JPS62139547A - 帯電防止性を有する感光積層体 - Google Patents
帯電防止性を有する感光積層体Info
- Publication number
- JPS62139547A JPS62139547A JP60279202A JP27920285A JPS62139547A JP S62139547 A JPS62139547 A JP S62139547A JP 60279202 A JP60279202 A JP 60279202A JP 27920285 A JP27920285 A JP 27920285A JP S62139547 A JPS62139547 A JP S62139547A
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- Japan
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- transparent conductive
- layer
- photosensitive
- conductive layer
- film
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、支持体フィルムとその上に積層した感光層か
らなる所謂ドライフィルムの構成を有する感光積層体に
おいて帯電防止性を付与した感光積層体に関するもので
ある。
らなる所謂ドライフィルムの構成を有する感光積層体に
おいて帯電防止性を付与した感光積層体に関するもので
ある。
（先行技術）
一般に支持体フィルムと保護フィルムにザンド゛ウィッ
チされた感光層からなる感光積層体は「ドライフィルム
」と呼ばれている。支持体フィルムは通常ポリエチレン
グリコールテレフタレートフィルムが用いられるが、こ
のような高分子フィルムは、静電気を帯びやすく、周辺
のチリ、ゴミ、フィルムの切りくず等をドライフィルム
に引き寄せ、ドライフィルムの感光層を銅張積層板等に
ラミネートする場合、チリ、ゴミ、又はフィルムの切り
くず等などが混入し、ラミネート不良を起こすという問
題があった。
チされた感光層からなる感光積層体は「ドライフィルム
」と呼ばれている。支持体フィルムは通常ポリエチレン
グリコールテレフタレートフィルムが用いられるが、こ
のような高分子フィルムは、静電気を帯びやすく、周辺
のチリ、ゴミ、フィルムの切りくず等をドライフィルム
に引き寄せ、ドライフィルムの感光層を銅張積層板等に
ラミネートする場合、チリ、ゴミ、又はフィルムの切り
くず等などが混入し、ラミネート不良を起こすという問
題があった。
又、銅張積層板上にラミネートしたドライフィルムが帯
電している場合、周囲のゴミ、チリ、フィルムの切りく
ず等を引きつけると、その部分が影となり露光時の硬化
を妨げたり回路パターンマスクとの間にはさみこまれマ
スクをドライフィルムの密着が不完全となり部分的な解
像力の低下を招くなどの問題があった。
電している場合、周囲のゴミ、チリ、フィルムの切りく
ず等を引きつけると、その部分が影となり露光時の硬化
を妨げたり回路パターンマスクとの間にはさみこまれマ
スクをドライフィルムの密着が不完全となり部分的な解
像力の低下を招くなどの問題があった。
（発明の目的および構成）
すなわち本発明は、
支持体フィルムとその上に積層された感光層からなる感
光積層板において支持体フィルムが表面抵抗値が１０８
Ω／口の透明導電性層を有する感光積層体に関する乙の
である。
光積層板において支持体フィルムが表面抵抗値が１０８
Ω／口の透明導電性層を有する感光積層体に関する乙の
である。
以上のような構成からなる感光積層体によってドライフ
ィルム使用時にゴミ、チリ、フィルムの切りくず等など
に伴うラミネート不良の問題が解決された。
ィルム使用時にゴミ、チリ、フィルムの切りくず等など
に伴うラミネート不良の問題が解決された。
本発明に用いられる透明導電性層は少なくとも感光層の
主たる吸収波長域の光を透過しかつ表面抵抗１０’Ω１
０以下のものでなければならない。
主たる吸収波長域の光を透過しかつ表面抵抗１０’Ω１
０以下のものでなければならない。
主たる吸収＄Ｌ長に吸収を有すると感光層の硬化不良、
又は露光の長時間化などの問題などが生じる。
又は露光の長時間化などの問題などが生じる。
又、表面抵抗！ＯｓΩ／口以上では帯電防止効果が損わ
れる。
れる。
このような透明導電層は蒸着、スパッタリング、鍍金、
電解重合、塗布などの方法により支持フィルム上に形成
することができる。なお本発明はこれらに限定されろも
のではない。透明導電物質としては金属例えば金、銀、
