JPS62129284A - 置換ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用の安定剤としてのそれらの用途 - Google Patents

置換ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用の安定剤としてのそれらの用途

Info

Publication number
JPS62129284A
JPS62129284A JP61278912A JP27891286A JPS62129284A JP S62129284 A JPS62129284 A JP S62129284A JP 61278912 A JP61278912 A JP 61278912A JP 27891286 A JP27891286 A JP 27891286A JP S62129284 A JPS62129284 A JP S62129284A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
formulas
tables
alkyl
mathematical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61278912A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0772235B2 (ja
Inventor
ヨーゼフ・エルトル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS62129284A publication Critical patent/JPS62129284A/ja
Publication of JPH0772235B2 publication Critical patent/JPH0772235B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/02Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D498/10Spiro-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/35Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、合成重合体を光、熱および酸素の作用に対し
1保役する新規な立体障害性アミン光安定剤に関する。
ドイツ特許出願公開第3104294号は、なかんずく
式 (上式中、 nは1ないし3であり、そして R′はn = 1である場合には、水素、フェニルC4
−ないしC3o−アルキル、C5−ないしC4゜−アル
キル置換された、C5−ないし06−シクロアルキル置
換された、またはフェニル置換されたアシル基またはカ
ルバモイル基(その−C−基は酸素に結合されている)
を表わし、 R′はn = 2である場合には、C2−ないしC18
−アルキレンを、未置換または′2個までの01−ない
しC4−アルキル基によって置換されたフェニレンを、
α、ω−ジカルボキシーC7−ないシC8−アルキレン
を、ジカルボキシル−C6−環を、C7−ないしC14
−アルアルキレンを表わし、そして R′はn = 3である場合には、インシアヌールで表
わされるポリアルキルピペリジン光保護剤をも包含する
本発明は、従って、弐(11 〔上式中、 nは1ないし20、好ましくは2ないし10、特に2な
いし5であり、 R1は水素、C5−ないしC4−アルキル、ベンジル、
アリル、C2−ないしC50−アルカノイル、C3−な
いし’20−アルケノイル、C7−ないしC41−アロ
イル、C8−ないしC14−アリールアルカノイルまた
はC8−ないしC2゜−アルキルアリール、好ましくは
水素、C7−ないしC4−アルキル、C2ないしC3゜
−アルカノイル。
荷に水素またはアシル、殊に好ましくは水素であり、 R2は水素、またはC7ないしC4−アルキル、好まし
くは水素であり、 R3およびR4は同一または相異なるものであり、そし
て水素、C1−ないしC18−1好ましくは01−ない
しC15−そして特にC1−ないしc、−アルキル、禾
#換または塩素またはC1−ないしC4−アルキルで置
換されたフェニル、未置換またはC4−ないしC4−ア
ルキルによって置換されたC7−ないしC+4−アルア
ルキル、好ましくはC7−ないしO,−フェニルアルキ
ル企意味するかまたは4個までの01−ないしC4−ア
ルキル基で置換されたC5−ないしC12−シクロアル
キル−またはピペリジン環を意味し、 R5はn=1である場合には、1ないし4個のC4−な
いしC4−アルキル基で置換されたピペリジン環、好ま
しくは2,2,6.6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ルを意味し、 R5はn=2である場合には、シクロアルキレン、ジシ
クロアルキレン、トリシクロアルキレン、ビスメチレン
モノシクロアルキレン、ビスメチレンジシクロアルキレ
ン、ビスメチレントリシクロアルキレン、アリーレン、
ビスアリーレンアルキルを意味しくここでこれらの残基
は臭素または塩基あるいはC4−ないしO,−アルキル
基によって置換されていてもよい)、基 z (ここでr = 1ないし20であシ、そしてR6は同
じC2−ないしC42−アルキレン、シクロアルキレン
、ジシクロアルキレン、トリシクロアルキレン、ビスメ
チレンモノシクロアルキレン、ビスメチレンジシクロア
ルキレン、ビスメチレントリシクロアルキレン、アリー
レン、ビスアリーレンアルキル(ここでこれらの基もま
た臭素または塩素あるいはC4−ないしC4−アルキル
基にょって置換されていてもよい)を意味し、 R5はn = 3である場合には、三官能性のアルコー
ルまたはアミンの残基、好ましくはグリセリ/残基、脂
肪族アルコールの三官能性残基(これは更に数個のヒド
ロキシル基を含有する)、好ましくは CH2 ■ −H2C−C−CH2− CH20H フェノール、クレゾール、ビスフェノール−F″またけ
ビスフェノール−Aを基礎としたノボラックの三官能性
残基を意味し、R5はn = 4である場合には、脂肪
族アルコールまたはアミンの四官能性残基、好ましくは
ペンタエリトリチル残基、またはフェノール、クレゾー
ル、ビスフェノール−IFiたはビスフェノール−Aを
基礎としたノボラックの四官能性残基、または基 を意味し、 ぐ′ R5はn > 4である場合には、ポリオール、ポリア
ミンの、フェノール、クレゾール、ビスフェノール−F
 t タハヒスフェノールーAを基礎としたノボラック
の多官能性残基を意味し、 Yは基 を意味しそして式CI)における環の5−位および4−
位を占めており、 Xは一〇−または−N−を意味し、ここで訃 R7は水素、C4−ないしC5゜−アルキル、1ないし
4個のC1−ないしC4−アルキル基によって置換され
たピペリジン環または式(1)(上式中、R’ 、 R
2,R’ 、 R’およびYは前記の意味を有する)で
表わされる基を意味し、2は水素または式(組 (上式中、” e R2p ” p ” p R5* 
X t Y e Zおよびnは前記の意味を有する)で
表わされる基を意味するか、あるいは式(1)で表わさ
れる基である) で表わされる化合物に関する。
R5は前記の意味のほかになお n = 1である場合には、水素、C4−ないしC3゜
−アルキル、アリール、アルアルキル、アルキルアリー
ルを意味するかまたは1ないし4個のO4−ないしC4
−アルキル基によって置換されたピペリジン環を意味し
、そして n=2である場合には、C2−ないしC18−アルキレ
ンまたはフェニレンを意味し、その際Xは同時に−N−
でなければならない。
更に、式(1)において基 n > 2である場合には、式 (上式中、R7は前記の意味を有しそしてeおよびtは
2ないし4の重数である) で表わされるポリアミンを意味する。
式Iで表わされる新規な化合物は、式(ffa)または
(■13) (上式中、R+ 、 R2、R3,R4およびYは前記
の意味を有しそしてTは非酸化性鉱酸または脂肪族また
は芳香族のスルホン酸またはホスホン酸、脂肪族モノ−
、ジーまたはポリカルボン酸または芳香族モノ−または
ジカルボン酸である) で表わされるジアザオキサスピロデカンを、(A)  
式(Va)またはcvb) (ロ)        (6) (上式中、R5およびnは前記の意味を有する) で表わされるエポキシドと不活性溶媒中で塩基および場
合によっては相転移触媒の存在下に40ないし180℃
において反応せしめるか、または (B)  式(ffで表わされる化合物をエピクロルヒ
ドリンと反応せしめて式(資) で表わされる化合物を得、そしてこの式(vl)の化合
物を次に式(4) R5(−OR)n(Vl) で表わされるアルコールと、または式■で表わされるア
ミンと反応せしめるか (上記各式中、R’ 、 R2,R’、 R’、 R’
、 R’、 Yおよびnは前記の意味を有する) あるいは式(W) (上式中、R7,8およびtは前記の意味を有しUはO
ないし3の整数である) で表わされるポリアミンと反応せしめることによって製
造される。
反応経路Aの場合ならびに式(ff)とエビクロリヒド
リンとの反応(反応経路B1部分1)の場合には、例え
ばトルエンまたはキシレンのような不活性の有機溶媒中
で操作する。反応は、化合物IYaに関して0.2−な
いし1.5倍の当量の塩基、および/または化合物ff
1)を用いる場合には1.2−ないし2.5倍の当量の
塩基、好ましくは0.3−ないし1.2倍ないし1.3
−ないし2.2倍の当量の水酸化ナトリウムまたは水酸
化カリウムを用いて実施される。場合によっては、相転
移触媒°を添加する。その際、化合物■は、化合物V中
のエポキシド基に関して0.9−ないし1.1倍の当量
、好ましくは0.95−ないし1.05倍の当量、特に
好ましくは1:1の車量比で使用される。反応は、40
〜180℃、好ましくは50〜150℃、特に80〜1
10℃において行なわれる。
経路Bにおける1−ジアザスピロデカン置換された2、
己−エポキシプロピル−化合物■のアルコールまたはア
ミンとの反応は、原理的に公知の方法に従って行なわれ
る。
式(IYa)または(■b)で表わされる出発物質は、
それ自体すでに良好な安定剤であるが、安定されるべき
重合体との相容性および揮発性に関しては完全に満足す
べきものであるというわけではない。本発明による安定
剤は、これらの欠点を示さず、しかも驚くべきことには
更に明らかに改善された酸化防止作用および光安定化作
用を示す。
ドイツ特許出願公開筒5.104.294号による化合
物に比較して、本発明による新規な安定剤は、改善され
た諸性質、なかんずく改善された酸化防止作用および明
らかに改善された光保護作用を有するが、これは予想で
きなかったことであった。
式(ffa)で表わされる化合物のうちで好適なものと
しては、例えば以下のものがある=1.2−ブチル−7
,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジ
アザ−4−オキツースピロー(4,5)−デカン 2.2−イソ−ブチル゛−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ
ー(4、5)−デカノ 五 2−ベンチルーフ、7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−3,8−シアf−4−オキツースビロー(4
,5)−デカン 4.2−イソ−ベンチルーフ、7,9.9−テトラメチ
ル−1−オキサ−6,8−ジアザ−4−オキツースピロ
ー(4,5)−デカン 5.2−ヘキシル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー(4
,5)−デカン & 2−へブチル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー〔4
