JPH07109274A - ｏ−ヒドロキシフェニル−１，３，５−トリアジン基およびポリアルキルピペリジン基を含む化合物 - Google Patents
ｏ−ヒドロキシフェニル−１，３，５−トリアジン基およびポリアルキルピペリジン基を含む化合物Info
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- JPH07109274A JPH07109274A JP3115622A JP11562291A JPH07109274A JP H07109274 A JPH07109274 A JP H07109274A JP 3115622 A JP3115622 A JP 3115622A JP 11562291 A JP11562291 A JP 11562291A JP H07109274 A JPH07109274 A JP H07109274A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】例えば下記式Ｉ含む化合物。
〔式中ＲはＨ，ＣＨ３を；Ｒ１〜Ｒ６はＨ，ＯＨ，Ｃ１
〜Ｃ１２アルキル等を；表す〕 【効果】有機材料（特にペイント，記録材料）に安定剤
として配合され、光、酸素、熱による劣化を防止する。
〜Ｃ１２アルキル等を；表す〕 【効果】有機材料（特にペイント，記録材料）に安定剤
として配合され、光、酸素、熱による劣化を防止する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はｏ−ヒドロキシフェニル
−１，３，５−トリアジンと立体障害性アミンとから形
成される新規化合物、有機材料を安定化するためのそれ
らの使用および前記新規化合物を用いて安定化された有
機材料に関する。
−１，３，５−トリアジンと立体障害性アミンとから形
成される新規化合物、有機材料を安定化するためのそれ
らの使用および前記新規化合物を用いて安定化された有
機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＵＳ−Ａ４６１９９５６号はポリマーフ
ィルム、コーティングおよび成形品を安定化するため
の、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合
物、その酸塩または金属との錯体とある種のｏ−ヒドロ
キシフェニル−ｓ−トリアジンとの相乗的混合物を記載
している。
ィルム、コーティングおよび成形品を安定化するため
の、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合
物、その酸塩または金属との錯体とある種のｏ−ヒドロ
キシフェニル−ｓ−トリアジンとの相乗的混合物を記載
している。
【０００３】少なくとも１個の２−（２’−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾトリアゾール基または２−ヒドロキシ
ベンゾフェノン基および少なくとも１個のポリアルキル
ピペリジン基を分子中に含む化合物はＵＳ−Ａ４２８９
６８６号から光安定剤として公知である。
フェニル）ベンゾトリアゾール基または２−ヒドロキシ
ベンゾフェノン基および少なくとも１個のポリアルキル
ピペリジン基を分子中に含む化合物はＵＳ−Ａ４２８９
６８６号から光安定剤として公知である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の公知物
質とは異なり、光、酸素および／または熱による劣化に
対する有機材料のための安定剤として特に有効である新
規化合物を提供することを課題とする。
質とは異なり、光、酸素および／または熱による劣化に
対する有機材料のための安定剤として特に有効である新
規化合物を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式Ｉ（化２
８）またはＩＩ（化２９）：
８）またはＩＩ（化２９）：
【化２８】
【化２９】 で表される基を少なくとも１個、および次式ＩＩＩ（化
３０）：
３０）：
【化３０】 （上記式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ1
およびＲ2 は互いに独立して水素原子、−ＯＨ基、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基またはハロゲン原子を
表し、Ｒ3 およびＲ4 は互いに独立して水素原子、−Ｏ
Ｈ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数１ないし１８のアルコキシ基、ハロゲン原子または式
ＩＩＩで表される基を含む基を表し、そしてＲ5 および
Ｒ6 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、ハロゲン原子または式ＩＩＩで表され
る基を含む基を表すが、ただし、式Ｉで表される基中の
Ｏ原子が橋−ＣＨ2 ＣＯ−に結合されているならば、ピ
ペリジン環の１位にあり得る置換基は−Ｏ−を介して窒
素原子に結合されない。）で表されるポリアルキルピペ
リジン基を少なくとも１個含む新規化合物に関する。
およびＲ2 は互いに独立して水素原子、−ＯＨ基、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基またはハロゲン原子を
表し、Ｒ3 およびＲ4 は互いに独立して水素原子、−Ｏ
Ｈ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数１ないし１８のアルコキシ基、ハロゲン原子または式
ＩＩＩで表される基を含む基を表し、そしてＲ5 および
Ｒ6 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、ハロゲン原子または式ＩＩＩで表され
る基を含む基を表すが、ただし、式Ｉで表される基中の
Ｏ原子が橋−ＣＨ2 ＣＯ−に結合されているならば、ピ
ペリジン環の１位にあり得る置換基は−Ｏ−を介して窒
素原子に結合されない。）で表されるポリアルキルピペ
リジン基を少なくとも１個含む新規化合物に関する。
【０００６】好ましい化合物は、次式Ｉａ（化３１）ま
たはＩＩａ（化３２）：
たはＩＩａ（化３２）：
【化３１】
【化３２】 ｛上記式中、ｎは１または２を表し、Ｒ1 およびＲ2 は
上記の意味を表し、Ｒ3およびＲ4 は互いに独立して水
素原子、−ＯＨ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、ハロゲン
原子または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基を表し、そしてＲ5 および
Ｒ6 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、ハロゲン原子または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基
を表し、Ａは直接結合、−（ＣＨ2 ）m ＣＯ−（式中ｍ
は０または１ないし４を表す。）で表される基、−ＣＨ
2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
2 −基を表し、Ｂは直接結合、−（ＣＨ2 ）s ＣＯ−
（式中ｓは１ないし４を表す。）で表される基または−
（ＣＨ2 ）r −（式中ｒは１または２を表す。）で表さ
れる基を表し、Ｒ’は水素原子、メチル基またはフェニ
ル基を表し、Ｒ7 は式ＩＩＩで表されるポリアルキルピ
ペリジン基を少なくとも１個含む一価または二価の基を
表し、そしてＲ7 ’はＲ7 と同じ意味を有し得るか、ま
たはジアミンもしくはジオールの二価の基を表し、後者
の場合、式ＩＩａ中の基Ｒ3 ないしＲ6 の少なくとも１
個は−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基を表すが、ただしＡが−ＣＨ2 Ｃ
Ｏ−基を表すならば、ピペリジン環の１位にあり得る置
換基は−Ｏ−を介してＮ原子に結合されない。｝で表さ
れるものである。
上記の意味を表し、Ｒ3およびＲ4 は互いに独立して水
素原子、−ＯＨ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、ハロゲン
原子または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基を表し、そしてＲ5 および
Ｒ6 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、ハロゲン原子または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基
を表し、Ａは直接結合、−（ＣＨ2 ）m ＣＯ−（式中ｍ
は０または１ないし４を表す。）で表される基、−ＣＨ
2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
2 −基を表し、Ｂは直接結合、−（ＣＨ2 ）s ＣＯ−
（式中ｓは１ないし４を表す。）で表される基または−
（ＣＨ2 ）r −（式中ｒは１または２を表す。）で表さ
れる基を表し、Ｒ’は水素原子、メチル基またはフェニ
ル基を表し、Ｒ7 は式ＩＩＩで表されるポリアルキルピ
ペリジン基を少なくとも１個含む一価または二価の基を
表し、そしてＲ7 ’はＲ7 と同じ意味を有し得るか、ま
たはジアミンもしくはジオールの二価の基を表し、後者
の場合、式ＩＩａ中の基Ｒ3 ないしＲ6 の少なくとも１
個は−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基を表すが、ただしＡが−ＣＨ2 Ｃ
Ｏ−基を表すならば、ピペリジン環の１位にあり得る置
換基は−Ｏ−を介してＮ原子に結合されない。｝で表さ
れるものである。
【０００７】本明細書中、二価の基例えば−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基または−（ＣＨ2 ）s ＣＯ−基における
左側の結合線はそれらの左側の記号または原子への結合
を示す。
（Ｒ’）Ｏ−基または−（ＣＨ2 ）s ＣＯ−基における
左側の結合線はそれらの左側の記号または原子への結合
を示す。
【０００８】ｍおよびｓは好ましくは１である。Ａは好
ましくは−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基、特に−ＣＨ
2 ＣＯ−基である。Ｂは好ましくは直接結合または−Ｃ
Ｈ2ＣＯ−基である。Ｒは好ましくは水素原子であり、
そしてＲ’は特に水素原子またはメチル基である。
ましくは−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基、特に−ＣＨ
2 ＣＯ−基である。Ｂは好ましくは直接結合または−Ｃ
Ｈ2ＣＯ−基である。Ｒは好ましくは水素原子であり、
そしてＲ’は特に水素原子またはメチル基である。
【０００９】式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個含
む適当な基Ｒ7 またはＲ7 ’の中で言及し得る例は以下
の類である： ｎ＝１の場合 １．次式ＩＶ（化３３）：
む適当な基Ｒ7 またはＲ7 ’の中で言及し得る例は以下
の類である： ｎ＝１の場合 １．次式ＩＶ（化３３）：
【化３３】 （式中、Ｒは上記の意味を表し、Ｒ8 は水素原子、オキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし８
のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルケニルオ
キシ基、炭素原子数３ないし８のアルキニル基、炭素原
子数５もしくは６のシクロアルキル基、炭素原子数５も
しくは６のシクロアルキルオキシ基、フェニル−炭素原
子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし８の
アルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基、−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）（Ｒ’）基またはフェノキシ
基を表し、Ｒ’は水素原子、メチル基またはフェニル基
を表し、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡが
直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばＱは−Ｏ−炭素原子数２ないし１２のアルキレン基ま
たは−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２のアルキレン基
を表すか、または式Ｉａで表される化合物においてＡが
直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すなら
ばＱは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す
か、またはＡが−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すなら
ばＱは直接結合を表し、Ｒ9 は水素原子、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、アリル基、炭素原子数５もし
くは６のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数１な
いし４のアルキル基、１個もしくはそれ以上の−Ｏ−基
により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基
または次式ＩＩＩａ（化３４）：
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし８
のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルケニルオ
キシ基、炭素原子数３ないし８のアルキニル基、炭素原
子数５もしくは６のシクロアルキル基、炭素原子数５も
しくは６のシクロアルキルオキシ基、フェニル−炭素原
子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし８の
アルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基、−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）（Ｒ’）基またはフェノキシ
基を表し、Ｒ’は水素原子、メチル基またはフェニル基
を表し、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡが
直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばＱは−Ｏ−炭素原子数２ないし１２のアルキレン基ま
たは−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２のアルキレン基
を表すか、または式Ｉａで表される化合物においてＡが
直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すなら
ばＱは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す
か、またはＡが−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すなら
ばＱは直接結合を表し、Ｒ9 は水素原子、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、アリル基、炭素原子数５もし
くは６のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数１な
いし４のアルキル基、１個もしくはそれ以上の−Ｏ−基
により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基
または次式ＩＩＩａ（化３４）：
【化３４】 で表される基を表す。）で表される基。
【００１０】２．次式Ｖ（化３５）：
【化３５】 （式中、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡが
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばＱ1 は直接結合、−Ｏ−炭素原子数２ないし１２のア
ルキレン基または−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２の
アルキレン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物
においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−
基を表すならばＱ1 は炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物におい
てＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基を表すか、また
は式ＩＩａで表される化合物においてＢが−（ＣＨ2 ）
r −基を表すならばＱ1 は−ＯＣＯ−炭素原子数２ない
し１２のアルキレン基を表し、そしてＲ、Ｒ8 およびＲ
9 は上記の意味を表す。）で表される基。
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばＱ1 は直接結合、−Ｏ−炭素原子数２ないし１２のア
ルキレン基または−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２の
アルキレン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物
においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−
基を表すならばＱ1 は炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物におい
てＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基を表すか、また
は式ＩＩａで表される化合物においてＢが−（ＣＨ2 ）
r −基を表すならばＱ1 は−ＯＣＯ−炭素原子数２ない
し１２のアルキレン基を表し、そしてＲ、Ｒ8 およびＲ
9 は上記の意味を表す。）で表される基。
【００１１】３．次式ＶＩ（化３６）：
【化３６】 （式中、Ｒ、Ｒ8 およびＲ9 は上記の意味を表し、Ａま
たはＢが上記の意味を有するがしかしＡが直接結合また
は−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ2は直接
結合または−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物におい
てＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表
すならばＱ2 は−ＣＯ−炭素原子数２ないし１２のアル
キレン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物にお
いてＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、ま
たは式ＩＩａで表される化合物においてＢが−（Ｃ
Ｈ2 ）r−基を表すならばＱ2 は−ＯＣＯ−炭素原子数
１ないし１２のアルキレン基または−ＯＣＯ−炭素原子
数１ないし１２のアルキレン−ＣＯ−基を表す。）で表
される基。
たはＢが上記の意味を有するがしかしＡが直接結合また
は−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ2は直接
結合または−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物におい
てＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表
すならばＱ2 は−ＣＯ−炭素原子数２ないし１２のアル
キレン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物にお
いてＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、ま
たは式ＩＩａで表される化合物においてＢが−（Ｃ
Ｈ2 ）r−基を表すならばＱ2 は−ＯＣＯ−炭素原子数
１ないし１２のアルキレン基または−ＯＣＯ−炭素原子
数１ないし１２のアルキレン−ＣＯ−基を表す。）で表
される基。
【００１２】４．式Ｉａで表される化合物においてＡが
直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表す場
合、次式ＶＩＩａ（化３７）：
直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表す場
合、次式ＶＩＩａ（化３７）：
【化３７】 で表される基、または式ＩａもしくはＩＩａで表される
化合物においてＡおよびＢが上記の意味を有するが、し
かしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基で
ない場合、次式ＶＩＩｂ（化３８）：
化合物においてＡおよびＢが上記の意味を有するが、し
かしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基で
ない場合、次式ＶＩＩｂ（化３８）：
【化３８】 で表される基。（上記式ＶＩＩａおよびＶＩＩｂ中、ｑ
は２ないし１２、特に２ないし４を表し、そしてＸ1 お
よびＸ2 は互いに独立して−Ｏ−基または−Ｒ9 Ｎ−基
を表し、Ｘは次式（化３９）：
は２ないし１２、特に２ないし４を表し、そしてＸ1 お
よびＸ2 は互いに独立して−Ｏ−基または−Ｒ9 Ｎ−基
を表し、Ｘは次式（化３９）：
【化３９】 で表される基を表し、そしてＹはＸと同じ意味を表す
か、または炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基また
は−ＮＲ9 Ｒ10基を表し、Ｒ、Ｒ8 およびＲ9 は上記の
意味を表し、そしてＲ10はＲ9 と同じ意味を有し得る
か、またはＲ9 および結合しているＮ原子と一緒になっ
て５もしくは６員の複素環式環を形成する。）
か、または炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基また
は−ＮＲ9 Ｒ10基を表し、Ｒ、Ｒ8 およびＲ9 は上記の
意味を表し、そしてＲ10はＲ9 と同じ意味を有し得る
か、またはＲ9 および結合しているＮ原子と一緒になっ
て５もしくは６員の複素環式環を形成する。）
【００１３】５．次式ＶＩＩＩ（化４０）：
【化４０】 （式中、式Ｉａで表される化合物においてＡが−ＣＨ2
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、または式ＩＩａで表
される化合物においてＢが直接結合または−（ＣＨ2 ）
r −基を表すならばＱ3 は直接結合を表すか、Ａまたは
Ｂが上記の意味を有するがしかしＡが直接結合または−
ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ3 は−ＯＣＨ
（Ｒ’）ＣＨ2 −基を表すか、または式Ｉａで表される
化合物においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばＱ3 は−ＣＨ（Ｒ’）ＣＨ
2 −基を表し、Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１
８のアルコキシ基、炭素原子数３ないし８のアルケニル
オキシ基またはベンジルオキシ基を表し、そしてＲ12は
Ｒ11と同じ意味を有し得るか、またはＲ11とＲ12とが一
緒になって−Ｏ−炭素原子数２ないし８のアルキレン−
Ｏ−基を表すか、またはＲ11が水素原子を表すならばＲ
12は−ＯＨ基または−ＮＲ9 −ＣＯ−Ｒ13基を表し、そ
の中でＲ9 は上記の意味を表し、そしてＲ13は炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし４の
アルケニル基またはフェニル基を表す。）で表される
基。
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、または式ＩＩａで表
される化合物においてＢが直接結合または−（ＣＨ2 ）
r −基を表すならばＱ3 は直接結合を表すか、Ａまたは
Ｂが上記の意味を有するがしかしＡが直接結合または−
ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ3 は−ＯＣＨ
