JP2867026B2

JP2867026B2 - 立体障害アミン安定剤

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Publication number: JP2867026B2
Application number: JP63237494A
Authority: JP
Inventors: フランソアマレルブロジェ; エー．イー．ウィンターローランド; ピー．ガルボジェームス; エー．ベーレンスルドルフ; マーアンドリュー; ジェイシャーマンピーター; セルツァーレイモンド
Original assignee: Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Current assignee: BASF Schweiz AG
Priority date: 1987-09-21
Filing date: 1988-09-21
Publication date: 1999-03-08
Anticipated expiration: 2014-03-08
Also published as: EP0309400B1; KR890005197A; ES2061723T3; KR0152432B1; EP0309400A2; EP0309400A3; BR8804883A; DE3888065T2; CA1339741C; DE3888065D1; JPH01132562A

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、Ｎ−アシルオキシ置換立体障害アミン光安
定剤をそこに混入することによる、周囲環境で硬化性
（ambient curable）の及び酸触媒で熱硬化性（acid ca
talyzed thermosetting）の種々の広範な塗料組成物の
安定化に、並びに新規Ｎ−アシルオキシ立体障害アミン
に関する。

〈従来の技術−その１〉立体障害アミン（hindered amine）光安定剤は、酸素
及び光の有害な影響に対して、ポリマー含有有機材料の
主材を安定化するのに有効的であることがよく知られて
いる。そのような立体障害アミン光安定剤は熱架橋性ア
ルキド−又はアクリル系金属焼付ラッカーの安定化に
（米国特許第4,426,472号）、及び熱架橋性アクリル系
ポリエステル又はアルキド樹脂をベースとする酸触媒型
焼付ラッカーの安定化（米国特許第4,344,876及び4,42
6,471号）に使用されてきた。これら特許の立体障害ア
ミン光安定剤は、化合物の立体障害Ｎ−原子上に直接置
換したアシルオキシ基を持つ構造を有していない。

〈発明が解決しようとする課題〉関連の立体障害アミン安定剤は、塗料系の性能特性を
改良するために、個々に及び紫外線吸収剤と配合して利
用されてきた。そのような改良にもかかわらず、かかる
塗料系の光酸化及び光分解を更に遅延させ、それによっ
て塗料の物理的保全性を維持する増強効果を提供すると
いう必要が今だに存在する。そのような効果は塗膜の脆
化、亀裂、腐食、浸蝕、光沢損失、白亜化（チョーキン
グ）及び黄変を予防することによって明白にできる。

〈課題を解決するための手段−その１〉立体障害アミンの立体障害Ｎ−原子上にアシルオキシ
基を置換させ、そのような誘導体を、周囲環境で硬化性
の及び酸触媒で熱硬化性の塗料系に利用することによ
り、上記改良を達成できることが今になって確かめられ
た。特に塗料の物理的保全性は、光沢損失と黄変の有意
な減少を伴なって、高度に維持される。従って本発明は
次式A,B,C,F,N 〔式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、そして R₁は基Ｄ−CD（Ｄは炭素原子数１ないし18のアルキル
基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、フエニル
基；ヒドロキシ基で、及び／又は炭素原子数１ないし４
のアルキル基で置換されたフエニル基を表わすか、或は
Ｄはアミノ基を又は炭素原子数１ないし12のアルキル基
かフエニル基で置換されたアミノ基を表わす）を表わ
し、ｍは１ないし４を表わし、ｍが１を表わす場合、 R₂は水素原子、炭素原子１ないし18のアルキル基、脂
肪族もしくは芳香族カルボン酸の又はカルバミン酸の一
価のアシル基を表わすか、或はR₂は基（ｘはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｍが２を表わす場合、 R₂は炭素原子数１ないし12のアルキレン基、脂肪族も
しくは芳香族ジカルボン酸の又はジカルバミン酸の二価
のアシル基を表わすか、或はR₂は基（D₁及びD₂は独立して水素原子、８個までの炭素原子を
含むアルキル基、フエニル基、ベンジル基又は3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を表わし、そし
てD₃は18個までの炭素原子を含むアルキルもしくはアル
ケニル基を表わす）を表わし、ｍが３を表わす場合、 R₂は脂肪族、環式脂肪族又は芳香族トリカルボン酸の
三価のアシル基を表わし、ｍが４を表わす場合、 R₂は飽和もしくは不飽和の脂肪族又は芳香族テトラカ
ルボン酸の四価のアシル基を表わし、Ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、
炭素原子数２ないし８のアルカノイル基又はベンゾイル
基を表わし、Ｐが１を表わす場合、 R₄は水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル基、
炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わすか又
はR₄は式で表わされる基を表わし、Ｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わし；
或はR₃がアルカノイル基又はベンゾイル基を表わさない
という条件でR₄はまた脂肪族もしくは芳香族ジカルボン
酸のもしくはジカルバミン酸の二価のアシル基を表わす
ことも又は基−CO−を表わすこともでき、ｎは１又は２を表わし、そしてｎが１を表わす場合、 R₅及びＲ′₅は独立して炭素原子数１ないしし12のア
ルキル基を表わし、またR₅は水素原子も表わし、ｎが２を表わす場合、 R₅及びＲ′₅は一緒になって基（−CH₂）₂Ｃ（CH₂−）
₂を表わし、 T₃はエチレン基又は1,2−プロピレン基を表わすか或
はアルキルアクリレートもしくはメタクリレートとのα
−オレフィンコポリマーから誘導される繰り返し構造単
位を表わし、ｋは２ないし100を表わし、 Q₁は基−Ｏ−を表わし、式（Ｎ）のR₂はｍが１を表わす場合の前記定義の意味
を表わし、 G₁は直接結合、炭素原子数１ないし12のアルキレン基
又は基−NH−Ｇ′−NH（Ｇ′は炭素原子数１ないし12ア
ルキレン基を表わす）を表わす〕の一つで表わされる立体障害アミン化合物を含む、周囲
環境で硬化性の又は酸触媒で熱硬化性の塗料組成物用の
安定剤に関する。

構造式A,B,C,F,N中、置換基が炭素原子数１ないし12
のアルキル基を表わすとき、それらは例えばメチル基、
エチル位、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル
基、第三ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、
２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、
ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル
基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基もしくは
ｎ−オクタデシル基である。

R₂がカルボン酸の１価のアシル基を表わすとき、それ
は例えば酢酸基、ステアリン酸基、サリチル酸基、メタ
アクリル酸基、安息香酸基もしくはβ−（3,5−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸基を
表わす。

R₂がジカルボン酸の２価のアシル基を表わす場合、例
えばアジピン酸基、コハク酸基、スベリン酸基、セバシ
ン酸基、フタル酸基、マレイン酸基、ジブチルマロン酸
基、ジベンジルマロン酸基、もしくはブチル−（3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロン酸
基またはビシクロヘプテンジカルボン酸基を表わす。

R₂がジカルバミン酸の二価のアシル基を表わす場合、
例えばヘキサメチレンジカルバミン酸基もしくは2,4−
トルイレンジカルバミン酸基を表わす。

炭素原子数２ないし８のアルカノイル基としてのR₃は
例えばプロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基、
しかし好ましくはアセチル基である。

置換基が炭素原子数２ないし12のアルキレン基である
場合、それらは例えばエチレン基、プロピレン基、2,2
−ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメ
チレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基もしくは
ドデカメチレン基である。

好ましい立体障害アミン化合物は、Ｒが水素原子を表
わす式Ａ又はＢで表わされる化合物である。

特に好ましいのは式Ａ〔該式中、Ｒは水素原子を表わ
し、 R₁は基Ｄ−CO−を表わし、そしてＤは炭素原子数１な
いし12のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、フェニル基、アミノ基；又は炭素原子数１ないし
12のアルキル基で又はフエニル基でモノ置換されたアミ
ノ基を表わし、ｍは1,2又は４を表わし、そしてｍが１を表わす場合、 R₂は脂肪族炭素原子数２ないし18のカルボン酸の又は
芳香族炭素原子数７ないし15のカルボン酸のアシル基を
表わし、そしてｍが２を表わす場合、 R₂は脂肪族炭素原子数２ないし18のジカルボン酸の又
は芳香族炭素原子数８ないし14のジカルボン酸の、或は
脂肪族もしくは芳香族炭素原子数８ないし14のジカルバ
ミン酸の二価のアシル基を表わすか又はR₂は基（D₁は炭素原子数１ないし８のアルキル基又は3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を表わし、そし
てD₂はD₁又は水素原子を表わす）を表わし、そしてｍが４を表わす場合、 R₂はブタン−もしくはペンタン− テトラカルボン酸
の四価のアシル基を表わす〕で表わされる化合物である。

他に好ましいのは式Ｂ〔該式中、Ｒは水素原子を表わ
し、 R₁は基Ｄ−CO−を表わし、そしてＤは炭素原子数１な
いし12のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、フェニル基、アミノ基；又は炭素原子数１ないし
12のアルキル基もしくはフェニル基でモノ置換されたア
ミノ基を表わし、Ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基又
は炭素原子数２ないし８のアルカノイル基を表わし、そ
してｐが１を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキル基又は炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基を表わし、そしてｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、
そしてもしR₃がアルカノイル基を表わさないなら、 R₄は脂肪族炭素原子数２ないし10のジカルボン酸の又
は芳香族炭素原子数６のジカルボン酸の又は脂肪族もし
くは芳香族炭素原子数８ないし15のジカルバミン酸の二
価のアシル残基も表わしてよい〕で表わされる化合物で
ある。

以下の化合物は本発明で使用できる立体障害アミン誘
導体の例である： 1.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）フタレート 2.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）イソフタレート 3.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）セバケート 4.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）サクシネート 5.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）アジペート 6.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）ｎ−ブチルマロネート 7.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）2,2−ジエチルマロネート 8.ポリ−｛〔６−〔（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−イミノ〕−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル〕−〔２
−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン）−イミノ〕−ヘキサメチレン−〔４−（１−アセト
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）−イミ
ノ〕｝ 9.1,4−ジアセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン 10.1,4−アセトキシ−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン 11.1,4−アセトキシ−４−アクリルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン 12.11のポリマー 13.（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−４−イル）４−ヒドロキシ−3,5−第三ブチルベン
ゾエート 14.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）２−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−
第三ブチルベンジル）−ｎ−ブチルマロネート 15.N−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）−Ｎ−（ｎ−ブチル）−４−（４−
ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンゾイルオキシ）
3,4−ジ−第三ブチルベンズアミド 16.1,6−ジ−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−（１−アセトキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アミ
ノ〕ヘキサン 17.ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イルオキシ）−ヘキサン−1,6−ジカルバ
メート 18.1−アセトキシ−４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−ｎ−ドデ
シルアミノ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 19.ジ−（１−プロピオンオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル）サクシネート 20.ジ−（４−ｎ−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペラジン−１−イル）オキサレート 21.1,4−ジ−（２−エチルヘキサノイルオキシ）−2,2,
6,6−テトラメチルピペラジン 22.ジ−（１−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル）セバケート 23.1−ベンゾイルオキシ−４−（Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−
ベンゾイルアミノ）−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリ
ジン 24.1−（１−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル）−アゼピン−２−オン 25.〔１−ベンゾイルオキシ−１′−ベンジルオキシ−
ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル〕
−イソフタレート 26.1,4−ジ−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチル
ベンゾイルオキシ）−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリ
ジン 27.n−ブチル−（４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）カーボネート 28.1−カルバモイルオキシ−４−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン 29.ジ−（１−カルバモイルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート 30.ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イル）2,2−ジエチル
マロネート 31.ジ−（４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−１−イル）−2,4,4−トリメチル−ヘキ
サン−1,6−ジカルバメート 32.ジ−（１−カルバモイルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）ｎ−ブチルマロネート 33.ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イル）フタレート 34.ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルマロネー
ト 35.ジ−（１−フェニルカルバモイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート本発明の安定剤を用いる塗料組成物は、組成物のバイ
ンダー樹脂のタイプに依存して大気硬化性または酸触媒
熱硬化性系であってよい。

