JPS62113735A - 平板デイスプレイ装置用ストロンチウムアルミノシリケ−トガラス基板 - Google Patents

平板デイスプレイ装置用ストロンチウムアルミノシリケ−トガラス基板

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JPS62113735A
JPS62113735A JP61239000A JP23900086A JPS62113735A JP S62113735 A JPS62113735 A JP S62113735A JP 61239000 A JP61239000 A JP 61239000A JP 23900086 A JP23900086 A JP 23900086A JP S62113735 A JPS62113735 A JP S62113735A
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glass
sro
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liquidus
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Corning Glass Works
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は平板ディスプレイ装置、およびそのためのスト
ロンチウムアルミノシリケートガラス基板に関する。
（従来技術と発明が解決しようとする問題点）２つの最
近の技術的進歩は、平板ディスプレイ装置について明ら
かに実際的な次に示す可能性を大ぎくした。すなわち、 （１）改良された特性を示す液晶の調製；および（２）
　　微粒ポリシリコンの表面層の製造である。
液晶の発達は、小型カラーテレビ受像機を液晶から製造
し、非常に大きな情報ディスプレイパネルが技術的に可
能な所まで進んだ。液晶は本来、電気信号に対して遅い
応答を示ずので、能動マトリックスディスプレイを組立
てるためには電気的！ｉｌｌ激に対して素早く応答する
「スイッチ」が必要である。薄膜トランジスタ（ＴＰＴ
）がこの機能を果たす。
ＴＰＴが単結晶シリコンから製造できることは良く取ら
れているが、単結晶シリコンのその性質によって、それ
から作られるＴＰＴの大きさに制限がある。基板上に付
着させた微粒ポリシリコン層をレーザーのような熱源を
用いてスキャンすることにより、粗粒ポリシリコンに再
結晶させることができることが見出された。粗粒ポリシ
リコンから調製されたＴＰＴは、単結晶シリコンから作
られたＴＰＴに比べ電気特性においてわずかな悪化しか
示さず、また液晶ディスプレイを多重送信する場合、極
めて満足に働くことが認められた。
粗粒ポリシリコン能動マトリックスディスプレイは透明
で、平らで、なめらかで、不活性であり、熱膨張に関し
てシリコンと一致しており、また少なくとも８５０℃の
処理温度に耐えられる基板が必要である。従って、ガラ
スはアルカリ金属イオンを含まなければこれらの要求を
満たし、はぼ３０〜４０Ｘ　１０’　／　℃の線熱膨張
係数（２５°〜３００℃）と少なくとも８５０℃、好ま
しくは８７５℃以上のアニール点を示す。米国特許第３
，３３８，６９６号に記述されている方法を成すガラス
板を用いるためには、ガラスは少なくとも１００，００
０ポアズ、好ましくは２５０．０００ポアズ以上の液相