銅、パラジウム、白金、アルミニウム、スズ、化合物、
例えば酸化第二スズ（ＳｎＯｔ）、塩化スズ（ＳｂＣ１
，）、ジメチルチンジアセテート、ジメチルチンオクタ
ネート、インジウム化合物例えば二酸化インジウム（Ｉ
ｎｔｏｓ）、塩化インジウム（ＩｎＣ１ｓ）、インジウ
ムアセチルアセトネート、導電性ポリマー例えばポリチ
オフェン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリスチレ
ンスルホン酸ナトリウム塩、四級アンモニウム塩例えば
テトラメチルアンモニウム塩酸塩、テトラエチルアンモ
ニウム硫酸塩ジエチルジメチルアンモニウム塩酸塩、Ｎ
、Ｎ、Ｎ−）リエチルアンリンシュウ酸塩、などを挙げ
ることができるがこれらに限定されるものではない。
電解重合、塗布などの方法により支持フィルム上に形成
することができる。なお本発明はこれらに限定されろも
のではない。透明導電物質としては金属例えば金、銀、
銅、パラジウム、白金、アルミニウム、スズ、化合物、
例えば酸化第二スズ（ＳｎＯｔ）、塩化スズ（ＳｂＣ１
，）、ジメチルチンジアセテート、ジメチルチンオクタ
ネート、インジウム化合物例えば二酸化インジウム（Ｉ
ｎｔｏｓ）、塩化インジウム（ＩｎＣ１ｓ）、インジウ
ムアセチルアセトネート、導電性ポリマー例えばポリチ
オフェン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリスチレ
ンスルホン酸ナトリウム塩、四級アンモニウム塩例えば
テトラメチルアンモニウム塩酸塩、テトラエチルアンモ
ニウム硫酸塩ジエチルジメチルアンモニウム塩酸塩、Ｎ
、Ｎ、Ｎ−）リエチルアンリンシュウ酸塩、などを挙げ
ることができるがこれらに限定されるものではない。
（発明の実施の態様）
次に本発明を実施例により具体的に説明する尚、本発明
は実施例になんら制約を受けるものではない。
は実施例になんら制約を受けるものではない。
実施例１
以下の成分を混合して感光性組成液を作った。
ポリ（メタクリル酸メチル） ５０ｇ
トリメチロールプロパントリアクリレート ２５ｇベン
ゾフェノン ２ｇミヒラー
のケトン ０．２［（メチルエチ
ルケトン ８０ｇこれをインジウ
ムスズ酸化物をスパッタリングした２５μのポリエチレ
ングリコールテレフタレートフィルム （表面抵抗値１
０５Ω／口）のスパッタリング面に塗布し２５μの感光
層を得た。細かく砕いた発泡ポリスチレンに近づけ次に
１００℃に加熱したゴムローラーで研磨した銅張積層板
にラミネートし、超高圧水銀灯（２ｋｖ）で５０ｃｍの
距離から２０秒間露光し硬化させた。次に１．１．１−
トリクロロエタンで現像した。細かく砕いた発泡ポリス
チレンがラミネート時に混入した原因による不良はみら
れなかった。
トリメチロールプロパントリアクリレート ２５ｇベン
ゾフェノン ２ｇミヒラー
のケトン ０．２［（メチルエチ
ルケトン ８０ｇこれをインジウ
ムスズ酸化物をスパッタリングした２５μのポリエチレ
ングリコールテレフタレートフィルム （表面抵抗値１
０５Ω／口）のスパッタリング面に塗布し２５μの感光
層を得た。細かく砕いた発泡ポリスチレンに近づけ次に
１００℃に加熱したゴムローラーで研磨した銅張積層板
にラミネートし、超高圧水銀灯（２ｋｖ）で５０ｃｍの
距離から２０秒間露光し硬化させた。次に１．１．１−
トリクロロエタンで現像した。細かく砕いた発泡ポリス
チレンがラミネート時に混入した原因による不良はみら
れなかった。
実施例２
インジウムスズ酸化物をスパッタリングした２５μｍの
ポリエチレングリコールテレフタレートフィルム （表
面抵抗値１０５Ω／口）のスパッタリング面と反対面に
実施例１で用いた感光性組成液を塗布し２５μｍの感光
層を得た。実施例１と同様に評価を行なったか不良はみ
られなかった。
ポリエチレングリコールテレフタレートフィルム （表
面抵抗値１０５Ω／口）のスパッタリング面と反対面に
実施例１で用いた感光性組成液を塗布し２５μｍの感光
層を得た。実施例１と同様に評価を行なったか不良はみ
られなかった。
実施例３
透明導電性塗料（シントロンＣ−４４２１ＥＸ−１５＜
神東？ｌ料（株）〉）を２５μｍのポリエチレングリコ
ールテレフタレートフィルム上に塗布し透明導電層を形
成させた。表面抵抗値は１０？Ω／口であった。
神東？ｌ料（株）〉）を２５μｍのポリエチレングリコ
ールテレフタレートフィルム上に塗布し透明導電層を形
成させた。表面抵抗値は１０？Ω／口であった。
次にこの透明導？Ｉｔ＠の裏面に実施例１で用いた感光
性組成液を塗布し２５μの感光層を得た。実施例１と同
様の評価を行なったが、不良はみられなかった。
性組成液を塗布し２５μの感光層を得た。実施例１と同