,5〕−デカン Z 2−イソ−ヘプチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ
ー〔4,5〕−デカン & 2−ノニル−7,7,9,9−テトラメチル−1−
オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー〔4,
5〕−デカン 9.2−イソ−ノニル−7,7,9,9−テトラメチル
−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー
(4* s)−デカン 1(L  2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピ
ロー(4,5)−デカン 11.2−フェニル−7,7,9,9−テトラメチル−
1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー(
495)−デカン 12、 2−(4−クロル−フェニル) −7,7,9
,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4
−オキツースピロー(415)−デカン15.2−エチ
ル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1−オキサ−
3,8−ジアザ−4−オキツースピロー(4,5)−デ
カン 14.2−プロピル−2,7,7,9,9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロ
ー(:4.5)−デカン 15.2−イソープロビル−2,7,7,9,9−ペン
メメテルー1−オキサ−6,8−ジアザ−4−オキツー
スピロー(4,5)−デカン 1&2−ブチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−
1−オ午す−3,8−ジアザー4−オキツースビロー〔
4,5〕−デカン 112−イソ−ブチル−2,7,7,9,9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピ
ロー〔4,5〕−デカン 1&2−ベンチルー2.7,7,9.9−ペンタメチル
−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー
〔4,5〕−デカン 122−へキシル−2,7,7,9,9−ペンタメチル
−1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロー
〔4,5〕−デカン 212−ノニル−2,7,7,9,9−べ/タフチル−
1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー(
4、5)−デカン 21、 2,2,7,7,9.9−へキサメチル−1−
オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー〔4゜
5〕−デカン 22、 2,2,7,7,8,9.9−ヘプタメチル−
1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロー(
4,5)−デカン 25、 2.2−ジエチル−/、7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピ
ロー(4、5)−デカン 24、 2.2−ジグロビルー7.7,9.9−テトラ
メチル−1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツース
ピロー(495)−デカン 25、 2.2−ジプチル−1’e9m’−1トラメチ
ルー1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ
ー(4,5)−デカン 26.2−エチル−2−ベンチルーフ、7,9.9−テ
トラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツ
ースピロー(4,5)−デカン27、 2.2−ジベン
ジル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3
,8−ジアザ−4−オキツースピロー(4,5)−デカ
ン 28、 2,2,4.4−テトラメチル−7−オキサ−
3゜13−ジアザ−14−オキソ−ジスピロー〔5゜1
.4,2 )−テトラデカン 29、 2,2,4,4−テトラメチル−7−オ干サ−
3゜14−ジアザ−15−オキソ−ジスピロー〔5゜1
.5.2)−ペンタデカン 1 2.2,4.4−テトラメチル−7−オキサ−3゜
20−ジアザ−21−オキソ−ジスピロー(5,i。
11.2 )−ヘンエイコサン 31、 2,2,7,7,9.9−へキサメチル−1−
オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−8−アセチル−
スピロ−(4,5)−デカン 32、 2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−
3゜14−ジアザ−15−オキソ−3−アセチル−ジス
ピロー(5,1,5,2)−ペンタデカン3五 2,2
,4,4−テトラメチル−7−オ牛サー3゜20−ジア
ザ−21−オキソ−3−アセテルージスビロー(5,1
,11,2,)−ヘンエイゴサン34 2,7,7,9
,9−ペンタメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3
−オキツースビロー〔4゜5〕−デカン 55.2−エチル−7,7,9,?−テト2メチルー1
−オキサー4,8−ジアザ−3−オキツースビロー(4
ts)−デカン 362−プロビルー7.7,9.9−テトラメチル−1
−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロー〔4
,5〕−デカン 57、 2−ブチル−7,7,9,9−テトラメチ;I
!/−1−オキサ゛−4,8−ジアザー3−オキツース
ピロー(4,5)−デカン 311L2−イソ−ブチル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビ
ロー(4,5)−デカン 35!2−ベンチルーフ、7,9.9−テトラメチル−
1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロー(
4,5)−デカン 4α 2−イソ−ベンチ/I/−7,7,9,9−テト
ラメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツー
スビロー(4ts)−デカン 41.2−イソ−ヘプチル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキソースビ
四−(4、s〕−デカン 42.2−7二二ルー7.7,9.9−ナト2メチルー
1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロー(
’t5)−デカ/ 45、 2,2,7,7,9,9−ヘキサメチル−1−
オキサ−4,B−ジアザ−5−オキツースビロー〔4,
5〕−デカン 44、 2,2,7,7,8,9,9−ヘグタメテルー
1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロー(
4$5)−デカン 4a  2.2−ジエチル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オ牟す−4,8−ジアザー3−オキツースピ
ロー(4,5)−デカン 44 2.2−ジエチル−7,7,8,9,9−ペンタ
メチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−5−オキツース
ビロー(4,5)−デカン 47、 2.2−ジグロピルー7,7,9,9−テトラ
メチル−1−オキ?−4.8−ジアザー3−オキツース
ビロー(4,5)−デカン 4&  2,2−ジプチル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビ
ロー(4,5)−デカン 49、 2.2−ジベンチルー7,7,9.9−テトラ
メチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツース
ビロー(4,5)−デカン 5(L  2−エチル−2,7,7,9,9−ペンタメ
チル−1−オキt −4,8−ジアザ−3−オキツース
ビロー(4,5)−デカ1 51.2−プロピル−2,7,7,9,9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロ
ー(4$ 53−デカン 52.2−イン−プロピル−2,7,7,9,9−ペン
タメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツー
スビロー(:4.5)−デカン 55.2−ブチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル
−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロー
(4,5)−デカン 54.2−イノ−ブチル−2,7,7,9,9−ペンタ
メチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−5−オキツース
ビロー〔4,5〕−デカン 55.2−べ/チルー2.7,7,9.9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロ
ー〔ats)−デカン 5&2−イソ−ベンチルー2.7,7,9.9−ペンタ
メチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−5−オキツース
ビロー(4,5)−デカン 57、 2−ヘキシル−2,7,7,9,9−ペンタメ
チル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビ
ロー(4ts〕−デカン 58.2−へブチル−2,7,7,9,9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツースビロ
ー(,4# 5)−デカン 59.2−ノニル−2,7,7,9,9−ペンタメチル
−1−オキサ−4,8−ジアザ−5−オキツースビロー
(4953−デカン 6[L 2−ウンデシル−2,7,7,9,9−ペンタ
メチルー1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツース
ピロー[4,5)−デカン 61.2−エチル−2−ブチル−7,7,9,9−テト
ラメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキツー
スピロー(4,5)−デカン 62.2−エチル−2−ベンチルーフ 、7.9.9−
テトラメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−5−オキ
ツースピロー(4,5)−デカン65.2−エチル−2
−イソ−ベンチルーフ、7,9゜9−テトラメチル−1
−オキサ−4,8−ジアザ−6−オキツースピロー(4
,5)−デカン64、 2,2,7,7,9.9−ヘキ
サメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキソ−
8−アセチル−スピロ−(4,5)−デカン 65、、 2.2−ジエチル−7,7,9,9−テトラ
メチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキソ−8
−アセチル−スピロ−(4,5)−デカン66、 2,
2,4,4−ブトラメチル−ツーオキt−3゜14−ジ
アザ−13−オキソ−ジスピロー(5゜1.4.2)−
テトラデカン 61 2.2,4.4−ナト2メチルーフーオキサ−3
゜15−ジアザ−14−オキソ−ジスピロー〔5゜1.