（Ｒ’）ＣＨ2 −基を表すか、または式Ｉａで表される
化合物においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばＱ3 は−ＣＨ（Ｒ’）ＣＨ
2 −基を表し、Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１
８のアルコキシ基、炭素原子数３ないし８のアルケニル
オキシ基またはベンジルオキシ基を表し、そしてＲ12は
Ｒ11と同じ意味を有し得るか、またはＲ11とＲ12とが一
緒になって−Ｏ−炭素原子数２ないし８のアルキレン−
Ｏ−基を表すか、またはＲ11が水素原子を表すならばＲ
12は−ＯＨ基または−ＮＲ9 −ＣＯ−Ｒ13基を表し、そ
の中でＲ9 は上記の意味を表し、そしてＲ13は炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし４の
アルケニル基またはフェニル基を表す。）で表される
基。
【００１４】６．次式ＩＸ（化４１）：
【化４１】 （式中、Ｑ4 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、
特に ないし５のアルキル）−ＣＨ2 −基を表し、ＡまたはＢ
が上記の意味を有するがしかしＡが直接結合または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばｖは１の数を表す
か、または式Ｉａで表される化合物においてＡが直接結
合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばｖは
０を表し、そしてＲおよびＲ8 は上記の意味を表す。）
で表される基。
特に ないし５のアルキル）−ＣＨ2 −基を表し、ＡまたはＢ
が上記の意味を有するがしかしＡが直接結合または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばｖは１の数を表す
か、または式Ｉａで表される化合物においてＡが直接結
合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばｖは
０を表し、そしてＲおよびＲ8 は上記の意味を表す。）
で表される基。
【００１５】７．次式Ｘａ（化４２）またはＸｂ（化４
３）：
３）：
【化４２】
【化４３】 （式中、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡが
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばＱ5 は−ＯＣＨ2 ＣＨ2 −基または−ＯＣＨ2ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、または式Ｉａで表される
化合物においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばＱ5 は−ＣＯ（ＣＨ2）2
−基または−ＣＯ（ＣＨ2 ）3 −基を表すか、Ａが−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すならばＱ5 は直接結
合を表すか、または式ＩａにおいてＡが−ＣＨ2 ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すかまたは式ＩＩａにおいてＢ
が−（ＣＨ2 ）r −基を表すならばＱ5 は次式：−ＯＣ
Ｏ（ＣＨ2 ）s −（式中ｓは１ないし４を表す。）で表
される基を表し、Ｔ1 およびＴ2 は互いに独立して水素
原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル
−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか、または
未置換もしくはハロゲン原子もしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基により置換されたフェニル基もしくは
ナフチル基を表すか、またはＴ1 およびＴ2 はそれらを
結合しているＣ原子と一緒になって炭素原子数５ないし
１２のシクロアルカン環を形成し、ＲおよびＲ8 は上記
の意味を表し、そしてＲ14は水素原子、炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、アリル基、ベンジル基または炭
素原子数２ないし６のアルコキシアルキル基を表す。）
で表される基。
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばＱ5 は−ＯＣＨ2 ＣＨ2 −基または−ＯＣＨ2ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、または式Ｉａで表される
化合物においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばＱ5 は−ＣＯ（ＣＨ2）2
−基または−ＣＯ（ＣＨ2 ）3 −基を表すか、Ａが−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すならばＱ5 は直接結
合を表すか、または式ＩａにおいてＡが−ＣＨ2 ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すかまたは式ＩＩａにおいてＢ
が−（ＣＨ2 ）r −基を表すならばＱ5 は次式：−ＯＣ
Ｏ（ＣＨ2 ）s −（式中ｓは１ないし４を表す。）で表
される基を表し、Ｔ1 およびＴ2 は互いに独立して水素
原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル
−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか、または
未置換もしくはハロゲン原子もしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基により置換されたフェニル基もしくは
ナフチル基を表すか、またはＴ1 およびＴ2 はそれらを
結合しているＣ原子と一緒になって炭素原子数５ないし
１２のシクロアルカン環を形成し、ＲおよびＲ8 は上記
の意味を表し、そしてＲ14は水素原子、炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、アリル基、ベンジル基または炭
素原子数２ないし６のアルコキシアルキル基を表す。）
で表される基。
【００１６】ｎ＝２の場合 ８．次式ＸＩ（化４４）：
【化４４】 （式中、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡが
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばｖは１の数を表すか、または式Ｉａで表される化合物
においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−
基を表すならばｖは０を表し、そしてＲおよびＲ’は上
記の意味を有する。）で表される基。
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないなら
ばｖは１の数を表すか、または式Ｉａで表される化合物
においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−
基を表すならばｖは０を表し、そしてＲおよびＲ’は上
記の意味を有する。）で表される基。
【００１７】９．次式ＸＩＩ（化４５）：
【化４５】 ｛式中、ｖおよびＲは上記の意味を表し、そしてＲ15は
１個またはそれ以上のＯ原子により中断されてもよい炭
素原子数２ないし１２のアルキレン基、−ＣＨ2ＣＨ＝
ＣＨＣＨ2 −基、キシリレン基または次式：〔−ＣＨ2
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 Ｏ（ＣＨ2 ）t/2 〕2 （式中ｔは１
ないし６を表す。）で表される基を表す。｝で表される
基。
１個またはそれ以上のＯ原子により中断されてもよい炭
素原子数２ないし１２のアルキレン基、−ＣＨ2ＣＨ＝
ＣＨＣＨ2 −基、キシリレン基または次式：〔−ＣＨ2
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 Ｏ（ＣＨ2 ）t/2 〕2 （式中ｔは１
ないし６を表す。）で表される基を表す。｝で表される
基。
【００１８】１０．次式ＸＩＩＩ（化４６）：
【化４６】 （式中、ｖ、ＲおよびＲ’は上記の意味を表す。）で表
される基。
される基。
【００１９】１１．次式ＸＩＶ（化４７）：
【化４７】 （式中、Ｙ、ｑ、ｖ、ＲおよびＲ8 は上記の意味を表
す。）で表される基。
す。）で表される基。
【００２０】１２．次式ＸＶ（化４８）：
【化４８】 （式中、ｑ、ｖおよびＸは上記の意味を表す。）で表さ
れる基。
れる基。
【００２１】１３．次式ＸＶＩａ（化４９）およびＸＶ
Ｉｂ（化５０）：
Ｉｂ（化５０）：
【化４９】
【化５０】 （式中、ｑ、ｖ、ＸおよびＹは上記の意味を表す。）で
表される基。
表される基。
【００２２】１４．式Ｉａで表される化合物においてＡ
が直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表す場
合、次式ＸＶＩＩａ（化５１）：
が直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表す場
合、次式ＸＶＩＩａ（化５１）：
【化５１】 で表される基、または式ＩａもしくはＩＩａで表される
化合物においてＡまたはＢが上記の意味を有するが、し
かしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基で
ない場合、次式ＸＶＩＩｂ（化５２）：
化合物においてＡまたはＢが上記の意味を有するが、し
かしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基で
ない場合、次式ＸＶＩＩｂ（化５２）：
【化５２】 で表される基。（上記式ＸＶＩＩａおよびＸＶＩＩｂ
中、ｑ、Ｘ、Ｘ1 およびＸ2 は上記の意味を表す。）
中、ｑ、Ｘ、Ｘ1 およびＸ2 は上記の意味を表す。）
【００２３】１５．式ＩａもしくはＩＩａで表される化
合物においてＡおよびＢが上記の意味を有するが、しか
しＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でな
い場合、次式ＸＶＩＩＩ（化５３）：
合物においてＡおよびＢが上記の意味を有するが、しか
しＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でな
い場合、次式ＸＶＩＩＩ（化５３）：
【化５３】 （式中、ＲおよびＲ8 は上記の意味を表し、そしてＲ16
は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、フェニレン
基、ナフチレン基、ビフェニレン基、キシリレン基、−
ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基、脂肪族、環状脂肪族も
しくは芳香族ジカルボン酸の二価の基または−ＣＯ−基
を表す。）で表される基。
は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、フェニレン
基、ナフチレン基、ビフェニレン基、キシリレン基、−
ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基、脂肪族、環状脂肪族も
しくは芳香族ジカルボン酸の二価の基または−ＣＯ−基
を表す。）で表される基。
【００２４】１６．式ＩＩａで表される化合物において
Ｒ7 ’はさらに次式ＸＩＸ： −Ｘ1 −Ｒ16−Ｘ2 − （ＸＩＸ） （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＲ16は上記の意味を有す
る。）で表される基であってよい。
Ｒ7 ’はさらに次式ＸＩＸ： −Ｘ1 −Ｒ16−Ｘ2 − （ＸＩＸ） （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＲ16は上記の意味を有す
る。）で表される基であってよい。
【００２５】あらゆる基により表されるアルキル基、ア
ルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイ
ル基、アルケノイル基、アルケニルオキシ基、アルキレ
ン基またはアルケニレン基は直鎖であっても分岐してい
てもよい。言及される基は好ましくは直鎖である。
ルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイ
ル基、アルケノイル基、アルケニルオキシ基、アルキレ
ン基またはアルケニレン基は直鎖であっても分岐してい
てもよい。言及される基は好ましくは直鎖である。
【００２６】アルキル基Ｒ2 ないしＲ6 、Ｒ8 およびＲ
14の例はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−、第二および第三ブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メ
チルペンチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ
−ノニル基、ｎ−デシル基およびｎ−ドデシル基であ
り、炭素原子数１ないし１８のアルキル基としての
Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13、Ｔ1 およびＴ2 はさらにｎ−テトラ
デシル基、ｎ−ヘキサデシル基またはｎ−オクタデシル
基であってよい。
14の例はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−、第二および第三ブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メ
チルペンチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ
−ノニル基、ｎ−デシル基およびｎ−ドデシル基であ
り、炭素原子数１ないし１８のアルキル基としての
Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13、Ｔ1 およびＴ2 はさらにｎ−テトラ
デシル基、ｎ−ヘキサデシル基またはｎ−オクタデシル
基であってよい。
【００２７】アルキル基Ｒ1 ないしＲ6 は好ましくは直
鎖であって、そして炭素原子を１ないし４個有する。ア
ルキル基の意味の中でのＲ8 は特に炭素原子数１ないし
８のアルキル基であり、とりわけ炭素原子数１ないし４
のアルキル基である。
鎖であって、そして炭素原子を１ないし４個有する。ア
ルキル基の意味の中でのＲ8 は特に炭素原子数１ないし
８のアルキル基であり、とりわけ炭素原子数１ないし４
のアルキル基である。
【００２８】アルキル基Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13、Ｔ1 および
Ｔ2 は好ましくは炭素原子を１ないし１２個、特に１な
いし８個、中でも１ないし４個有する。言及されたエチ
ル基および特にメチル基がとりわけ好ましい。
Ｔ2 は好ましくは炭素原子を１ないし１２個、特に１な
いし８個、中でも１ないし４個有する。言及されたエチ
ル基および特にメチル基がとりわけ好ましい。
【００２９】１２個までまたは１８個までの炭素原子を
有するアルコキシ基Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ8 、Ｒ11、Ｒ12およ
びＹの例はメトキシ基、エトキシ基、ｎ−およびイソ−
プロピルオキシ基、ｎ−、第二および第三ブチルオキシ
基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ
−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシ
ルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシル
オキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基およびｎ−オクタ
デシルオキシ基である。これらのアルコキシ基は好まし
くは炭素原子を１ないし１２個、特に１ないし４個有す
る。エトキシ基および特にメトキシ基が非常に好まし
い。
有するアルコキシ基Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ8 、Ｒ11、Ｒ12およ
びＹの例はメトキシ基、エトキシ基、ｎ−およびイソ−
プロピルオキシ基、ｎ−、第二および第三ブチルオキシ
基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ
−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシ
ルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシル
オキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基およびｎ−オクタ
デシルオキシ基である。これらのアルコキシ基は好まし
くは炭素原子を１ないし１２個、特に１ないし４個有す
る。エトキシ基および特にメトキシ基が非常に好まし
い。
【００３０】いずれかの置換基がアルキレン基である
か、またはこれらの置換基がアルキレン部分を含むなら
ば、これらは好ましくは直鎖アルキレンであり、炭素原
子を２ないし１２個有する。
か、またはこれらの置換基がアルキレン部分を含むなら
ば、これらは好ましくは直鎖アルキレンであり、炭素原
子を２ないし１２個有する。
【００３１】いずれかの置換基がフェニレン基、ナフチ
レン基またはビフェニレン基を含むならば、それらは例
えばｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン基、１，４−ナフ
チレン基または４，４’−ビフェニレン基である。
レン基またはビフェニレン基を含むならば、それらは例
えばｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン基、１，４−ナフ
チレン基または４，４’−ビフェニレン基である。
【００３２】Ｒ1 ないしＲ6 がハロゲン原子であるなら
ば、それらは特に塩素原子または臭素原子である。
ば、それらは特に塩素原子または臭素原子である。
【００３３】Ｒ1 およびＲ2 、Ｒ3 およびＲ4 ならびに
Ｒ5 およびＲ6 が各々対になって同じ意味を有すること
が好ましい。好ましくは、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3
およびＲ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表し、そしてＲ5 およびＲ6
が各々水素原子を表す。上記式ＩおよびＩａにおいて
は、Ｒ1 およびＲ2 またはＲ3 およびＲ4 は特に各々水
素原子、−ＯＨ基またはメチル基を表す。上記式ＩＩお
よびＩＩａにおいては、Ｒ3 およびＲ4 は好ましくは水
素原子、炭素原子数１ないし８特に１ないし４のアルコ
キシ基または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 ’基、特に次式（化５
４）：
Ｒ5 およびＲ6 が各々対になって同じ意味を有すること
が好ましい。好ましくは、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3
およびＲ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表し、そしてＲ5 およびＲ6
が各々水素原子を表す。上記式ＩおよびＩａにおいて
は、Ｒ1 およびＲ2 またはＲ3 およびＲ4 は特に各々水
素原子、−ＯＨ基またはメチル基を表す。上記式ＩＩお
よびＩＩａにおいては、Ｒ3 およびＲ4 は好ましくは水
素原子、炭素原子数１ないし８特に１ないし４のアルコ
キシ基または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 ’基、特に次式（化５
４）：
【化５４】 で表される基を表し、そしてＲ5 およびＲ6 は好ましく
は水素原子を表す。式ＩまたはＩａ中、Ｒ1 およびＲ2
は各々特に好ましくは水素原子またはメチル基を表し、
そしてＲ3 およびＲ4 は各々好ましくは水素原子、特に
各々メチル基を表す。
は水素原子を表す。式ＩまたはＩａ中、Ｒ1 およびＲ2
は各々特に好ましくは水素原子またはメチル基を表し、
そしてＲ3 およびＲ4 は各々好ましくは水素原子、特に
各々メチル基を表す。
【００３４】アルキル基またはアルコキシ基としてのＲ
8 は好ましくは炭素原子を１ないし８個、特に１ないし
４個有する。Ｒ8 が炭素原子数３ないし８のアルケニル
基または炭素原子数３ないし８のアルケニルオキシ基で
あるならば、例えば１−プロペニル基、アリル基、メタ
リル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキ
セニル基、２−オクテニル基または４−第三ブチル−２
−ブテニル基または相当するアルケニルオキシ基であ
る。炭素原子数３ないし８のアルキニル基としてのＲ8
は好ましくはプロパルギル基である。炭素原子数５また
は６のシクロアルキル基または炭素原子数５もしくは６
のシクロアルコキシ基Ｒ8 は特にシクロヘキシル基また
はシクロヘキシルオキシ基である。炭素原子数１ないし
８のアルカノイル基Ｒ8 は例えばホルミル基、プロピオ
ニル基、イソブチリル基、ヘキサノイル基またはオクタ
ノイル基、好ましくはアセチル基である。炭素原子数３
ないし９のアルケノイル基は好ましくはアクリロイル基
またはメタクリロイル基である。Ｒ8 、Ｒ9 またはＲ10
がフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基である
ならば、フェニルエチル基および特にベンジル基がとり
わけ適している。
8 は好ましくは炭素原子を１ないし８個、特に１ないし
４個有する。Ｒ8 が炭素原子数３ないし８のアルケニル
基または炭素原子数３ないし８のアルケニルオキシ基で
あるならば、例えば１−プロペニル基、アリル基、メタ
リル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキ
セニル基、２−オクテニル基または４−第三ブチル−２
−ブテニル基または相当するアルケニルオキシ基であ
る。炭素原子数３ないし８のアルキニル基としてのＲ8
は好ましくはプロパルギル基である。炭素原子数５また
は６のシクロアルキル基または炭素原子数５もしくは６
のシクロアルコキシ基Ｒ8 は特にシクロヘキシル基また
はシクロヘキシルオキシ基である。炭素原子数１ないし
８のアルカノイル基Ｒ8 は例えばホルミル基、プロピオ
ニル基、イソブチリル基、ヘキサノイル基またはオクタ
ノイル基、好ましくはアセチル基である。炭素原子数３
ないし９のアルケノイル基は好ましくはアクリロイル基
またはメタクリロイル基である。Ｒ8 、Ｒ9 またはＲ10
がフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基である
ならば、フェニルエチル基および特にベンジル基がとり
わけ適している。
【００３５】Ｒ8 は好ましくは水素原子、オキシ基、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３ない
し８のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルキニ
ル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基、
炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３
ないし８のアルケノイル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）
Ｒ’基を表す。Ｒ8 は特に好ましくは水素原子、オキシ
基、炭素原子数１ないし８、特に１ないし４のアルキル
基、アリル基、ベンジル基、アセチル基またはアクリロ
イル基であり、とりわけ水素原子、メチル基、アリル
基、ベンジル基またはアセチル基である。水素原子およ
びメチル基が非常に好ましい。
素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３ない
し８のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルキニ
ル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基、
炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３
ないし８のアルケノイル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）
Ｒ’基を表す。Ｒ8 は特に好ましくは水素原子、オキシ
基、炭素原子数１ないし８、特に１ないし４のアルキル
基、アリル基、ベンジル基、アセチル基またはアクリロ
イル基であり、とりわけ水素原子、メチル基、アリル
基、ベンジル基またはアセチル基である。水素原子およ
びメチル基が非常に好ましい。
【００３６】アルキル基Ｒ9 およびＲ10は好ましくは炭
素原子を１ないし１２個、特に１ないし８個、中でも１
ないし４個有する。エチル基そして特にメチル基が非常
に好ましい。Ｒ9 またはＲ10が炭素原子数５または６の
シクロアルキル基を表すならば、特にシクロヘキシル基
が好ましい。１個またはそれ以上のＯ原子により中断さ
れた炭素原子数３ないし１８のアルキル基としてのＲ9
およびＲ10は例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ3 基、−ＣＨ
2 ＯＣＨ2 ＣＨ3 基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣ4 Ｈ9 基また
は−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ3 基である。
素原子を１ないし１２個、特に１ないし８個、中でも１
ないし４個有する。エチル基そして特にメチル基が非常
に好ましい。Ｒ9 またはＲ10が炭素原子数５または６の
シクロアルキル基を表すならば、特にシクロヘキシル基
が好ましい。１個またはそれ以上のＯ原子により中断さ
れた炭素原子数３ないし１８のアルキル基としてのＲ9
およびＲ10は例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ3 基、−ＣＨ
2 ＯＣＨ2 ＣＨ3 基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣ4 Ｈ9 基また
は−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ3 基である。
【００３７】好ましくは、Ｒ9 およびＲ10は互いに独立
して水素原子、炭素原子数１ないし８、特に１ないし４
のアルキル基、中でもエチル基またはメチル基、アリル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基または式ＩＩＩａで
表される基を表し、その中でＲが水素原子を表し、そし
てＲ8 が上記の好ましい意味を表す。Ｒ9 およびＲ10は
各々水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
を表すのが特に好ましく、とりわけ各々水素原子を表す
のが好ましい。
して水素原子、炭素原子数１ないし８、特に１ないし４
のアルキル基、中でもエチル基またはメチル基、アリル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基または式ＩＩＩａで
表される基を表し、その中でＲが水素原子を表し、そし
てＲ8 が上記の好ましい意味を表す。Ｒ9 およびＲ10は
各々水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
を表すのが特に好ましく、とりわけ各々水素原子を表す
のが好ましい。
【００３８】式ＩＶで表される基の中で、Ｑが−ＯＣＨ
2 ＣＨ2 −基もしくは−ＮＨＣＨ2ＣＨ2 −基またはＡ
が−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基であるならば直接結合を
表し、Ｒが水素原子を表し、そしてＲ8 が上記の好まし
い意味、特に水素原子またはメチル基を表すものが好ま
しい。そのような基を含む化合物の例を以下に示す（化
５５ないし５８）：
2 ＣＨ2 −基もしくは−ＮＨＣＨ2ＣＨ2 −基またはＡ
が−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基であるならば直接結合を
表し、Ｒが水素原子を表し、そしてＲ8 が上記の好まし
い意味、特に水素原子またはメチル基を表すものが好ま
しい。そのような基を含む化合物の例を以下に示す（化
５５ないし５８）：
【化５５】
【化５６】
【化５７】
【化５８】 ｛上記式中、Ｔｒは次式（化５９）：
【化５９】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は水素原子またはメチル基を表
し、そしてＲ3 およびＲ4 は水素原子、特にメチル基を
表す。）で表される基を表す。なお、これは本明細書の
以下の記載においても同様である。｝。
し、そしてＲ3 およびＲ4 は水素原子、特にメチル基を
表す。）で表される基を表す。なお、これは本明細書の
以下の記載においても同様である。｝。
【００３９】式Ｖで表される基として、Ｒが水素原子を
表し、Ｑ1 が−ＮＨ−炭素原子数２ないし４のアルキレ
ン基または−Ｏ−炭素原子数２ないし４のアルキレン
基、そして特に直接結合を表し、そしてＲ8 が上記の好
ましい意味を表すものが好ましい。式Ｖで表される基を
有する式ＩａおよびＩＩａで表される化合物の例を以下
に示す（化６０ないし６５）：
表し、Ｑ1 が−ＮＨ−炭素原子数２ないし４のアルキレ
ン基または−Ｏ−炭素原子数２ないし４のアルキレン
基、そして特に直接結合を表し、そしてＲ8 が上記の好
ましい意味を表すものが好ましい。式Ｖで表される基を
有する式ＩａおよびＩＩａで表される化合物の例を以下
に示す（化６０ないし６５）：
【化６０】 （式中、Ｒ8 は水素原子、メチル基、ベンジル基、アリ
ル基またはアセチル基を表す。）
ル基またはアセチル基を表す。）
【化６１】
【化６２】 （式中、Ｒ8 は水素原子、メチル基、ベンジル基、アリ
ル基、アセチル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｒ’基を
表す。）
ル基、アセチル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｒ’基を
表す。）
【化６３】 （式中、Ｒ3 およびＲ4 は水素原子、炭素原子数１ない
し８のアルコキシ基、特に−ＯＣＨ3 基、−ＯＣ2 Ｈ5
基、−ＯＣ4 Ｈ9 基および−ＯＣ8 Ｈ17基を表す。）
し８のアルコキシ基、特に−ＯＣＨ3 基、−ＯＣ2 Ｈ5
基、−ＯＣ4 Ｈ9 基および−ＯＣ8 Ｈ17基を表す。）
【化６４】
【化６５】
【００４０】式ＶＩで表される好ましい基において、Ｒ
は水素原子を表し、Ｒ9 は好ましくは炭素原子数１ない
し８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、とりわけ水素原子を表し、Ｑ2 は直接結合または
−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし４のアルキレン基、−Ｏ
ＣＯ−炭素原子数１ないし４のアルキレン基または−Ｏ
ＣＯ−炭素原子数２ないし４のアルキレン−ＣＯ−基
（Ａ＝−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −またはＢ＝−（Ｃ
Ｈ2 ）r −）を表し、そしてＲ8 は上記の好ましい意味
を表す。式ＶＩで表される基を有する式ＩａおよびＩＩ
ａで表される化合物の例を以下に示す（化６６ないし７
０）：
は水素原子を表し、Ｒ9 は好ましくは炭素原子数１ない
し８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、とりわけ水素原子を表し、Ｑ2 は直接結合または
−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし４のアルキレン基、−Ｏ
ＣＯ−炭素原子数１ないし４のアルキレン基または−Ｏ
ＣＯ−炭素原子数２ないし４のアルキレン−ＣＯ−基
（Ａ＝−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −またはＢ＝−（Ｃ
Ｈ2 ）r −）を表し、そしてＲ8 は上記の好ましい意味
を表す。式ＶＩで表される基を有する式ＩａおよびＩＩ
ａで表される化合物の例を以下に示す（化６６ないし７
０）：
【化６６】
【化６７】
【化６８】
【化６９】
【化７０】
【００４１】式ＶＩＩａおよびＶＩＩｂで表される基中
のＸは好ましくは次式（化７１）：
のＸは好ましくは次式（化７１）：
【化７１】 （式中、Ｒ9 は水素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し、Ｒ8は上記の好ましい意味を表
す。）で表される基である。
アルキル基を表し、Ｒ8は上記の好ましい意味を表
す。）で表される基である。
【００４２】ＹはＸと同じ意味を表すか、または炭素原
子数１ないし８、特に１ないし４のアルコキシ基、−Ｎ
Ｒ9 Ｒ10基を表すのが好ましく、その中でＲ9 およびＲ
10は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８、
特に１ないし４のアルキル基、アリル基、シクロヘキシ
ル基またはベンジル基を表す。Ｒ9 およびＲ10が結合し
ているＣ原子と一緒になって５または６員環を形成する
ならば、それは例えばピロリジン環、ピペリジン環、
２，６−ジメチルピペリジン環、ピペラジン環、４−メ
チルピペラジン環またはモルホリン環である。式ＶＩＩ
ｂ中Ｘ1 およびＸ2 は好ましくは互いに独立して−Ｏ−
基または−ＮＨ−基である。
子数１ないし８、特に１ないし４のアルコキシ基、−Ｎ
Ｒ9 Ｒ10基を表すのが好ましく、その中でＲ9 およびＲ
10は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８、
特に１ないし４のアルキル基、アリル基、シクロヘキシ
ル基またはベンジル基を表す。Ｒ9 およびＲ10が結合し
ているＣ原子と一緒になって５または６員環を形成する
ならば、それは例えばピロリジン環、ピペリジン環、
２，６−ジメチルピペリジン環、ピペラジン環、４−メ
チルピペラジン環またはモルホリン環である。式ＶＩＩ
ｂ中Ｘ1 およびＸ2 は好ましくは互いに独立して−Ｏ−
基または−ＮＨ−基である。
【００４３】そのようなトリアジン基を含む言及し得る
化合物の例を以下に示す（化７２および化７３）：
化合物の例を以下に示す（化７２および化７３）：
【化７２】
【化７３】 （式中Ｒ8 は上記の好ましい意味、特に水素原子または
メチル基を表す。）。
メチル基を表す。）。
【００４４】式ＶＩＩＩ中のアルコキシ基Ｒ11およびＲ
12は好ましくは炭素原子を１ないし８個、特に１ないし
４個有する。炭素原子数３ないし８のアルケニルオキシ
基として言及される基は特にアリルオキシ基である。Ｒ
11およびＲ12が一緒になって−Ｏ−炭素原子数２ないし
８のアルキレン−Ｏ−基を形成するならば、それは例え
ば−Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−基、−Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ−基または−Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ（炭素原子数１ないし
５のアルキル）−ＣＨ2 Ｏ−基である。アルキル基とし
てのＲ13は特に炭素原子を１ないし８個、とりわけ１な
いし４個有する。炭素原子数２ないし４のアルケニル基
としてＲ13は例えばビニル基またはアリル基である。Ｒ
は好ましくは水素原子を表し、そしてＱ3 は好ましくは
−ＯＣＨ（Ｒ’）ＣＨ2 −基または直接結合を表す。
12は好ましくは炭素原子を１ないし８個、特に１ないし
４個有する。炭素原子数３ないし８のアルケニルオキシ
基として言及される基は特にアリルオキシ基である。Ｒ
11およびＲ12が一緒になって−Ｏ−炭素原子数２ないし
８のアルキレン−Ｏ−基を形成するならば、それは例え
ば−Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−基、−Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ−基または−Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ（炭素原子数１ないし
５のアルキル）−ＣＨ2 Ｏ−基である。アルキル基とし
てのＲ13は特に炭素原子を１ないし８個、とりわけ１な
いし４個有する。炭素原子数２ないし４のアルケニル基
としてＲ13は例えばビニル基またはアリル基である。Ｒ
は好ましくは水素原子を表し、そしてＱ3 は好ましくは
−ＯＣＨ（Ｒ’）ＣＨ2 −基または直接結合を表す。
【００４５】式ＶＩＩＩで表される基を有する式Ｉａま
たはＩＩａで表される化合物の言及し得る例を以下に示
す（化７４ないし７８）：
たはＩＩａで表される化合物の言及し得る例を以下に示
す（化７４ないし７８）：
【化７４】
【化７５】
【化７６】
【化７７】 （式中、Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、特に炭素原子数１ないし８のアルキル基、と
りわけメチル基、アリル基またはベンジル基を表す。）
ルキル基、特に炭素原子数１ないし８のアルキル基、と
りわけメチル基、アリル基またはベンジル基を表す。）
【化７８】 （式中、Ｒ3 およびＲ4 は水素原子、−ＯＣＨ3 基、−
ＯＣ2 Ｈ5 基、−ＯＣ4Ｈ9 基または−ＯＣ8 Ｈ17基を
表す。）
ＯＣ2 Ｈ5 基、−ＯＣ4Ｈ9 基または−ＯＣ8 Ｈ17基を
表す。）
【００４６】式ＩＸで表される基において、Ｑ4 が好ま
しくは ＣＨ2 −基を表し、Ｒが水素原子を表し、そしてＲ8 が
上記の好ましい意味を表す。そのような基を有する式Ｉ
ａまたはＩＩａで表される化合物の言及し得る例を以下
に示す（化７９ないし８１）：
しくは ＣＨ2 −基を表し、Ｒが水素原子を表し、そしてＲ8 が
上記の好ましい意味を表す。そのような基を有する式Ｉ
ａまたはＩＩａで表される化合物の言及し得る例を以下
に示す（化７９ないし８１）：
【化７９】
【化８０】
【化８１】 （式中、Ｒ8 は水素原子またはメチル基を表し、そして
Ｒ3 およびＲ4 は水素原子または炭素原子数１ないし８
のアルコキシ基を表す。）
Ｒ3 およびＲ4 は水素原子または炭素原子数１ないし８
のアルコキシ基を表す。）
【００４７】式ＸａまたはＸｂで表される基において、
Ｒが好ましくは水素原子を表し、そしてＲ8 が上記の好
ましい意味を表す。炭素原子数２ないし６のアルコキシ
アルキル基としてのＲ14は例えばメトキシメチル基、エ
トキシメチル基、プロポキシメチル基、第三ブトキシメ
チル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基または
プロポキシプロピル基である。Ｒ14は好ましくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基、アリル基またはベンジル
基であり、そして特に水素原子である。アルキル基Ｔ1
およびＴ2 は好ましくは直鎖であり、特に炭素原子を１
ないし４個有する。フェニル−炭素原子数１ないし４の
アルキル基としてのＴ1 およびＴ2 は特にフェニルエチ
ル基であり、とりわけベンジル基である。Ｔ1 およびＴ
2 が結合しているＣ原子と一緒になってシクロアルカン
環を形成するならば、これは例えばシクロペンタン環、
シクロヘキサン環、シクロオクタン環またはシクロドデ
カン環であってよい。好ましくはＴ1 およびＴ2 は水素
原子であるか、または結合しているＣ原子と一緒になっ
てシクロドデカン環を形成する。
Ｒが好ましくは水素原子を表し、そしてＲ8 が上記の好
ましい意味を表す。炭素原子数２ないし６のアルコキシ
アルキル基としてのＲ14は例えばメトキシメチル基、エ
トキシメチル基、プロポキシメチル基、第三ブトキシメ
チル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基または
プロポキシプロピル基である。Ｒ14は好ましくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基、アリル基またはベンジル
基であり、そして特に水素原子である。アルキル基Ｔ1
およびＴ2 は好ましくは直鎖であり、特に炭素原子を１
ないし４個有する。フェニル−炭素原子数１ないし４の
アルキル基としてのＴ1 およびＴ2 は特にフェニルエチ
ル基であり、とりわけベンジル基である。Ｔ1 およびＴ
2 が結合しているＣ原子と一緒になってシクロアルカン
環を形成するならば、これは例えばシクロペンタン環、
シクロヘキサン環、シクロオクタン環またはシクロドデ
カン環であってよい。好ましくはＴ1 およびＴ2 は水素
原子であるか、または結合しているＣ原子と一緒になっ
てシクロドデカン環を形成する。
【００４８】そのような基を有する式ＩａまたはＩＩａ
で表される化合物の言及し得る例を以下に示す（化８２
ないし８７）：
で表される化合物の言及し得る例を以下に示す（化８２
ないし８７）：
【化８２】
【化８３】
【化８４】
【化８５】
【化８６】
【化８７】 （式中、Ｒ8 は水素原子またはメチル基を表し、そして
Ｒ3 およびＲ4 は水素原子または炭素原子数１ないし８
のアルコキシ基を表す。）
Ｒ3 およびＲ4 は水素原子または炭素原子数１ないし８
のアルコキシ基を表す。）
【００４９】式ＸＩないしＸＩＸで表される基におい
て、Ｒは好ましくは水素原子を表し、そしてＲ8 は上記
の好ましい意味を表す。式ＸＩＶ、ＸＶ、ＸＶＩａおよ
びＸＶＩｂで表される基においてｑは特に２である。
Ｒ’は好ましくは水素原子またはメチル基であり、そし
てｖは好ましくは１の数である。
て、Ｒは好ましくは水素原子を表し、そしてＲ8 は上記
の好ましい意味を表す。式ＸＩＶ、ＸＶ、ＸＶＩａおよ
びＸＶＩｂで表される基においてｑは特に２である。
Ｒ’は好ましくは水素原子またはメチル基であり、そし
てｖは好ましくは１の数である。
【００５０】式ＸＩＩで表される基において、Ｒ15は好
ましくは炭素原子数２ないし１２、特に２ないし６のア
ルキレン基、次式：〔−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 Ｏ
（ＣＨ2 ）t/2 〕2 （式中ｔは１ないし３、特に２を表
す。）で表される基、次式（化８８）：
ましくは炭素原子数２ないし１２、特に２ないし６のア
ルキレン基、次式：〔−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 Ｏ
（ＣＨ2 ）t/2 〕2 （式中ｔは１ないし３、特に２を表
す。）で表される基、次式（化８８）：
【化８８】 で表される基、または−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 −基で
ある。フェニレン基、ナフチレン基またはビフェニレン
基としてのＲ16は特にｍ−もしくはｐ−フェニレン基、
１，４−ナフチレン基または４，４’−ビフェニレン基
である。Ｒ16が脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族ジカ
ルボン酸の二価の基であるならば、それは例えばマロン
酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、
セバシン酸、マレイン酸、ジブチルマロン酸、ジベンジ
ルマロン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、ビシ
クロヘプテンジカルボン酸、フタル酸、またはイソ−も
しくはテレフタル酸等の基である。Ｒ16は好ましくは直
鎖の炭素原子数２ないし１２のアルキレン基である。式
ＸＩＶ、ＸＶ、ＸＶＩａ、ＸＶＩＩａおよびＸＶＩＩｂ
で表される基におけるＹおよびＸは式ＸＩＩａおよびＸ
ＩＩｂに対して記載した好ましい意味を有する。
ある。フェニレン基、ナフチレン基またはビフェニレン
基としてのＲ16は特にｍ−もしくはｐ−フェニレン基、
１，４−ナフチレン基または４，４’−ビフェニレン基
である。Ｒ16が脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族ジカ
ルボン酸の二価の基であるならば、それは例えばマロン
酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、
セバシン酸、マレイン酸、ジブチルマロン酸、ジベンジ
ルマロン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、ビシ
クロヘプテンジカルボン酸、フタル酸、またはイソ−も
しくはテレフタル酸等の基である。Ｒ16は好ましくは直
鎖の炭素原子数２ないし１２のアルキレン基である。式
ＸＩＶ、ＸＶ、ＸＶＩａ、ＸＶＩＩａおよびＸＶＩＩｂ
で表される基におけるＹおよびＸは式ＸＩＩａおよびＸ
ＩＩｂに対して記載した好ましい意味を有する。
【００５１】式ＸＩないしＸＩＸで表される基を有する
式ＩａまたはＩＩａで表される言及し得る化合物の例を
以下に示す（化８９ないし化９１、化９４、化９５、化
９８、化１０１、化１０２、化１０５および化１０８な
いし化１１０）：
式ＩａまたはＩＩａで表される言及し得る化合物の例を
以下に示す（化８９ないし化９１、化９４、化９５、化
９８、化１０１、化１０２、化１０５および化１０８な
いし化１１０）：
【化８９】
【化９０】
【化９１】 （式中、Ｒ15は特に次式（化９２）：
【化９２】 で表される基、次式（化９３）：
【化９３】 で表される基または−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −基
を表す。）
を表す。）
【化９４】
【化９５】 （式中、Ｙは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、−
ＮＨ−炭素原子数１ないし８のアルキル基、−Ｎ（炭素
原子数１ないし８のアルキル）2 基、次式（化９６）：
ＮＨ−炭素原子数１ないし８のアルキル基、−Ｎ（炭素
原子数１ないし８のアルキル）2 基、次式（化９６）：
【化９６】 で表される基または次式（化９７）：
【化９７】 で表される基を表す。）
【化９８】 （式中、Ｘは次式（化９９）：
【化９９】 で表される基、または次式（化１００）：
【化１００】 で表される基を表す。）
【化１０１】
【化１０２】 （式中、Ｘは次式（化１０３）：
【化１０３】 で表される基、または次式（化１０４）：
【化１０４】 で表される基を表し、ＹはＸと同じ意味を表すか、また
は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、−ＮＨ炭素原
子数１ないし８のアルキル基、−Ｎ（炭素原子数１ない
し８のアルキル）2 基を表す。）
は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、−ＮＨ炭素原
子数１ないし８のアルキル基、−Ｎ（炭素原子数１ない
し８のアルキル）2 基を表す。）
【化１０５】 （式中、Ｘは次式（化１０６）：
【化１０６】 で表される基、または次式（化１０７）：
【化１０７】 で表される基を表す。）
【化１０８】 （式中、Ｒ16は直鎖の炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基を表す。）
レン基を表す。）
【化１０９】
【化１１０】 （式中、Ｒ3 およびＲ4 は水素原子または炭素原子数１
ないし８のアルコキシ基を表す。）。
ないし８のアルコキシ基を表す。）。
【００５２】上記式ＩａおよびＩＩａ中、ＡまたはＢが
−ＣＨ2 ＣＯ−基を表し、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3
およびＲ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々
水素原子を表し、Ｒ7 およびＲ7 ’が式ＶまたはＸＩで
表される基を表し、Ｑ1 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素
原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ベンジル
基、アリル基、アセチル基またはアクリロイル基を表
し、ｖが１の数を表し、そしてＲ’が水素原子、メチル
基またはフェニル基を表す化合物が好ましい。
−ＣＨ2 ＣＯ−基を表し、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3
およびＲ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々
