JPS62139198A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS62139198A JPS62139198A JP60278509A JP27850985A JPS62139198A JP S62139198 A JPS62139198 A JP S62139198A JP 60278509 A JP60278509 A JP 60278509A JP 27850985 A JP27850985 A JP 27850985A JP S62139198 A JPS62139198 A JP S62139198A
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- Japan
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- switch
- memory device
- semiconductor memory
- signal
- fuse
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
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- G—PHYSICS
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- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
- G11C7/1015—Read-write modes for single port memories, i.e. having either a random port or a serial port
- G11C7/1045—Read-write mode select circuits
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/22—Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体記憶装置に関し、とりわけダイナミ
ック型ランダム・アクセス・メモリにおいて、ページモ
ード可能なものとニブルモード可能なものとを同一チッ
プ上でつくり分ることのできる半導体記憶装置に関する
ものである。
ック型ランダム・アクセス・メモリにおいて、ページモ
ード可能なものとニブルモード可能なものとを同一チッ
プ上でつくり分ることのできる半導体記憶装置に関する
ものである。
近年、ダイナミック型ランダム・アクセス・メモリ(以
下、DRAMと略す)においては、ページモード可能な
タイプとニブルモードが可能なタイプの2種類のDRA
Mがある。これの実現方法として、DRAMメーカーで
は、別チップにて両タイプのDRAMを設計するのは設
計効率上あるいは量産効率上、問題となるため、同一チ
ソ′プで両タイプ可能なものを設計し、アルミ配線マス
クを2種類準備したり、新たなポンディングパッドを設
けたりすることにより、両タイプをつくり分るようにし
ている。
下、DRAMと略す)においては、ページモード可能な
タイプとニブルモードが可能なタイプの2種類のDRA
Mがある。これの実現方法として、DRAMメーカーで
は、別チップにて両タイプのDRAMを設計するのは設
計効率上あるいは量産効率上、問題となるため、同一チ
ソ′プで両タイプ可能なものを設計し、アルミ配線マス
クを2種類準備したり、新たなポンディングパッドを設
けたりすることにより、両タイプをつくり分るようにし
ている。
以下、その−例として、アルミ配線マスクにより両タイ
プをつくり分ける方法について記す。第2図はこのDR
AMの構成を示すブロック図である。図中、1はCAS
バッファ回路、2はCASNバンファ回路である。
プをつくり分ける方法について記す。第2図はこのDR
AMの構成を示すブロック図である。図中、1はCAS
バッファ回路、2はCASNバンファ回路である。
このDRAMの構成上の特徴は、CAs信号が入力され
る上記2個のCASバッファ回路1.2を有しているこ
とであり、第1のCASNバッファ回路1の出力信号は
書込みバッファ回路3.データ入カバソファ回路4.4
ビットシフトレジスタ5.出力バッファ回路6.110
ゲ一テイング回路7を制御する。また、第2のCASバ
ッファ回路2の出力信号は、アドレスバッファ回路8.
コラムデコーダ9.プリアンプ10を制御している。
る上記2個のCASバッファ回路1.2を有しているこ
とであり、第1のCASNバッファ回路1の出力信号は
書込みバッファ回路3.データ入カバソファ回路4.4
ビットシフトレジスタ5.出力バッファ回路6.110
ゲ一テイング回路7を制御する。また、第2のCASバ
ッファ回路2の出力信号は、アドレスバッファ回路8.