5,2 J −ペンタデカン 6&  2,2,4,4−ブトラメチル−ツーオキサ−
6゜21−ジアザ−20−オキソ−ジスピロー〔5゜1
.11,2)−ヘンエイコサン 例(ffb)で表わされる適当な化合物は、式(ffa
)で表わされる化合物の、プロトン酸1例えば塩化水素
、硫酸、リン酸その他との塩、例えば上記の化合物番号
1ないし68の塩酸塩である。
説明のために以下の例を挙げる: 69、 2,2,7,7,9,9−へキサメチル−1−
オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー〔4゜
5〕−デカン−塩酸塩 7tl  2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ
−3゜14−ジアザ−15−オキソ−ジスピロー〔5゜
1.5,2 )  −ペンタデカン塩酸塩71、 2,
2,4.4−テトラメチル−7−オキサ−3゜20−ジ
アザ−21−オキツースピロー〔5゜1.11.2)−
ヘンエイコサン−塩酸塩1 2.2,7,7,9.9−
へキサメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキ
ツースピロー〔4゜5〕−デカン−塩酸塩 71 2.2−ジエチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−4,8−ジアザ−6−オキソ−4,8
−ジアザ−3−オキツースピロー(4、5)−デカン−
塩酸塩 74、 2,2,4.4−テトラメチル−7−オキサ−
3゜14−ジアザ−13−オキソ−ジスピロー〔5゜1
.4,2 )−テトラデカン−塩酸塩75、 2,2,
4.4−テトラメチル−7−オキソ−5゜15−ジアザ
−14−オキソ−ジスピロー〔5゜1.5,2)−ペン
タデカン−塩酸塩 7&  2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−
5゜21−ジアザ−20−オキソ−ジスピロー(5゜1
.11.2)−ヘンエイコサン−塩酸塩式(V)で表わ
されるエポキシドの例は、下記のとおりである: ここでr=1.2.5 ・・・・・ 式(V)で表わされる化合物は、本発明による安定削へ
の反応にとっては純粋な形で存在する必要はなく、工業
用の品質の対重6するエポキシ樹脂の形でも使用されう
る。
本発明による新規な安定削は1安定化されるべき厘合体
中に問題なく合体され、そして光に誘発された酸化的分
解に対して、すなわち酸素、熱督よび光の影響による重
合体の損暢に対して安定化せしめるために極めて適して
いる。これらの新規な安定剤は、すぐれた安定化作用と
共に、安定化されるべき重合体との極めてすぐれた相客
゛性を有する点に2いて卓越している。
効果的に安定化されるべき重合体の例としては下記のも
のがある: 単一または二重の不飽和炭化水素から訪導される重合体
、例えばポリエチレン(これは場合によっては網状化さ
れていてもよい)ポリプロピレン、ポリブテン−1、ポ
リイソブチン、ポリメチルブテン−1、ポリメチルペン
テン−1、ポリイソプレン、ポリブタジェン、ポリスチ
レンのようなポリオレフィン、上記の単独重合体の基礎
となっている単重体間の共電合体、例えばエチレン−プ
ロピレン共重合体、 7’ o ヒv y−ブテン−1
共重合体、プロピレン−イソブチン共重合体、スチレン
−ブタジェン共重合体、ならびにエチレン2よびプロピ
レンとジエン、例、t ハへキサジエン、ジシクロペン
タジェンまたはエチリデンノルボルネンとの三元電合体
;上記の単独重合体の混合物、例えばポリプロピレンと
ポリエチレンの、ポリプロピレンとポリブテン、のポリ
プロピレンとポリイソブチンの?昆合物あるいはブタジ
ェン−アクリルニトリル−共電合体とスチレン−ブタジ
ェン共重合体との混合物。
ハロゲン含有ビニル重合体、例えばポリビニルクロライ
ド、ポリビニリデンクロライド、ポリビニルフルオライ
ド、ポリクロロプレン、クロロゴムならびに塩化ビニル
と塩化ビニリデンの相互の;Pよび他のオレフィン系不
飽和単量体との共電合体。
α、β−不飽和酸およびそれらの誘導体から誘導される
重合体、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレ
ート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリルニトリル
ならびにそれらの相互m1の、および他のビニル化合物
との共重合体、例えばアクリルニトリル−ブタジェン−
スチレン−、アクリルニトリル−スチレン−およびアク
リルニトリル−スチレン−アクリルエステル−共重合体
不飽和アルコールおよびアミンならびにそれらのアシル
銹導体またはアセタールから誘導される重合体、例えば
ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、−ステ
アレート、−ベンゾエート、−マレエート、ポリビニル
ブチラール、ポリアリルフタレート、ポリアリルメラミ
ンおよびそれらの他のビニル化合物との共重合体、例、
tはエチレン−ビニルアセテート−共重合体。エポキシ
ドから誘導される単独−および共重合体、例えばボリエ
テレンオキザイドまたはビスグリシジルエーテルから誘
導される重合体。
ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびポリ
オキシエチレンならびにコモノマーとしてエチレンオキ
サイドを含有するポリオキシメチレン。
ポリウレタンおよびポリ尿素。
ポリカーボネート。
ポリアミドおよびシアずンおよびジカルボン酸および/
″′!たけアミ7カルボン酸または対応するラクタミン
から誘導されるコポリアミド、例えばポリアミド6、ポ
リアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミド11
、ポリアミド12゜ジカルボン酸およびジアルコールか
ら、および/またはヒドロキシカルボン酸または対応す
るラクトンから誘導されるポリエステル、例えはボリエ
テレ/プレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリ−1,4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタ
レート。
一方ではアルデヒドそして他方ではフェノール、尿素お
よびメラミンから誘導される網状化重合体、例えばフェ
ノール−ホルムアルデヒド−1尿索−ホルムアルデヒド
−およびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。
も使用される。それらの例は、自動車の塗装に使用され
る熱硬化性および熱可塑性のアクリル樹脂、アクリル樹
脂仕上げ塗料、すなわち、通常の焼付は仕上げ塗料、お
よびまた熱架橋性アクリル樹脂とスチレンとを基礎とし
た極めて特殊な混合物、々らびてアクリル−メラミン樹
脂およびアルキッド/アクリル/メラミン樹脂に基礎と
して表面仕上塗および被覆である。そのような表面被侵
剤け、更に他の通常の光安定剤、フェノール系酸化防止
剤、顔料、染料、金属不活性化剤そのイ1(ルを含有し
うる。
特に重要なものは、ポリオレフィン、スチレン点合体、
ポリアミド、ポリ(メタ)アクリレートおよびポリウレ
タンの安定化であシ、これらにとって本発明による化合
物は、特に好適である。そのような例は、高密度および
低密度のポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プ
ロピレン共重合体、ポリスチレン、ステレ/−ブタジェ
ン−アクリルニトリル三元重合体、ポリオレフィン類の
、またはスチレン重合体類の。
そしてまたポリエーテルまたはポリエステルを基礎とし
たポリウレタン類の混合物である。
本発明による新規な安定剤は、一般に慣用される方法に
従って重合体組成物に合体される。
合体は、例えばこれらの化合物および場合によっては更
に他の添加剤を、この技術分野において慣用の方法によ
って、溶融物中に、成形の前またはその間に混合するこ
とによシ、あるいけまた溶解または分散された化合物を
重合体に直接に、あるいけその溶液、懸濁液または乳濁
液中にもたらし、場合によっては絖いて溶媒を蒸発させ
ることによって実施されうる。その量は、安定化される
べき材料に基づいて0.01ないし5π(景%、好寸し
くけ0.05ないし2,5N量%そして特に0.1ない
し1.0重量%である。これらの新規な化合物は、これ
らの化合物を、例えば1ないし50重f%、好ましくけ
2.5ないし202’u−JTh%の量で含イヱするマ
スターバッチの形態で、安定化されるべきグラスチック
に添加されてもよい。
本発明による物質の添加によって安定化されたグラスチ
ックは、場合によってけ更に他の公知のそして通常の添
加剤、例えばフェノールまたはサルファイド系の酸化防
止剤、金属不活性化剤および光安定化剤、ホスファイト
安定化剤。
金属化合物、ヱポキシ安定化剤勅よび多価アルコールを
含有してもよい。
酸化防止剤の例は、立体障害フェノール、例えば2,6
−ジー第三ブチル−4−メチルフェノール、4.4′−
ブチリデン−ビス−(2,6−ジー第三ブチルフェノー
ル)、4.A’−チオ−ビス−(2−第三プチル−5−
メチルフェノール)、2.5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシエチルール、2,2−ビス−(3,5−ジー第
三ブチルー−2−ヒドロキシベンジル)−マロン酸ジオ
クタデシルエステル、1.s、s −)シー(3,5−
ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル) ”” +
4.6− )リメテルベンゼン、2,4.6− )シー
(5,s−シー第三フチルー4−ヒドロキシベンジル)
−フェノール、フェノール系トリアジン化合物、例えば
1.s、s−トリス−(3,5−ジー第三ブチル−d−
ヒドロキシベンジル)−インシアヌレート、β−(3,
5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピ
オン酸ト例えばオクタデカノール、1,6−ヘキサンジ
オール、2.2′−チオエチレングリコール、ペンタエ