線粘度を示さなければならない。また、９００℃付近の
アニール点を有する透明で均質なガラスを約１８００℃
以下の温度の溶融バッチで得ることは非常に難しい。１
８００℃は酸化雰囲気下で用いられる白金−ロジウムお
よび多くの耐火物と接触する溶融材料についての実際的
な制限を意味する。最後に、従来の装置と技術を用いて
行うガラス生成を可能にするために、約１４００℃を越
えない液相線温度が非常に好ましい。
従って、本発明の主な目的は約３０〜４０Ｘ　１０’　
／℃の線熱膨張係数（２５°〜３００℃）、少なくとも
８５０℃のアニール点、約１４００℃以下の液相線温度
、少なくともｉｏｏ、ｏｏｏポアズの液相線粘度を示し
、約１８００°Ｃを超えない温度で溶融できる透明で均
質なガラスを調製することである。
〈問題点を解決するための手段） 本発明の目的を満足するガラスは、酸化物を基礎とした
モルパーセントで表される約９〜１２％のｓｒｏ、９〜
１２％のＡ９，２０３、およヒフ７〜８２％の５ｉＯｚ
から本質的に成る組成を有する三成分のＳｒ　０−Ａ９
Ｊｚ　０３　　Ｓ！０２系内に殆んどアルカリ金属酸化
物を含まないガラスの制限された範囲から調製できるこ
とを見出した。これらの組成割合の制限は、極めて臨界
的である。例証すると、ＳｒＯの水準が高すぎるとアニ
ール点は所望の目標以下に下がり、線熱膨張係数は満足
できない高い値に上がる。逆にＳｒＯ含量が低すぎる場
合、ガラスは溶融が非常に難しくなり、および／または
液相線温度が満足できない水準まで上がる。
明記したものより低いＡ、Ｑ、ｚ０３１度では、アニー
ル点が低すぎてしまう。明記した以上のＡ９，２０３含
聞は、望ましくない高い液相線温度をもたらす。Ｓ！Ｏ
ｚの分量が規定した最大値をこえると、ガラスは溶融が
非常に難しくなる。Ｓ　＋　０２水準が示した最小値以
下の場合、アニール点が非常に低くなるかまたは液相線
温度が非常に高くなる。
モルパーセントで表示された組成範囲を重ωパーセント
の範囲に正確に変換することはできないが、重量パーセ
ントで表された三成分系の近似値は約１３〜１８％のＳ
ｒＯ、１３〜１８％のＡ９Ｊ２０３、および６６〜７２
％の５ｉＯｚである。
三成分系中のＳｒＯの代りにＭ（］　Ｏ，Ｃａ　０１ｚ
ｎｏ、Ｌａｚ　０３　、およびＭｎＯを少量置換すると
、ガラスの線膨張係数および／またはアニール点および
／または液相線温度に望ましくない影響を及ぼす。従っ
て、所望のガラス特性を維持するには、これらの物質を
非常に少量だけ添加することが許される。アルカリ金ｆ
ｉｌ！！ｌ化物のような強力な融剤は、本質的に存在し
ないことが望ましい。
ＳｒＯの一部をＢａＯで置換すると線膨張係数がわずか
に上昇し、またガラスの粘度に逆影響を及ぼさずにかな
りの程度まで液相線温度を非常に望ましく減らすことが
できる。従って、ＳｒＯの代りにＢａＯを＠換してもア
ニール点は少しも変わらない。このＢａＯの性能は、Ｓ
ｒＯとＢａＯ濃度のバランスによって熱膨張係数を変化
させ、注意深く調節するのに実際的意義がある。ＳｒＯ
の代りに８モルパーセントまで好ましくは約６モルパー
ヒントを超えないでｌｅａ○を置換することができるが
、１８００℃の溶融温度を採用する場合、ＢａＯの揮発
が問題となる。ＳｉＯは１８００℃で揮発を受けにくい
。
さらに、ガラス溶融の観点からも一助重要であるが、大
量のＢａＯを含むとガラス中に気泡の発生をもたらす。