周囲硬化性塗料のための樹脂は例えばアルキド樹脂、
熱可塑性樹脂、アクリル系アルキド樹脂、ポリウレタン
樹脂もしくはポリエステル樹脂であってもよく、前記樹
脂はシリコーン、イソシアネート、エポキシド、イソシ
アヌレート、ケチミンもしくはオキサゾリジンで変性さ
れてもよい。前記樹脂はニトロセルロースもしくはセル
ロースアセトブチレートのようなセルロースのエステル
であってもよいか、またはポリアミンもしくは他の硬化
剤で硬化可能なエポキシド樹脂であってもよい。

施用可能なアルキド、アクリル、ポリエステル及びエ
ポキシド樹脂はS.Paul著の“Surface Coatings:Science
and Technology（1985）70−310頁に記載されている。
本発明に従って安定化できる未変性の及び変性のアルキ
ド樹脂は、商品の販売、維持及び自動車の再仕上げ塗料
に使用することのできる慣用樹脂である。例えばそのよ
うな塗料は、場合によりイソシアネートもしくはエポキ
シ樹脂で架橋した、アルキド樹脂、アルキド／アクリル
系樹脂及びアルギド／シリコン樹脂をベースとする。

加えて、種々のアクリル系ラッカー塗料組成物は米国
特許第4,168,249号明細書に開示されている。ポリイソ
シアネート添加剤を伴う他のアクリル／アルキド樹脂は
米国特許第4,471,083号明細書に開示されている；そし
てペンダント（pendant）アミノエステル基又はグリシ
ジル基のどちらかを含むアクリル系樹脂は米国特許第4,
525,521号明細書に記載されている。

酸触媒熱硬化性塗料のための樹脂は、熱架橋性アクリ
ル系、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド又はア
ルキド樹脂であってもよい。これは、それら樹脂の混合
物又はメラミン樹脂のような架橋剤との混合物を意味す
る。

アクリル系樹脂ラッカーは、慣用のアクリル系樹脂焼
付ラッカーもしくは例えばH.Kittel著“Lehrbuch der L
acke und Beshichtungen",Vol.1,Part 2,735及び742頁
（ベルリン1972），“Lackkunstharze"（1977）,H.Wagn
er及びH.F.Sarx著,229−238頁、並びにS.Paul著“Surfa
ce Coatinga:Science and Technology"（1985）に記載
されているアクリル／メラミン系を含む熱硬化性樹脂で
ある。

ポリエステルラッカーは、例えばH.Wagner及びH.F.Sa
rx著の前記参考文献86−99頁に記載されている慣用の焼
付ラッカーである。

本発明に従って安定化できるアルキド樹脂ラッカーは
特に自動車の塗装のために（自動車の再仕上げラッカ
ー）、例えばアルキド／メラミン樹脂及びアルキド／ア
クリル／メラミン樹脂をベースとしたラッカー（H.Wagn
er及びH.F.Sarx著の前記参考文献第99〜123頁参照）に
使用される慣用の焼付ラッカーである。他の架橋剤はグ
リコールウリル樹脂、ブロックトイソシアネートもしく
はエポキシ樹脂を含む。

産業利用に関して、架橋性アクリル、ポリエステル、
ウレタンもしくはアルキド樹脂をベースとした固体含有
量の高いエナメルは酸添加触媒で硬化される。塩基性の
窒素基を含む光安定剤は一般にこの利用にあまり有利で
はない。酸触媒と光安定剤の間の塩形成は不相溶性もし
くは不溶性及び塩の沈殿、そして硬化レベルの減少、光
保護作用の減少、更に湿気に対する耐性の低下を招く。

本発明に従って安定化された大気硬化性塗料並びに酸
触媒熱硬化性塗料は、金属の仕上げ塗装及び固体色相仕
上げのための両方に適しており、とりわけ加色仕上げの
場合に適している。本発明で安定化されたラッカーは２
種類の方法、１回塗装方法もしくは２回塗装方法のどち
らかにより慣用の方法で塗装するのが好ましい。後者の
方法においては顔料含有のベースコートを最初に塗装
し、そして透明なラッカーのカバーコートをその上に塗
装する。

使用する立体障害アミン誘導体の量は溶媒を除去した
結合剤をベースとして0.1ないし10重量％、好ましくは
0.5ないし５重量％である。該結合剤は慣用の有機溶媒
または水に溶解するかまたは分散することができるか、
あるいは溶媒を除去することができる。

２回塗装仕上げを利用するとき、ヒンダードアミン誘
導体は透明な塗層に加えることができるか、または透明
な塗層及び着色されたベースコートの両方に加えること
ができる。アクリル変性アキシド樹脂もしくはアクリル
樹脂の製造において、ポリ重合性立体障害アミン誘導体
は樹脂に重合させることができる。しかしながらラッカ
ー結合剤への配合はアルキドもしくはポリエステル樹脂
の製造におけるポリ縮合を通して行なうこともできる。
この場合、光安定剤は抽出または移行により除去するこ
とができないのでそれらの作用は非常に延長されるとい
う付加的な利点がある。

最大の光安定性を得るために、他の慣用の光安定剤を
併用することは有利となり得る。例えばベンゾフェノ
ン、ベンゾトリアゾール、アクリル酸誘導体もしくはオ
キサアリニド型のUV吸収剤またはアリール−ｓ−トリア
ジンもしくは金属含有光安定剤、例えば有機ニッケル化
合物である。２回塗装系において上記の付加的な光安定
剤は透明な塗膜及び／または着色されたベースコートに
添加できる。

上記の組合せを使用するとき、全光安定剤の合計はフ
ィルム形成樹脂をベースとして0.2ないし20重量％、好
ましくは0.5ないし５重量％である。

前述のヒンダードアミン化合物と組合せて本発明の組
成物中に使用してもよいUV吸収剤の例として次のものが
挙げられる：（ａ）２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンズトリ
アゾールの例えば５′−メチル−、３′,5′−ジ−第三
ブチル−、５′−第３ブチル−、５′−（1,1,3,3−テ
トラメチルブチル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第
３ブチル−、５−クロロ−３′−第３ブチル−５′−メ
チル−、３′−第２ブチル−５′−第３ブチル−、４′
−オクトキシ−、３′,5′−ジ−第３アミル−誘導体。

（ｂ）２−ヒドロキシベンゾフェノンの、例えば４−ヒ
ドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−
デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジル
オキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び２′−ヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導体。

（ｃ）アクリレート、例えばα−シアノ−β，β−ジフ
ェニル−アクリル酸エチルエステルまたはイソオクチル
エステル、α−カルボメトキシ−シンナミル酸メチルエ
ステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シン
ナミル酸メチルエステルまたはブチルエステル、α−カ
ルボメトキシ−ｐ−メトキシ−シンナミン酸メチルエス
テル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）
−２−メチル−インドリン。

（ｄ）ニッケル化合物、例えば2,2′−チオ−ビス−
〔４−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）フェノール〕
の、場合によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミ
ンまたはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンの
ような他の配位子を含む1:1錯体または1:2錯体などのニ
ッケル錯体、ニッケルジブチルジチオ−カルバメート、
４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第３ブチル−ベンジル−ホ
スホン酸のモノアルキルエステル例えばメチル、エチル
またはブチルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッ
ケル錯体例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニル
ウンデシルケトキシムのニッケル錯体、場合によっては
他の配位子を含む１−フェニル−４−ラウロイル−５−
ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。

（ｅ）シュウ酸ジアミド、例えば4,4′−ジ−オクチル
オキシ−オキサニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−
5,5′−ジ−第３ブチル−オキサニリド、2,2′−ジ−ド
デシルオキシ−5,5′−ジ−第３ブチル−オキサニリ
ド、２−エトキシ−２′−エチル−オキサニリド、N,
N′−ビス−（３−ジメチルアミノプロピル）−オキサ
ルアミド、２−エトキシ−５−第３ブチル−２′−エチ
ルオキサニリド及びこれと２−エトキシ−２′−エチル
−5,4′−ジ−第３ブチルオキサニリドとの混合物並び
にオルト−及びパラ−メトキシ−及びｏ−及びｐ−エト
キシ−二置換オキサニリドの混合物。

（ｆ）ヒドロキシフェニル−５−トリアジン、例えば2,
6−ビス−（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒド
ロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジ
ン又は相当する４−（2,4−ジヒドロキシフェニル）誘
導体。

本発明の安定剤を用いる塗料組成物に特に価値がある
のは高分子量及び低揮発性のベンゾトリアゾール、例え
ば２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチル
ベンジル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３−α，α−ジメチルベンジル−５
−第３オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ第３アミルフェニル）−ベ
ンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第３ブ
チル−５−（２−ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオ
キシ）−カルボニル）−エチルフェニル〕−ベンゾトリ
アゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５
−（２−オクチルオキシカルボニル−エチル）−フェニ
ル〕−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３
−第２ドデシル−５−メチル−フェニル）−ベンゾトリ
アゾール、ヘキサメチレン−ジ〔β−（３−第３ブチル
−４−ヒドロキシ−５−〔２−ベンゾトリアゾリル〕−
フェニル）−プロピオネート〕、及び上に掲げたベンゾ
トリアゾールのおのおのの相当する５−クロロ化合物で
ある。

本発明の安定剤を用いる塗料組成物に有用な最も好ま
しいベンゾトリアゾールは２−〔２−ヒドロキシ−3,5
−ジ（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル〕−ベン
ゾトリアゾール及び２−〔２−ヒドロキシ−３−第３ブ
チル−５−（２−ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオ
キシ）−カルボニル）−エチルフェニル〕−ベンゾトリ
アゾールである。

エナメル又は塗料が含むことのできる他の成分は抗酸
化剤例えば立体障害フェノール誘導体タイプのもの、燐
化合物、例えばホスフィット、ホスフィン又はホスホニ
ット、慣用立体障害アミン光安定剤、可塑剤、均染助剤
（levelling assistants）、硬化触媒、増粘剤、分散剤
又は接着促進剤である。

安定剤は硬化エナメルにより長期の耐久性を保持させ
る必要がある（光沢、像鮮明度、亀裂又はチョーキング
を20℃で測定して）：エナメルは硬化で黄変してはなら
ず、露光による他の変色も最小でなければならない：安
定剤は塗料の適用に通常使用される有機溶媒例えばメチ
ルアミルケトン、キシレン、ｎ−ヘキシルアセテート、
アルコール等に溶解性でなければならない。

〈実施例−その1.発明の効果〉以下、実施例により、種々の大気硬化性及び酸触媒熱
硬化性樹脂系中における本発明に係る置換立体障害アミ
ン誘導体の使用について述べる。部及び％は重量によ
る。

実施例１桐油フェノール系ワニス（Tung Oil Phenoli
c Varnish）の安定化繊細にラジアルカットされた1.72cm×20.32cm×30.48
cmウェスタンレッドセダーパネル（western red cedar
panels）片を市販の桐油フェノール系ワニス（Mc Closk
ey社製）の試験に使用する。各パネルの一方の半分を未
安定化ワニスで２度コーティングする。光安定剤５％
（樹脂固体に基づく重量％）を含むワニスの等量をパネ
ルの他方の半分に２回塗布で適用する。大気温度で２週
間貯蔵した後、その木質パネルを８カ月間、45°Ｓのア
ングルで戸外に曝す。パネルの各半分の60°光沢をパネ
ルの頂上、中央及び底の部分で測定し、平均化する（AS
TM D523）。木質基材の同質性の欠如によって、同じワ
ニスの光沢残率がパネルからパネルへと僅かに異ってく
る。このように全てのパネルへの非安定化対照ワニスの
適用は、光安定剤の存在による光沢の改良の測定をより
意味深長にしている。