リトリットおよびトリス−ヒドロキシエチル−イソシア
ヌレートとのエステルまたはアミド、ヘキサメチレンジ
アミン、3,3−ビス−(3−第三プチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−フタン酸と例えば、エチレングリコー
ルとのエステル、脂肪アルコールとのチオールジプロピ
オン酸エステル、s、5−シー第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホン酸エチルエステルのカルシウム−
またけN1塩、ジオクタデシルサルファイドおよび−ブ
チルファイドである。
金属不活性化剤の例は、N 、N’−ジフェニルオキザ
ル酸ジアミド、N−サリチラールーN′−サリチロイル
ヒドラジン、IJ、IJ’−ビス−サリチロイルヒドラ
ジン、N 、N’−ビス−(3,5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヒドラジン、
3−サリチロイルアミノ−1+2+4− ) !Jアゾ
ール、ビス−ベンジリデン−オキサル酸ヒドラジッド、
トリス−〔2−第三ブチル−4−チオ(2′−メチル−
41−ヒドロキシ−5l−J三ブチル)−フェニル−5
−メチル〕−フェニルホスファイト、2.2’−オキサ
ミド−ビス−〔エチル−3−(3,5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)−フロピオネ−))である
UV吸収剤および光保眼剤には、2−(2’−ヒドロキ
シフェニル)−ベンズトリアゾール、例えば5−クロル
−3:51−ジー第三ブチル−および5−クロル−3′
、5′−ジー第三アミル肋導体、2−ヒドロキシベンゾ
フェノン、 例L ハ4−ヘプトキシー14−オクトキ
シ−またFi4−デシルオキシ−銹導体、サリチレート
、例えばオクチルフェニルサリチレート、ニッケル錯体
、例えば2,2′−チオ−ビス−4−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)〜フェノールおよびブチルアミ
ンまたは他のアミン類との、または2−ヒドロキシ−4
−オクトキシ−ベンゾフェノンとの、ジアルキルジチオ
カルバミン酸またはジアルキルジテオホスホン酸、オキ
ザル酸ジアミドおよび立体障害性アミン類との錯体、例
えばビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジニル)セバケート、コハク酸とN−(2−ヒドロキシ
エチル) −2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシ−ピペリジン、N、N’−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジニル)−へキサメチレン
ジアミン、2.2.4.4−テトラメチル−7−オキサ
−3,20−ジアザ−21−オキソ−ジスビロー(5,
1,11,2)−へンエイコサン、1゜1’−(1,2
−エタンジイル)−ビス−(3+3+5゜5−テトラメ
チル−ピペラジノン)とのポリエステル、N 、N’−
ビス−(2,2,6,6−チトラメテルー4−ピペリジ
ル)へキサメチレンジアミンとジブロムメタンまたけ4
−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロル−1,3,5
−トリアジンとのまたは4−(N−モルホリニル) −
2,(S−ジクロル−1,3,5−トリアジン、テトラ
キス−(2゜2.6.6−チトラメテルー4−ピペリジ
ル−1,2゜3.4−ブタンテトラカルボン酸との縮合
生成物が包含される。
ホスファイトとしては、脂肪族、芳香族または脂肪−芳
香族系のもの、例えばトリスノニルフェニルホスファイ
ト、トリス−(2,4−シー第三ブチルフェニル)−ホ
スファイト、トリス−(2−3(<三ブチルフェニル)
−ホスファイトまたはペンタエリトリットホスファイト
のエステルもまた挙げられる。
安定剤と°して公知の金属化合物は、例えば、約12な
hし32個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸または
オキシカルボン酸のカルシウム、バリウム、ストロンチ
ウム、亜鉛、カドミウム、マグネシウム、アルミニウム
および鉛の石ケン、上記の金属と芳香族カルボン酸との
塩、例えば安息香酸塩またはサリチル酸塩、ならびKこ
れらの金属の(アルキル−)−フェルレート、更に有機
スズ化合物、例えばジアルキルスズチオグリコレートお
よび一カルボキシレートならびに金属酸化物、例えばカ
ルシウム、マグネシウム、亜鉛、アルミニウムまたはケ
イ素の酸化物である。
公知のエポキシ安定剤は、例えば、エポキシ化高級脂肪
酸1例えばダイズ油、アマニ油またはエポキシ化ブナル
オレエート、長鎖オレフィンのエポキシドならびにポリ
エーテルエポキシドである。
多価アルコールは1例えばペンタエリトリット、トリメ
チロールプロパン、ソルビットまたはマンニット、すな
わち好ましくけ5ないし6個の炭素原子および2ないし
6個の0耳基を有するアルコールであシうる。
ポリ−α−オレフィン、例えばC2−ないしC4−α−
オレフィンの高圧−1中圧−および低圧重合体、特にポ
リエチレンおよびポリプロビレ/またはそのよりなα−
オレフィンの共重合体のだめの効果的な安定剤の組合せ
は、重合体100重量部に対して、例えば本発明によシ
使用されるべき化合物0.01ないし5重量部、フェノ
ール系安定剤0.05ないし5重量部、場合によっては
、イオク含有共安定剤0.01ないし5重量部ならびく
場合によっては塩基性または中性の金属石ケン、例えば
ステアリン酸カルシクムまたはステアリン酸亜鉛または
対応する酸化物0.01ないし3重量部、場合によって
はホスファイト−またけホスホナイト安定剤0.01な
いし51情部ならびに場合によっては、アルコキシヒド
ロキシベンゾフェノール、4−ヒドロキシフェニルベン
ゾトリアゾール、ベンジリデンマロン酸モノニトリルエ
ステル!、りeる群から選択された公知のUV安定剤ま
たは例えばニッケルキレートのようないわゆる消光剤0
.01ないし5重量部よりなる。その他の通例の添加剤
としては、例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、充填剤例え
ば、チョーク、メルク、アスベスト、顔料、光学的明色
化剤、防炎剤および帯電防止剤が挙げられる。
本発明に従って安定化されたプラスチックは、極めて多
岐にわたる形態で、例えばフィルム、#&維、帯状物、
型物として、あるいけ塗料、接着剤またはパテ用の結合
剤として使用されう&以下の例は、本発明を更に詳細に
説明するためのものである。
例  1 2.2−ビス−((2−ヒドロキシ−5−(2,2゜4
.4−テトラメゾルー7−オキサ−3,20−ジアザ−
21−オキソ−ジスビロー(5,1,11,2)−ヘン
エイコシル−211)−1−70ボキシ〕−フェニル−
4)−プロパン 滴下漏斗、還流冷却器、内部温度計および撹拌機を備え
た11の撹拌装置にトルエン250或を予め装入し、次
いで2.2.4. A−テトラメチル−7−オキサ−6
,20−ジアザ−21−オキソージスピロー(5,1,
11,2)−へンエイコサン(エダクト1、化合物番号
50 ) 72.8 g、ベンジルトリエチルアンモニ
ウムクロライド1g、ビスフェノール−h−ジグリシジ
ルエーテル(エダクト2、化合物番号80)58.5g
、および50%の水酸化す) IJウム溶液4gを添加
した。バッチを90℃に加熱した後に50%水酸化ナト
リウム溶液を更に12gを滴加し、そして更に6時間撹
拌した。次いで水100m1で3回抽出した。有機相を
Na25o4で乾燥し、そしてトルエンを留去した。約
180℃において残渣を真空下で1/2時間乾燥した。
無色の溶融生成物が得られ、このものは冷却後、粉砕さ
れた。この無定形の生成物は、91〜95℃のガラス転
移点、122℃の軟化点および134℃の流下点を有し
ていた。分子量は、1100と測定された(計算値10
68 )。
例  2 2.2−ビス−(〔2−ヒドロキシ−3−(2゜2t4
す4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザ−
21−オキソ−ジスピロー(5,1,11゜2)−へン
エイコシル−20−)−1−フ”ロポキシ〕−フェニル
−4)−プロパン 例1の方法に従って2.2,4.4−テトラメチル−7
−オキサ−6,20−ジアザ−21−オキソ−ジスピロ
ー(5,1,11,2)−へンエイコサンー塩酸塩80
.1.9を反応せしめ、その際前記の水酸化ナトリウム
溶液の量を50%水酸化ナトリウム溶液5sliに増加
した。収量例1と同じ生成物1o7.91!。
例  3 2.2−ビス−(〔2−ヒドロキシ−3−(2゜2+7
+7t9+9−ヘキサメチル−1−オキサ−4,8−ジ
アザ−3−オキツースピロー(4,5)−デカニル−a
)−1−7’ロボキシ〕−フェニル−4)−プロパン 内部温度計、滴下漏斗および還流冷却器を備えた11の
撹拌装置にトルエン250m1を予め仕込み、2+2+
7シ7*9*9−へキサメチル−1−オキサ−4,8−
ジアザ−3−オキツースピロー(a、s )−デカン−
塩酸塩(化合物番号72)55.3 /j、2,2−ビ
ス〔(2,3−エポキシプロビル)−フェニル−4〕プ
ロパン(化合物番号80)および水酸化カリウム19.
8.!ii’を添加し、そしてバッチを90℃に加熱し
そしてこの温度において5時間撹拌した。バッチを次に
濾過し、トルエンを戸別しそして残渣を180℃におい
て真空下で1/2時間乾燥した。はとんど無色の溶融生
成物83.5gを得、こ些を冷却後に粉砕した。この生
成物は100℃の軟化点および約900の分子量を有し
ていた。
例 4ないし17 例1および2に準拠して以下の生成物が製造された: a      30    7L8    79   
 35.o   10[1211(S5    30 
   72.8    77    42.0107.
6  996    30    72、B     
84    2a0  102..6 1547   
 50    72.8   86   38.0  