例えば、ＳｒＯの代りにＢａＯをすべて置換すると、１
８００℃を超えない溶融温度で少しも気泡を含まないガ
ラスを生成することは実質的に不可能である。これに対
して、ラボ実験ひは、三成分系Ｓｒ　０−Ａ９，２０３
　　Ｓｉ　０２の上述した範囲のガラスから殆ど気泡を
含まないガラスが調製できた。従って、ＢａＯを混合す
るとガラスに有益な特性を与えるが、その存在は、揮発
物が環境を汚染し、またガラスを良い品質に溶融するこ
とを一層困難にする。
従来技術と本発明との比較 「酸化ストロンチウム−酸化アルミニウムー二酸化ケイ
素系におけるガラス形成の領域Ｊ（Ｋｈ。
Ｓｈ　、　　ｌ５ｋｈａｋｏｖ　、　Ｕｚｂ、　Ｋｈｉ
ｍ　、　Ｚｈ　、１５　　（１）。
１０〜１２（１９７１））には、モルパーセントで２５
〜６０％のＳｒＯ、５〜３０％のＡ９Ｊ２０３、おヨヒ
３５〜６５％の３ｉ０２から成るガラスを１５００°〜
１５５０゜で１〜１．５時間溶融することにより調製す
ることが記述されている。ＳｒＯ含最は明らかに、本発
明のものから全く離れている。
［ストロンチア−アルミナ−シリカ系におけるガラスの
調製Ｊ　　（Ｋｈ　、　Ｓｈ　、　　ｌ　５ｋｈａｋｏ
ｖ　、　（Ｊｚｂ。
Ｋｈｉｌｎ　、　Ｚｈ　、　、　１５　　（２）、　７
９〜８１　（１９７１）　）には、上記参照文献の範囲
内の組成を有するガラスに関し決定されたいくつかの物
理的特性について記述されている。ガラスは６４〜９７
Ｘ　１０°７／”Ｃの熱膨張係数を示ずことが認められ
た。ＳｒＯ含ωが増すと、熱膨張係数が上がることが述
べられている。
「ガラスＪ　　（Ｇ　、　　Ｉ　、　Ｚ　ｈｕｒａｖｌ
ａｖら、Ｇｌａｓｓ。
ＵＳＳＲＳＵ　８７０．　３６５．１９８４年１月７日
）は、重量パーセントで２５〜３５％の３ｒＱ、１１〜
２０％のＡ９Ｊ２０３、Ｊ３よび４１〜６３％の８１０
２を含み、一層高い軟化点と特別な電気抵抗率を示すガ
ラスの調製を発表している。温度を比較すると一般に、
ＳｒＯ水準は本発明のガラスより高く、５ｉＯｚ水準は
低い。
「電気泳動デポジションによりニオブ基板上に二酸化ケ
イ素−酸化アルミニウム・酸化ストロンチウム系を分散
させたガラスの応用Ｊ　　（Ｇ、Ｉ。
Ｚｈｕｒａｖｌａｖら、ｚｈ　、　　ｐｒｉｋｌ、　ｌ
（ｈｉｍ　、　　（１ｅｎｉｎ１１１ｒａｄ）　５４　
　（７１１６０１〜４　（１９８１）　）は、上記の参
照文献に示された範囲内の組成を有するガラスの電気泳
動デポジションによる、保護電気絶縁コーティングの高
圧ランプのニオブパーツへの応用について記述している
。
米国特許第４，１８０，６１８号は、基板上に付着させ
たケイ素の薄膜から成る電子装置の製造について発表し
ており、ここで基板は本質的に＠ｗペパーントで５５〜
７５％のＳｉ０２．５〜２５％のＡ９．ｚＯ３、および
９〜１５％のＣａＯ１１４〜２０％のＳｒＯ、および１
８〜２６％のＢａＯの割合で示された群から選ばれた少
なくとも１種のアルカリ土類酸化物から成るガラスで構
成される。Ｃａ　Ｏ，！：Ｂａ　Ｏ含覆は、本発明のガ
ラスに許容できるものより高い。
３ｒ　ｏ、Ａ免ｚ　０３　、および５ｉＯｚの広い範囲
は本発明のガラスのものと重なるが、組成を本発明の狭
く制限した範囲内に確保することができるすぐれた特性
のマトリックスは認められず、また本発明のガラスの制
限内にある実施例も示されていない。
（実　施　例） 表工は、酸化物を基礎とするモルパーセントで表された