実施例２白色二成分ポリエステルウレタン光沢エナメ
ルの安定化白色ポリウレタンは下記に示すように配合される。成分I 部 Desmophen 670−90 （ポリエステルポリオール/Mobay Corp製） 132.4 二酸化チタン 198.6 酢酸セロソルブ 98.9 サンドミル Desmophen 670−90 94.98 流れ助剤 0.28 第三アミン 0.015 酢酸セロソルブ 332.6成分II Desmodur N−100 （ポリイソシアネート/Mobay Corp.製） 93.9 酢酸セロソルブ 58.7 この材料を、市販エポキシポリアミド保護プライマー
（Tile Clad II/Sherwin−Williams社製）で前もって下
塗りされたボンデライト40冷圧延鋼パネル上に乾燥フィ
ルム厚さ40〜50μｍでスプレー適用する。適用に先立っ
て、立体障害アミン誘導体の指示された量（樹脂固体に
基づく）を塗料に加える。２周間の周囲環境保存（ambi
ent storage）後、各配合の三枚のパネルを９カ月間、4
5°Ｓのアングルで戸外に曝す。その後、パネルの頂
上、中央及び底部分で20°光沢残率を測定する（ASTM D
523−80）。こうして、各３枚セットのパネルについて
の９個所の光沢残率測定の平均値を下記に示す。添加剤濃度（重量％） 20°光沢残率（％）Ａ１ 55 ３１ 67 26 １ 69 実施例３中油アルキドエナメルの安定化アルミニウム粉片の無い顔料（non−leafing alumini
um pigment）で着色し、そして淡青色に色味付けした中
油アルキドエナメルを、紫外線吸収剤と立体障害アミン
の指示量で安定化し、次いで、エポキシポリマーで下塗
りされた冷圧延鋼パネル上にスプレーする。塗料を２週
間室温で硬化させた後、そのパネルをキセノンアークウ
ェザロメーター中、促進暴露で840時間暴露する。パネ
ルの20°光沢値は暴露前後に測定され、光沢残率（％）
で下記の如く示される。添加剤濃度（重量％） 20°光沢残率（％） B/A 3/2 18.9 B/1 3/2 26.4 Ｂ＝２−〔２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−（２
−ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）−カルボ
ニル）−エチルフェニル〕−ベンゾトリアゾール実施例４脂肪族イソシアネートで架橋されたアクリル
系アルキドエナメルの安定化脂肪族イソシアネートで硬化したシルバーメタリック
性アクリル系アルキドエナメルを紫外線吸収剤及び立体
障害アミンの指示量（全樹脂固体に対し重量で）で安定
化し、次いで黒色アルキドプライマーで下塗りされたボ
ンデライト40パネル（Bonderite 40 panels）上にスプ
レーする。塗料を周囲温度で２週間老化させた後、その
パネルをキセノンアークウェザロメーター中で1550時間
暴露する。非暴露パネルと暴露パネルの20°光沢値を測
定し、その結果を光沢残率（％）で下記に示す。添加剤濃度（重量％） 20°光沢残率（％） B/A 3/2 20.7 B/3 3/2 25.7 B/22 3/2 24.3 実施例５次のアルキドペイント配合例を調製する。

配合剤を指示物質の指示濃度（全樹脂固体に基づき重
量で）で安定化し、電着塗装エポキシプライマーで下塗
りされた冷圧延鋼パネル上にスプレーする。塗料を室温
で一夜硬化させ、次いでそのパネルをフロリダにて南に
45°の角度で暴露する。60°光沢、像鮮明度（DI）（Hu
nter Associates Apparatus）及び黄色指数値に基づく
変色を測定し、下記表にして示す。

実施例６熱可塑性アクリル系ラッカーの安定化市販の淡青色メタリック性熱可塑性アクリル系ラッカ
ーを、紫外線吸収剤及び立体障害アミンの各２％で（全
樹脂固体に基づき重量で）安定化し、次いでアルキドプ
ライマーで下塗りされたボンデライト40パネル上にスプ
レーする。室温で２週間貯蔵した後、キセノンアークウ
ェザロメーター中、1250時間暴露する。該パネルの20°
光沢残率を以下に示す。添加剤 20°光沢残率（％） C/A 11 C/3 29 C/19 35 C/29 40 Ｃ＝２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチ
ルベンジル）フェニル）−ベンゾトリアゾール実施例７ハイソリッド酸触媒熱硬化性アクリル系樹脂
エナメルの安定化フィルム形成樹脂に基づき0.5重量％のｐ−トルエン
スルホン酸で触媒されるハイソリッド（50重量％）熱硬
化性樹脂エナメルを、本発明の種々の誘導体の添加によ
り安定化する。

ハイソリッド熱硬化性アクリル系樹脂エナメル配合剤
（Acryloid AT400/Rohm and Hass社製）はヒドロキシ
エチルメタクリレート、メチルメタクリレート、スチ
レン、ブチルアクリレートとブチルメタクリレート及び
メラミン硬化剤をベースとしている。

ポリエステル／エポキシ樹脂をベースとするプライマ
ーを塗布した鋼シート片４″×12″（9.16cm×30.48c
m）を次いで、70％の結合剤モノマー例えばヒドロキシ
エチルアクリレート、スチレン、アクリロニトリル、ブ
チルアクリレート及びアクリル酸と30％のメラミン樹脂
及び酸触媒とからなるTiO₂−着色ベースコートを塗布
し、最後に透明な仕上エナメルを塗布する。ベースコー
トはシート上に約0.8ミル（0.02mm）の厚さに噴霧し、
３分間空気乾燥し、そして121℃で10分間焼付けする。
次いで透明な仕上エナメルコートをシート上に約0.06mm
の厚さに電線被覆（wire−coating）する。15分の空気
乾燥後、被覆シートを30分間82℃で焼付けする。

ベースコートされたシート上にエナメルを塗布する前
に、試験のもとに安定剤を熱硬化性アクリル系樹脂仕上
エナメルに２重量％の濃度で添加する。

ガードナー黄色度指数明度（Gardner yellow−ness i
ndex color values）を、焼付けサンプル及び82℃で30
分間追加焼付した後のサンプルについて測定する。

更に、空調室（23℃／相対湿度50％）中で３週間貯蔵
した後、試験法ASTMG−53/77に従いQUV暴露装置中で耐
候試験を行なう。該装置中でサンプルを、50℃での湿っ
た雰囲気に４時間、次いで紫外光下70℃で８時間の反復
サイクルで風化させる。また同等のサンプルについて、
キセノンアーク（6500ワット）ウェザロメーター中で26
25時間、促進耐候試験を行なう。サンプルは光源に102
分間、次いで60℃での水スプレー及び光に18分間の反復
サイクルで暴露する。QUV及びキセノン暴露後の各サン
プルについてガードナーカラー値も測定する。

実施例８実施例７のサンプルをまた、焼付及び過剰焼付サンプ
ルのヌープ硬度（ASTM D−1474−68）；像鮮明度（DI）
（Hunter ASSO ciates Apparatus）;20°光沢（ASTM D
−523−80）；及び目視による亀裂観察（亀裂なしを
“0"、過度の亀裂を“8"で表わす０〜８の評価尺度及び
浅い亀裂を“a"、最も深い亀裂を“c"で表わす“a",
“b",“c"の指定記号を用いる）に基づいて評価する。

これらのデータは、示された暴露条件後の光沢及びDI
のより卓越した保持及び過度の亀裂のより長期にわたる
不存在パターンを示している。

実施例９実施例７の熱硬化性アクリル系エナメルに、ベンゾト
リアゾール紫外線吸収剤２重量％及び立体障害アミン光
安定剤1.5重量を含ませるよう配合する。該エナメルを
白色ベースコート上又はシルバーメタリック性ベースコ
ート上に塗布する。焼付は121℃で30分間行なう。

被覆パネルをQUV暴露装置中で暴露し、20°光沢及び
像鮮明度（DI）値を測定する。

Ａ）白色ベースコート実施例10 ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤２重量％と、実施例
９に記載の立体障害アミン光安定剤１重量％を含むよう
２種の熱硬化性アクリル系エナメルを処方する。

熱硬化性アクリル系エナメルは、ヒドロキシエチル
アクリレート、スチレン、アクリロニトリル、ブチルア
クリレート及びアクリル酸から選ばれる70％のコポリマ
ーと、30％のメラミン樹脂及び酸触媒（ｐ−トルエンス
ルホン酸0.5％）との結合剤をベースとしている。

ポリエステル／エポキシ樹脂をベースとするプライマ
ーを塗布した鋼シート片（９×30cm）に白色ベースコー
トを塗布し、最後に透明な仕上エナメルを塗布する。ベ
ースコートはシート上に約0.02mmの厚さにスプレーし、
３分間空気乾燥する。次いで透明な仕上エナメルはシー
ト上に約0.038mmの厚さにスプレーする。15分間の空気
乾燥後、その塗布シートを121℃で30分間焼付けする。
次いでQUV評価を行なう。

実施例11 白色のポリエステル／メラミンをベースとする無油ア
ルキドコイル被覆がこの実施例で利用される。充分に配
合した時点で、下塗鋼板上に巻線ロッド（wire wound r
od）を用いて適用し、0.015〜0.020mmの乾燥フィルムを
形成させる。そのパネルを218℃で90秒間焼付ける。焼
付パネルを炉から取り出し、ただちに水に入れて冷や
す。その塗布パネルをカーボンアークウェザロメータ
ー、キセノンアークウェザロメーター中、及び南フロリ
ダで太陽に対し45°Ｓの角度で暴露する。20°光沢値を
測定する。

実施例12 ｐ−トルエンスルホン酸0.5％を含む実施例10の熱硬
化性アクリル系エナメルに、ベンゾトリアゾール紫外線
吸収剤及び本発明の立体障害アミン光安定剤を様々な濃
度で含ませるよう配合する。該エナメルを実施例10の操
作に従って、シルバーメタリック性ベースコート上に塗
布し、121℃の焼付温度で30分間焼付を行なう。

塗布パネルをQUV暴露装置中で暴露し、20°光沢の50
％損失に至る期間を測定する。

化合物Ｂ＝２−〔２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５
−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）
カルボニル）−エチルフェニル）〕−ベンゾトリアゾー
ルこの実施例のデータは、本発明組成物の有益な性能特
性を明瞭に示している。

〈従来の技術−その２〉種々のＮ−アシルオキシ立体障害アミン誘導体が開示
されている。Ｎ−ヒドロキシ出発物質から製造されるＮ
−アシルオキシ誘導体は、クルマダら（Kurumada et c
l）によるJ.Polym.Sci.,Polym.Chem.Ed.第22巻、277−8
1頁（1984年）に記載されている。フェルダーら（Felde
r et al.）によるHelv.Chim.Acta.第63巻第132頁（1980
年）は、Ｎ−フェニルアセトキシ誘導体の製造を教示し
ている。ビス（Ｎ−アセトキシピペリジル）セバケート
は、カールソンら（Carlsson et al.）によるPolym.Sci
ence Technol.第26巻、第35〜47頁（1984年）中に開示
されている。最終的に、米国特許第4,472,547号は、ポ
リオレフィン及び他の有機ポリマー用安定剤として、４
−（２−オキシ−ヘキサメチレンイミン）置換基を含む
Ｎ−ベンゾイルオキシ立体障害アミンの如き種々のＮ−
ピペリジルラクタム化合物を開示している。

