を形成する厚膜抵抗体にあって、
前記厚膜抵抗体の電極間かつ厚膜抵抗体の長さ方向に対
して垂直で少なくとも厚膜抵抗体よりも短い範囲を前記
厚膜抵抗体の導電率よりも高導電率の物質で形成したこ
とを特徴とする厚膜抵抗体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60293850A JPS62154602A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 厚膜抵抗体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60293850A JPS62154602A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 厚膜抵抗体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62154602A true JPS62154602A (ja) | 1987-07-09 |
Family
ID=17799965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60293850A Pending JPS62154602A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 厚膜抵抗体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62154602A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01276602A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-07 | Koa Corp | 感温抵抗器およびその製造方法 |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60293850A patent/JPS62154602A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01276602A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-07 | Koa Corp | 感温抵抗器およびその製造方法 |
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