多数のガラス組成を示し、本発明のパラメーターを例示
する。実際のバッチ成分は共に溶融した時、適当な割合
で所望の酸化物に変化する酸化物または他の化合物の任
意の材料を含む。以下に示すラボ実験では、バッチ材料
は高純度砂、Ａ！２．ｚ　Ｏ３、Ｓｒ　ＣＯ３、［３ａ
　ＣＯ３、ＭＩＪ　Ｏ。
Ｃａ　Ｏ，Ｚｎ　Ｏ，Ｍｎ　ＯｌおよびＬａ　ｚ　Ｏｓ
から成る。
バッチ材料を配合し、均一な溶融体になるようにボール
ミル粉砕し、白金または白金−ロジウムるつぼに詰めた
。７７％のＳ！Ｏｘおよびそれ以下を含むこれらのバッ
チを電熱炉内にて１６００〜１６５０℃で４〜１６時間
溶融した。Ｓｉ○２含ωが一層高いバッチは、気体酸素
点火炉にて１７００”〜１８００℃で１６時間溶融した
。それぞれの場合について、溶融体を鉄の鋳型に流し込
み、約３０．５ｃｍ（１２インチ）の直径と約１．９ｃ
ａ＋　（０，７５インチ）の厚さの円形スラブを形成し
、これらのスラブをすぐに焼なまし器に移した。表ＩＡ
は表■の組成を酸化物を基礎とする重量パーセントによ
り示した。
人−エ ニー」し、Ｌ二１５６ ＳｉＯｚ　　　　　８０　　８０　　８０　　８０　　
８０　　８０Ａ９！ｚｏ３１０　　１０　　１０　　１
０　　１０　　１０ｓｒｏ　　　　　ｉｏ　　　　８　
　　６　　　８　　　６　　　４Ｍｇ０　　　　　−　
　　２　　　４　　　−　　　−　　　−ＣａＯ・２４
・ ３ａＱ・・ｅ ７　　　Ｂ　　　ｇ　　　１０　　１１　　１２ＳｉＯ
ｚ　　　　　８０　　８０　　８０　　８０　　８０　
　８０Ａ９，２０３１０　　１０　　１０　　１０　　
１０　　１０ＳｒＯ８６８６８６ ＺｎＱ　　　　　　２　　　４　　　−　　　−　　　
−　　　−１−ａＱｌ、５　　　−　　　−　　　２　
　　４　　　−　　　−ＭｎＯ・・２４ Ａ９ＪｚＯ３１０１０１０１ｏ　　　１０　　１０Ｓｒ
Ｏ８６５４−１１ ８ａＯ＋ＣａＯ２４５６１０− ＡｆＬｚＯ３８ＩＱ　　　１２　　　８　　１０　　１
２ＳｒＯ１５１３ｉｉ　　　　１７　　　１５　　　１
３表　■（続） Ａ９ＪｚＯ３８１０１２１５１２７ ５ｒＱ　　　　　１９　　１７　　１５　　１５　　１
７　　１３Ａ免２０３　　　９　　１１　　　８　　　
９　　１０　　１１ＳｒＯ１３１３１２１２１２１２ Ａ９．ｚｏｓ　　　　７　　　８　　　９　　１０　　
　８　　　９３ｒＱ　　　　　１１　　１１　　１１　
　１１　　１０　　１０Ａ９．ｚＯ３１ｔ　　　１２　
　１３　　　８　　　９　　１０ＳｒＯ１０１０１０９
９９ Ａ９Ｊ２０ｓ　　　　１１　　１２　　１３　　　８　
　　９　　１０ＳｒＯ９９９８８８ Ａ９．ｚｏ３１０　　１０　　１０ ＳｒＱ　　　　　７　　　３　　　２ ８ａＯ−７８ 表ＩＡ Ａ９Ｊｚｏ、１４．９　　１５，２　　１５，４　　１
５，１　　１５，３　　１４．３３ｒＯ１５，１１２，
３９，４１２，３９，３５，８Ｍ（ＪＯ・１，２２，５
・ ＣａＯ・１，６３，Ａ　　　・ ＢａＯ・・１２，８ Ａ９Ｊ２０３１５．０　　１５，１　　１５．Ｏ１５，
１１５，０１５，２ＳｒＯ１２，２９，２１２，２９，
２１２，２９，２ＺｎＯ２，３４，８・・ Ｌａ０１．５−−　　　２．３　　４．６　　−　　　
−ＭｎＱ　　　　　　・・２，１４，２ Ａ９．ｚｏ３１４．７　　１４，５　　１４，３　　１
４，９　　１３．９　　１４．８ＳｒＯ１１，９８，８
７，３６，０−１６，５Ｂａ　Ｏ＋Ｃａ○　４．４　　
８．７　　１０，８　　９．２　　２０．８　　−Ａ９