〈課題を解決するための手段−その２〉本発明の他の目的は、次式Ａ′,B′,C′,F′,N′ 〔各式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、 R₁は基Ｄ−CO−（Ｄは炭素原子数１ないし18のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、フェニル
基；ヒドロキシ基及び／又は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基で置換されたフェニル基を表わし、或はＤはア
ミノ基を又は炭素原子数１ないし12のアルキル基かフェ
ニル基でモノ置換されたアミノ基を表わす）を表わし、ｍは１ないし４を表わし、ｍが１を表わす場合、 R₂は基（ｘはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｍが２を、そしてＤがアルキル基を表わす場合、 R₂は炭素原子数１ないし12のアルキレン基、炭素原子
数８ないし14の芳香族ジカルボン酸の、或は炭素原子数
８ないし14の脂肪芳香族ジカルバミン酸の二価のアシル
基を表わすか、或はR₂は基（D₁は炭素原子数１ないし８のアルキル基、ベンジル基
又は3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を
表わし、D₂はD₁又は水素原子を表わし、D₃は炭素原子数
１ないし18のアルキル基又は炭素原子数２ないし18のア
ルケニル基を表わす）を表わし、ｍが２を、そしてＤがフェニル基、置換フェニル基、
アミノ基、置換アミノ基又はアルコキシ基を表わす場
合、 R₂は炭素原子数１ないし12のアルキレン基、炭素原子
数14までの脂肪族もしくは芳香族のジカルボン酸もしく
はジカルバミン酸の二価のアシル基を表わすか、或はR₂
は基（D₄及びD₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、ベンジル基又は3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル基を表わし、そしてD₆は炭素原子
数１ないし18のアルキル基又は炭素原子数２ないし18の
アルケニル基を表わす）を表わし、ｍが３を表わす場合、 R₂は炭素原子数12までの脂肪族、環式脂肪族又は芳香
族トリカルボン酸の三価のアシル基を表わし、ｍが４を表わす場合、 R₂は炭素原子数18までの飽和又は不飽和の脂肪族又は
芳香族テトラカルボン酸の四価のアシル基を表わし、ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、
炭素原子数２ないし８のアルカノイル基又はベンゾイル
基を表わし、ｐが１を表わす場合、 R₄は水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル基、
炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わすか又
はR₄は次式（ｈはゼロ又は１を表わす）で表わされる基を表わし、ｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わし；
或はR₃がアルカノイル基又はベンゾイル基を表わさない
という条件でR₄はまた炭素原子数14までの脂肪族、環式
脂肪族もしくは芳香族ジカルボン酸もしくはジカルバミ
ン酸の二価のアシル基を表わすことも又は基−CO−を表
わすこともでき、ｎは１又は２を表わし、そしてｎが１を表わす場合、 R₅及びＲ′₅は独立して炭素原子数１ないし12のアル
キル基を表わし、またR₅は水素原子も表わし、そしてｎが２を表わす場合、 R₅とＲ′₅は一緒になって基（−CH₂）₂Ｃ（CH₂−）₂
を表わし、 T₃はエチレン基又は1,2−プロピレン基を表わすか或
はアルキルアクリレートもしくはメタクリレートとのα
−オレフィンコポリマーから誘導される繰り返し構造単
位を表わし、ｋは２ないし100を表わし、 Q₁は基−Ｏ−を表わし、 R₁₂は炭素原子数２ないし18のアルカノイル基、ベン
ゾイル基を又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で、
もしくはヒドロキシ基で置換されたベンゾイル基を表わ
し、そして G₁は直接結合、炭素原子数１ないし12のアルキレン基
又は基−NH−Ｇ′−NH−（Ｇ′は炭素原子数１ないし12
のアルキレン基を表わす）を表わす〕の一つで表わされる新規Ｎ−アシルオキシ立体障害アミ
ンである。

構造式Ａ′,B′,C′,F′,N′において、置換基が炭素
原子数１ないし12のアルキル基を表わすとき、それらは
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル
基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル
基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキ
サデシル基もしくはｎ−オクタデシル基である。典型的
なシクロアルキル基にはシクロペンチル基及びシクロヘ
キシル基が含まれ、一方、典型的なアルアルキル基には
ベンジル基、α−メチル−ベンジル基、α，α−ジメチ
ルベンジル基又はフェネチル基が含まれる。

R₂が２価のジアシル基を表わす場合、例えばアジピン
酸基、コハク酸基、スベリン酸基、セバシン酸基、フタ
ル酸基、ジブチルマロン酸基、ジベンジルマロン酸基、
もしくはブチル−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−マロン酸基またはビシクロヘプテンジ
カルボン酸基を表わす。

R₂がジカルバミン酸の２価のアシル基を表わす場合、
例えばヘキサメチレンジカルバミン酸基もしくは2,4−
トルイレンジカルバミン酸基を表わす。

以下の化合物は、式Ａ′で表わされる立体障害アミン
誘導体の製造に有用なポリアルキルピペリジン出発物質
の例である（選択される製造方法に依存する）：ジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）フタレート、 α，α′−（ジ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル
−４−オキシ）−ｐ−キシレン、 1,4−ジヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、１−アセトキシ−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン、ジ−（１−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）フタレート、１−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−オン、（１−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−４−イル）ステアレート、（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）−
〔４−（２−オキソアゼピン−１−イル）−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル〕アセテート。

炭素原子数２ないし18のアルカノイル基としてのR₃は
例えばプロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基、
ドデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイ
ル基、しかし好ましくはアセチル基であり、そして炭素
原子数３ないし５のアルケノイル基としてのR₃は特にア
クリロイル基である。

置換基が炭素原子数２ないし12のアルキレン基である
場合、例えばエチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチ
ルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン
基、オクタメチレン基、デカメチレン基もしくはドデカ
メチレン基である。

下記の化合物は式Ｂ′の化合物の合成に有用な出発物
質であるポリアルキルピペリジンの例である。

N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−イル）−ヘキサメチレン−1,6−ジアミン、 N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−イル）−ヘキサメチレン−1,6−ジアセトアミド、４−ベンジルアミノ−2,2,6、６−テトラメチルピペ
リジン、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）−４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三
ブチルベンズアミド、 N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−イル）−N,N′−ジ−ブチル−アジパミド、 N,N′−ビス−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−イル）−N,N′−ジシクロヘキシル−（２−ヒドロ
キシプロピレン）−1,3−ジアミン、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４
−イル）−ｐ−キシレンジアミン、４−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチル
−ベンゾイルアセトアミド）−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、 α−シアノ−β−メチル−β−〔Ｎ−（2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル〕−アミノ−アクリル
酸メチルエステル、１−アセトキシ−４−ブチルアミノ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン、１−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−オン。

下記の化合物は式ｃ′の化合物の合成に有用な出発物
質としてのポリアルキルピペリジンの例である。

９−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ
スピロ〔5.5〕ウンデカン、９−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−３−エチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−スピロ−
２′−（１′,3′−ジオキサン）５′−スピロ−５″−
（１″,3″−ジオキサン−２″−スピロ−４−（２
,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン）。

本発明の立体障害アミン誘導体が式Ｆ′の化合物であ
るとき、次式：で表わされる重合性化合物が該誘導体の合成に有用な出
発物質の例として挙げられる。

好ましい化合物は、式Ａ′,B′,F′又はＮ′〔各式
中、Ｒは水素原子を表わし、 R₁は基−CO−Ｄを表わし、そしてＤが炭素原子数１な
いし12のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、フェニル基、アミノ基、炭素原子数１ないし12の
アルキルアミノ基又はフェニルアミノ基を表わし、ｍは1,2又は４を表わし、そしてｍが１を表わす場合、R₂は基（ｘはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｍが２を、そしてＤがアルキル基を表わす場合、 R₂は炭素原子数８ないし14の芳香族ジカルボン酸の、
又は炭素原子数８ないし14の脂肪族もしくは芳香族ジカ
ルバミン酸の二価のアシル基を表わすか、或はR₂は基（D₁は炭素原子数１ないし４のアルキル基又は3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を表わし、そし
てD₂はD₁又は水素原子を表わす）を表わし、またｍが２
を、そしてＤがフェニル基、アミノ基、アルキルアミノ
基、フェニルアミノ基又はアルコキシ基を表わす場合、
R₂は炭素原子数２ないし８の脂肪族ジカルボン酸の、又
は炭素原子数８ないし14の芳香族ジカルボン酸の、又は
炭素原子数８ないし14の脂肪族もしくは芳香族ジカルバ
ミン酸の二価のアシル基を表わすか或はR₂は基（D₄及びD₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、ベンジル基又は3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル基を表わす）を表わし、そしてｍが４を表わす場合、 R₂は1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸の、1,2,3,4−
ブテ−２−エンテトラカルボン酸の、1,2,3,5−もしく
は1,2,4,5−ペンタンテトラカルボン酸の四価のアシル
基を表わし、ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、
炭素原子数２ないし８のアルカノイル基又はベンゾイル
基を表わし、ｐが１を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし18のアルキル基、シクロヘキ
シル基或は基（ｈはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わす
か、或はR₃がアルカノイル基又はベンゾイル基を表わさ
ないという条件でR₄はまた炭素原子数６ないし12の脂肪
族、環式脂肪族又は芳香族のジカルボン酸かジカルバミ
ン酸の二価のアシル基を表わすこともでき、ｎは１又は２を表わし、ｋは５ないし50を表わし、 T₃はエチレン基又はプロピレン基を表わし、そしてＱは−Ｏ−基を表わし、 G₁は直接結合、炭素原子数２ないし８のアルキレン基
又は基−NH−Ｇ′−NH−（Ｇ′は炭素原子数２ないし８
のアルキレン基を表わす）を表わし、そして R₁₂は炭素原子数２ないし18のアルカノイル基又はベ
ンゾイル基を表わす〕で表わされる化合物である。

特に好ましい化合物は、式Ａ′,B′,F′又はＮ′〔各
式中、Ｒは水素原子を表わし、 R₁は基−CO−Ｄを表わし、そしてＤは炭素原子数１な
いし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、フェニル基、アミノ基、炭素原子数１ないし４の
アルキルアミノ基又はフェニルアミノ基を表わし、ｍは１又は２を表わし、そしてｍが１を表わす場合、 R₂は基ｍが２を、そしてＤがアルキル基を表わす場合、 R₂はフェニレンジカルボン酸の二価のアシル基を表わ
すか又は基−CO−Ｃ（D₁）（D₂）−CO−（D₁は炭素原子
数１ないし４のアルキル基又は3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル基を表わし、そしてD₂はD₁又は水
素原子を表わす）を表わし、そしてｍが２を、そしてＤがアルコキシ基、フェニル基、ア
ミノ基又はアルキルアミノ基を表わす場合、 R₂は炭素原子数８ないし10の脂肪族もしくは芳香族ジ
カルボン酸の又は炭素原子数８ないし10の脂肪族ジカル
バミン酸の二価のアシル基を表わすか、或はR₂は基（D₄はアルキル基又は3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル基を表わし、そしてD₅はD₄又は水素原子を
表わす）を表わし、ｐは１又は２を表わし、 R₃は炭素原子数１ないし４のアルキル基、アセチル基
又はベンゾイル基を表わし、ｐが１を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキル基又は基（ｈはゼロ又は１を表わす）を表わし、そしてｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数４ないし８のアルキレン基を表わし、ｋは５ない50を表わし、 T₃はエチレン基を表わし、そして Q₁基−Ｏ−を表わし、 R₁₂はアセチル基又はベンゾイル基を表わし、そして G₁は直接結合又は基−NH−（CH₂）₆−NH−を表わす〕
で表わされる化合物である。

式Ａ′で表わされる化合物は、金属カルボニル又は金
属酸化物触媒の存在下、相当する立体障害アミンを適当
なパーオキシ化合物、例えば過酸化水素、第三ブチルパ
ーオキサイドで酸化し、続いてそのオキシル中間体を環
元、好ましくは接触水素添加して所望のＮ−ヒドロキシ
誘導体を生じさせることにより一般的に製造される。

その後、Ｎ−ヒドロキシ立体障害アミンと適当な酸ク
ロライド、無水物、シアネート、イソシアネート又は置
換クロロホルメート（カーボネートとして）を反応させ
ることにより、Ｎ−アシルオキシ、Ｎ−カルバモイルオ
キシ及びＮ−（アルコキシアシル）オキシ誘導体が製造
される。