  ?5.51488    29    56.0 
  80   38.5  80.31159    
29    56.0    79    35.0 
  65.011810    70    31.7
   80   19.3  46,511511  
  43    24.0    80    19.
3   40.2  9012    43    2
4.0   77    21.0   40.0  
6B13    43    24.0     B6
    18.0   38.510614    4
3    24.0   83   17.0   3
6.1  8615    43    24.0  
  84   22.0   55.515216  
  43    24、[18519,238,280
177227,7RO19,541,790例  18
− この例は、ドイツ特許第2.606,026号およびド
イツ特許出願公開第4104,294号による安定剤に
比較した例1およびIOKよる安定剤の揮発性を示す。
揮発性は、熱重量分析用の装置ておいてn1ll定され
た。本発明による化合物2よび比較物質の同じy(s 
o o〜)をこの目的で窒素流(11/分)中で2に/
分の加熱速度で300℃まで加熱し、そして物質の損失
量を重量%で測定した。
220 260 500 500℃に2いて1    
        0    0.1  0.8    
  2.410            0    0
、I   Q、5      1.5比軟例A1)0.
4 0.7 2.5    6.0・B 2)    
 。、8 □、812.5  29.81) ドイツ特
許出願公開第4104.294号の例11による安定剤 2) ドイツ特許第2,606.026号の例31によ
る安定剤 例  19 下記のものよりなる混合物:すなわち ポリプロピレン粉末(MF工25 o15 ; 4.!
1’/ 10分、25℃に2ける密度0.903g/a
n” )    100重蓋部ぺ/クエリトリチル−テ
トラキス−2−(5,5−ジ g三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−プロピオネート0.1重量部ステアリ
ン咳カルシウム        o、 1xis訃よび 試験すべき本発明による安定剤    0.5N童部よ
りなる混合物を実験室用高速度混合機で均一化する。こ
の混合物を5P50型のウィンザー(wtnaeor)
射出成形機で240℃に2いて60 X 60 X I
 NIRの大きさのシートへと射出成形した。これらの
シートをD工N 55585に従って丁字形の試験片へ
とダイカットした。
熱老化性抵抗性を測定するために、これらの試験片を循
環空気乾燥欄内の回転トレーを有するモーターで駆動さ
れる枠に吊され、そして一定の新鮮な空気の供給によっ
て140℃の温度にかけられた。
D工N 53585による変色し、濁った、部分的にぼ
ろぼろになる部分の形成されることによって峙値づけら
れる初期局部的脆弱化がいくつ ”かの場所にでき始め
る迄の時間をD工N 55585に従って記録した。
その結果を次の表に示す: 比較例 A          41 比較例 B          29 比較例 cl)         291)試戻すべき
安定剤を営まず 例  20 例19に従って製造されたシートをオリギナール、ハナ
ク・クヴルッラ7 ヘア 社(OriginalHan
au GLuarzlampen Gmb H)製の卓
上型促進得光測定装置It″サンテスト”に2いて追加
的フィルターを用いずに光に1暴した。強いひび割れ(
顕微説による視覚的判定)の生ずるまでの露光時間は、
次のと2りであった: 比較例A      370 比較例B      475 比較例0      185 例  21〜24 例  21 上記の例に2いて製造された安定化混合物を実験室用の
フィルム吹込み成形装置(スクリュー直径50+n、長
さ20D)で加工して、厚さ約100μmの吹込み成形
フィルムとした。これらのフィルムをダイカットしてD
I′N55455に従う1:3の縮尺で輔小された形状
5の試験片とした。
光安定性を測定するために、これらの試料を、D工N 
55587 No、 5.1、註2に従う配置に2イテ
、クセ)テス) ((R)Xenotest) 120
0 促進露光2よび風化611j定装置〔オリギナール
・ハナク・石英ランプ社g (Original Ha
nauauarzlampen Gmb Ei ) [
)を用いて交番光による照射に曝した。照射の強さは、
UVフィルター(特殊フィルターガラスd=1.7nn
m)によって調節された。光安定性は、D工N5358
7に従って試験された(乾燥期間17分間、水による噴
祷3分間、ブラックパネル温度45℃、乾燥期間に2け
る相対湿度70ないし75%)。
測定されたパラメータは、一定の露出時間の後に5 c
m 7分の引離し速度を使用する引張試験機で破断時の
伸びであった。
結果は、下記の表に要約して示されている。
露出時間 下記列による安定剤 50%−値まで 10%−値まで
1            300h        
 400h10       560h  −400h
比収例 A      220h     240h#
   B       280h     500h#
    C1”ioh        140h例  
22 fl121に記載されているようにして、下記の混合物
からフィルム2よび試験片を調製した:)IDポリエテ
レ/粉末(MF工19o151.7.+9/10分 、
密度0.9439/CIn”)  100重量部pよび 試験されるべき安定剤      0.15重蓋部クセ
ノテスト12DOにより例21と同僚にして光に対する
露出により下記の結果が得られた: 915時間の露光後に2ける開始 下記例による安定剤 時の数値に対する残存する破断時
1          72% 10          85% 比較例A        35% ’   B          55%例  2S 9j122に2けると同じ測定を下記の混合物を用いて
行なった: 例22に2いて記載されたHDポリエチレン粉末   
          100i量部?よび 試験すべき安定剤    0.3″if部1.194時
間の露出後に2ける開 下記−?lIによる安定剤  始時の数値に対する残存
する破断時の伸び 1            96% 10            119%比較例A   
     85% ’   B           73%I  C8% 例  24 例21に従って下記の混合物から試験片を調製し、そし
て光に露出せしめた: LD−ポリエチレン粉末(MI+’工190/2.16
 。
2.5 、+1/10分間;密度0.924 i/cm
a )100重量部 試験すべき安定剤        0.5 ii1部露
光露光−J、を下記の表に要約して示す:50%値に達
するまでの露出時間 Tfi:tlJK x B安’lJ  (開始時の数値
に対する残存する破断時の伸び) 比較例A       700 比較例B       600 比較例C600

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔上式中、 nは1ないし20の整数であり、 R^1は水素、C_1−ないしC_4−アルキル、ベン
    ジル、アリル、C_2−ないしC_3_0−アルカノイ
    ル、C_2−ないしC_2_0−アルケノイル、C_7
    −ないしC_1_1−アロイル、C_8−ないしC_1
    _4−アリールアルカノイルまたはC_8−ないしC_
    2_0−アルキルアリールであり、 R^2は水素またはC_1−ないしC_4−アルキルで
    あり、 R^3およびR^4は同一または相異なるものであり、
    そして水素、C_1−ないしC_1_8−アルキル、未
    置換または塩素またはC_1−ないしC_4−アルキル
    によつて置換されたフェニル、 未置換またはC_1−ないしC_4−アルキルによつて
    置換されたC_7−ないしC_1_4−アルアルキルを
    意味するかあるいはこれらの 基が結合している炭素原子と一緒で未置 換または4個までのC_1−ないしC_4−アルキル基
    によつて置換されたC_5−ないしC_1_2−シクロ
    アルキルまたはピペリジン環を 意味し、 R^5はn=1である場合には、1ないし4個のC_1
    −ないしC_4−アルキル基によつて置換されたピペリ
    ジン環を意味し、 R^5はn=2である場合には、シクロアルキレン、ジ
    シクロアルキレン、トリシクロ アルキレン、ビスメチレンモノシクロア ルキレン、ビスメチレンジシクロアルキ レン、ビスメチレントリシクロアルキレ ン、アリーレン、ビスアリーレンアルキ ルを意味し(ここでこれらの基は、臭素 または塩基あるいはC_1ないしC_4−アルキル基に
    よつて置換されていてもよい)、 基▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでr=1ないし20でありそして R^6はC_2−ないしC_1_2−アルキレン、シク
    ロアルキレン、ジシクロアルキレン、ト リシクロアルキレン、ビスメチレンモノ シクロアルキレン、ビスメチレンジシク ロアルキレン、ビスメチレントリシクロ アルキレン、アリーレン、ビスアリーレ ンアルキル(ここでこれらの基もまた臭 素または塩素あるいはC_1−ないしC_4−アルキル
    基によつて置換されていてもよい) を意味し、 R^5はn=3である場合には、三官能性のアルコール
    またはアミンの残基、脂肪族ア ルコールの三官能性残基(これは更に数 個のヒドロキシル基を含有する)、フェ ノール、クレゾール、ビスフェノール− Fまたはビスフェノール−Aを基礎とし たノボラックの三官能性残基を意味し、 R^5はn=4である場合には脂肪族アルコールまたは
    アミンの、またはフェノール、 クレゾール、ビスフェノール−Fまたは ビスフェノール−Aを基礎としたノボラ ックの四官能性基または基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を意味し、 R^5はn>4である場合にはポリオールの、ポリアミ