様の評価を行なったが、不良はみられなかった。
実施例４
透明導電性塗料（シントロンＣ−４４２１ＥＸ−１０く
神東塗料（株）〉）を２５μｍのポリエチレングリコー
ルテレフタレートフィルム上に塗布し透明導電膜を形成
させた。表面抵抗値は１０’Ω１０であった。
神東塗料（株）〉）を２５μｍのポリエチレングリコー
ルテレフタレートフィルム上に塗布し透明導電膜を形成
させた。表面抵抗値は１０’Ω１０であった。
次にこの透明導電層の裏面に実施例！で用いた感光性組
成液を塗布し２５μｍの感光層を得た。
成液を塗布し２５μｍの感光層を得た。
次に１００℃に加熱したゴムローラーで研磨した銅張積
層板にラミネートした。次に細かく砕断した２５μのポ
リエチレングリコールテレフタレートフィルムをふりか
け、真空帰除器で吸い取ったのち、回路パータンマスク
をかぶせ実施例１と同様に露光し現像した細かく裁断し
た２５μのポリエチレンテレフタレートフィルムがマス
クとラミネート基板との間にはさまれマスクが浮き上が
るために生ずる不良はみられなかった。
層板にラミネートした。次に細かく砕断した２５μのポ
リエチレングリコールテレフタレートフィルムをふりか
け、真空帰除器で吸い取ったのち、回路パータンマスク
をかぶせ実施例１と同様に露光し現像した細かく裁断し
た２５μのポリエチレンテレフタレートフィルムがマス
クとラミネート基板との間にはさまれマスクが浮き上が
るために生ずる不良はみられなかった。
実施例５
金を蒸着した２５μｍのポリエチレングリコールテレフ
タレートフィルム（表面抵抗（ａｌＯ”Ω／口）の蒸着
面に実施例１で用いた感光性組成液を塗布し２５μｍの
感光層を得た。実施例４と同様に評価を行ったが不良は
みられなかった。
タレートフィルム（表面抵抗（ａｌＯ”Ω／口）の蒸着
面に実施例１で用いた感光性組成液を塗布し２５μｍの
感光層を得た。実施例４と同様に評価を行ったが不良は
みられなかった。
実施例６
テトンアンモニウム塩酸塩１ｇとポリビニルアルコール
１００ｇを水３００ｇに溶解したものを２５μｍのポリ
エチレングリコールテレフタレートフィルム上に２μｍ
の厚味に塗布後乾燥し、（表面抵抗値１０８Ω／口）次
にその反対面に実施例１で用いた感光性組成液を塗布し
２５μｍの感光層を得た。実施例４と同様にして評価を
行なったが不良はみられなかった。
１００ｇを水３００ｇに溶解したものを２５μｍのポリ
エチレングリコールテレフタレートフィルム上に２μｍ
の厚味に塗布後乾燥し、（表面抵抗値１０８Ω／口）次
にその反対面に実施例１で用いた感光性組成液を塗布し
２５μｍの感光層を得た。実施例４と同様にして評価を
行なったが不良はみられなかった。
比較例１
未処理の２５μｍポリエチレングリコールテレフタレー
トフィルム上に実施例１と同様の感光性組成液を塗布し
２５μの感光層を得た。実施例１と同様に評価を行なっ
たがラミネート時に、長大した発泡ボリスヂレンによる
不良がみられた。
トフィルム上に実施例１と同様の感光性組成液を塗布し
２５μの感光層を得た。実施例１と同様に評価を行なっ
たがラミネート時に、長大した発泡ボリスヂレンによる
不良がみられた。
比較例２
未処理の２５μｍのポリエチレングリコールテレフタレ
ートフィルム上に実施例４と同様にして実験し評価した
ところ細かく裁断したポリエチレングリコールテレフタ
レートフィルムが完全に除かれていす、マスクがラミネ
ート基板から浮き上るために生じたパータンの不良がみ
られた。
ートフィルム上に実施例４と同様にして実験し評価した
ところ細かく裁断したポリエチレングリコールテレフタ
レートフィルムが完全に除かれていす、マスクがラミネ
ート基板から浮き上るために生じたパータンの不良がみ
られた。
Claims (1)
- 支持体フィルムとその上に積層された感光層からなる感
光積層体において、支持体フィルムが表面抵抗値１０＾
８Ω／□〜１０＾０Ω／□の透明導電性層を有する感光
積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60279202A JPS62139547A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 帯電防止性を有する感光積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60279202A JPS62139547A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 帯電防止性を有する感光積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62139547A true JPS62139547A (ja) | 1987-06-23 |