式Ｎ′で表わされる化合物は、同様にして１−ヒドロ
オキシ中間体をジカルボン酸誘導体又はジイソシアネー
トと反応させることにより製造することができる。

これらの反応は一般的に０〜60℃の範囲の温度で、そ
してトルエン及びジクロロメタンを含む種々の溶媒中で
行なわれる。カルボン酸クロライドを用いるアシル化は
トリエチルアミンのような酸受容体の存在下で好ましく
行なわれる。種々の立体障害アミン前駆体は広く市販さ
れているか又は当分野で知られている方法により製造す
ることができる。

本誘導体は化学線刺激による劣化効果に対して有機材
料を安定化するのに特に効果的である。そのような有機
材料には重合性材料、例えば以下のポリマー材料が含ま
れる： 1.モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えば
ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブ
タジエン並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテン
もしくはノボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望に
より架橋結合できる）例えば、高密度ポリエチレン（HD
PE）、低密度ポリエチレン（LDPE）及び直鎖低密度ポリ
エチレン（LLDPE）。

2.1）で述べたポリマーの混合物、例えば、ポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンと
ポリエチレンとの混合物（例えばPP/HDPE、PP/LDPE）及
び異種のポリエチレンの混合物（例えばLDPE/HDPE）。

3.モノオレイン及びジオレフィン自体もしくは該オレフ
ィンと他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチ
レン／プロピレンコポリマー、直鎖低密度ポリエチレン
（LLDPE）とその混合物と低密度ポリエチレン（LLDPE）
とのコポリマー、プロピレン／ブテン−１コポリマー、
エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／エチルペン
テンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチ
レン／オクテンコポリマー、プロピレン／イソブチレン
コポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマー、プロピ
レン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレ
ンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリ
マー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、
エチレン／ビニルアセテートコポリマーもしくはエチレ
ン／アクリル酸コポリマー並びにそれらの塩（イオノマ
ー）及びエチレンとプロピレンとヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンもしくはエチリデン−ノルボルネンのよ
うなジエンとのターポリマー；並びにそのようなコポリ
マーの混合物と、更に上記の１）に記載したポリマーと
の混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレ
ン−コポリマー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDPE/EVA及びL
LDPE/EAA。

3a.炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及び
それらの水素化変性物質（例えば粘着付与剤）。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
−（α−メチルスチレン）。

5.スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもしく
はアクリル誘導体のコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエンコポリマー、スチレン／アクリロニトリルコポリ
マー、スチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、
スチレン／無水マレイン酸コポリマー、スチレン／ブタ
ジエン／エチルアクリレートコポリマー、スチレン／ア
クリロニトリル／メチルアクリレートコポリマー；スチ
レンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレ
ート、ジエンポリマーもしくはエチレン／ポリプロピレ
ン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性強度混合物；
並びにスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン
／ブタジエン／スチレンブロックコポリマー、スチレン
／イソプレン／スチレンブロックコポリマー、スチレン
／エチレン／ブチレン／スチレンブロックコポリマーも
しくはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロ
ックコポリマー。

6.スチレンもしくはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばスチレンのポリブタジエンへのグラフト
ポリマー、スチレンのポリブタジエン−スチレンあるい
はポリブタジエン−アクリロニトリルへのグラフトポリ
マー：スチレンとアクリロニトリル（もしくはメタアク
リロニトリル）のポリブタジエンへのグラフトポリマ
ー：スチレンと無水マレイン酸もしくはマレイミドのポ
リブタジエンへのグラフトコポリマー：スチレン、アク
リロニトリルと無水マレイン酸もしくはマレイミドのポ
リブタジエンへのグラフトコポリマー：スチレン、アク
リロニトリルとメチルメタクリレートのポリブタジエン
へのグラフトコポリマー、スチレンとアルキルアクリレ
ートもしくはメタアクリレートのポリブタジエンへのグ
ラフトコポリマー、スチレン及びアクリロニトリルのエ
チレン／プロピレン／ジエンターポリマーへのグラフト
コポリマー、スチレンとアクリロニトリルのポリアクリ
レートもしくはポリメタクリレートへのグラフトコポリ
マー、スチレン及びアクリロニトリルのアクリレート／
ブタジエンコポリマーへのグラフトコポリマー、並びに
５）に列挙したコポリマーとの混合物、例えばABS−、M
BS−、ASA−、もしくはAES−ポリマーとして公知のコポ
リマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエチレン、
エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、ハロゲン含
有ビニル化合物からのポリマー、例えば、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビ
ニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル／塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニル／ビニルア
セテートコポリマーもしくは塩化ビニリデン／ビニルア
セテートコポリマー。

8.α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリ
マー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

9.8）で列挙したモノマー自体もしくは他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレ
ートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキ
ルアクリレートコポリマーもしくはアクリロニトリル／
ハロゲン化ビニルコポリマーもしくはアクリロニトリル
／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。

10.不飽和アルコール及びアミン、またはそれらのアシ
ル誘導体もしくはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセ
テート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチルラー
ル、ポリアリルフタレートもしくはポリアリル−メラミ
ン：並びに１）で列挙したオレフィンとのコポリマー。

11.環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例え
ばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドもしくはビス−グリシジルエー
テルとそれらのコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコ
モノマーとしてエチレンオキシドを含有する該ポリオキ
シメチレン：熱可塑性ポリウレタン、アクリレートもし
くはMBSにより変性されたポリアセタール。

13.ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポ
リフェニレンオキシドとのポリスチレン又はポリアミド
の混合物。

14.一方の末端にヒドロキシル基及びもう一方に脂肪族
もしくは芳香族ポリイソシアネートを有するポリエーテ
ル、ポリエステルあるいはポリブタジエンから誘導され
るポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシアネー
ト、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ジアミンとジカルボン酸とから、及び／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポ
リアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミ
ド6/9、ポリアミド6/12及びポリアミド4/6、ポリアミド
11、ポリアミド12、ｍ−キシレンジアミンとアジピン酸
の縮合により得られた芳香族ポリアミド：ヘキサメチレ
ンジアミン及びイソフタル酸もしくは／及びテレフタル
酸、所望により変性剤としてのエラストマー、例えばポ
リ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミ
ドもしくはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミドから
製造したポリアミド。更に前述のポリアミドとポリオレ
フィン、オレフィンコポリマー、イオノマーまたは化学
的結合したもしくはグラフト化エラストマー；あるいは
ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールもしくはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー。EPDMもしくはABSと変性したポリ
アミドもしくはコポリアミド。加工中に縮合したポリア
ミド（BIM−ポリアミド系）。

16.ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド−イミド。

17.ジカルボン酸とジオールとから、及び／またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロー
ルーシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,2−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テレフタレー
ト及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端にヒド
ロキシ基を有するポリエーテルから誘導されたブロック
−コポリエーテル−エステル。

18.ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネー
ト。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエー
テルケトン。

20.一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分として
フェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素
／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒ
ド樹脂。

21.乾燥及び未乾燥アルキド樹脂。

22.飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び
架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘
導された不飽和ポリエステル樹脂並びにそれらの燃焼性
の低いハロゲン含有変性物。

23.置換アクリルエステルから誘導された熱硬化性アク
リル樹脂、例えばエポキシ−アクリレート、ウレタン−
アクリレートもしくはポリエステル−アクリレート。

24.架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートもしくはエポキシ樹脂と混合したアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂もしくはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド樹脂、例えばビス−グリシジルエー
テルもしくは脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エ
ポキシド樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチル
並びに重合同族方法で化学的に変性されたそれらの誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース及
び酪酸セルロース、もしくはセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース：ロジン及びそれらの誘導体。

27.上記に記述したポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、
ポリアミド6/EPDMもしくはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、P
VC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、
POM/アクリレートPOM/MBS、PPE/HIPS、PPE/PA6,6及びコ
ポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPE。

本発明の安定剤は、安定化すべき材料に対して0.05な
いし５重量％の濃度で添加される。好ましくは安定化す
べき材料に対して0.1ないし2.5重量％を上記材料に混入
する。

例えば化合物、及び所望により他の添加剤を成形前ま
たは成形中に当該技術分野の慣用方法により溶融体中に
混合するか、またはポリマー中に化合物を溶解または分
散し、続いて必要に応じて溶媒を蒸発させることによ
り、重合後に混入を行なうことができる。

本発明化合物と配合して使用される他の添加剤は、他
の安定剤例えばフェノール系抗酸化剤、金属不活性化
剤、ホスフィット、チオジプロピオン酸ジエステル、脂
肪酸塩、紫外線吸収剤又はニッケル錯塩であってよい。
他の添加剤は顔料、充填剤、可塑剤、難燃剤又は帯電防
止剤であってよい。

一般的に本発明の安定剤は、安定化される組成物の約
0.05ないし約５重量％で用いられるけれども、これは特
に基材及び用途により変化する。有利な範囲は約0.1な
いし約2.5％である。

本化合物は、大気硬化性及び触媒熱硬化性塗料及びエ
ナメル中で光安定剤として特に活性である。これら物質
は慣用立体障害アミンに比べてかなり塩基性が弱いの
で、慣用立体障害アミンでみられるような硬化阻害又は
干渉、或はそれらの相互作用を起こさない。同様にそれ
らはニトロキシル基で出くわす色問題を示さず、またＮ
−ヒドロキシル立体障害アミンとは異なって、取扱い中
の空気酸化に抵抗性を示す傾向がある。最後に、Ｎ−ア
シルオキシ立体障害アミンは塗料に典型的に使用される
溶媒に、より大きな溶解性を示す。これらの領域につい
ては共に出願中の明細に記載されている。

本化合物は単独で又はフェノールと配合して写真層
に、黄色染料光安定剤として、シアン染料暗色安定剤と
して、マゼンタ層（特に２つの等価マゼンタ発色剤とし
て）中の帯電防止剤として、及びマゼンタ発色剤のため
の熱安定剤として更に使用することができる。

〈実施例−その２〉更に以下の実施例でこれらの化合物の製法を説明す
る。

実施例13 ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）フタレートジ−（１−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）フタレート20.0g（42ミリモル）、無
水酢酸100ml及び５％Pd担持炭素500mgの混合物をパル装
置（Parr apparatus）中で水素添加する（50psi、周囲
温度、１時間）。触媒を過し、溶媒を蒸発させる。残
渣を酢酸エチル150ml中に溶解する。その酢酸エチル溶
液を５％アンモニア水（２×100ml）、水（100ml）及び
飽和食塩水（100ml）で洗浄し、次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥し濃縮して粗固形物を得る。該粗生成物をメタ
ノールから再結晶すると白色結晶性固体14.9g（収率64
％）が得られる。融点172〜175℃。

元素分析 C₃₀H₄₄N₂O₈ 理論値:C,64.3; H,7.9; N,5.0 実測値:C,64.5; H,8.2; N,5.1 実施例14 ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）イソフタレートフタレートの代わりにイソフタレートを用いて実施例
13に記載されている操作に従い標記化合物を製造する。
融点98〜101℃。

元素分析 C₃₀H₄₄N₂O₈ 理論値:C,64.3; H,7.9; N,5.0 実測値:C,62.4; H,8.0; N,5.0 実施例15 ポリ−｛〔６−〔（1,1,3,3−テトラメチル
ブチル）−イミノ〕−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイ
ル〕〔２−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ビペリジル）−イミノ〕−ヘキサメチレン−〔４−
（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル〕−イミノ〕｝実施例13に記載されている操作に従い、相当する１−
オキシル化合物を用いて標記化合物を製造する。融点11
0〜120℃（ガラス転移）。