    ンの、フェノール、クレゾール、 ビスフェノール−Fまたはビスフェノー ル−Aを基礎としたノボラックの多官能 性基を意味し、 Yは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を意味し、そして式( I )において環の3−位および
    4−位を占めており、 Xは−O−または▲数式、化学式、表等があります▼を
    意味し、ここで R^7は水素、C_1−ないしC_3_0−アルキル、
    1ないし4個のC_1−ないしC_4−アルキル基によ
    つて置換されたピペリジン環また は式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびYは
    前記の意味を有する)で表わされる基を意味 し、 Zは水素または式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、
    X、Y、Zおよびnは前記の意味を有する)で表わ される基、または式(II)で表わされる基を意味し、そ
    して R^5は上記の意味のほかに更に、 n=1である場合には水素、C_1−ないしC_3_0
    −アルキル、アリール、アルアルキル、アルキルアリー
    ルまたは1ない し4個のC_1−ないしC_4−アルキル基で置換され
    たピペリジン環であり、 n=2である場合にはC_2−ないしC_1_8−アル
    キレンまたはフェニレンであり、 その際Xは同時に▲数式、化学式、表等があります▼で
    なければな らず、そして式( I )よりの基 ▲数式、化学式、表等があります▼ は更に、 n=2である場合には▲数式、化学式、表等があります
    ▼を、 そして n>2である場合には式 ▲数式、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R^7は前記の意味を有しそし てsおよびtは2ないし4の整数であ る)で表わされるポリアミン を意味する〕 で表わされる化合物。 2、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔上式中、 nは1ないし20の整数であり、 R^1は水素、C_1−ないしC_4−アルキル、ベン
    ジル、アリル、C_2−ないしC_3_0−アルカノイ
    ル、C_2−ないしC_2_0−アルケノイル、C_7
    −ないしC_1_1−アロイル、C_8−ないしC_1
    _4−アリールアルカノイルまたはC_8−ないしC_
    2_0−アルキルアリールであり、R^2は水素または
    C_1−ないしC_4−アルキルであり、 R^3およびR^4は同一または相異なるものであり、
    そして水素、C_1−ないしC_1_8−アルキル、未
    置換または塩素またはC_1−ないしC_4−アルキル
    によつて置換されたフェニル、未置換またはC_1−な
    いしC_4−アルキルによつて置換されたC_7ないし
    C_1_4−アルアルキルを意味するかあるいはこ れらの基は結合している炭素原子と一緒 で未置換または4個までのC_1−ないしC_4−アル
    キル基によつて置換されたC_5−ないしC_1_2−
    シクロアルキルまたはピペリジン環を意味し、 R^5はn=1である場合には、1ないし4個のC_1
    −ないしC_4−アルキル基によつて置換されたピペリ
    ジン環を意味し、 R^5はn=2である場合には、シクロアルキレン、ジ
    シクロアルキレン、トリシクロ アルキレン、ビスメチレンモノシクロア ルキレン、ビスメチレンジシクロアル キレン、ビスメチレントリシクロアルキ レン、アリーレン、ビスアリーレンアル キルを意味し(ここでこれらの基は、臭 素または塩基あるいはC_1−ないしC_4−アルキル
    基によつて置換されていてもよい)、基▲数式、化学式
    、表等があります▼ (ここでr=1ないし20でありそして R^6はC_2−ないしC_1_2−アルキレン、シク
    ロアルキレン、ジシクロアルキレン、ト リシクロアルキレン、ビスメチレンモノ シクロアルキレン、ビスメチレンジシク ロアルキレン、ビスメチレントリシクロ アルキレン、アリーレン、ビスアリーレ ンアルキル(ここでこれらの基もまた臭 素または塩素あるいはC_1−ないしC_4−アルキル
    基によつて置換されていてもよい) を意味し、 R^5はn=3である場合には、三官能性のアルコール
    またはアミンの残基、脂肪族ア ルコールの三官能性残基(これは更に数 個のヒドロキシル基を含有する)、フェ ノール、クレゾール、ビスフェノール− Fまたはビスフェノール−Aを基礎とし たノボラックの三官能性残基を意味し、 R^5はn=4である場合には脂肪族アルコールまたは
    アミンの、またはフェノール、 クレゾール、ビスフェノール−Fまたは ビスフェノール−Aを基礎としたノボラ ックの四官能性基または基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を意味し、 R^5はn>4である場合にはポリオールの、ポリアミ
    ンの、フェノール、クレゾール、 ビスフェノール−Fまたはビスフェノー ル−Aを基礎としたノボラックの多官能 性基を意味し、 Yは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を意味しそして式( I )において環の3−位および4
    −位を占めており、 Xは−O−または▲数式、化学式、表等があります▼を
    意味し、ここで R^7は水素、C_1−ないしC_3_0−アルキル、
    1ないし4個のC_1−ないしC_4−アルキル基によ
    つて置換されたピペリジン環または 式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびYは
    前記の意味を有する)で表わされる基を意味 し、 Zは水素または式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、
    X、Y、Zおよびnは前記の意味を有する)で表わさ れる基、または式(II)で表わされる基を意味し、そし
    て R^5は上記の意味のほかに更に、 n=1である場合には水素、C_1−ないしC_3_0
    −アルキル、アリール、アルアルキル、アルキルアリー
    ルまたは1ないし 4個のC_1−ないしC_4−アルキル基で置換された
    ピペリジン環であり、 n=2である場合にはC_2−ないしC_1_8−アル
    キレンまたはフェニレンであり、 その際Xは同時に▲数式、化学式、表等があります▼で
    なければな らず、そして式( I )よりの基 ▲数式、化学式、表等があります▼ は更に、 n=2である場合には▲数式、化学式、表等があります
    ▼を、 そして n>2である場合には式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R^7は前記の意味を有しそし てsおよびtは2ないし4の整数であ る)で表わされるポリアミン を意味する〕 で表わされる化合物を製造すべく、式(IVa)または(
    IVb) ▲数式、化学式、表等があります▼(IVa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IVb) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびYは
    前記の意味を有しそしてTは非酸化性鉱酸または脂肪族
    または芳香族のスルホン酸またはホス ホン酸、脂肪族モノ−、ジ−またはポリカ ルボン酸または芳香族モノ−またはジカル ボン酸である) で表わされるジアザオキサスピロデカンを、(A)式(
    Va)または(Vb) ▲数式、化学式、表等があります▼(Va)▲数式、化
    学式、表等があります▼(Vb) (上式中、R^5およびnは前記の意味を有する) で表わされるエポキシドと不活性溶媒中で 塩基および場合によつては相転移触媒の存 在下に40ないし180℃において反応せ しめるか、または (B)(A)と類似方法でエピクロルヒドリンと反応せ
    しめて式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) で表わされる化合物を得、そしてこの化合 物を次に式(VII) R^5−(OH)_n(VII) で表わされるアルコールと、または式(VIII)▲数式、
    化学式、表等があります▼(VIII) で表わされるアミンと反応せしめるか (上記各式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^
    5、R^6、Yおよびnは前記の意味を有する)あるい
    は式 (IX) ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (上式中、R^7、sおよびtは前記の意味を有しuは
    0ないし3の整数である) で表わされるポリアミンと反応せしめることを特徴とす
    る前記式 I で表わされる化合物の製造方法。 3、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔上式中、 nは1ないし20の整数であり、 R^1は水素、C_1−ないしC_4−アルキル、ベン
    ジル、アリル、C_2−ないしC_3_0−アルカノイ
    ル、C_2−ないしC_2_0−アルケノイル、C_7
    −ないしC_1_1−アロイル、C_8−ないしC_1
    _4−アリールアルカノイルまたはC_8−ないしC_
    2_0−アルキルアリールであり、R^2は水素または
    C_1−ないしC_4−アルキルであり、 R^3およびR^4は同一または相異なるものであり、
    そして水素、C_1−ないしC_1_8−アルキル、未
    置換または塩素またはC_1−ないしC_4−アルキル
    によつて置換されたフェニル、未置換またはC_1−な
    いしC_4−アルキルによつて置換されたC_7−ない