水素原子を表し、Ｒ7 およびＲ7 ’が式ＶまたはＸＩで
表される基を表し、Ｑ1 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素
原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ベンジル
基、アリル基、アセチル基またはアクリロイル基を表
し、ｖが１の数を表し、そしてＲ’が水素原子、メチル
基またはフェニル基を表す化合物が好ましい。
【００５３】上記式ＩＩａ、Ｂが−ＣＨ2 ＣＯ−基を表
し、Ｒ3 およびＲ4 が各々水素原子またはメチル基を表
し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表し、そして
Ｒ7 ’が式Ｖで表される基を表し、その中でＱ1 が直接
結合を表し、そしてＲ8 が水素原子、メチル基、ベンジ
ル基、アリル基またはアセチル基を表す化合物が特に好
ましい。
し、Ｒ3 およびＲ4 が各々水素原子またはメチル基を表
し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表し、そして
Ｒ7 ’が式Ｖで表される基を表し、その中でＱ1 が直接
結合を表し、そしてＲ8 が水素原子、メチル基、ベンジ
ル基、アリル基またはアセチル基を表す化合物が特に好
ましい。
【００５４】上記Ｉａ式中、Ａが−ＣＨ2 ＣＯ−基を表
し、Ｒ1 およびＲ2 が各々水素原子を表すか、または好
ましくは各々メチル基を表し、Ｒ3 およびＲ4 が各々メ
チル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表し、
そしてＲ7 が式ＶまたはＸＩで表される基を表し、その
中でＱ1 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原子、メチル
基、ベンジル基、アリル基またはアセチル基を表し、ｖ
が１の数を表し、そしてＲ’が水素原子またはメチル基
を表す化合物が非常に好ましい。
し、Ｒ1 およびＲ2 が各々水素原子を表すか、または好
ましくは各々メチル基を表し、Ｒ3 およびＲ4 が各々メ
チル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表し、
そしてＲ7 が式ＶまたはＸＩで表される基を表し、その
中でＱ1 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原子、メチル
基、ベンジル基、アリル基またはアセチル基を表し、ｖ
が１の数を表し、そしてＲ’が水素原子またはメチル基
を表す化合物が非常に好ましい。
【００５５】上記式Ｉａ中、Ａが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）
ＣＨ2 −基を表し、Ｒ1 およびＲ2ならびにＲ3 および
Ｒ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原
子を表し、Ｒ7 が式ＶまたはＶＩＩＩで表される基を表
し、Ｑ1 およびＱ3 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ベンジル基、
アリル基、アセチル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｒ’
基を表し、Ｒ11が水素原子を表し、そしてＲ12が−ＯＨ
基を表す化合物がさらに好ましく、中でもＡが−ＣＨ2
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表し、Ｒ1 およびＲ2 が各々
水素原子を表すか、または好ましくは各々メチル基を表
し、Ｒ3 およびＲ4 が各々メチル基を表し、Ｒ5 および
Ｒ6 が各々水素原子を表し、Ｒ7 が式ＶまたはＶＩＩＩ
で表される基を表し、Ｑ1 およびＱ3 が直接結合を表
し、Ｒ8 がメチル基、ベンジル基、アリル基または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ3 基を表し、Ｒ11が水素原子を表
し、そしてＲ12が−ＯＨ基を表す化合物が特に好まし
い。
ＣＨ2 −基を表し、Ｒ1 およびＲ2ならびにＲ3 および
Ｒ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原
子を表し、Ｒ7 が式ＶまたはＶＩＩＩで表される基を表
し、Ｑ1 およびＱ3 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ベンジル基、
アリル基、アセチル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｒ’
基を表し、Ｒ11が水素原子を表し、そしてＲ12が−ＯＨ
基を表す化合物がさらに好ましく、中でもＡが−ＣＨ2
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表し、Ｒ1 およびＲ2 が各々
水素原子を表すか、または好ましくは各々メチル基を表
し、Ｒ3 およびＲ4 が各々メチル基を表し、Ｒ5 および
Ｒ6 が各々水素原子を表し、Ｒ7 が式ＶまたはＶＩＩＩ
で表される基を表し、Ｑ1 およびＱ3 が直接結合を表
し、Ｒ8 がメチル基、ベンジル基、アリル基または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ3 基を表し、Ｒ11が水素原子を表
し、そしてＲ12が−ＯＨ基を表す化合物が特に好まし
い。
【００５６】本発明に係る化合物はそれ自体公知の方法
により、式ＩまたはＩＩで表される基および式ＩＩＩで
表される基を含む官能誘導体の反応によって製造され得
る。Ｒ3 ないしＲ6 の少なくとも１個が式ＩＩＩで表さ
れる基を含む基であるならば、式ＩまたはＩＩで表され
る基を含む官能誘導体は、ポリアルキルピペリジン基を
含まない本質的にはあらゆる反応性化合物と反応させて
もよい。
により、式ＩまたはＩＩで表される基および式ＩＩＩで
表される基を含む官能誘導体の反応によって製造され得
る。Ｒ3 ないしＲ6 の少なくとも１個が式ＩＩＩで表さ
れる基を含む基であるならば、式ＩまたはＩＩで表され
る基を含む官能誘導体は、ポリアルキルピペリジン基を
含まない本質的にはあらゆる反応性化合物と反応させて
もよい。
【００５７】ａ）式Ｉａ中Ａが−（ＣＨ2 ）m ＣＯ−基
を表す化合物は、例えば次式ＸＸ（化１１１）：
を表す化合物は、例えば次式ＸＸ（化１１１）：
【化１１１】 （式中、Ｅは例えば炭素原子数１ないし４のアルキル基
を表す。）で表されるカルボン酸エステルと、基Ｒ7 を
含む適当な官能誘導体例えばアルコールまたはアミンと
の反応により得ることができる。式ＸＸで表される出発
物質は次式ＸＸＩ（化１１２）：
を表す。）で表されるカルボン酸エステルと、基Ｒ7 を
含む適当な官能誘導体例えばアルコールまたはアミンと
の反応により得ることができる。式ＸＸで表される出発
物質は次式ＸＸＩ（化１１２）：
【化１１２】 で表される相当するｏ−ヒドロキシフェニル−１，３，
５−トリアジンとハロカルボン酸エステルＨａｌ（ＣＨ
2 ）m ＣＯＯＥとのアルカリ媒体中での反応により慣用
の方法で得ることができる（ＣＨ−Ａ４８４６９５参
照）。式ＸＸＩで表される化合物は公知化合物であり、
そして塩化シアヌルと次式（化１１３および化１１
４）：
５−トリアジンとハロカルボン酸エステルＨａｌ（ＣＨ
2 ）m ＣＯＯＥとのアルカリ媒体中での反応により慣用
の方法で得ることができる（ＣＨ−Ａ４８４６９５参
照）。式ＸＸＩで表される化合物は公知化合物であり、
そして塩化シアヌルと次式（化１１３および化１１
４）：
【化１１３】
【化１１４】 で表される化合物各１モルおよびレゾルシノール１モル
とのフリーデル−クラフト反応により製造することがで
きる（例えば、ＣＨ−Ａ４８００９１およびＣＨ−Ａ４
８４６９５に記載のように行う）。
とのフリーデル−クラフト反応により製造することがで
きる（例えば、ＣＨ−Ａ４８００９１およびＣＨ−Ａ４
８４６９５に記載のように行う）。
【００５８】式ＩＩＩで表される基を含む、１位で置換
された４−ヒドロキシピペリジン誘導体、４−アミノピ
ペリジン誘導体またはピペリジン誘導体はまた、上記の
ハロカルボン酸エステルと反応させ、その後それをアル
カリ媒体中で式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロキシフェニ
ルトリアジンと反応させてもよい。
された４−ヒドロキシピペリジン誘導体、４−アミノピ
ペリジン誘導体またはピペリジン誘導体はまた、上記の
ハロカルボン酸エステルと反応させ、その後それをアル
カリ媒体中で式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロキシフェニ
ルトリアジンと反応させてもよい。
【００５９】ｂ）式Ｉａ中Ａが−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）−
Ｏ−基を表す化合物は、式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロ
キシフェニルトリアジンを次式（化１１５）：
Ｏ−基を表す化合物は、式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロ
キシフェニルトリアジンを次式（化１１５）：
【化１１５】 で表されるエポキシドおよび適当なポリアルキルピペリ
ジン誘導体、例えばエステル、特に式ＩＩＩで表される
基を含むクロロトリアジンと反応させることにより得ら
れる。
ジン誘導体、例えばエステル、特に式ＩＩＩで表される
基を含むクロロトリアジンと反応させることにより得ら
れる。
【００６０】式Ｉａ中Ａが−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）−Ｏ−
基を表す化合物は、式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロキシ
フェニルトリアジン、ジハライドＨａｌ−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）−Ｈａｌ（好ましくは異なる反応性のハロゲン
原子を有するもの、例えば１−ブロモ−２−クロロエタ
ン）および式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個含む
ジヒドロキシピペリジン誘導体を本質的にはあらゆる所
望の順序で互いに反応させることによっても得られる。
基を表す化合物は、式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロキシ
フェニルトリアジン、ジハライドＨａｌ−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）−Ｈａｌ（好ましくは異なる反応性のハロゲン
原子を有するもの、例えば１−ブロモ−２−クロロエタ
ン）および式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個含む
ジヒドロキシピペリジン誘導体を本質的にはあらゆる所
望の順序で互いに反応させることによっても得られる。
【００６１】ｃ）式Ｉａ中Ａが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｃ
Ｈ2 −基を表す化合物は、例えば、式ＸＸＩで表される
ｏ−ヒドロキシフェニルトリアジン、適当なエポキシド
および式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個含むエス
テル、アルコールまたはアミンを本質的にはあらゆる所
望の順序で互いに反応させることによって得られる。
Ｈ2 −基を表す化合物は、例えば、式ＸＸＩで表される
ｏ−ヒドロキシフェニルトリアジン、適当なエポキシド
および式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個含むエス
テル、アルコールまたはアミンを本質的にはあらゆる所
望の順序で互いに反応させることによって得られる。
【００６２】ｄ）式Ｉａ中Ａが直接結合を表す化合物
は、例えば、式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロキシフェニ
ルトリアジンを式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個
含むエステルまたはハライドと反応させることにより製
造され得る。
は、例えば、式ＸＸＩで表されるｏ−ヒドロキシフェニ
ルトリアジンを式ＩＩＩで表される基を少なくとも１個
含むエステルまたはハライドと反応させることにより製
造され得る。
【００６３】ｅ）式ＩＩａ中Ｂが−（ＣＨ2 ）3 ＣＯ−
基を表す化合物は、例えば、次式ＸＸＩＩ（化１１
６）：
基を表す化合物は、例えば、次式ＸＸＩＩ（化１１
６）：
【化１１６】 で表される化合物と基Ｒ7 ’を含む適当な官能誘導体例
えばアルコールまたはアミンとの反応により得ることが
できる。式ＸＸＩＩで表される出発物質はＨｅｌｖ．Ｃ
ｈｉｍ．Ａｃｔａ ５５，１５６６−１５９５（１９７
２）に記載された方法により、適当な２−（２−ヒドロ
キシフェニル）−４Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−４−
オンと次式（化１１７）：
えばアルコールまたはアミンとの反応により得ることが
できる。式ＸＸＩＩで表される出発物質はＨｅｌｖ．Ｃ
ｈｉｍ．Ａｃｔａ ５５，１５６６−１５９５（１９７
２）に記載された方法により、適当な２−（２−ヒドロ
キシフェニル）−４Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−４−
オンと次式（化１１７）：
【化１１７】 で表されるアミジンとの反応によって製造され得る。
【００６４】ｆ）式ＩＩａ中Ｂが−（ＣＨ2 ）r −基を
表す化合物は、例えば、次式ＸＸＩＩＩａ（化１１８）
またはＸＸＩＩＩｂ（化１１９）：
表す化合物は、例えば、次式ＸＸＩＩＩａ（化１１８）
またはＸＸＩＩＩｂ（化１１９）：
【化１１８】
【化１１９】 で表される化合物と基Ｒ7 ’を含む適当な官能誘導体例
えばエステルまたはアルコールまたはアミンとの反応に
より得ることができる。式ＸＸＩＩＩａで表される出発
物質は上記２−（２−ヒドロキシフェニル）−４Ｈ−
１，３−ベンゾキサジン−４−オンと次式（化１２
０）：
えばエステルまたはアルコールまたはアミンとの反応に
より得ることができる。式ＸＸＩＩＩａで表される出発
物質は上記２−（２−ヒドロキシフェニル）−４Ｈ−
１，３−ベンゾキサジン−４−オンと次式（化１２
０）：
【化１２０】 で表されるアミジンとの反応により得ることができる。
式ＸＸＩＩＩａで表される化合物はそれ自体公知の方法
で、例えばＨＣｌまたは塩化チオニルでの塩素化により
式ＸＸＩＩＩｂで表される化合物に変換され得る。
式ＸＸＩＩＩａで表される化合物はそれ自体公知の方法
で、例えばＨＣｌまたは塩化チオニルでの塩素化により
式ＸＸＩＩＩｂで表される化合物に変換され得る。
【００６５】ｇ）式ＩＩａ中Ｂが直接結合を表す化合物
は、例えば、次式ＸＸＩＶ（化１２１）：
は、例えば、次式ＸＸＩＶ（化１２１）：
【化１２１】 で表されるクロロトリアジンと基Ｒ7 ’を含む官能誘導
体例えばアミンまたはアルコールとの反応により得るこ
とができる。式ＸＸＩＶで表される化合物は公知であ
り、そして塩化シアヌルと次式（化１２２および化１２
３）：
体例えばアミンまたはアルコールとの反応により得るこ
とができる。式ＸＸＩＶで表される化合物は公知であ
り、そして塩化シアヌルと次式（化１２２および化１２
３）：
【化１２２】
【化１２３】 で表される化合物各１モルとのフリーデル−クラフト反
応により製造することができる。上記反応に必要な官能
ポリアルキルピペリジン誘導体はそれ自体公知である
か、または公知方法により製造され得る。
応により製造することができる。上記反応に必要な官能
ポリアルキルピペリジン誘導体はそれ自体公知である
か、または公知方法により製造され得る。
【００６６】ピペリジン環のＮ原子上のいずれかの置換
基が官能基を含むならば、これらはトリアジン誘導体と
ピペリジン誘導体との反応、例えばヒドロキシアルキル
化の後に、それ自体公知の方法で導入され得る。
基が官能基を含むならば、これらはトリアジン誘導体と
ピペリジン誘導体との反応、例えばヒドロキシアルキル
化の後に、それ自体公知の方法で導入され得る。
【００６７】本発明に係る化合物は、光、酸素または熱
による損傷に対する有機材料のための安定剤として使用
することができる。本発明に係る化合物は光安定剤とし
て特に適している。安定化され得るそのような材料は、
例えば油、脂肪、ワックス、化粧品、殺生物剤または写
真材料であってよい。ポリマー材料、例えばプラスチッ
ク、ゴム、ペイントまたは接着剤への使用が特に興味深
い。この様式で安定化され得るポリマーおよびその他の
基材を以下に示す： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（非架橋または
架橋され得る）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）およ
び線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）。 ２．１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，Ｐ
Ｐ／ＬＤＰＥ）および異なるタイプのポリエチレンの混
合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合
物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘ
キセンコポリマー、エチレン／エチルペンテンコポリマ
ー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテ
ンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イ
ソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキ
ルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタク
リレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートまた
はエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類
（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレンとジエ
ン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエ
チリデンノルボルネンとのターポリマー；並びに前記コ
ポリマー相互の、および上記１．のポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コ
ポリマー、ＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ、ＬＬ
ＤＰＥ／ＥＶＡおよびＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。 ３ａ. 炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）お
よびそれらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）。 ４．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。 ５．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキル
アクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／
アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／
プロピレン／スチレン。 ６．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジ
エン／スチレンまたはポリブタジエン／アクリロニトリ
ルにスチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタ
ジエンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレイン
イミド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル
および無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタ
ジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プ
ロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリアクリルメタ
クリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリ
レート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、並びにこれらと５．に列挙したコポリマー
との混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−、ＡＳＡ−また
はＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー混合
物。 ７．ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン、
エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロ
ヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン
化ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニ
リデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／
塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビ
ニリデン／酢酸ビニルコポリマー。 ８．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。 ９．前項８．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシア
ルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン
化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキル
メタアクリレート／ブタジエンターポリマー。 １０．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポ
リアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びに
それらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。 １１. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。 １２. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセ
タール、アクリレートまたはＭＢＳ。 １３. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミ
ドとの混合物。 １４. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。 １５. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、６／６、６／１０、６／９、６／１２およ
び４／６、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシ
レンとジアミンとアジピン酸の縮合によって得られる芳
香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフ
タル酸または／およびテレフタル酸および所望により変
性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、