元素分析（C₃₉H₇₀N₈O₄）_n 理論値:C,65.5; H,9.9; N,15.7 実測値:C,65.6; H,9.4; N,13.0 実施例16 １−アセトキシ−４−アクリルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジンのポリマー乾燥トルエン30ml中の１−アセトキシ−４−アクリル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン20.0g（74.3
モル）及びアゾビスイソブチロニトリル0.19gの溶液
を、100℃に維持し乾燥トルエン25mlに２時間にわたっ
て加える。反応混合物を更に15分攪拌する。トルエン2m
l中のｎ−ドデシルメルカプタン35mgの溶液を加え、次
いで反応混合物を冷ヘキサン中に注ぐと沈殿物を生じ
る。沈殿物をエーテルに溶解し、冷ヘキサンを加えると
白色沈殿物が生じ、それを乾燥すると脆化ガラス（brit
tle glass）16.4g（収率82％）が得られる。

元素分析（C₁₄H₂₃NO₄）_n 理論値:C,62.4; H,8.6; N,5.2 実測値:C,62.8; H,8.6; N,5.1 実施例17 １−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル−４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブ
チルベンゾエートトリエチルアミン10.3g（102ミリモル）とジクロロメ
タン210mlの混合物に１−アセトキシ−４−ヒドロキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン20.0g（92.9ミリモ
ル）を加えた溶液を０℃以下に冷却する。この溶液に窒
素ガス下、４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンゾ
イルクロライド25.0g（92.9ミリモル）の溶液を30分間
隔で加える。加える間、反応温度を−３ないし０℃に保
つ。反応混合物を室温で３時間攪拌し、次いでヘキサン
（200ml）で希釈する。トリエチルアミン塩酸塩を過
により除き、液を1N HCl（200ml）及び飽和重合炭酸
ナトリウム溶液（200ml）で洗浄する。該溶液を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮して油状物とし、それをヘキ
サン中で粉砕すると白色固体不純物1.5gを生じる。

母液を濃縮し、メタノール−ジクロロメタンから結晶
させると標記化合物である白色固体11.6g（28％）が得
られる。融点154〜156℃。

元素分析 C₂₆H₄₁NO₅ 理論値:C,69.7; H,9.2; N,3.1 実測値:C,69.7; H,9.4; N,3.1 実施例18 ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）２−（４−ヒドロキシ−
3,5−ジ第三ブチルベンジル）ｎ−ブチルマロネート無水テトラヒドロフラン25ml中のリチウムジイソプロ
ピルアミド10ミリモルに、テトラヒドロフラン90ml中の
ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）ｎ−ブチルマロネート27.6g（50ミリ
モル）の溶液を加え、続いてテトラヒドロフラン50ml中
の４−ジメチルアミノメチル−2,6−ジ第三ブチルフェ
ノール16.5g（62.5ミリモル）の溶液を加える。反応混
合物を２時間還流させる。その反応混合物を減圧下で濃
縮し、残渣をエーテル（300ml）に溶解する。そのエー
テル溶液を1N・HCl（300ml）及び飽和重炭酸ナトリウム
溶液（150ml）で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾
燥し濃縮する。生じた粗固体をヘキサンから再結晶する
と白色固体25.7g（収率66％）が得られる。融点174〜17
5℃。

元素分析 C₄₄H₇₂N₂O₉ 理論値:C,68.4; H,9.4; N,36 実測値:C,68.1; H,9.4; N,38 実施例19 Ｎ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）−Ｎ−（ｎ−ブチル）−４
−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンゾイルオ
キシ）−3,5−ジ第三ブチルベンズアミドジクロロメタン100ml中の４−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三ブチルベンゾイルクロライド20.9g（77.6ミリモル）
の溶液を、トリエチルアミン19.6g（194ミリモル）入り
ジクロメタン100ml中の１−アセトキシ−４−ブチルア
ミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン塩酸塩20.0g
（64.7モル）の冷却溶液に窒素ガス下、30分間にわたっ
て滴下する。滴下中、反応温度を５℃以下に保つ。その
反応混合物を室温で３時間攪拌し、次いでエーテル（20
0ml）で希釈し、過する。液を1N・HCl（２×100m
l）及び重炭酸ナトリウム溶液（200ml）で洗浄する。そ
の溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、そしてシ
リカゲル上のクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝31）に処する。大部分の反応生成物をメタノールか
ら結晶化させると白色固体13.0gが得られる。融点230〜
232℃。

元素分析 C₄₅H₇₀N₂O₆ 理論値:C,73.5; H,9.6; N,3.8 実測値:C,72.6; H,9.4; N,3.7 実施例20 Ｎ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ｎ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンズアミド実施例19からの２番目の再結晶収穫物を、融点が一定
となるまで再結晶する。生成物は分析で標記化合物に一
致する融点164〜164℃の白色固体44.9gである。

元素分析 C₃₀H₅₀N₂O₄ 理論値:C,71.7; H,10.0; N,5.6 実測値:C,72.0; H,10.2; N,5.5 実施例21 1,6−ジ−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−（１−アセ
トキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）〕−アミノヘキサン１−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−オン52.8g（310ミリモル）、１、６−ヘキサンジア
ミン17.4g（150ミリモル）、メタノール100ml、水150ml
及びプラチナオキサイド500gの混合物をパル装置（Parr
apparatus）中、50psi（周囲温度）で18時間水素添加
する。クロロホルム1000mlを加え、触媒を過する。有
機相を濃縮すると１、６−ジ−〔Ｎ−（１−ヒドロキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）〕−
アミノヘキサン44.4g（69％）が得られる。該ヒドロキ
シルアミン（19.5g、45.7ミリモル）を無水酢酸150mlに
５分間にわたって加え、添加中の反応湿度は50℃に到達
させる。反応混合物を30分間還流し、次いで再び水素添
加し（５％Pd/C500mg、50psi、３時間）、残りのいかな
るニトロキシル基も還元する。触媒を過によって除
き、そして溶媒を蒸発させる。残渣を4:1のトルエン：
ヘプタンから結晶化させ、白色固体14.1g（収率52％）
を得る。融点169〜170℃。

元素分析 C₃₂H₅₈N₄O₆ 理論値:C,64.6; H,9.8; N,9.4 実測値:C,64.8; H,9.8; N,9.3 実施例22 ジ−（１−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）N,N′−（1,6−ヘキサンジ
イル）ジカルバメート１−アセトキシ−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン15.0g（70ミリモル）、1,6−ヘキサン
ジイソシアネート5.9g（35ミリモル）、トルエン125ml
及びジブチ錫ジウラレート200gの混合物を１時間還流す
る。熱い反応混合物をヘキサン（500ml）中に注ぐ。生
じた沈澱物を過により取り出し、エーテル中で粉砕す
ると白色固体13.1g（収率63％）が得られる。融点158〜
163℃。

元素分析 C₃₀H₅₄N₄O₈ 理論値:C,60.2; H,9.1; N, 9.4 実測値:C,60.1; H,9.1; N,10.0 実施例23 １−アセトキシ−４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−
ｎ−ドデシルアミノ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン１−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−オン42.6g（250ミリモル）、ｎ−ドデシルアミン4
7.0g（250ミリモル）、プラチナオキサイド600mg及びト
ルエン200mlの混合物をパル装置（Parr apparatus）中
に入れ、３時間水素添加する（50psi、周囲温度）。無
水酢酸（77.9g、760ミリモル）を加える。過により触
媒を除き、液を３時間還流する。減圧下で溶媒を蒸発
させ、残渣を2:1のヘキサン：エーテル（500ml）に溶解
する。その溶液を1N・HCl（400ml）、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液（200ml）及び飽和食塩水（200ml）で洗浄し、
次いで硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（1:1 ヘキサン：酢酸エ
チル）にかけ、黄色油状物42.4g（収率40％）を得る。

元素分析 C₂₅H₄₈N₂O₃ 理論値:C,70.7; H,11.4; N,6.6 実測値:C,71.0; H,11.3; N,6.3 実施例24 ジ−（４−ｎ−オクタデカノイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−１−イル）オキサレ
ートジクロロメタン50ml中のオキサリルクロライド4.33g
（34.1ミリモル）の溶液を、トルエチルアミン8.3g（8
1.8ミリモル）入りジクロロメタン100ml中の１−ヒドロ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）
ステアレート30.0g（68.2ミリモル）の溶液に、窒素ガ
ス雰囲気下で滴下して加える。滴下中、反応温度は20°
ないし35℃に上昇する。反応混合物を室温で一夜攪拌す
る；生成したトリエチルアミン塩酸塩を過により除
き、液をジクロロメタンで希釈し、全容量を300mlに
する。該溶液を1N・HCl（２×100ml）及び飽和重炭酸ナ
トリウム溶液（200ml）で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、濃縮して暗褐色固体を得る。その固体をメタノ
ール中に懸濁させ、過する。単離した固体をヘプタン
〔脱色のためフィルトロール（filtrol）添加〕から２
度再結晶し、白色固体9.3g（収率29％）を得る。融点10
4〜105℃。

元素分析 C₅₆H₁₀₄N₂O₈ 理論値:C,72.1; H,11.2; N,3.0 実測値:C,72.1; H,11.3; N,3.2 実施例25 ジ−（４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−１−イル）オキサレート該化合物を、相当するベンゾエートを用い、実施例24
に記載の操作に従って製造する。融点244℃（分解）。

元素分析 C₃₄H₄₄N₂O₈ 理論値:C,67.1; H,7.3; N,4.6 実測値:C,66.8; H,7.4; N,4.5 実施例26 ジ−（１−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−１−イル）セバケートジ−（１−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）セバケート51.3g（100ミリモル）、
トルエン250ml及びトリエチルアミン30.4g（300ミリモ
ル）の混合物に、窒素ガス下でベンジルクロライド（2
9.5g、210ミリモル）を滴下して加える。添加中、温度
は22°ないし48℃に上昇する。次いで反応混合物を45分
間70℃に加熱し、40℃以下に冷却し、そしてトルエン15
0mlで希釈する。トリエチルアミン塩酸塩を去し、
液を10％アンモニア水（200ml）、温水（３×400ml）、
1N・HCl（２×200ml）、飽和重炭酸ナトリウム溶液（20
0ml）及び飽和食塩水（200ml）で洗浄する。該溶液を硫
酸マグネシウムで乾燥し、そして濃縮する。残渣をメタ
ノールから再結晶すると白色固体51.5g（収率71％）が
得られる。融点92〜100℃。

元素分析 C₄₂H₆₀N₂O₈ 理論値:C,70.0; H,8.4; N,3.9 実測値:C,69.8; H,8.6; N,3.9 実施例27 １−ベンゾイルオキシ−４−（Ｎ−ｎ−ブチ
ルベンゾイルアミノ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン該化合物は、実施例26のそれと同様の操作に従い、１
−ヒドロキシ−４−（Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンとベンゾイルクロライドを
反応させることにより製造される。融点155〜159℃ 元素分析 C₂₇H₃₆N₂O₃ 理論値:C,74.3; H,8.3; N,6.4 実測値:C,74.0; H,8.4; N,6.3 実施例28 （１−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）（１′−ベンゾイルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）イ
ソフタレートジ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）イソフタレート35.0g（78.7ミリモル）、ヘキサカ
ルボニルモリブデン1.0g及びトルエン75mlの混合物を窒
素ガス雰囲気下で90℃に加熱する。トルエン（225ml、9
45ミリモル）中の第三ブチルヒドロパーオキサイド4.2M
の溶液を５分間かけて加えると、反応混合物は赤色に変
わる。添加後、反応混合物をUVランプで６時間照射する
（内部温度85℃）。ヘキサカルボニルモリブデンの他の
1.0g部分を加え、該反応混合物を16時間照射する。次い
で該混合物を過し、濃縮し、その粗残渣をシリカゲル
上でのクロマトグラフィー（9:1ヘキサン：酢酸エチ
ル）に処する。極性が高い方の２つの主要反応物をエタ
ノールから再結晶して標記化合物の白色固体12.0g（収
率23％）を得る。融点137〜140℃。