コラムデコーダ9.プリアンプ10を制御している。
また、第2のCASバッファ回路2はスイッチ11を有
しており、ページモードの場合はスイッチ11はVcc
に、ニブルモードの場合はトランジスタ12.13より
構成される回路の出力Φ0に接続される。このスイッチ
11の切り換えについては、アルミ配線マスクを2種類
準備し、そのどちらを用いるかでスイッチ11の切換え
を行ない、これにより両方式をつくり分けている。
しており、ページモードの場合はスイッチ11はVcc
に、ニブルモードの場合はトランジスタ12.13より
構成される回路の出力Φ0に接続される。このスイッチ
11の切り換えについては、アルミ配線マスクを2種類
準備し、そのどちらを用いるかでスイッチ11の切換え
を行ない、これにより両方式をつくり分けている。
次に、このDRAMの動作について説明する。
第3図は、第2のCA3バッファ回路2でスイッチ11
をA側に接続した場合、即ちニブルモード時の場合にお
いて、チップ内部で発生されるRAS(8号、CASN
ti号、!。4=L cAs(lの様子を示したもので
ある。第3図から分かるように、CASN信号は外部C
As信号と同期した反転信号になる。又Φゎ信号はCA
SN信号が ・“H”になるとTr13が導電し、Tr
12は非導通であるので1L”レベルになり、RAS信
%が“H”になるまでL”状態を保つ。従ってTr14
,15からなるAND回路を有するCASバッファ回路
2の出力CAs信号は一旦、外部CAs信号がL″にな
ることによりH″になり、その途中で、外部CAs信号
が“H2になってもΦ。信号が“L”を1を保っている
ため“H”を保持し続け、Φ。信号が“H”になって、
いいかえれば外部RAS信号がH″になって初めてL″
になる。以上のような構成をとることにより、CASN
信号で制御される書込みバッファ回路3゜データ入カバ
ソファ回路4.4ビットシフトレジスタ5.出力バッフ
ァ回路6.I10ゲーティング回路7は外部CAs信号
のサイクルに同期して動作する。
をA側に接続した場合、即ちニブルモード時の場合にお
いて、チップ内部で発生されるRAS(8号、CASN
ti号、!。4=L cAs(lの様子を示したもので
ある。第3図から分かるように、CASN信号は外部C
As信号と同期した反転信号になる。又Φゎ信号はCA
SN信号が ・“H”になるとTr13が導電し、Tr
12は非導通であるので1L”レベルになり、RAS信
%が“H”になるまでL”状態を保つ。従ってTr14
,15からなるAND回路を有するCASバッファ回路
2の出力CAs信号は一旦、外部CAs信号がL″にな
ることによりH″になり、その途中で、外部CAs信号
が“H2になってもΦ。信号が“L”を1を保っている
ため“H”を保持し続け、Φ。信号が“H”になって、
いいかえれば外部RAS信号がH″になって初めてL″
になる。以上のような構成をとることにより、CASN
信号で制御される書込みバッファ回路3゜データ入カバ
ソファ回路4.4ビットシフトレジスタ5.出力バッフ
ァ回路6.I10ゲーティング回路7は外部CAs信号
のサイクルに同期して動作する。
またCAs信号により制御されるアドレスバッファ回路
8.コラムデコーダ9.プリアンプ10は一旦CAS信
号力びH′になって、動作を始めたのち、外部RAS信
号が“H”になるまで、その状態を保持し続ける。以上
の原理により、ニブルモードが可能になる。
8.コラムデコーダ9.プリアンプ10は一旦CAS信
号力びH′になって、動作を始めたのち、外部RAS信
号が“H”になるまで、その状態を保持し続ける。以上
の原理により、ニブルモードが可能になる。
一方、スイッチ11をB側5即ちVccに接続した場合
、トランジスタ14は常時導通状態にある。従って、こ
の場合CASバッファ回路2は等価的にCASNバッフ
ァ回路1と同一になり、CAs信号は外部CAs信号に
同期した信号となり、アドレスバッファ回路8.コラム
デコーダ9.プリアンプ10も各々外部CAs信号のサ
イクル毎に動作、リセットをくり返し、ページモードが
可能になる。
、トランジスタ14は常時導通状態にある。従って、こ
の場合CASバッファ回路2は等価的にCASNバッフ
ァ回路1と同一になり、CAs信号は外部CAs信号に
同期した信号となり、アドレスバッファ回路8.コラム
デコーダ9.プリアンプ10も各々外部CAs信号のサ
イクル毎に動作、リセットをくり返し、ページモードが
可能になる。
従来の半導体記憶装置は以上のように構成されているの
で、アルミ配線マスクを2種類用意せねばならず、又ど
ちらのマスクを使うが等、製造プロセス上、煩雑さが生
じる。また、ウェハプロセス途中でつくり分けるため、
早急に必要な場合、すぐには対応できない等、生産管理
上の問題もある。
で、アルミ配線マスクを2種類用意せねばならず、又ど
ちらのマスクを使うが等、製造プロセス上、煩雑さが生
じる。また、ウェハプロセス途中でつくり分けるため、
早急に必要な場合、すぐには対応できない等、生産管理
上の問題もある。
一方、専用パッドを設ける場合は、プロセス完了後、ア
センブリ時につくり分れるため、早急な対応ができるが
、この場合にはパッド部分が比較的大きな面積を必要と
するため、DRAMのような大量生産品に対しては無駄
が多くなるという問題点がある。