Family
ID=17607854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60279202A Pending JPS62139547A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 帯電防止性を有する感光積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62139547A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6374052A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
| JPH0290165A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-03-29 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 画像形成材料 |
| US5306601A (en) * | 1988-06-29 | 1994-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fine pattern forming material and pattern forming method |
| WO2006059534A1 (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-08 | Fujifilm Corporation | パターン形成材料及びパターン形成方法 |
| JP2007114731A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-05-10 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性エレメント |
| WO2008075575A1 (ja) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 感光性エレメント |
| US8092980B2 (en) | 2007-01-31 | 2012-01-10 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive element |
| WO2014196154A1 (ja) * | 2013-06-04 | 2014-12-11 | 日立化成株式会社 | 感光性導電フィルム、並びにこれを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板 |
| JP2015018157A (ja) * | 2013-07-12 | 2015-01-29 | 日立化成株式会社 | 感光性導電フィルム、並びにこれを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4943630A (ja) * | 1972-05-23 | 1974-04-24 | ||
| JPS5863726A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 帯電防止されたプラスチツクフイルムの製造方法 |
| JPS6086545A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Fujitsu Ltd | マスク保護膜 |
-
1985
- 1985-12-13 JP JP60279202A patent/JPS62139547A/ja active Pending
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| CN102707571A (zh) * | 2006-12-19 | 2012-10-03 | 日立化成工业株式会社 | 感光性元件 |
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| JP2015018157A (ja) * | 2013-07-12 | 2015-01-29 | 日立化成株式会社 | 感光性導電フィルム、並びにこれを用いた導電パターンの形成方法及び導電パターン基板 |
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