元素分析 C₄₀H₅₀N₂O₇ 理論値:C,71.6; H,7.5; N,4.2 実測値:C,71.7; H,7.8; N,4.4 実施例29 1,4−ジ−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブ
チルベンゾイルオキシ）−2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジントルエン100ml中の４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチ
ルベンゾイルクロライド31.2g（116ミリモル）の溶液
を、1,4−ジヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン10.0g（58.8ミリモル）とトルエン50mlにN,N−ジメ
チルアニリン15.5g（128ミリモル）入れた液との混合物
中に窒素ガス雰囲気下で３分間滴下して加える。反応混
合物を80℃に３時間加熱し、次いで400mlに希釈する。
その溶液を1N・HCl、飽和重炭酸ナトリウム溶液及び飽
和食塩水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し、
そして濃縮する。黄色残渣を２−プロパノール中、DARC
O G−60で脱色する。再結晶で白色固体14.0g（収率38
％）が得られる。融点196℃（分解）。

元素分析 C₃₉H₅₉NO₆ 理論値:C,73.4; H,9.3; N,2.2 実測値:C,73.3; H,9.3; N,2.1 実施例30 １−カルバモイルオキシ−４−ベンゾイルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペラジン水10mlに12N・HCl6.7mlを加えた溶液を、１−ヒドロ
キシ−４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン20.8g（75ミリモル）、メタノール75ml及び
水25mlの懸濁液に窒素ガス雰囲気下、０℃以下に冷却し
ながら10分間にわたり滴下して加える。透明な溶液が得
られる。水25ml中のカリウムシアネート6.1g（75ミリモ
ル）の溶液を30分間にわたり滴下して加える。そのシア
ネートの添加中、反応温度を０〜５℃に維持する。反応
混合物を周囲温度で30分攪拌し、次いで過する。沈殿
物を水で洗浄し、次いでトルエン200mlに溶解する。残
りの水を共沸蒸留により除く。次いでトルエン溶液を冷
却すると白色結晶固体19.4g（81％）を生じる。融点148
〜149℃。

元素分析 C₁₇H₂₄N₂O₄ 理論値:C,63.7; H,7.6; N,8.7 実測値:C,63.5; H,7.8; N,8.8 実施例31 ジ−（１−カルバモイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート該化合物を実施例30に記載された操作に従って製造す
る。

元素分析 C₃₀H₅₄N₄O₈ 理論値:C,60.2; H,9.1; N,9.4 実測値:C,60.3; H,9.0; N,9.1 実施例32 ジ−（１−フェニルカルバモイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケー
トフェニルイソシアネート（9.5g、80ミリモル）を、ク
ロロメタン125ml中のジ−（１−ヒドロキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート20.0g
（39ミリモル）の懸濁液に５分間にわたって加える。得
られた溶液を30分間還流し、次いで蒸発させ固体を得
る。その粗固体をメタノール中で簡単に還流し、過
し、そして２−プロパノール：ジクロロメタンから再結
晶して白色固体22.2g（収率76％）を得る。融点159〜16
1℃分解。

元素分析 C₄₂H₆₂N₄O₈ 理論値:C,67.2; H,8.3; N,7.5 実測値:C,66.9; H,8.3; N,7.3 実施例33 ４−ベンゾイルオキシ−１−ｎ−ブチルカル
バモイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジントルエン10ml中のｎ−ブチルイソシアネート4.66g（4
0ミリモル）の溶液をトルエン40ml中の１−ヒドロキシ
−４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン10.6g（38.2ミリモル）の懸濁液に10分間かけて
加える。反応混合物を30分間50℃に加熱する。次いで反
応混合物を過し、液を蒸発させて得られる残渣をヘ
キサンから再結晶すると白色固体4.2g（収率29％）が得
られる。融点126〜127℃。

元素分析 C₂₁H₃₂N₂O₄ 理論値:C,67.0; H,8.6; N,7.5 実測値:C,67.2; H,8.7; N,7.4 実施例34 ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）フタレ
ート適当なフタレート及びジクロロメタン溶媒を用いるこ
とを除いて実施例21の操作に従って、標記化合物を65％
の収率で製造する。融点180〜182℃。

元素分析 C₃₆H₅₈N₄O₈ 理論値:C,64.1; H,8.7; N,8.3 実測値:C,63.9; H,8.8; N,8.0 実施例35 ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）イソフ
タレート該化合物を、イソフタレートの使用を除いて実施例34
に記載の操作に従って製造する。融点176〜177℃。

元素分析 C₃₆H₅₈N₄O₈ 理論値:C,64.1; H,8.7; N,8.3 実測値:C,64.4; H,8.4; N,8.3 実施例36 ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）2,2−ジ
エチルマロネート適当なマロネートの使用を除いては実施例34に記載の
操作に従って標記化合物を製造する。融点166〜169℃。

元素分析 C₃₅H₆₄N₄O₈ 理論値:C,62.8; H,9.6; N,8.4 実測値:C,63.2; H,9.6; N,8.3 実施例37 ジ−（１−ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）ｎ−ブ
チルマロネート該化合物を実施例34に記載の操作に準じて製造する。
融点129〜131℃。

元素分析 C₃₅H₆₄N₄O₈ 理論値:C,62.8; H,9.6; N,8.4 実測値:C,63.1; H,9.5; N,8.3 実施例38 ジ−（４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−１−イル）N,N′−（2,4,4−ト
リメチル−1,6−ヘキサンジイル）−ジカルバメート該化合物を、実施例33の操作に従い、４−ベンゾイル
オキシ−１−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン及び2,4,4−トリメチルヘキサン−1,6−ジイソシ
アネートから製造する。融点165〜167℃。

元素分析 C₄₃H₆₄N₄O₈ 理論値:C,67.5; H,8.4; N,7.3 実測値:C,67.4; H,9.0; N,7.4 実施例39 ｎ−（ブチル（４−ベンゾイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペラジン−１−イル）カルボネー
トトルエン15ml中のｎ−ブチルクロロホルメート7.8g
（81ミリモル）の溶液を、１−ヒドロキシ−４−ベンゾ
イルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン15.0g及
びトルエン75mlの混合物に、窒素ガス雰囲気下で20分に
わたり滴下して加える。滴下中は氷浴で反応温度を10℃
以下に保つ。完全に加えた後、反応混合物を室温で２時
間攪拌する。トリエチルアミン塩酸塩を過し、液を
1N・HCl（200ml）飽和重炭酸ナトリウム溶液（200ml）
及び飽和食塩水（200ml）で洗浄し、次いで硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濃縮する。生じた油状物をヘキサンか
ら結晶化させると白色固体14.1g（収率69％）が得られ
る。融点83〜84℃。

元素分析 C₂₁H₃₁NO₄ 理論値:C,66.8; H,8.3; N,3.7 実測値:C,66.8; H,8.4; N,3.9 要するに本発明は一群の新規Ｏ−アシル、Ｏ−カルバ
モイル及びＯ−カーボネート置換Ｎ−ヒドロキシ立体障
害アミン安定剤を提供していることがわかる。本発明の
範囲を逸脱しない限り、配合比、製造方法、材料等を変
更してよい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ジェームスピー．ガルボアメリカ合衆国，ニユーヨーク 10530, ハーツデール，イーストハーツデールアヴェニュー 119 (72)発明者ルドルフエー．ベーレンスアメリカ合衆国，コネチカット 06812, ニューフェアフィールド，ピー．オー．ボックス 8213（番地表示なし) (72)発明者アンドリューマーアメリカ合衆国，コネチカット 06851, ノーウォーク，ビーコンストリート 97 (72)発明者ピータージェイシャーマンアメリカ合衆国，コネチカット 06430, フェアフィールド，ユーニスアヴェニュー 89 (72)発明者レイモンドセルツァーアメリカ合衆国，ニューヨーク 10956, ニューシティ，アンガスレーン 11 (56)参考文献特開昭60−36460（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−101132（ＪＰ，Ａ) 米国特許4691015（ＵＳ，Ａ) ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｎＳｃｉｅｕｃｅ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙＥｄｉｔｉｏｒ, Ｖｏｌ．23（1985），ｐｐ．2747−2756 ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｎＳｃｉｅｕｃｅ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙＥｄｉｔｉｏｒ, Ｖｏｌ．23（1985），ｐｐ．1477−1491 ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｎＳｃｉｅｕｃｅ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙＥｄｉｔｉｏｒ, Ｖｏｌ．22（1984），ｐｐ．277−281 ＨｅｌｖｅｔｉｃａＣｈｉｍｔｃｎＡｃｔａ，Ｖｏｌ．63，Ｎｏ．13 （1980），ｐｐ．132−147 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C09D 7/12 C08K 5/34 C07D 211/90