    しC_1_4−アルアルキルを意味するかあるいはこ れらの基が結合している炭素原子と一緒 で未置換または4個までのC_1−ないしC_4−アル
    キル基によつて置換されたC_5−ないしC_1_2−
    シクロアルキルまたはピペリジン環を意味し、 R^5はn=1である場合には、1ないし4個のC_1
    −ないしC_4−アルキル基によつて置換されたピペリ
    ジン環を意味し、 R^5はn=2である場合には、シクロアルキレン、ジ
    シクロアルキレン、トリシクロ アルキレン、ビスメチレンモノシクロア ルキレン、ビスメチレンジシクロアルキ レン、ビスメチレントリシクロアルキレ ン、アリーレン、ビスアリーレンアルキ ルを意味し(ここでこれらの基は、臭素 または塩基あるいはC_1−ないしC_4−アルキル基
    によつて置換されていてもよい)、 基▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでr=1ないし20でありそして R^6はC_2−ないしC_1_2−アルキレン、シク
    ロアルキレン、ジシクロアルキレン、ト リシクロアルキレン、ビスメチレンモノ シクロアルキレン、ビスメチレンジシク ロアルキレン、ビスメチレントリシクロ アルキレン、アリーレン、ビスアリーレ ンアルキル(ここでこれらの基もまた臭 素または塩素あるいはC_1−ないしC_4−アルキル
    基によつて置換されていてもよい) を意味し、 R^5はn=3である場合には、三官能性のアルコール
    またはアミンの残基、脂肪族ア ルコールの三官能性残基(これは更に数 個のヒドロキシル基を含有する)、フェ ノール、クレゾール、ビスフェノール− Fまたはビスフェノール−Aを基礎とし たノボラックの三官能性残基を意味し、 R^5はn=4である場合には脂肪族アルコールまたは
    アミンの、またはフェノール、 クレゾール、ビスフェノール−Fまたは ビスフェノール−Aを基礎としたノボラ ックの四官能性基または基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を意味し、 R^5はn>4である場合にはポリオールの、ポリアミ
    ンの、フェノール、クレゾール、 ビスフェノール−Fまたはビスフェノー ル−Aを基礎としたノボラックの多官能 性基を意味し、 Yは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を意味しそして式( I )において環の3−位および4
    −位を占めており、 Xは−O−または▲数式、化学式、表等があります▼を
    意味し、ここで R^7は水素、C_1−ないしC_3_0−アルキル、
    1ないし4個のC_1−ないしC_4−アルキル基によ
    つて置換されたピペリジン環また は式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびYは
    前記の意味を有する)で表わされる基を意味 し、 Zは水素または式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (上式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、
    X、Y、Zおよびnは前記の意味を有する)で表わ される基、または式(II)で表わされる基を意味し、そ
    して R^5は上記の意味のほかに更に、 n=1である場合には水素、C_1−ないしC_3_0
    −アルキル、アリール、アルアルキル、アルキルアリー
    ルまたは1ない し4個のC_1−ないしC_4−アルキル基で置換され
    たピペリジン環であり、 n=2である場合にはC_2−ないしC_1_8−アル
    キレンまたはフェニレンであり、 その際Xは同時に▲数式、化学式、表等があります▼で
    なければな らず、そして式( I )よりの基 ▲数式、化学式、表等があります▼ は更に、 n=2である場合には▲数式、化学式、表等があります
    ▼ そして n>2である場合には式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R^7は前記の意味を有しそし てsおよびtは2ないし4の整数であ る)で表わされるポリアミン を意味する〕 で表わされる化合物を含有することを特徴とする合成重
    合体用の安定剤。 4、重合体がポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリ
    メタクリレートまたはスチレンの単独重合体または共重
    合体である特許請求の範囲第3項記載の安定剤。 5、重合体が塗料の固形分である特許請求の範囲第3項
    記載の安定剤。 6、光の有害な作用に対して合成重合体を安定化させる
    ために、これらの重合体に対して、場合によつては従来
    公知の安定化物質に加えて、式 I で表わされる化合物
    を上記重合体を基準にして0.01ないし5重量部添加
    する、特許請求の範囲第3項記載の安定剤。
JP61278912A 1985-11-26 1986-11-25 置換ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用の安定剤としてのそれらの用途 Expired - Lifetime JPH0772235B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3541665.3 1985-11-26
DE19853541665 DE3541665A1 (de) 1985-11-26 1985-11-26 Substituierte diazaspirodecane, ihre herstellung und ihre verwendung als stabilisatoren fuer polymere

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62129284A true JPS62129284A (ja) 1987-06-11
JPH0772235B2 JPH0772235B2 (ja) 1995-08-02

Family

ID=6286807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61278912A Expired - Lifetime JPH0772235B2 (ja) 1985-11-26 1986-11-25 置換ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用の安定剤としてのそれらの用途

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4771091A (ja)
EP (1) EP0224181B1 (ja)
JP (1) JPH0772235B2 (ja)
AT (1) ATE66922T1 (ja)
AU (1) AU588065B2 (ja)
BR (1) BR8605773A (ja)
CA (1) CA1276021C (ja)
DE (2) DE3541665A1 (ja)
ES (1) ES2002663A6 (ja)
MX (1) MX163460B (ja)
ZA (1) ZA868918B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62129312A (ja) * 1985-11-26 1987-06-11 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト オリゴマ−性ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用光保護剤としてのそれらの用途

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3524542A1 (de) * 1985-07-10 1987-01-22 Hoechst Ag 1-oxa-3-oxo-4,8-diaza-spiro-(4,5)decan- verbindungen
DE3919691A1 (de) * 1989-06-16 1990-12-20 Hoechst Ag Polymere polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecane
US5213897A (en) * 1991-04-03 1993-05-25 Elf Atochem North America, Inc. Epoxy resins containing bound light stabilizing groups
DE4405387A1 (de) * 1994-02-19 1995-08-24 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung von Polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecan-Verbindungen
DE4405388A1 (de) * 1994-02-19 1995-08-24 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung von Polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecan-Verbindungen
DE4423055A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-11 Hoechst Ag Polyalkylpiperidin-Verbindungen
EP0837064A3 (de) * 1996-10-16 1998-04-29 Ciba SC Holding AG Addukte aus Aminen und Epoxyd-HALS und ihre Verwendung als Stabilisatoren