例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテ
レフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタル
アミド；前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；また
は前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテト
ラメチレングリコールとのブロックコポリマー；ならび
にＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたは
コポリアミド、および加工の間に縮合されたポリアミド
（ＲＩＭ−ポリアミド系）。 １６. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド
ならびにポリベンズイミダゾール。 １７. ジカルボン酸およびジオールおよび/ またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロ
ールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベ
ンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエー
テルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；
およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリ
エステル。 １８. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネ
ート。 １９. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 ２０. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。 ２１. 乾性および不乾性アルキド樹脂。 ２２. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。 ２３. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアク
リレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 ２４. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋結合されたアルキド樹脂、ポリ
エステル樹脂またはアクリレート樹脂。 ２５. ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテル
または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキシ
樹脂。 ２６. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびこれらの化学的に変性させた同族誘導体、例え
ば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸
セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチル
セルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。 ２７. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡ
ＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢ
Ｓ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、
ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレー
ト、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、
ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩ
ＰＳ、ＰＰＥ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／Ｈ
ＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＥ。 ２８. 純単量体化合物または該化合物の混合物である天
然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂
肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル(例えば
フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリ
テート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワック
ス、および紡糸用組成物として使用され得る、合成エス
テルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物、ならびに上記
材料の水性エマルジョン。 ２９. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン／ブタジ
エンコポリマーのラテックス。
による損傷に対する有機材料のための安定剤として使用
することができる。本発明に係る化合物は光安定剤とし
て特に適している。安定化され得るそのような材料は、
例えば油、脂肪、ワックス、化粧品、殺生物剤または写
真材料であってよい。ポリマー材料、例えばプラスチッ
ク、ゴム、ペイントまたは接着剤への使用が特に興味深
い。この様式で安定化され得るポリマーおよびその他の
基材を以下に示す： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（非架橋または
架橋され得る）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）およ
び線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）。 ２．１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，Ｐ
Ｐ／ＬＤＰＥ）および異なるタイプのポリエチレンの混
合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合
物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘ
キセンコポリマー、エチレン／エチルペンテンコポリマ
ー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテ
ンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イ
ソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキ
ルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタク
リレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートまた
はエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類
（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレンとジエ
ン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエ
チリデンノルボルネンとのターポリマー；並びに前記コ
ポリマー相互の、および上記１．のポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コ
ポリマー、ＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ、ＬＬ
ＤＰＥ／ＥＶＡおよびＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。 ３ａ. 炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）お
よびそれらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）。 ４．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。 ５．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキル
アクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／
アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／
プロピレン／スチレン。 ６．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジ
エン／スチレンまたはポリブタジエン／アクリロニトリ
ルにスチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタ
ジエンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレイン
イミド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル
および無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタ
ジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プ
ロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリアクリルメタ
クリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリ
レート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、並びにこれらと５．に列挙したコポリマー
との混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−、ＡＳＡ−また
はＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー混合
物。 ７．ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン、
エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロ
ヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン
化ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニ
リデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／
塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビ
ニリデン／酢酸ビニルコポリマー。 ８．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。 ９．前項８．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシア
ルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン
化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキル
メタアクリレート／ブタジエンターポリマー。 １０．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポ
リアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びに
それらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。 １１. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。 １２. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセ
タール、アクリレートまたはＭＢＳ。 １３. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミ
ドとの混合物。 １４. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。 １５. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、６／６、６／１０、６／９、６／１２およ
び４／６、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシ
レンとジアミンとアジピン酸の縮合によって得られる芳
香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフ
タル酸または／およびテレフタル酸および所望により変
性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、
例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテ
レフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタル
アミド；前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；また
は前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテト
ラメチレングリコールとのブロックコポリマー；ならび
にＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたは
コポリアミド、および加工の間に縮合されたポリアミド
（ＲＩＭ−ポリアミド系）。 １６. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド
ならびにポリベンズイミダゾール。 １７. ジカルボン酸およびジオールおよび/ またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロ
ールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベ
ンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエー
テルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；
およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリ
エステル。 １８. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネ
ート。 １９. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 ２０. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。 ２１. 乾性および不乾性アルキド樹脂。 ２２. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。 ２３. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアク
リレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 ２４. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋結合されたアルキド樹脂、ポリ
エステル樹脂またはアクリレート樹脂。 ２５. ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテル
または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキシ
樹脂。 ２６. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびこれらの化学的に変性させた同族誘導体、例え
ば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸
セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチル
セルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。 ２７. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡ
ＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢ
Ｓ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、
ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレー
ト、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、
ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩ
ＰＳ、ＰＰＥ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／Ｈ
ＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＥ。 ２８. 純単量体化合物または該化合物の混合物である天
然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂
肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル(例えば
フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリ
テート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワック
ス、および紡糸用組成物として使用され得る、合成エス
テルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物、ならびに上記
材料の水性エマルジョン。 ２９. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン／ブタジ
エンコポリマーのラテックス。
【００６８】従って、本発明はまた、本発明に係る化合
物を少なくとも１種含有する、光、酸素および／または
熱に対して感受性である有機材料に関する。言及され得
る有機材料は特に合成ポリマー、例えば熱可塑性樹脂ま
たはエラストマー、特に前者である。ポリオレフィンは
有機材料として特に強調されるべきである。
物を少なくとも１種含有する、光、酸素および／または
熱に対して感受性である有機材料に関する。言及され得
る有機材料は特に合成ポリマー、例えば熱可塑性樹脂ま
たはエラストマー、特に前者である。ポリオレフィンは
有機材料として特に強調されるべきである。
【００６９】あらゆるタイプのコーティングにおいて本
発明に係る化合物の使用は特に好ましい。これらは着色
もしくは非着色コーティングまたは金属有効コーティン
グであってよい。それらは有機溶媒を含有してもよい
し、また無溶媒もしくは水性コーティングであってもよ
い。
発明に係る化合物の使用は特に好ましい。これらは着色
もしくは非着色コーティングまたは金属有効コーティン
グであってよい。それらは有機溶媒を含有してもよい
し、また無溶媒もしくは水性コーティングであってもよ
い。
【００７０】結合剤としてこのコーティングは上記ポリ
マーを少なくとも１種含有し得る。特定の結合剤を含有
するコーティングの例を以下に示す： １．所望により酸性の硬化性触媒を添加した低温−また
は高温架橋性アルキド、アクリレート、ポリエステル、
エポキシまた．メラミン樹脂または該樹脂の混合物をベ
ースとするコーティング。 ２．ヒドロキシル基含有アクリレート、ポリエステルま
たはポリエーテルと脂肪族もしくは芳香族ポリイソシア
ネートとをベースとする２成分ポリウレタンコーティン
グ。 ３．焼付の間に脱ブロックされるブロック化ポリイソシ
アネートをベースとする１成分ポリウレタンコーティン
グ。 ４．（ポリ）ケチミンと脂肪族または芳香族ポリイソシ
アネートとをベースとする２成分コーティング。 ５．（ポリ）ケチミンと不飽和アクリレート樹脂または
ポリアセトアセテート樹脂またはメチルメタクリルアミ
ドグリコレートとをベースとする２成分コーティング。 ６．カルボキシル基またはアミノ基含有ポリアクリレー
トとポリエポキシドとをベースとする２成分コーティン
グ。 ７．無水物基含有アクリレート樹脂とポリヒドロキシま
たはポリアミノ成分とをベースとする２成分コーティン
グ。 ８．（ポリ）オキサゾリジンと無水物基含有アクリレー
ト樹脂または不飽和アクリレート樹脂または脂肪族もし
くは芳香族ポリイソシアネートとをベースとする２成分
コーティング。 ９．不飽和ポリアクリレートとポリマロネートとをベー
スとする２成分コーティング。 １０．エーテル化メラミン樹脂と組み合わせた熱可塑性
アクリレート樹脂または独立した架橋アクリレートをベ
ースとする熱可塑性ポリアクリレートコーティング。 １１．シロキサン変性アクリレート樹脂をベースとする
コーティング系。 １２．フッ素変性アクリレート樹脂をベースとするコー
ティング系。 １３．アリルグリシジルエーテルをベースとするコーテ
ィング系。
マーを少なくとも１種含有し得る。特定の結合剤を含有
するコーティングの例を以下に示す： １．所望により酸性の硬化性触媒を添加した低温−また
は高温架橋性アルキド、アクリレート、ポリエステル、
エポキシまた．メラミン樹脂または該樹脂の混合物をベ
ースとするコーティング。 ２．ヒドロキシル基含有アクリレート、ポリエステルま
たはポリエーテルと脂肪族もしくは芳香族ポリイソシア
ネートとをベースとする２成分ポリウレタンコーティン
グ。 ３．焼付の間に脱ブロックされるブロック化ポリイソシ
アネートをベースとする１成分ポリウレタンコーティン
グ。 ４．（ポリ）ケチミンと脂肪族または芳香族ポリイソシ
アネートとをベースとする２成分コーティング。 ５．（ポリ）ケチミンと不飽和アクリレート樹脂または
ポリアセトアセテート樹脂またはメチルメタクリルアミ
ドグリコレートとをベースとする２成分コーティング。 ６．カルボキシル基またはアミノ基含有ポリアクリレー
トとポリエポキシドとをベースとする２成分コーティン
グ。 ７．無水物基含有アクリレート樹脂とポリヒドロキシま
たはポリアミノ成分とをベースとする２成分コーティン
グ。 ８．（ポリ）オキサゾリジンと無水物基含有アクリレー
ト樹脂または不飽和アクリレート樹脂または脂肪族もし
くは芳香族ポリイソシアネートとをベースとする２成分
コーティング。 ９．不飽和ポリアクリレートとポリマロネートとをベー
スとする２成分コーティング。 １０．エーテル化メラミン樹脂と組み合わせた熱可塑性
アクリレート樹脂または独立した架橋アクリレートをベ
ースとする熱可塑性ポリアクリレートコーティング。 １１．シロキサン変性アクリレート樹脂をベースとする
コーティング系。 １２．フッ素変性アクリレート樹脂をベースとするコー
ティング系。 １３．アリルグリシジルエーテルをベースとするコーテ
ィング系。
【００７１】コーティングはまた放射線硬化性コーティ
ングであってもよい。この場合、結合剤はエチレン性二
重結合を含み、化学線または電子線の照射の結果として
架橋された高分子量体に変化する単量体またはオリゴマ
ー化合物から構成される。通常この場合、結合剤は上記
化合物の混合物てある。
ングであってもよい。この場合、結合剤はエチレン性二
重結合を含み、化学線または電子線の照射の結果として
架橋された高分子量体に変化する単量体またはオリゴマ
ー化合物から構成される。通常この場合、結合剤は上記
化合物の混合物てある。
【００７２】コーティングは単層または二層コーティン
グとして塗布され、本発明に係る安定剤は非着色の最上