ＪｚＯ３１１，７１４，６１７，３１１，５１４，４１
７，ｌ５ｒＯ２２，２１９，３１６，４２４，９２２，
０１９，ＩＡ９．ｚｏ３１１，４　　１４，２　　１６
．８　　２０，８　　１６，７　　１０．４ＳｒＯ２７
，５２４，６２１，８２１，４２４，４１９，６表　Ｉ
Ａ（続） ３１　　　３２’　　　３３　　　３４　　　３５　　
　３６Ｓｉｎ２６７．４　６４，９　７０．１　６８．
８　６７．５　６６．２Ａ免２０３　　　１３．２　１
５．９　１１．９　１３．３　１４．７　１６．ｌＳｒ
Ｏ、９，４１９，２１８，０１７，９１７，８１７，７
８ｉｎ２７２．６　７１．３　７０．０　６８．４　７
２，７　７１．３Ａ９，２０３１０，５　１２．０　１
３．４　１４，９　１２．０　１３．５３ｒ○　　　　
１６．９　１６．７　１６，６　１６．７　１５．３　
　１５．２Ｓ１０□　　　　６Ｂ、７　６７．６　６６
．３　７４，０　７２，６　７１．３Ａ９Ｊ２０３１６
，３　１７，４　１８．８　１２．１　１３．６　１５
．０８ｒＯ１５，０１５，０１４，９１３，９１３，８
１３，７ＳｉＯ□　　　　７０，０　６８．９　６７．
６　７５．４　７４，０　７２．７Ａｉ２Ｑ３１６．４
　１７．５　１８．９　１２．２　１３．７　１５．ｌ
ＳｒＯ、３，６１３，６１３，５１２，４１２，３１２
，２Ｓｉ　０２　　　　７４．０　６６．７　６６．２
ＡＬ２０３　　　１５．２　　１４．１　　１４．０Ｓ
ｒＯ１０，８４，３２，９ ３ａＱ　　　　　　−１４，９１６，９表■は、上記ガ
ラスについて測定した若干の物理的特性を示す。℃で表
されたアニール点およびひずみ点は、ＡＳＴＭＣ５９８
に記述されているビーム曲り法に従って測定した。Ｘ１
０−’／℃で表された２５°〜３００℃の範囲の線熱膨
張係数は、溶融シリカ膨張針を用いるＡＳＴＭ　　Ｅ　
　２２８に従って確認した。℃で表された内部液相線湯
度は、ガラスを白金ボートに入れ、このボートを液相線
温度まで段々に温度グラジェントする炉内に入れ、この
炉内にボートを２４時間保持させることによって求めた
。１０５ポアズで表された液相線でのガラスの粘度は、
ガラスを２℃／分で冷却しながら回転粘度計を用いて求
めた。オーム−αで表された直流抵抗率（２５０℃およ
び３５０℃）、室温および１ＫＨｚでの誘電率、室温お
よびＩ　ＫＨ２での誘電正接は、ＡＳＴＭ　　Ｄ　１５
０、Ｄ２５７、およびＤ６５７に示されている方法に従
って求めた。また、５％Ｉ−Ｉ　Ｃλ水溶液に２４時間
、５％Ｎａ　ＯＨ水溶液に６時間、オヨび０．０２　Ｎ
Ｎａ　２　ＣＯ３水溶液に６時間、それぞれ浸漬し、各
浸漬を９５℃で行い、各減量をｑ／ｃ！Ｒ２で表した際
の化学的耐久性は、視覚による外観と重量損失によって
、磨いたガラス板で確認した。外観に関して、変化なし
、わずかなフロスト、およびわずかな曇りの表示を用い
て示した。
ガラス１９〜２８を電熱炉内にて１６５０℃で１６時間
溶融した。ガラス２５と２６は透明で、粘性があり、気
泡がなかった。ガラス２０．２２および２４は透明であ
るが気泡が入っていた。また他のガラスは、いくらかの
気泡を含み、透明であった。例示的組成の残りのものは
、気体酸素炉内にて１８００℃で１６時間溶融した。８
１モルパーセントまでのＳ　ｉ　Ｏｚ水準では、ガラス
は透明で粘性があり、気泡がなかった。８２モルパーセ
ントの５ｉＯｚ１度で、ガラスは透明で、非常に粘性が
あり、また意外にも気泡がなかった。８３モルパーセン