センブリ時につくり分れるため、早急な対応ができるが
、この場合にはパッド部分が比較的大きな面積を必要と
するため、DRAMのような大量生産品に対しては無駄
が多くなるという問題点がある。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、製造プロセス上および生産管理上の不具合
を生ずることなく、又チップ面積を増大させることなく
、ページモードとニブルモードとをつくり分ることので
きる半導体記憶装置を得ることを目的とする。
れたもので、製造プロセス上および生産管理上の不具合
を生ずることなく、又チップ面積を増大させることなく
、ページモードとニブルモードとをつくり分ることので
きる半導体記憶装置を得ることを目的とする。
ところで近年、DRAMの分野においては、その大容量
化が進み、冗長性回路の使用が必要不可欠の技術となっ
ている。そして本件発明者は、ページモードとニブルモ
ードとをつくり分られるようにしたDRAMにおける上
述の問題を解消すべく鋭意研究し、上記冗長性回路にお
けるヒユーズに着目し、これにページモードとニブルモ
ードとをつくり分るためのスイッチの投口を持たせるよ
うにすれば、製造プロセス上及び生産管理上の問題が発
生せず、しかもチップ面積が増大しないことを見い出し
た。
化が進み、冗長性回路の使用が必要不可欠の技術となっ
ている。そして本件発明者は、ページモードとニブルモ
ードとをつくり分られるようにしたDRAMにおける上
述の問題を解消すべく鋭意研究し、上記冗長性回路にお
けるヒユーズに着目し、これにページモードとニブルモ
ードとをつくり分るためのスイッチの投口を持たせるよ
うにすれば、製造プロセス上及び生産管理上の問題が発
生せず、しかもチップ面積が増大しないことを見い出し
た。
そこでこの発明は、ページモードとニブルモードの機能
が同一チップ上でスイッチの切換えにより選択的に実現
できるように構成された半導体記憶装置において、上記
スイッチを2個のヒユーズで構成するようにしたもので
ある。
が同一チップ上でスイッチの切換えにより選択的に実現
できるように構成された半導体記憶装置において、上記
スイッチを2個のヒユーズで構成するようにしたもので
ある。
この発明においては、ページモードとニブルモードとを
つくり分るためのスイッチをヒユーズでもって構成した
ことから、アルミ配線マスクを用いる場合のように、マ
スクを2種類用意したり、マスクを選択したりするとい
う必要がなく、又専用パッドを用いる場合のようにチッ
プ面積が増大するということがなく、さらにはウェハプ
ロセス完了後、アッセンブリ時につくり分ることができ
ることがら、早急な対応が可能となる。
つくり分るためのスイッチをヒユーズでもって構成した
ことから、アルミ配線マスクを用いる場合のように、マ
スクを2種類用意したり、マスクを選択したりするとい
う必要がなく、又専用パッドを用いる場合のようにチッ
プ面積が増大するということがなく、さらにはウェハプ
ロセス完了後、アッセンブリ時につくり分ることができ
ることがら、早急な対応が可能となる。
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第1図は本発明の一実施例による半導体記憶装置を示す
。図において、101,102は第1゜第2の抵抗体、
103は第1のMOSトランジスタ、!04,105は
第2.第1のヒユーズ、106はMOSトランジスタ、
107はスイッチ、108はAND回路、109は電圧
源である。
。図において、101,102は第1゜第2の抵抗体、
103は第1のMOSトランジスタ、!04,105は
第2.第1のヒユーズ、106はMOSトランジスタ、
107はスイッチ、108はAND回路、109は電圧
源である。
本実施例の装置は外部τX1信号・によって制御される
CASNバッファ回路(第1のバッファ回路)及びCA
38771回路(第2のバッファ回路)を有しており、
CASNバッファ回路は外部CAS信号に同期した反転
信号であるCASN信号(内部信号)を発生し、又CA
38771回路はページモードとニブルモードとをつく
り分るためのスイッチ107と、該スイッチ107の出
力と外部ττ「信号とのANDをとるAND回路108
とによって構成されている。上記スイッチ回路107は
電圧源109.第1のMOSトランジスタ103及び第
1のヒユーズ105によって構成され、電圧源109は
電源と接地との間に直列に接続された第1.第2の抵抗
体101.102及び第2のヒユーズ104からなり、
電源端に接続される第1の抵抗体101の抵抗値R2は
接地側に接続される第2の抵抗体102の抵抗値R8よ
りも充分太き(設定されており、電圧源109の出力端
Cは第2のヒユーズ104が切断されない時は接地電圧
に、切断された時は電源電圧になる。また第1のMOS
トランジスタ103はそのゲートに電圧源109の出力
Cが接続され、そのソース端は第1のヒユーズ105を
介して電源電圧に接続されている。
CASNバッファ回路(第1のバッファ回路)及びCA
38771回路(第2のバッファ回路)を有しており、
CASNバッファ回路は外部CAS信号に同期した反転
信号であるCASN信号(内部信号)を発生し、又CA
38771回路はページモードとニブルモードとをつく
り分るためのスイッチ107と、該スイッチ107の出