層に添加されるのが好ましい。
グとして塗布され、本発明に係る安定剤は非着色の最上
層に添加されるのが好ましい。
【００７３】コーティングは慣用の方法、例えばハケ
塗、噴霧、注入、浸漬または電着により基材（金属、プ
ラスチック、木材等）に塗布され得る。
塗、噴霧、注入、浸漬または電着により基材（金属、プ
ラスチック、木材等）に塗布され得る。
【００７４】従って、本発明の好ましい実施態様は、本
発明に係る化合物を少なくとも１種含有するペイントま
たはラッカー（例えば自動車用ラッカー）である。適当
な結合剤は例えば上記のものである。
発明に係る化合物を少なくとも１種含有するペイントま
たはラッカー（例えば自動車用ラッカー）である。適当
な結合剤は例えば上記のものである。
【００７５】本発明に係る化合物の添加量は基材および
要求される安定性に応じて変化する。一般的には、有機
材料に対して０．０１ないし１０重量％、特に０．０２
ないし５重量％、とりわけ０．０５ないし３重量％、例
えば０．１ないし２重量％である。定義に応じた種々の
化合物の混合物を添加してもよい。
要求される安定性に応じて変化する。一般的には、有機
材料に対して０．０１ないし１０重量％、特に０．０２
ないし５重量％、とりわけ０．０５ないし３重量％、例
えば０．１ないし２重量％である。定義に応じた種々の
化合物の混合物を添加してもよい。
【００７６】有機材料への混入は、例えば本発明に係る
化合物および所望によりその他の添加剤を当業界で慣用
の方法に従って混合することにより行われ得る。ポリマ
ー特に合成ポリマーは成形の前または間に混入され得る
か、またはポリマーに溶解もしくは分散させた化合物を
添加し、所望により次に溶媒を蒸発させることにより混
入され得る。エラストマーの場合、これらはラテックス
として安定化され得る。本発明に係る化合物のポリマー
への混入の別の方法は相当するモノマーの重合の前もし
くは間、または架橋の前に添加することからなる。
化合物および所望によりその他の添加剤を当業界で慣用
の方法に従って混合することにより行われ得る。ポリマ
ー特に合成ポリマーは成形の前または間に混入され得る
か、またはポリマーに溶解もしくは分散させた化合物を
添加し、所望により次に溶媒を蒸発させることにより混
入され得る。エラストマーの場合、これらはラテックス
として安定化され得る。本発明に係る化合物のポリマー
への混入の別の方法は相当するモノマーの重合の前もし
くは間、または架橋の前に添加することからなる。
【００７７】本発明に係る化合物またはそれらの混合物
は安定化すべきプラスチックに該化合物を例えば２．５
ないし２５重量％の濃度で含むマスターバッチの形態で
添加され得る。
は安定化すべきプラスチックに該化合物を例えば２．５
ないし２５重量％の濃度で含むマスターバッチの形態で
添加され得る。
【００７８】本発明に係る化合物の混入は以下の方法に
より好都合に行われ得る： ・エマルジョンまたは分散液として（例えばラテックス
またはエマルジョンポリマーを得るために） ・添加成分の混合の間の乾燥混合物またはポリマー混合
物として ・加工装置（例えば押出機、内部混合機等）への直接添
加により ・溶液または溶融液として。
より好都合に行われ得る： ・エマルジョンまたは分散液として（例えばラテックス
またはエマルジョンポリマーを得るために） ・添加成分の混合の間の乾燥混合物またはポリマー混合
物として ・加工装置（例えば押出機、内部混合機等）への直接添
加により ・溶液または溶融液として。
【００７９】コーティングまたはコーティング組成物へ
の混入はまた、慣用の方法により行われ得る。本発明に
係る化合物０．０１ないし５重量％、特に０．０２ない
し３重量％が好都合に添加される。コーティング配合剤
への添加は、結合剤および所望によりその他の成分の添
加の前もしくは後に、または添加と同時に行われ得る。
の混入はまた、慣用の方法により行われ得る。本発明に
係る化合物０．０１ないし５重量％、特に０．０２ない
し３重量％が好都合に添加される。コーティング配合剤
への添加は、結合剤および所望によりその他の成分の添
加の前もしくは後に、または添加と同時に行われ得る。
【００８０】本発明に係る安定剤の他に、さらに別の安
定剤もまたポリマーに添加され得る。これらの例を以下
に示す：１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル
−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオク
タデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシ
クロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−メトキシメチルフェノール、２，６−ジ−ノニル−４
−メチルフェノール。１．２ アルキル化ハイドロキノン 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−
第三ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−第三アミルハ
イドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール。１．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）。１．４ アルキリデンビスフェノール 、例えば２，２’
−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔４−メ
チル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノー
ル〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シク
ロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６
−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，
２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノ
ール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メ
チレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス
（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジ
ル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス
（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート。１．５ ベンジル化合物 、例えば１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
イソオクチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオ
テレフタレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、
ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、モノエチル３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートのカルシ
ウム塩、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。１．６ アシルアミノフェノール 、例えばラウリン酸４
−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−ヒドロキシア
ニリド、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−ｓ−トリアジン、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。１．７ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アル
コールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。１．８ β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。１．９ β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。１．１０ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸のアミド、 例えばＮ，Ｎ’
−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ルプロピオニル）ヒドラジン。２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１ ２−( ２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール 、例えば、５’−メチル、３’，５’−ジ−第
三ブチル−、５’−第三ブチル−、５’，５’−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル) −、５−クロロ−
３’，５’−ジ−第三ブチル−、５−クロロ−３’−第
三ブチル−５’−メチル−、３’−第二ブチル−５’−
第三ブチル−、４’−オクトキシ−、３’，５’−ジ−
第三アミル−および３’，５’−ビス（α，α−ジメチ
ルベンジル）−誘導体。２．２ ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン 、例えば４−
ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４
−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジ
ルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および
２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。２．３ 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル 、
例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート、および３，５−ジ−第三
ブチル４−ヒドロキシベンゾエート。２．４ アクリレート 、例えばα−シアノ−β, β−ジ
フェニル−アクリル酸エチルエステル、α−シアノ−
β, β−ジフェニル−アクリル酸イソオクチルエステ
ル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエス
テル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸
ブチルエステル、α−カルボメトキシ−p −メトキシ桂
皮酸メチルエステル、およびＮ−（β−カルボメトキシ
−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。２．５ ニッケル化合物 、例えば２，２’−チオビス−
〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェノ
ール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体
であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノー
ルアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノール
アミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチ
ルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、
例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケ
トキシムのニッケル錯体、例えば２−ヒドロキシ−４−
メチル−フェニルウンデシルケトキシム、１−フェニル
−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッ
ケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。２．６ 立体障害性アミン 、例えばビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルマロネート、１−ヒドロキシエチル−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
とコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロ
ロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタ
ンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペ
ラジノン）。２．７ シュウ酸ジアミド 、例えば４，４’−ジオクチ
ルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−
５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジ
ドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリ
ド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルア
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオ
キサニリドおよび該化合物と２エトキシ−２’−エチル
−５，４’−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合
物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリ
ドの混合物。２．８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５
−トリアジン 、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−ト
リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２
−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン。３．金属不活性化剤 、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニルシュ
ウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒ
ドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリ
チロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベ
ンジリデン）シュウ酸ジヒドラジン。４．ホスフィットおよびホスホナイト 、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブ
チルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリ
トリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブ
チルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィットト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキ
ス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナト、３，９−ビス（２，４−ジ−第
三ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキ
サ−３，９−ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン。５．過酸化物を破壊する化合物 、例えばβ−チオジプロ
ピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミ
リスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾー
ルの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオク
タデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキ
ス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。６．ポリアミド安定剤 、例えばヨウ化物および／または
リン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。 ７．塩基性補助安定剤 、例えばメラミン、ポリビニルピ
ロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩および
アルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、
ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リシノ
ール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカ
テコール酸アンチモンまたはピロカテコール酸亜鉛。８．核剤 、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸、ジフェニル酢酸。９．充填剤および強化剤 、例えば炭酸カルシウム、ケイ
酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲
母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボ
ンブラックおよびグラファイト。１０．その他の添加剤 、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、蛍光漂白剤、難燃剤、静電防止剤および発泡
剤。
定剤もまたポリマーに添加され得る。これらの例を以下
に示す：１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル
−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオク
タデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシ
クロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−メトキシメチルフェノール、２，６−ジ−ノニル−４
−メチルフェノール。１．２ アルキル化ハイドロキノン 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−
第三ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−第三アミルハ
イドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール。１．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）。１．４ アルキリデンビスフェノール 、例えば２，２’
−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔４−メ
チル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノー
ル〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シク
ロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６
−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，
２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノ
ール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メ
チレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス
（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジ
ル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス
（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート。１．５ ベンジル化合物 、例えば１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
イソオクチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオ
テレフタレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、
ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、モノエチル３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートのカルシ
ウム塩、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。１．６ アシルアミノフェノール 、例えばラウリン酸４
−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−ヒドロキシア
ニリド、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−ｓ−トリアジン、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。１．７ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アル
コールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。１．８ β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。１．９ β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。１．１０ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸のアミド、 例えばＮ，Ｎ’
−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ルプロピオニル）ヒドラジン。２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１ ２−( ２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール 、例えば、５’−メチル、３’，５’−ジ−第
三ブチル−、５’−第三ブチル−、５’，５’−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル) −、５−クロロ−
３’，５’−ジ−第三ブチル−、５−クロロ−３’−第
三ブチル−５’−メチル−、３’−第二ブチル−５’−
第三ブチル−、４’−オクトキシ−、３’，５’−ジ−
第三アミル−および３’，５’−ビス（α，α−ジメチ
ルベンジル）−誘導体。２．２ ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン 、例えば４−
ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４
−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジ
ルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および
２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。２．３ 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル 、
例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート、および３，５−ジ−第三
ブチル４−ヒドロキシベンゾエート。２．４ アクリレート 、例えばα−シアノ−β, β−ジ
フェニル−アクリル酸エチルエステル、α−シアノ−
β, β−ジフェニル−アクリル酸イソオクチルエステ
ル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエス
テル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸
ブチルエステル、α−カルボメトキシ−p −メトキシ桂
皮酸メチルエステル、およびＮ−（β−カルボメトキシ
−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。２．５ ニッケル化合物 、例えば２，２’−チオビス−
〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェノ
ール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体
であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノー
ルアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノール
アミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチ
ルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、
例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケ
トキシムのニッケル錯体、例えば２−ヒドロキシ−４−
メチル−フェニルウンデシルケトキシム、１−フェニル
−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッ
ケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。２．６ 立体障害性アミン 、例えばビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルマロネート、１−ヒドロキシエチル−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
とコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロ
ロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタ
ンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペ
ラジノン）。２．７ シュウ酸ジアミド 、例えば４，４’−ジオクチ
ルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−
５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジ
ドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリ
ド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルア
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオ
キサニリドおよび該化合物と２エトキシ−２’−エチル
−５，４’−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合
物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリ
ドの混合物。２．８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５
−トリアジン 、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−ト
リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２
−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン。３．金属不活性化剤 、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニルシュ
ウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒ
ドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリ
チロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベ
ンジリデン）シュウ酸ジヒドラジン。４．ホスフィットおよびホスホナイト 、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブ
チルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリ
トリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブ
チルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィットト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキ
ス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナト、３，９−ビス（２，４−ジ−第
三ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキ
サ−３，９−ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン。５．過酸化物を破壊する化合物 、例えばβ−チオジプロ
ピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミ
リスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾー
ルの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオク
タデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキ
ス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。６．ポリアミド安定剤 、例えばヨウ化物および／または
リン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。 ７．塩基性補助安定剤 、例えばメラミン、ポリビニルピ
ロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩および
アルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、
ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リシノ
ール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカ
テコール酸アンチモンまたはピロカテコール酸亜鉛。８．核剤 、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸、ジフェニル酢酸。９．充填剤および強化剤 、例えば炭酸カルシウム、ケイ
酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲
母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボ
ンブラックおよびグラファイト。１０．その他の添加剤 、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、蛍光漂白剤、難燃剤、静電防止剤および発泡
剤。
【００８１】プラスチックおよびコーティング技術にお
いて慣用のその他の物質をさらに添加してもよい。これ
らの例は充填剤および強化剤、顔料、染料、可塑剤、溶
媒、潤滑剤、流れ調整剤、蛍光漂白剤、核剤、静電防止
剤、難燃剤または触媒（例えば酸、金属セッケンまたは
塩、アミン）である。
いて慣用のその他の物質をさらに添加してもよい。これ
らの例は充填剤および強化剤、顔料、染料、可塑剤、溶
媒、潤滑剤、流れ調整剤、蛍光漂白剤、核剤、静電防止
剤、難燃剤または触媒（例えば酸、金属セッケンまたは
塩、アミン）である。
【００８２】添加されるその他の安定剤の性質が安定化
すべき基材の性質および意図される用途により決定され
ることは当然である。
すべき基材の性質および意図される用途により決定され
ることは当然である。
【００８３】このように安定化されたポリマーは種々の
形態、例えばフィルム、繊維、テープ、成形部品、型、
ラテックス、分散系、コーティングまたはセメントとし
て使用され得る。
形態、例えばフィルム、繊維、テープ、成形部品、型、
ラテックス、分散系、コーティングまたはセメントとし
て使用され得る。
【００８４】本発明に係る化合物は安定剤、特に、リサ
ーチ公開（Research Disclosure)９０／３１４２９〔Ｎ
ｏ．３１４，４７４ないし４８０頁（１９９０）〕に記
載されているような複製技術において公知のほとんど全
ての材料用の光安定剤としても使用できる。
ーチ公開（Research Disclosure)９０／３１４２９〔Ｎ
ｏ．３１４，４７４ないし４８０頁（１９９０）〕に記
載されているような複製技術において公知のほとんど全
ての材料用の光安定剤としても使用できる。
【００８５】従って、本発明はまた、上記参考文献に記
載されているような記録材料、特に写真材料、中でもカ
ラー写真材料に関し、該材料は少なくとも一つの層中に
少なくとも１種の本発明に係る化合物を含有する。
載されているような記録材料、特に写真材料、中でもカ
ラー写真材料に関し、該材料は少なくとも一つの層中に
少なくとも１種の本発明に係る化合物を含有する。
【００８６】
【実施例】以下の実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以
下の記載中、部および％は特記しない限りそれぞれ重量
部および重量％である。ＥＡは元素分析である。 実施例１ まず、２−（２−ヒドロキシ−４−エトキシカルボニル
メトキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ＣＨ−Ａ４８
４６９５の実施例４４に記載されるように調製）１４．
５ｇ（０．０３モル）を１００ｍｌのスルホン化フラス
コ中に入れる。これに４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン４．６５ｇ（０．０３モル）
および触媒として二酸化ジブチルスズ０．１ｇを添加す
る。混合物を内部温度１５０℃まで加熱し、そして攪拌
しながらトルエン１００ｍｌ中の４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン０．４ｇの溶液を
滴下ロートからゆっくりと滴下させ、トルエン／エタノ
ール混合物がエステル交換の結果として連続的に留去さ
れるようにする。約６時間の反応時間の後、薄層クロマ
トグラフィー（溶出液トルエン／２０％エタノール）は
出発物質（ヒドロキシフェニルトリアジン）をもはや示
さない。黄色状溶融液を次にトルエン２５０ｍｌで処理
し、溶液を冷却し、有機層を温水各５０ｍｌで２回洗浄
し、そして次に溶液をロータリーエバポレーターで蒸発
させる。残渣をアセトニトリルから再び晶出させる。生
成物（化合物番号１）が融点１１８−１２０℃のベージ
ュ色結晶として得られる（第Ｉ表参照）。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以
下の記載中、部および％は特記しない限りそれぞれ重量
部および重量％である。ＥＡは元素分析である。 実施例１ まず、２−（２−ヒドロキシ−４−エトキシカルボニル
メトキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ＣＨ−Ａ４８
４６９５の実施例４４に記載されるように調製）１４．
５ｇ（０．０３モル）を１００ｍｌのスルホン化フラス
コ中に入れる。これに４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン４．６５ｇ（０．０３モル）
および触媒として二酸化ジブチルスズ０．１ｇを添加す
る。混合物を内部温度１５０℃まで加熱し、そして攪拌
しながらトルエン１００ｍｌ中の４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン０．４ｇの溶液を
滴下ロートからゆっくりと滴下させ、トルエン／エタノ
ール混合物がエステル交換の結果として連続的に留去さ
れるようにする。約６時間の反応時間の後、薄層クロマ
トグラフィー（溶出液トルエン／２０％エタノール）は
出発物質（ヒドロキシフェニルトリアジン）をもはや示
さない。黄色状溶融液を次にトルエン２５０ｍｌで処理
し、溶液を冷却し、有機層を温水各５０ｍｌで２回洗浄
し、そして次に溶液をロータリーエバポレーターで蒸発
させる。残渣をアセトニトリルから再び晶出させる。生
成物（化合物番号１）が融点１１８−１２０℃のベージ
ュ色結晶として得られる（第Ｉ表参照）。
【００８７】４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンの代わりに、１位で置換されたその他
のピペリジンが使用され、そして操作は実施例１に記載
されたのと同様に行うと、第Ｉ表中の化合物番号２−７
が得られる。ヒドロキシフェニルトリアジンのビス−キ
シリル誘導体の代わりに、ビス−トルイル誘導体もまた
使用され得る〔第Ｉ表（表１ないし表４）中の化合物番
号８−１１，実施例２〕。
メチルピペリジンの代わりに、１位で置換されたその他
のピペリジンが使用され、そして操作は実施例１に記載
されたのと同様に行うと、第Ｉ表中の化合物番号２−７
が得られる。ヒドロキシフェニルトリアジンのビス−キ
シリル誘導体の代わりに、ビス−トルイル誘導体もまた
使用され得る〔第Ｉ表（表１ないし表４）中の化合物番
号８−１１，実施例２〕。
【００８８】第Ｉ表
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【００８９】実施例２ ２−（２−ヒドロキシ−４−エトキシカルボニルメトキ
シフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン９．１ｇ（０．０２モル）、４
−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ
リジン４．１ｇ（０．０２４モル）および二酸化ジブチ
ルスズ０．５ｇ（２ミリモル）の純粋なキシレン（異性
体混合物）９０ｍｌ中の懸濁液を２００ｍｌのスルホン
化フラスコ中で還流まで加熱する。生じたエタノールを
ジーン−スターク水分離器により除去する。２１時間
後、反応混合物をろ過し、そして溶媒を蒸発させる。ベ
ージュ色の固体粗製物を石油エーテル（沸点範囲１１０
−１４０℃）５００ｍｌから再び晶出させ、そして乾燥
させる。化合物番号８が淡黄色粉末、融点１５７−１６
０℃として９．９ｇ（理論量の８５％）得られる。化合
物番号９−１１がその他の４−ヒドロキシテトラアルキ
ルピペリジンとの反応により同様の方法で得られる。
シフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン９．１ｇ（０．０２モル）、４
−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ
リジン４．１ｇ（０．０２４モル）および二酸化ジブチ
ルスズ０．５ｇ（２ミリモル）の純粋なキシレン（異性
体混合物）９０ｍｌ中の懸濁液を２００ｍｌのスルホン
化フラスコ中で還流まで加熱する。生じたエタノールを
ジーン−スターク水分離器により除去する。２１時間
後、反応混合物をろ過し、そして溶媒を蒸発させる。ベ
ージュ色の固体粗製物を石油エーテル（沸点範囲１１０
−１４０℃）５００ｍｌから再び晶出させ、そして乾燥
させる。化合物番号８が淡黄色粉末、融点１５７−１６
０℃として９．９ｇ（理論量の８５％）得られる。化合
物番号９−１１がその他の４−ヒドロキシテトラアルキ
ルピペリジンとの反応により同様の方法で得られる。
【００９０】実施例３
【化１２４】 ２−エトキシカルボニルメチル−４，６−ビス（２−ヒ
ドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（Ｈｅｌ
ｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ ５５，１５８５に従って調
製）１０．５ｇを、キシレン２００ｍｌ中の４−ヒドロ
キシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
５．６ｇおよびナトリウムメトキシド１．０ｇと１３０
−１３５℃で６時間加熱する。全反応時間にわたり、キ
シレンとエタノールの混合物を非常にゆっくりと留去す
る。室温まで冷却した後、反応溶液を各回５０ｍｌの水
で３回洗浄し、次に真空下で蒸発させる。リグロインか
らの残渣の晶出により融点１７３℃の上記式（化１２
４）で表されるエステル（化合物番号１２）が得られ
る。
ドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（Ｈｅｌ
ｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ ５５，１５８５に従って調
製）１０．５ｇを、キシレン２００ｍｌ中の４−ヒドロ
キシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
５．６ｇおよびナトリウムメトキシド１．０ｇと１３０
−１３５℃で６時間加熱する。全反応時間にわたり、キ
シレンとエタノールの混合物を非常にゆっくりと留去す
る。室温まで冷却した後、反応溶液を各回５０ｍｌの水
で３回洗浄し、次に真空下で蒸発させる。リグロインか
らの残渣の晶出により融点１７３℃の上記式（化１２
４）で表されるエステル（化合物番号１２）が得られ
る。
【００９１】実施例４ 以下の化合物を２００ｍｌのスルホン化フラスコ中に連
続的に入れる：２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン３９．７ｇ（０．１モル）、４−
（２−エポキシプロピルオキシ）−Ｎ−（プロペン−２
−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２
９．３ｇ（０．１０５モル）、キシレン（異性体混合
物）５０ｍｌおよびＮ−メチルイミダゾール０．３３ｇ
（０．００４モル）。混合物を１４５℃で２時間加熱す
る。この操作で暗黄色反応溶液が形成される。２時間の
反応時間の後、薄層クロマトグラフィーは出発物質をも
はや示さない。反応混合物を冷却し、シリカゲル１５０
ｇを通してろ過し、該シリカゲルをキシレンで洗浄し、
そして各回１００ｍｌの水と３回震盪することにより触
媒を抽出する。有機相をＮａ2 ＳＯ4 で乾燥させ、そし
て蒸発させる。黄色光沢樹脂が形成される（化合物番号
１３）（４４．５ｇ＝理論量の６８．４％）。 ＥＡ：計算値 Ｃ７３．８１％ Ｈ７．７４％ Ｎ
８．６０％ 実測値 Ｃ７３．６５％ Ｈ７．６６％ Ｎ８．５
０％ 第ＩＩ表（表５）に示された化合物番号１４−１６がそ
の他の４−グリシジルオキシテトラメチルピペリジンと
の反応により同様の方法で得られる。
続的に入れる：２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン３９．７ｇ（０．１モル）、４−
（２−エポキシプロピルオキシ）−Ｎ−（プロペン−２
−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２
９．３ｇ（０．１０５モル）、キシレン（異性体混合
物）５０ｍｌおよびＮ−メチルイミダゾール０．３３ｇ
（０．００４モル）。混合物を１４５℃で２時間加熱す
る。この操作で暗黄色反応溶液が形成される。２時間の
反応時間の後、薄層クロマトグラフィーは出発物質をも
はや示さない。反応混合物を冷却し、シリカゲル１５０
ｇを通してろ過し、該シリカゲルをキシレンで洗浄し、
そして各回１００ｍｌの水と３回震盪することにより触
媒を抽出する。有機相をＮａ2 ＳＯ4 で乾燥させ、そし
て蒸発させる。黄色光沢樹脂が形成される（化合物番号
１３）（４４．５ｇ＝理論量の６８．４％）。 ＥＡ：計算値 Ｃ７３．８１％ Ｈ７．７４％ Ｎ
８．６０％ 実測値 Ｃ７３．６５％ Ｈ７．６６％ Ｎ８．５
０％ 第ＩＩ表（表５）に示された化合物番号１４−１６がそ
の他の４−グリシジルオキシテトラメチルピペリジンと
の反応により同様の方法で得られる。
【００９２】第ＩＩ表
【表５】
【００９３】実施例５
【化１２５】 まず、１−（２−エポキシプロピル）−４−ヒドロキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２２．４ｇ
（０．１０５モル）および２−（２，４−ジヒドロキシ
フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン３９．７ｇ（０．１モ
ル）を１００ｍｌのスルホン化フラスコ中に入れ、そし
て混合物を１６０℃まで加熱する。触媒として臭化テト
ラブチルアンモニウム１．６ｇをＮ2 不活性ガス下で添
加し、そして混合物を攪拌しながらＮ2 不活性ガス下、
１６０−１７０℃の反応温度で４時間反応させる。反応
混合物を次に冷却し、そしてトルエン７０ｍｌと３回処
理し、そして溶液をハイフロを通してろ別する。触媒を
次にＨ2 Ｏ／ＮａＣｌ溶液で洗浄し、有機相をＮａ2 Ｓ
Ｏ4 で乾燥させ、そして溶液をラトバップ中で蒸発させ
る。残渣はトルエンから再び晶出され得る。融点１８５
−１８７℃を有する淡いベージュ色の結晶（化合物番号
１７）６６．３ｇが得られる。
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２２．４ｇ
（０．１０５モル）および２−（２，４−ジヒドロキシ
フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン３９．７ｇ（０．１モ
ル）を１００ｍｌのスルホン化フラスコ中に入れ、そし
て混合物を１６０℃まで加熱する。触媒として臭化テト
ラブチルアンモニウム１．６ｇをＮ2 不活性ガス下で添
加し、そして混合物を攪拌しながらＮ2 不活性ガス下、
１６０−１７０℃の反応温度で４時間反応させる。反応
混合物を次に冷却し、そしてトルエン７０ｍｌと３回処
理し、そして溶液をハイフロを通してろ別する。触媒を
次にＨ2 Ｏ／ＮａＣｌ溶液で洗浄し、有機相をＮａ2 Ｓ
Ｏ4 で乾燥させ、そして溶液をラトバップ中で蒸発させ
る。残渣はトルエンから再び晶出され得る。融点１８５
−１８７℃を有する淡いベージュ色の結晶（化合物番号
１７）６６．３ｇが得られる。
【００９４】実施例６：２成分ポリアクリレートコーテ
ィング中での本発明化合物の試験 ヒドロキシル基含有アクリレートコーティングは以下の
成分を混合することにより調製される： キシレン中のヒドロキシル基含有アクリレート樹脂の６０％溶液〔登録商標マク リナル(Macrynal)ＳＭ５１０Ｎ，ヘキスト・アーゲー〕 ７５部 ブチルグリコールアセテート １５部 芳香族溶媒混合物〔登録商標ソルベッソ(Solvesso)１００，エッソ・アーゲー〕 ６．１部 メチルイソブチルケトン ３．６部 オクタン酸亜鉛（トルエン中の８％溶液として） ０．１部 流れ調整剤〔登録商標バイク(Byk) ３００，バイク−ヘミー〕 ０．２部。
ィング中での本発明化合物の試験 ヒドロキシル基含有アクリレートコーティングは以下の