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】次式A,B,C,F,N 〔式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、そして R₁は基Ｄ−CO（Ｄは炭素原子数１ないし18のアルキル
基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、フエニル
基；ヒドロキシ基で、及び／又は炭素原子数１ないし４
のアルキル基で置換されたフエニル基を表わすか、或は
Ｄはアミノ基を又は炭素原子数１ないし12のアルキル基
かフエニル基で置換されたアミノ基を表わす）を表わ
し、ｍは１ないし４を表わし、ｍが１を表わす場合、 R₂は水素原子、炭素原子１ないし18のアルキル基、脂肪
族もしくは芳香族カルボン酸の又はカルバミン酸の一価
のアシル基を表わすか、或はR₂は基（ｘはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｍが２を表わす場合、 R₂は炭素原子数１ないし12のアルキレン基、脂肪族もし
くは芳香族ジカルボン酸の又はジカルバミン酸の二価の
アシル基を表わすか、或はR₂は基（D₁及びD₂は独立して水素原子、８個までの炭素原子を
含むアルキル基、フエニル基、ベンジル基又は3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を表わし、そし
てD₃は18個までの炭素原子を含むアルキルもしくはアル
ケニル基を表わす）を表わし、ｍが３を表わす場合、 R₂は脂肪族、環式脂肪族又は芳香族トリカルボン酸の三
価のアシル基を表わし、ｍが４を表わす場合、 R₂は飽和もしくは不飽和の脂肪族又は芳香族テトラカル
ボン酸の四価のアシル基を表わし、Ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭
素原子数２ないし８のアルカノイル基又はベンゾイル基
を表わし、Ｐが１を表わす場合、 R₄は水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わすか又は
R₄は式で表わされる基を表わし、Ｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わし；或
はR₃がアルカノイル基又はベンゾイル基を表わさないと
いう条件でR₄はまた脂肪族もしくは芳香族ジカルボン酸
のもしくはジカルバミン酸の二価のアシル基を表わすこ
とも又は基−CO−を表わすこともでき、ｎは１又は２を表わし、そしてｎが１を表わす場合、 R₅及びＲ′₅は独立して炭素原子数１ないしし12のアル
キル基を表わし、またR₅は水素原子も表わし、ｎが２を表わす場合、 R₅及びＲ′₅は一緒になって基（−CH₂）₂Ｃ（CH₂−）₂
を表わし、 T₃はエチレン基又は1,2−プロピレン基を表わすか或は
アルキルアクリレートもしくはメタクリレートとのα−
オレフィンコポリマーから誘導される繰り返し構造単位
を表わし、ｋは２ないし100を表わし、 Q₁は基−Ｏ−を表わし、式（Ｎ）のR₂はｍが１を表わす場合の前記定義の意味を
表わし、 G₁は直接結合、炭素原子数１ないし12のアルキレン基又
は基−NH−Ｇ′−NH（Ｇ′は炭素原子数１ないし12アル
キレン基を表わす）を表わす〕の一つで表わされる立体障害アミン化合物を含む、周囲
環境で硬化性の又は酸触媒で熱硬化性の塗料組成物用の
安定剤。
【請求項２】Ｒが水素原子を表わす式Ａ又はＢで表わさ
れる化合物を含む請求項１記載の安定剤。
【請求項３】式Ａ〔該式中、Ｒは水素原子を表わし、 R₁は基Ｄ−CO−を表わし、そしてＤは炭素原子数１ない
し12のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、フェニル基、アミノ基；又は炭素原子数１ないし12
のアルキル基で又はフエニル基でモノ置換されたアミノ
基を表わし、ｍは1,2又は４を表わし、そしてｍが１を表わす場合、 R₂は脂肪族炭素原子数２ないし18のカルボン酸の又は芳
香族炭素原子数７ないし15のカルボン酸のアシル基を表
わし、そしてｍが２を表わす場合、 R₂は脂肪族炭素原子数２ないし18のジカルボン酸の又は
芳香族炭素原子数８ないし14のジカルボン酸の、或は脂
肪族もしくは芳香族炭素原子数８ないし14のジカルバミ
ン酸の二価のアシル基を表わすか又はR₂は基（D₁は炭素原子数１ないし８のアルキル基又は3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を表わし、そし
てD₂はD₁又は水素原子を表わす）を表わし、そしてｍが４を表わす場合、 R₂はブタン−もしくはペンタン− テトラカルボン酸の
四価のアシル基を表わす〕で表わされる化合物を含む請求項１記載の安定剤。
【請求項４】式Ｂ〔該式中、Ｒは水素原子を表わし、 R₁は基Ｄ−CO−を表わし、そしてＤは炭素原子数１ない
し12のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、フェニル基、アミノ基；又は炭素原子数１ないし12
のアルキル基もしくはフェニル基でモノ置換されたアミ
ノ基を表わし、Ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基又は
炭素原子数２ないし８のアルカノイル基を表わし、そし
てｐが１を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキル基又は炭素原子数
５ないし７のシクロアルキル基を表わし、そしてｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、そ
してもしR₃がアルカノイル基を表わさないなら、 R₄は脂肪族炭素原子数２ないし10のジカルボン酸の又は
芳香族炭素原子数６のジカルボン酸の又は脂肪族もしく
は芳香族炭素原子数８ないし15のジカルバミン酸の二価
のアシル残基も表わしてよい〕で表わされる化合物を含
む請求項１記載の安定剤。
【請求項５】アルキド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、ア
クリルアルキド樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステ
ル樹脂を、或はシリコーン、イソシアネート、エポキシ
ド、イソシアヌレート、ケチミン又はオキサゾリジンで
変性された上記樹脂をベースとする或はセルロースエス
テルを又はエポキシド樹脂をベースとする周囲環境で硬
化性の系である請求項１記載の塗料組成物用の安定剤。
【請求項６】熱架橋性のアクリル、ポリエステル、ポリ
ウレタン、ポリアミド又はアルキド樹脂をベースとする
酸で触媒される熱硬化性系である請求項１記載の塗料組
成物用の安定剤。
【請求項７】工業的仕上のためのエナメル用の請求項１
記載の安定剤。
【請求項８】自動車用の再仕上用エナメル用の請求項１
記載の安定剤。
【請求項９】次式Ａ′,B′,C′,F′,N′ 〔各式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、 R₁は基Ｄ−CO−（Ｄは炭素原子数１ないし18のアルキル
基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、フェニル
基；ヒドロキシ基及び／又は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基で置換されたフェニル基を表わし、或はＤはア
ミノ基を又は炭素原子数１ないし12のアルキル基かフェ
ニル基でモノ置換されたアミノ基を表わす）を表わし、ｍは１ないし４を表わし、ｍが１を表わす場合、 R₂は基（ｘはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｍが２を、そしてＤがアルキル基を表わす場合、 R₂は炭素原子数１ないし12のアルキレン基、炭素原子数
８ないし14の芳香族ジカルボン酸の、或は炭素原子数８
ないし14の脂肪芳香族ジカルバミン酸の二価のアシル基
を表わすか、或はR₂は基（D₁は炭素原子数１ないし８のアルキル基、ベンジル基
又は3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を
表わし、D₂はD₁又は水素原子を表わし、D₃は炭素原子数
１ないし18のアルキル基又は炭素原子数２ないし18のア
ルケニル基を表わす）を表わし、ｍが２を、そしてＤがフェニル基、置換フェニル基、ア
ミノ基、置換アミノ基又はアルコキシ基を表わす場合、 R₂は炭素原子数１ないし12のアルキレン基、炭素原子数
14までの脂肪族もしくは芳香族のジカルボン酸もしくは
ジカルバミン酸の二価のアシル基を表わすか、或はR₂は
基（D₄及びD₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、ベンジル基又は3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル基を表わし、そしてD₆は炭素原子
数１ないし18のアルキル基又は炭素原子数２ないし18の
アルケニル基を表わす）を表わし、ｍが３を表わす場合、 R₂は炭素原子数12までの脂肪族、環式脂肪族又は芳香族
トリカルボン酸の三価のアシル基を表わし、ｍが４を表わす場合、 R₂は炭素原子数18までの飽和又は不飽和の脂肪族又は芳
香族テトラカルボン酸の四価のアシル基を表わし、ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭
素原子数２ないし８のアルカノイル基又はベンゾイル基
を表わし、ｐが１を表わす場合、 R₄は水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わすか又は
R₄は次式（ｈはゼロ又は１を表わす）で表わされる基を表わし、ｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わし；或
はR₃がアルカノイル基又はベンゾイル基を表わさないと
いう条件でR₄はまた炭素原子数14までの脂肪族、環式脂
肪族もしくは芳香族ジカルボン酸もしくはジカルバミン
酸の二価のアシル基を表わすことも又は基−CO−を表わ
すこともでき、ｎは１又は２を表わし、そしてｎが１を表わす場合、 R₅及びＲ′₅は独立して炭素原子数１ないしし12のアル
キル基を表わし、またR₅は水素原子も表わし、そしてｎが２を表わす場合、 R₅とＲ′₅は一緒になって基（−CH₂）₂Ｃ（CH₂−）₂を
表わし、 T₃はエチレン基又は1,2−プロピレン基を表わすか或は
アルキルアクリレートもしくはメタクリレートとのα−
オレフィンコポリマーから誘導される繰り返し構造単位
を表わし、ｋは２ないし100を表わし、 Q₁は基−Ｏ−を表わし、 R₁₂は炭素原子数２ないし18のアルカノイル基、ベンゾ
イル基を又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で、も
しくはヒドロキシ基で置換されたベンゾイル基を表わ
し、そして G₁は直接結合、炭素原子数１ないし12のアルキレン基又
は基−NH−Ｇ′−NH−（Ｇ′は炭素原子数１ないし12の
アルキレン基を表わす）を表わす〕で表わされるものの一つに相当する化合物。
【請求項１０】Ｄが炭素原子数１ないし18のアルキル
基、フェニル基；又はヒドロキシ基及び／又は炭素原子
数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基を表
わす請求項９記載の化合物。
【請求項１１】Ｄがアミノ基を表わすか又は炭素原子数
１ないし12のアルキル基で、もしくはフェニル基で置換
されたアミノ基を表わす請求項９記載の化合物。
【請求項１２】Ｄが炭素原子数１ないし８のアルコキシ
基を表わす請求項９記載の化合物。
【請求項１３】Ｒが水素原子を表わす請求項９記載の化
合物。
【請求項１４】R₁が基−CO−Ｄを表わし、そしてＤが炭
素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルコキシ基、フェニル基、アミノ基、炭素原子数
１ないし12のアルキルアミノ基又はフェニルアミノ基を
表わす請求項９記載の化合物。
【請求項１５】式Ａ′,B′,F′又はＮ′〔各式中、Ｒは水素原子を表わし、 R₁は請求項14で定義した意味を表わし、ｍは1,2又は４を表わし、そしてｍが１を表わす場合、R₂は基（ｘはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｍが２を、そしてＤがアルキル基を表わす場合、 R₂は炭素原子数８ないし14の芳香族ジカルボン酸の、又
は炭素原子数８ないし14の脂肪族もしくは芳香族ジカル
バミン酸の二価のアシル基を表わすか、或はR₂は基（D₁は炭素原子数１ないし４のアルキル基又は3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基を表わし、そし
てD₂はD₁又は水素原子を表わす）を表わし、またｍが２
を、そしてＤがフェニル基、アミノ基、アルキルアミノ
基、フェニルアミノ基又はアルコキシ基を表わす場合、
R₂は炭素原子数２ないし８の脂肪族ジカルボン酸の、又
は炭素原子数８ないし14の芳香族ジカルボン酸の、又は
炭素原子数８ないし14の脂肪族もしくは芳香族ジカルバ
ミン酸の二価のアシル基を表わすか或はR₂は基（D₄及びD₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、ベンジル基又は3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル基を表わす）を表わし、そしてｍが４を表わす場合、 R₂は1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸の、1,2,3,4−ブ
テ−２−エンテトラカルボン酸の、1,2,3,5−もしくは
1,2,4,5−ペンタンテトラカルボン酸の四価のアシル基
を表わし、ｐは１又は２を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭
素原子数２ないし８のアルカノイル基又はベンゾイル基
を表わし、ｐが１を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし18のアルキル基、シクロヘキシ
ル基或は基（ｈはゼロ又は１を表わす）を表わし、ｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わすか、
或はR₃がアルカノイル基又はベンゾイル基を表わさない
という条件でR₄はまた炭素原子数６ないし12の脂肪族、
環式脂肪族又は芳香族のジカルボン酸かジカルバミン酸
の二価のアシル基を表わすこともでき、ｎは１又は２を表わし、ｋは５ないし50を表わし、 T₃はエチレン基又はプロピレン基を表わし、そしてＱは−Ｏ−基を表わし、 G₁は直接結合、炭素原子数２ないし８のアルキレン基又
は基−NH−Ｇ′−NH−（Ｇ′は炭素原子数２ないし８の
アルキレン基を表わす）を表わし、そして R₁₂は炭素原子数２ないし18のアルカノイル基又はベン
ゾイル基を表わす〕で表わされる請求項９記載の化合
物。
【請求項１６】式Ａ′,B′,F′又はＮ′〔各式中、Ｒは水素原子を表わし、 R₁は基−CO−Ｄを表わし、そしてＤは炭素原子数１ない
し４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、フェニル基、アミノ基、炭素原子数１ないし４のア
ルキルアミノ基又はフェニルアミノ基を表わし、ｍは１又は２を表わし、そしてｍが１を表わす場合、 R₂は基ｍが２を、そしてＤがアルキル基を表わす場合、 R₂はフェニレンジカルボン酸の二価のアシル基を表わす
か又は基−CO−Ｃ（D₁）（D₂）−CO−（D₁は炭素原子数
１ないし４のアルキル基又は3,5−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル基を表わし、そしてD₂はD₁又は水素
原子を表わす）を表わし、そしてｍが２を、そしてＤがアルコキシ基、フェニル基、アミ
ノ基又はアルキルアミノ基を表わす場合、 R₂は炭素原子数８ないし10の脂肪族もしくは芳香族ジカ
ルボン酸の又は炭素原子数８ないし10の脂肪族ジカルバ
ミン酸の二価のアシル基を表わすか、或はR₂は基（D₄はアルキル基又は3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル基を表わし、そしてD₅はD₄又は水素原子を
表わす）を表わし、ｐは１又は２を表わし、 R₃は炭素原子数１ないし４のアルキル基、アセチル基又
はベンゾイル基を表わし、ｐが１を表わす場合、 R₄は炭素原子数１ないし12のアルキル基又は基（ｈはゼロ又は１を表わす）を表わし、そしてｐが２を表わす場合、 R₄は炭素原子数４ないし８のアルキレン基を表わし、ｋは５ない50を表わし、 T₃はエチレン基を表わし、そして Q₁基−Ｏ−を表わし、 R₁₂はアセチル基又はベンゾイル基を表わし、そして G₁は直接結合又は基−NH−（CH₂）₆−NH−を表わす〕で
表わされる請求項９記載の化合物。
【請求項１７】化学線分解に対する有機材料用安定剤と
しての請求項９記載の化合物の使用方法。
【請求項１８】請求項９記載の化合物の有効安定化量を
含む有機材料。