トのＳ！０２含岳で、ガラスは透明であったが、わずか
に動くほどの粘性があり、またいくらか気泡を含んでい
た。
表ＩＩ ひずみ点　　８３９　８４８　７９１　８２２　８１２
　８２７線熱膨張係数　　　　　３６，２　　３１，９
　　２７，８　　３４，０　　３３，９　　３６．９液
相線温度　１３６３　１４０８　１４２７　１４’２８
　１４４６　１３１９液相線での粘度　　　　１．１　
　　−　　　−−　　　−　　　１４直流抵抗率 ２５０　　　１２．７４　−　−　−　−　１１．９７
３５０　　　１０．７６　−　−　−　−　１０．０９
誘電率　　　５．４３　−　−　−　−　６．００誘電
正接　　・・０，００２２ ５％Ｈ０１２゜ 外　　　　観　　　　変化なし　　・・変化なし重量損
失　　０．０２　−　、−　−　−　０．０１５％Ｎａ
　ＯＨ僅かな 外　　　　観　　　僅かな曇り　　・・フロスト重量損
失　　１．２　−　−　−　−　１．３０．０２　Ｎ　
　Ｎａ　ｚ　ＣＯ３ 外　　　　観　　　　変化なし　　・・価かな曇り重量
損失　　０．０２　−　−　−　−　０．０２アニ一ル
点　８４６　８２１　８７０　８６１　８５７　８４１
ひずみ点　　７８９　７６３　８１１　８０４　７９９
　７８５線熱膨張係数　　　　　□□□、２　　２６，
５　　３３．３　　３２．０　　３１，７　　２７．８
液相線温度　１４０８　１４４３　１４１８　１４３６
　１４８６　１４１７表　工■（続） アニ一ル点　８８８　８９０　８８０　８７１　８７３
　８８４ひずみ点　　８２９　８２８　８１６　８１１
　８１０　８２６線熱膨張係数　　　　　３６，６　　
３６，０　　３７．２　　３４，５　　３９．３３８液
相線潟度　１４１４　１３８７　１３７５　１３９９　
１３３６　１３６５アニ一ル点　８０９　８４８　９０
１　７９４　８２９　８８０ひずみ点　　７５５　７９
０　８３７　７４３　７６９　８２０線熱膨張係数　　
　　　４５．１　　４１，２　　３７．０　　４８．３
　　４４，３　　４１．２液相線温度　１３２０　１３
４６　１３７５　１３０１　１３１３　１４２６アニ一
ル点　７８５　８０７　８４９　８８５　８２０　８１
１ひずみ点　　７３６　７５０　７９７　８３２　７７
２　７５８線熱膨張係数　　　　　５１，６　　４８．
０　　４４．１　　４３．９　　４８．３　　３８．１
液相線温度　１２０９　１２８９　１４３３　１５７３
　１４２１　１４４１アニ一ル点　８６５　−　８３４
　８９３　８５５　−ひずみ点　　８０４　−　７７８
　８３２　７９６　７９８線熱膨張係数　　　　　３７
．０　　３９，５　　３８，４　　３５，３　　３８．
６　　４１．２液相線温度　１３６９　１４１８　１４
０８　１３８２　１３５９　１４１１表　ＩＮ続） ・一一一一――――■・開・・一■■■・叩・■・闇■
■自・――■■・一■■■・陳・―■―・■・■自・―
■■■■■ｐ―・一■■■■――・■■瞭アニール点　
８４３　８６３　８６９　８８４　８５７　８９Ｇヒス
ミ点　　７８７　８００　８０９　８２２　７９８　８
２４線熱膨張係数　　　　　３６．１　　３５゜４　　
３６．４　　３７，１　　３５．５　　３３．７液相線
温度　１４８６　１４５７　１３８４　１４２３　１４
２７　１４００アニ一ル点　８５６　８８９　８７７　
９０４　９００　８９６ひずみ点　　８０３　８３１　
８１８　８４１　８３９　８３４線熱膨張係数　　　　