成分を混合することにより調製される： キシレン中のヒドロキシル基含有アクリレート樹脂の６０％溶液〔登録商標マク リナル(Macrynal)ＳＭ５１０Ｎ，ヘキスト・アーゲー〕 ７５部 ブチルグリコールアセテート １５部 芳香族溶媒混合物〔登録商標ソルベッソ(Solvesso)１００，エッソ・アーゲー〕 ６．１部 メチルイソブチルケトン ３．６部 オクタン酸亜鉛（トルエン中の８％溶液として） ０．１部 流れ調整剤〔登録商標バイク(Byk) ３００，バイク−ヘミー〕 ０．２部。
【００９５】下記の安定剤（キシレン５−１０部中に溶
解）１．５部をこれに添加する。これは固体結合剤（ア
クリレート＋イソシアネート）に対して２％に相当す
る。得られた配合剤を三量化ジイソシアネート〔登録商
標デスモジュール(Desmodur)Ｎ７５，バイエル・アーゲ
ー〕３０部と混合する。キシレンを用いて透明ラッカー
を噴霧可能に調整する。コイルコート、ポリエステルを
ベースとする自動車用充填剤およびポリエステル／セル
ロースアセトブチレート／メラミンをベースとするシル
バーメタリックベースラッカーが被覆されたアルミニウ
ムシートに上記ラッカーの試料を塗布し、そして８０℃
で４５分間焼き付ける。４４−５０μｍの層厚が得られ
る。
解）１．５部をこれに添加する。これは固体結合剤（ア
クリレート＋イソシアネート）に対して２％に相当す
る。得られた配合剤を三量化ジイソシアネート〔登録商
標デスモジュール(Desmodur)Ｎ７５，バイエル・アーゲ
ー〕３０部と混合する。キシレンを用いて透明ラッカー
を噴霧可能に調整する。コイルコート、ポリエステルを
ベースとする自動車用充填剤およびポリエステル／セル
ロースアセトブチレート／メラミンをベースとするシル
バーメタリックベースラッカーが被覆されたアルミニウ
ムシートに上記ラッカーの試料を塗布し、そして８０℃
で４５分間焼き付ける。４４−５０μｍの層厚が得られ
る。
【００９６】試料シートはキセノン−ウエザロメーター
（アトラス・コーポレーション，ＣＡＭ，１５９ＫＦＡ
型）中で耐候試験を行う。耐候試験の前、８００時間
後、１６００時間後および２０００時間後のＤＩＮ６７
５３０に準拠した２０°光沢、亀裂形成までの時間（単
位：時間）およびＴＮＯ亀裂形成スケールに準拠したラ
ッカーの外観を評価する。 本発明に係る化合物を用いると良好な光沢保持および高
い亀裂耐性が得られることが上記のデータから明らかで
ある。
（アトラス・コーポレーション，ＣＡＭ，１５９ＫＦＡ
型）中で耐候試験を行う。耐候試験の前、８００時間
後、１６００時間後および２０００時間後のＤＩＮ６７
５３０に準拠した２０°光沢、亀裂形成までの時間（単
位：時間）およびＴＮＯ亀裂形成スケールに準拠したラ
ッカーの外観を評価する。 本発明に係る化合物を用いると良好な光沢保持および高
い亀裂耐性が得られることが上記のデータから明らかで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 498/10 Ａ Ｃ０８Ｋ 5/3492 ＫＢＮ 5/353 ＫＢＰ (72)発明者 ジャン−ルック ビルバウム スイス国 1700 フリブール プランシェ ズップ２ (72)発明者 ジャン ロディ スイス国 4125 リーエン リュッティリ ンク 82 (72)発明者 アンドレアス ヴァレット ドイツ連邦共和国 7859 アイメルディン ゲン イム ブルックアッカー 18
Claims (19)
- 【請求項１】 次式Ｉ（化１）またはＩＩ（化２）： 【化１】 【化２】 で表される基を少なくとも１個、および次式ＩＩＩ（化
３）： 【化３】 （上記式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ1
およびＲ2 は互いに独立して水素原子、−ＯＨ基、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基またはハロゲン原子を
表し、Ｒ3 およびＲ4 は互いに独立して水素原子、−Ｏ
Ｈ基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数１ないし１８のアルコキシ基、ハロゲン原子または式
ＩＩＩで表される基を含む基を表し、そしてＲ5 および
Ｒ6 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、ハロゲン原子または式ＩＩＩで表され
る基を含む基を表すが、ただし、式Ｉで表される基中の
Ｏ原子が橋−ＣＨ2 ＣＯ−に結合されているならば、ピ
ペリジン環の１位にあり得る置換基は−Ｏ−を介して窒
素原子に結合されない。）で表されるポリアルキルピペ
リジン基を少なくとも１個含む化合物。 - 【請求項２】 次式Ｉａ（化４）またはＩＩａ（化
５）： 【化４】 【化５】 ｛上記式中、ｎは１または２を表し、Ｒ1 およびＲ2 は
請求項１記載の意味を表し、Ｒ3 およびＲ4 は互いに独
立して水素原子、−ＯＨ基、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、
ハロゲン原子または−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基を表し、Ｒ5 およ
びＲ6 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし
１２のアルキル基、ハロゲン原子または−Ｏ−Ａ−Ｒ7
基を表し、Ａは直接結合、−（ＣＨ2 ）m ＣＯ−（式中
ｍは０または１ないし４を表す。）で表される基、−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｃ
Ｈ2−基を表し、Ｂは直接結合、−（ＣＨ2 ）s ＣＯ−
（式中ｓは１ないし４を表す。）で表される基または−
（ＣＨ2 ）r −（式中ｒは１または２を表す。）で表さ
れる基を表し、Ｒ’は水素原子、メチル基またはフェニ
ル基を表し、Ｒ7 は式ＩＩＩで表されるポリアルキルピ
ペリジン基を少なくとも１個含む一価または二価の基を
表し、そしてＲ7 ’はＲ7 と同じ意味を有し得るか、ま
たはジアミンもしくはジオールの二価の基を表し、後者
の場合、式ＩＩａ中の基Ｒ3 ないしＲ6の少なくとも１
個は−Ｏ−Ａ−Ｒ7 基を表すが、ただしＡが−ＣＨ2 Ｃ
Ｏ−基を表すならば、ピペリジン環の１位にあり得る置
換基は−Ｏ−を介してＮ原子に結合されない。｝で表さ
れる請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 式ＩａまたはＩＩａ中、Ｒ7 または
Ｒ7 ’が次式ＩＶ（化６）ないしＸＩＸ：ｎ＝１： 【化６】 【化７】 【化８】 【化９】 【化１０】 【化１１】 【化１２】 【化１３】 【化１４】 ｎ＝２： 【化１５】 【化１６】 【化１７】 【化１８】 【化１９】 【化２０】 【化２１】 【化２２】 【化２３】 【化２４】 式ＩＩａで表される化合物において次式ＸＩＸ： −Ｘ1 −Ｒ16−Ｘ2 − （ＸＩＸ） ｛上記式ＶＩＩａおよびＸＶＩＩａで表される基はＡが
直接結合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表す式Ｉ
ａで表される化合物中にのみ存在し、そして上記式ＶＩ
ＩｂおよびＸＶＩＩｂで表される基はＡおよびＢが請求
項２記載の意味を有するがしかしＡが直接結合または−
ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表さない式ＩａまたはＩＩ
ａで表される化合物中に存在し、そして上記式中、Ｒは
メチル基特に水素原子を表し、Ｒ8 は水素原子、オキシ
基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし８の
アルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルケニルオキ
シ基、炭素原子数３ないし８のアルキニル基、炭素原子
数５もしくは６のシクロアルキル基、炭素原子数５もし
くは６のシクロアルキルオキシ基、フェニル−炭素原子
数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし８のア
ルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基、−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）（Ｒ’）基またはフェノキシ
基を表し、Ｒ’は水素原子、メチル基またはフェニル基
を表し、Ｒ9 は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、アリル基、炭素原子数５もしくは６のシクロ
アルキル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、１個もしくはそれ以上の−Ｏ−基により中断され
た炭素原子数３ないし１８のアルキル基または次式ＩＩ
Ｉａ（化２５）： 【化２５】 で表される基を表し、ＡまたはＢが上記の意味を有する
がしかしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−
基でないならばＱは−Ｏ−炭素原子数２ないし１２のア
ルキレン基または−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２の
アルキレン基を表すか、または式Ｉａで表される化合物
においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−
基を表すならばＱは炭素原子数２ないし１２のアルキレ
ン基を表すか、またはＡが−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基
を表すならばＱは直接結合を表し、ＡまたはＢが上記の
意味を有するがしかしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ1 は直接結合、−Ｏ−炭
素原子数２ないし１２のアルキレン基または−ＮＲ9 −
炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表すか、また
は式Ｉａで表される化合物においてＡが直接結合または
−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばＱ1 は炭素原
子数２ないし１２のアルキレン基を表すか、または式Ｉ
ａで表される化合物においてＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）
ＣＨ2 −基を表すか、または式ＩＩａで表される化合物
においてＢが−（ＣＨ2 ）r −基を表すならばＱ1 は−
ＯＣＯ−炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表
し、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡが直接
結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ
2 は直接結合または−ＮＲ9 −炭素原子数２ないし１２
のアルキレン基を表すか、または式Ｉａで表される化合
物においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ
−基を表すならばＱ2 は−ＣＯ−炭素原子数２ないし１
２のアルキレン基を表すか、または式Ｉａで表される化
合物においてＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表
すか、または式ＩＩａで表される化合物においてＢが−
（ＣＨ2 ）r −基を表すならばＱ2 は−ＯＣＯ−炭素原
子数１ないし１２のアルキレン基または−ＯＣＯ−炭素
原子数１ないし１２のアルキレン−ＣＯ−基を表し、ｑ
は２ないし１２、好ましくは２ないし４を表し、そして
Ｘ1 およびＸ2 は互いに独立して−Ｏ−基または−Ｒ9
Ｎ−基を表し、Ｘは次式（化２６）： 【化２６】 で表される基を表し、そしてＹはＸと同じ意味を表す
か、または炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基また
は−ＮＲ9 Ｒ10基を表し、Ｒ10はＲ9 と同じ意味を有し
得るか、またはＲ9 および結合しているＮ原子と一緒に
なって５もしくは６員の複素環式環を形成し、式Ｉａで
表される化合物においてＡが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
2 −基を表すか、または式ＩＩａで表される化合物にお
いてＢが直接結合または−（ＣＨ2 ）r −基を表すなら
ばＱ3 は直接結合を表すか、ＡまたはＢが上記の意味を
有するがしかしＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基でないならばＱ3 は−ＯＣＨ（Ｒ’）Ｃ
Ｈ2 −基を表すか、または式Ｉａで表される化合物にお
いてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を
表すならばＱ3 は−ＣＨ（Ｒ’）ＣＨ2 −基を表し、Ｒ
11は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ
基、炭素原子数３ないし８のアルケニルオキシ基または
ベンジルオキシ基を表し、そしてＲ12はＲ11と同じ意味
を有し得るか、またはＲ11とＲ12とが一緒になって−Ｏ
−炭素原子数２ないし８のアルキレン−Ｏ−基を表す
か、またはＲ11が水素原子を表すならばＲ12は−ＯＨ基
または−ＮＲ9 −ＣＯ−Ｒ13基を表し、Ｒ13は炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし４の
アルケニル基またはフェニル基を表し、Ｑ4 は炭素原子
数２ないし８のアルキレン基、好ましくは ないし５のアルキル）−ＣＨ2 −基を表し、ＡまたはＢ
が上記の意味を有するがしかしＡが直接結合または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないならばｖは１の数を表す
か、または式Ｉａで表される化合物においてＡが直接結
合または−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばｖは
０を表し、ＡまたはＢが上記の意味を有するがしかしＡ
が直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ’）Ｏ−基でないな
らばＱ5 は−ＯＣＨ2 ＣＨ2 −基または−ＯＣＨ2 ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すか、または式Ｉａで表される
化合物においてＡが直接結合または−ＣＨ2 ＣＨ
（Ｒ’）Ｏ−基を表すならばＱ5 は−ＣＯ（ＣＨ2 ）2
−基または−ＣＯ（ＣＨ2 ）3 −基を表すか、Ａが−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すならばＱ5 は直接結
合を表すか、または式ＩａにおいてＡが−ＣＨ2 ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 −基を表すかまたは式ＩＩａにおいてＢ
が−（ＣＨ2 ）r −基を表すならばＱ5 は次式：−ＯＣ
Ｏ（ＣＨ2 ）s −（式中ｓは１ないし４を表す。）で表
される基を表し、Ｔ1 およびＴ2 は互いに独立して水素
原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル
−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか、または
未置換もしくはハロゲン原子もしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基により置換されたフェニル基もしくは
ナフチル基を表すか、またはＴ1 およびＴ2 はそれらを
結合しているＣ原子と一緒になって炭素原子数５ないし
１２のシクロアルカン環を形成し、Ｒ14は水素原子、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、アリル基、ベンジ
ル基または炭素原子数２ないし６のアルコキシアルキル
基を表し、Ｒ15は１個またはそれ以上のＯ原子により中
断されてもよい炭素原子数２ないし１５のアルキレン
基、−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 −基、キシリレン基また
は次式：〔−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 Ｏ（ＣＨ2 ）
t/2 〕2 （式中ｔは１ないし６を表す。）で表される基
を表し、そしてＲ16は炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン
基、キシリレン基、−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −基、
脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族ジカルボン酸の二価
の基または−ＣＯ−基を表す。｝で表される基を表す請
求項２記載の化合物。 - 【請求項４】 上記式中、Ｒが水素原子を表し、Ｒ’が
水素原子またはメチル基を表し、そしてｍおよびｓが各
々１の数を表し、そしてＲ1 およびＲ2 、Ｒ3 およびＲ
4 ならびにＲ5 およびＲ6 が各々対になって同じ意味を
有する請求項１記載の化合物。 - 【請求項５】 上記式中、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3
およびＲ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表し、そしてＲ5およびＲ6
が各々水素原子を表す請求項１記載の化合物。 - 【請求項６】 上記式Ｉ中、Ｒ1 およびＲ2 が各々水素
原子、−ＯＨ基またはメチル基、好ましくは水素原子ま
たはメチル基を表し、Ｒ3 およびＲ4 が各々水素原子、
−ＯＨ基またはメチル基、好ましくは水素原子、特にメ
チル基を表し、そしてＲ5 およびＲ6 が各々水素原子を
表す請求項１記載の化合物。 - 【請求項７】 上記式ＩＩ中、Ｒ3 およびＲ4 が各々水
素原子、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基または−
Ｏ−Ａ−Ｒ7 ’基、好ましくは次式（化２７）： 【化２７】 で表される基を表し、そしてＲ5 およびＲ6 が各々水素
原子を表す請求項１記載の化合物。 - 【請求項８】 上記式中、Ｒ8 が水素原子、オキシ基、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３な
いし８のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルキ
ニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル
基、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子
数３ないし８のアルケノイル基または−ＣＨ2 ＣＨ（Ｏ
Ｈ）Ｒ’基、好ましくは水素原子、オキシ基、炭素原子
数１ないし８のアルキル基、アリル基、ベンジル基、ア
セチル基またはアクリロイル基を表す請求項３記載の化
合物。 - 【請求項９】 上記式中、Ｒ9 およびＲ10が互いに独立
して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ア
リル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または式ＩＩＩ
ａで表される基を表し、その中でＲが水素原子を表し、
そしてＲ8 が水素原子、オキシ基、炭素原子数１ないし
１２のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル
基、炭素原子数３ないし８のアルキニル基、フェニル−
炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ない
し８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケ
ノイル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｒ’基、好ましく
は水素原子、オキシ基、炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基、ベンジル基、アセチル基またはアクリロイル基、
特に炭素原子数１ないし４のアルキル基または水素原子
を表す請求項３記載の化合物。 - 【請求項１０】 上記式中、ＡおよびＢが−ＣＨ2 ＣＯ
−基を表し、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3 およびＲ4 が
対になって各々水素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表
し、Ｒ7 およびＲ7 ’が式ＶまたはＸＩで表される基を
表し、Ｑ1 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、ベンジル基、アリル基、
アセチル基またはアクリロイル基を表し、ｖが１の数を
表し、そしてＲ’が水素原子、メチル基またはフェニル
基を表す請求項３記載の式ＩａまたはＩＩａで表される
化合物。 - 【請求項１１】 上記式中、Ｂが−ＣＨ2 ＣＯ−基を表
し、Ｒ3 およびＲ4が各々水素原子またはメチル基を表
し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表し、そして
Ｒ7 ’が式Ｖで表される基を表し、その中でＱ1 が直接
結合を表し、そしてＲ8 が水素原子、メチル基、ベンジ
ル基、アリル基またはアセチル基を表す請求項３記載の
式ＩＩａで表される化合物。 - 【請求項１２】 上記式中、Ａが−ＣＨ2 ＣＯ−基を表
し、Ｒ1 およびＲ2が各々水素原子を表すか、または好
ましくは各々メチル基を表し、Ｒ3 およびＲ4 が各々メ
チル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原子を表し、
そしてＲ7 が式ＶまたはＸＩで表される基を表し、その
中でＱ1 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原子、メチル
基、ベンジル基、アリル基またはアセチル基を表し、ｖ
が１の数を表し、そしてＲ’が水素原子またはメチル基
を表す請求項３記載の式Ｉａで表される化合物。 - 【請求項１３】 上記式中、Ａが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）
ＣＨ2 −基を表し、Ｒ1 およびＲ2 ならびにＲ3 および
Ｒ4 が対になって各々水素原子または炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水素原
子を表し、Ｒ7 が式ＶまたはＶＩＩＩで表される基を表
し、Ｑ1 およびＱ3 が直接結合を表し、Ｒ8 が水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ベンジル基、
アリル基、アセチル基または−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）Ｒ’
基を表し、Ｒ11が水素原子を表し、そしてＲ12が−ＯＨ
基を表す請求項３記載の式Ｉａで表される化合物。 - 【請求項１４】 上記式中、Ａが−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）
ＣＨ2 −基を表し、Ｒ1 およびＲ2 が各々水素原子を表
すか、または好ましくは各々メチル基を表し、Ｒ3 およ
びＲ4 が各々メチル基を表し、Ｒ5 およびＲ6 が各々水
素原子を表し、Ｒ7 が式ＶまたはＶＩＩＩで表される基
を表し、Ｑ1 およびＱ3 が直接結合を表し、Ｒ8 がメチ
ル基、ベンジル基、アリル基、アセチル基または−ＣＨ
2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ3 基を表し、Ｒ11が水素原子を表
し、そしてＲ12が−ＯＨ基を表す請求項３記載の式Ｉａ
で表される化合物。 - 【請求項１５】 安定剤として請求項１記載の化合物を
少なくとも１種含有する有機材料。 - 【請求項１６】 有機材料が有機ポリマーである請求項
１５記載の有機材料。 - 【請求項１７】 有機材料がペイントである請求項１５
記載の有機材料。 - 【請求項１８】 有機材料が記録材料である請求項１５
記載の有機材料。 - 【請求項１９】 光、酸素および／または熱による劣化
に対する有機材料のための安定剤として請求項１記載の
化合物を使用する方法。
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