力と外部ττ「信号とのANDをとるAND回路108
とによって構成されている。上記スイッチ回路107は
電圧源109.第1のMOSトランジスタ103及び第
1のヒユーズ105によって構成され、電圧源109は
電源と接地との間に直列に接続された第1.第2の抵抗
体101.102及び第2のヒユーズ104からなり、
電源端に接続される第1の抵抗体101の抵抗値R2は
接地側に接続される第2の抵抗体102の抵抗値R8よ
りも充分太き(設定されており、電圧源109の出力端
Cは第2のヒユーズ104が切断されない時は接地電圧
に、切断された時は電源電圧になる。また第1のMOS
トランジスタ103はそのゲートに電圧源109の出力
Cが接続され、そのソース端は第1のヒユーズ105を
介して電源電圧に接続されている。
次にこのスイッチの動作について説明する。
まずヒユーズ104.105を切断しない場合において
、0点の電位はR,がR2に比して、充分大きいために
、はぼovにあり、MOSトランジスタ103のゲート
はほぼ○■なので、MOSトランジスタ103は非導通
状態にある。したがってMOSトランジスタ106のゲ
ートは、ヒユーズ105を通してVccレベルに固定さ
れるため、MOSトランジスタ106は常に導通状態に
ある。従って、この場合DRAMはページモード可能な
状態にある。
、0点の電位はR,がR2に比して、充分大きいために
、はぼovにあり、MOSトランジスタ103のゲート
はほぼ○■なので、MOSトランジスタ103は非導通
状態にある。したがってMOSトランジスタ106のゲ
ートは、ヒユーズ105を通してVccレベルに固定さ
れるため、MOSトランジスタ106は常に導通状態に
ある。従って、この場合DRAMはページモード可能な
状態にある。
次にヒユーズ104,105を切断した場合は、MOS
トランジスタ103のゲートは抵抗R1を通じてVcc
レベルになる。従ってMOSトランジスタ103は導通
状態にあり、ヒユーズ105は切断されているので、M
O3I−ランジスタ106はΦゎ信号により制御され、
したがってこの場合はニブルモード可能になる。
トランジスタ103のゲートは抵抗R1を通じてVcc
レベルになる。従ってMOSトランジスタ103は導通
状態にあり、ヒユーズ105は切断されているので、M
O3I−ランジスタ106はΦゎ信号により制御され、
したがってこの場合はニブルモード可能になる。
以上のような本実施例の装置では、ヒユーズを切断する
か否かでページモードとニブルモードとをつくり分るよ
うにしたので、アルミ配線マスクを用いる場合のように
、マスクを2種類用意したり、マスクを選択したりする
という必要がなく、その結果製造プロセスが煩雑になる
ことはなく、又ウェハプロセス完了後、テラセンブリ時
にくつり分ることができ、生産管理上の問題が生じるこ
ともな(、さらには専用パッドを設ける場合のようにチ
ップ面積が増大することがなく、大量生産に最適である
。
か否かでページモードとニブルモードとをつくり分るよ
うにしたので、アルミ配線マスクを用いる場合のように
、マスクを2種類用意したり、マスクを選択したりする
という必要がなく、その結果製造プロセスが煩雑になる
ことはなく、又ウェハプロセス完了後、テラセンブリ時
にくつり分ることができ、生産管理上の問題が生じるこ
ともな(、さらには専用パッドを設ける場合のようにチ
ップ面積が増大することがなく、大量生産に最適である
。
なお上記実施例では電圧源109を第1の抵抗体101
.第2の抵抗体102で構成したが、それぞれMOSト
ランジスタで構成してもよ(、又第2の抵抗体102と
ヒユーズ104の位置は逆でもよい。又、上記実施例で
はヒユーズを切断しない場合がページモード、切断する
場合をニブルモードとなるように構成したが、その逆も
同様に可能なことは言うまでもない。
.第2の抵抗体102で構成したが、それぞれMOSト
ランジスタで構成してもよ(、又第2の抵抗体102と
ヒユーズ104の位置は逆でもよい。又、上記実施例で
はヒユーズを切断しない場合がページモード、切断する
場合をニブルモードとなるように構成したが、その逆も
同様に可能なことは言うまでもない。
以上のように、この発明によれば、ページモードとニブ
ルモードの切り換えスイッチをヒユーズで構成したので
、アルミ配線マスクを用いる場合のように製造プロセス
上或いは生産管理上の煩雑さがなく、またポンディング
パッドを設ける場合のような大きなチップ面積のロスも
ない半導体記憶装置が得られる効果がある。
ルモードの切り換えスイッチをヒユーズで構成したので
、アルミ配線マスクを用いる場合のように製造プロセス
上或いは生産管理上の煩雑さがなく、またポンディング
パッドを設ける場合のような大きなチップ面積のロスも
ない半導体記憶装置が得られる効果がある。
第1図は本発明の一実施例による半導体記憶装置を示す
回路図、第2図はページモードとニブルモードの切り換
え可能な半導体記憶装置の構成ブロック図、第3図はそ
の外部RAS、外部CAS。 RAS、CASN、Φ。、CASの各信号波形図である 1・・・CASNバッファ回路(第1のCASバッファ
回路)、2・・・CASバッファ回路(第2のCASバ
ッファ回路)、101,102・・・第1.第2の抵抗
体、103・・・第1のMOSトランジスタ、104.