　４０．４　　３３．１　　３１．６　　３０．４　　
３４．１　　３２．１液相線温度　１３８７　１３９０
　１４４６　１４５７　１４６１　１４４５アニ一ル点
　８９３　−　８８４　９０８　９０７　９０１ひずみ
点　　８３４　８２７　８２６　８４６　８４６　８３
８線熱膨張係数　　　　　　−３１，８３０，４２９，
４２７，４３１，３液相線温度　１３８１　−　１４８
７　１４３６　１４６０　１４６１アニール点　８９７
　８８７　８８５ ひずみ点　　８３５　８２４　８２２ 線熱膨張係数　　　　　２７，１　　３８．０　　３８
，０液相線温度　１４５０　１３１５　１３．４２表１
と表■を共に検討すると、約１８００℃以下の温度で溶
融でき、また少なくとも８５０℃のアニール点、２５°
〜３００℃の温度範囲で約３０〜４０Ｘ１０’／℃の線
熱膨張係数、約１４００℃を超えない液相線温度、およ
び少なくとも１００，０００ポアズの液相線粘度を示す
ガラスを調製するために、Ｓｒ　Ｏ，Ａ９、ｚ　０３　
、および５ｉＯｚ１度を規定した三成分系の範囲内に保
つことの重要性をはっきりと示している。またこの検討
では、ＭｇＯ，ＣａＯ、ＺｎｏＳＬａ２’３および／ま
たはＭｎ○の混入が上記特性に関して生成したガラスに
もたらす一般に好ましくない影響を示している。これに
対し、ＢａＯの添加はガラスの粘度に重大な影響を及ぼ
さずに液相線温度を下げるのに有効であるが、この添加
の際には、ＢａＯの連発とガラス中の気泡の発生に注意
をはられなければならない。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）少なくとも８５０℃のアニール点、２５°〜３０
    ０℃の温度範囲で約３０〜４０×１０＾−＾７／℃の線
    熱膨張係数、１４００℃を超えない液相線温度、および
    少なくとも１×１０＾５ポアズの液相線粘度を示す約１
    ８００℃以下の温度で溶融でき、本質的にアルカリ金属
    酸化物を含まず、酸化物を基礎とするモルパーセントで
    表した９〜１２％のＳｒＯ、９〜１２％のＡｌ＿２Ｏ＿
    ３、７７〜８２％のＳｉＯ＿２から本質的に成る明るい
    透明なストロンチウムアルミノシリケートガラス。
  2. （２）ＳｒＯの代りに８モルパーセントまでのＢａＯを
    置換する特許請求の範囲第１項記載のガラス。
  3. （３）大きな結晶ポリシリコン半導体フィルムを上に生
    長させるために平らで透明な基板を有する平板ディスプ
    レイ装置において、前記基板が１８００℃以下の温度で
    溶融でき、少なくとも８５０℃のアニール点、２５°〜
    ３００℃の温度範囲で約３０〜４０×１０＾−＾７／℃
    の線熱膨張係数、１４００℃を超えない液相線温度、お
    よび少なくとも１×１０＾５ポアズの液相線粘度を示す
    ストロンチウムアルミノシリケートガラスであり、前記
    ガラスが本質的にアルカリ金属酸化物を含まず、本質的
    に酸化物を基礎とするモルパーセントで表した９〜１２
    ％のＳｒＯ、９〜１２％のＡｌ＿２Ｏ＿３、７７〜８２
    ％のＳｉＯ＿２から成る平板ディスプレイ装置。
  4. （４）ＳｒＯの代りに８モルパーセントまでのＢａＯを
    置換する特許請求の範囲第３項記載の装置。
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