US5985961A (en) * 1997-06-17 1999-11-16 Johns Manville International, Inc. Monofilament
KR20010050085A (ko) * 1999-08-18 2001-06-15 잔디해머,한스루돌프하우스 신규한 입체 장애 아민

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62129312A (ja) * 1985-11-26 1987-06-11 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト オリゴマ−性ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用光保護剤としてのそれらの用途

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3639409A (en) * 1967-06-22 1972-02-01 Sankyo Co 1 3 8-triaza-2-oxo- or thioxo-3-substituted-4-oxo or imin 7 9 9-tetraalkyl spiro(4 o-75)decanes
GB1467672A (en) * 1974-04-11 1977-03-16 Ciba Geigy Ag Stabilised epoxy resin
DE2606026C2 (de) * 1976-02-14 1982-03-25 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 1-Oxa-3,8-diaza-spiro- [4,5] -decane, ihre Herstellung und ihre Verwendung als Lichtstabilisatoren
JPS53101380A (en) * 1977-01-14 1978-09-04 Sankyo Co Ltd Piperidine derivatives
DE2933732A1 (de) * 1979-08-21 1981-03-26 Hoechst Ag, 65929 Frankfurt Alkylierte diazaspirodecane, ihre herstellung und verwendung als lichtschutzmittel
DE2941004A1 (de) * 1979-10-10 1981-04-23 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Ether auf polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecanbasis
CH648036A5 (de) * 1980-12-24 1985-02-28 Sandoz Ag 1-oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro-(4,5)-decan-verbindungen.
DE3104294A1 (de) * 1981-02-07 1982-08-19 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Substituierte diazaspirodecane, ihre herstellung, ihre verwendung als stabilisatoren fuer organische polymere, sowie die so stabilisierten polymeren
US4419512A (en) * 1981-10-15 1983-12-06 Ciba-Geigy Corporation N-Substituted polyalkylpiperidine-4-spirooxazolones
DE3217734A1 (de) * 1982-05-12 1983-11-17 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Polyalkyldiazaspirodecanylessigsaeurederivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als lichtschutzmittel fuer organische polymere
DE3524543A1 (de) * 1985-07-10 1987-01-22 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von 1-oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro-(4,5)decan- verbindungen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62129312A (ja) * 1985-11-26 1987-06-11 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト オリゴマ−性ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用光保護剤としてのそれらの用途

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62129312A (ja) * 1985-11-26 1987-06-11 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト オリゴマ−性ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用光保護剤としてのそれらの用途

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0772235B2 (ja) 1995-08-02
CA1276021C (en) 1990-11-06
ATE66922T1 (de) 1991-09-15
US4771091A (en) 1988-09-13
BR8605773A (pt) 1987-08-25
ZA868918B (en) 1987-07-29
AU588065B2 (en) 1989-09-07
EP0224181A1 (de) 1987-06-03
DE3541665A1 (de) 1987-05-27
DE3681258D1 (de) 1991-10-10
ES2002663A6 (es) 1988-09-16
MX163460B (es) 1992-05-18
AU6565786A (en) 1987-05-28
EP0224181B1 (de) 1991-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0152433B1 (ko) N-치환된 입체 장애 아민 안정화제 조성물
US5169925A (en) Polymeric polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecanes
JPH0138117B2 (ja)
JPS649995B2 (ja)
JPH07109274A (ja) o−ヒドロキシフェニル−1,3,5−トリアジン基およびポリアルキルピペリジン基を含む化合物
JPH0399060A (ja) 立体障害性アミン、及びニトロン部分の両方を含むポリマー安定剤
JPS62129284A (ja) 置換ジアザオキサスピロデカン、それらの製造方法および重合体用の安定剤としてのそれらの用途
JPH0543708B2 (ja)
JP4370000B2 (ja) ポリアルキル−1−オキサジアザスピロデカン化合物をベースとする化合物
JPS6332782B2 (ja)
KR100292209B1 (ko) 가수분해안정성3가인화합물의제조방법,이를사용한열가소성수지의안정화방법및이를포함하는열가소성성형조성물
CZ287389B6 (en) Process for preparing polyalkyl-l-oxa-diazaspirodecane compounds
JPH03412B2 (ja)
KR100581651B1 (ko) 디옥소피페라지닐 유도체로 안정화된 조성물
US4409348A (en) Poly-bis-triazinylaminotriazinylamines, their preparation and their use as light stabilizers for plastics, and plastics which have been stabilized with them
US4797436A (en) Oligomeric diazaoxaspirodecanes, preparation thereof and use thereof as light stabilizers for polymers
AU690982B2 (en) Polyalkylpiperidine compounds
JPS629111B2 (ja)
US4451400A (en) Phosphazenes useful as stabilizers in polymers
JPS59176256A (ja) オリゴマーエステル及び有機ポリマーの安定化方法
US4471417A (en) Poly-bis-triazinylimides, their preparation
EP0690060B1 (de) Polyalkylpiperidin-Verbindungen
KR19980032996A (ko) 에폭시드기를 함유하는 입체 장애 아민 및 아민 또는 암모니아의 부가 생성물
KR19980032997A (ko) 안정화제로서 유용한 4-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘
JPS6216485A (ja) 新規な1−オキサ−3、8−ジアザ−4−オキソ−スピロ−〔4、5〕−デカン化合物、それらの製造方法およびそれらの用途