105・・・第2.第1のヒユーズ、107・・・スイ
ッチ、108・・・AND回路、109・・・電圧源。
回路図、第2図はページモードとニブルモードの切り換
え可能な半導体記憶装置の構成ブロック図、第3図はそ
の外部RAS、外部CAS。 RAS、CASN、Φ。、CASの各信号波形図である 1・・・CASNバッファ回路(第1のCASバッファ
回路)、2・・・CASバッファ回路(第2のCASバ
ッファ回路)、101,102・・・第1.第2の抵抗
体、103・・・第1のMOSトランジスタ、104.
105・・・第2.第1のヒユーズ、107・・・スイ
ッチ、108・・・AND回路、109・・・電圧源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)ページモードとニブルモードの機能が同一チップ
でスイッチの切り換えにより選択的に実現できるように
構成された半導体記憶装置において、上記スイッチが第
1、第2の2個のヒューズにて構成されていることを特
徴とする半導体記憶装置。 (2)外部@CAS@信号により制御され該外部@CA
S@信号と同期した内部信号を発生する第1のCASバ
ッファ回路と、 上記スイッチ回路及び該スイッチ回路の出力と外部@C
AS@信号とのANDをとるAND回路により形成され
外部@CAS@信号により制御される第2のCASバッ
ファ回路とを有することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の半導体記憶装置。(3)上記スイッチは、 第2のヒューズを切断しないときは接地電圧に、上記第
2のヒューズを切断した時は電源電圧になるように構成
された電圧源と、 ゲートに上記電圧源の出力が入力されソース端が第1の
ヒューズを介して電源電圧に接続された第1のMOSト
ランジスタとによって構成されることを特徴とする特許
請求の範囲第2項記載の半導体記憶装置。 (4)上記電圧源は、 電源と接地間に直列に接続された第1、第2の抵抗体及
び第2のヒューズからなり、 電源端に接続される第1の抵抗体の抵抗値が接地側に接
続される第2の抵抗体の抵抗値より充分大きく設定され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の半
導体記憶装置。 (5)上記第1、及び第2のヒューズはレーザ光により
切断されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半導体記憶装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60278509A JPS62139198A (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | 半導体記憶装置 |
KR1019860005469A KR900001775B1 (ko) | 1985-12-11 | 1986-07-07 | 반도체 기억장치 |
DE19863637336 DE3637336A1 (de) | 1985-12-11 | 1986-11-03 | Halbleiterspeichervorrichtung |
US06/933,806 US4789966A (en) | 1985-12-11 | 1986-11-24 | Semiconductor memory device with page and nibble modes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60278509A JPS62139198A (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62139198A true JPS62139198A (ja) | 1987-06-22 |
Family
ID=17598293
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60278509A Pending JPS62139198A (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | 半導体記憶装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4789966A (ja) |
JP (1) | JPS62139198A (ja) |
KR (1) | KR900001775B1 (ja) |
DE (1) | DE3637336A1 (ja) |
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JPH07179158A (ja) * | 1991-02-19 | 1995-07-18 | Mercedes Benz Ag | 自動車の塑性変形可能な膝衝突体 |
US5612238A (en) * | 1993-12-28 | 1997-03-18 | Nippon Steel Corporation | Method of manufacturing first and second memory cell arrays with a capacitor and a nonvolatile memory cell |
US5808943A (en) * | 1993-12-28 | 1998-09-15 | Nippon Steel Corporation | Semiconductor memory and method of manufacturing the same |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH02168496A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-06-28 | Kawasaki Steel Corp | 半導体メモリ回路 |
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