JPH0798672B2 - 平板デイスプレイ装置用ストロンチウムアルミノシリケ−トガラス基板 - Google Patents
平板デイスプレイ装置用ストロンチウムアルミノシリケ−トガラス基板Info
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- JPH0798672B2 JPH0798672B2 JP61239000A JP23900086A JPH0798672B2 JP H0798672 B2 JPH0798672 B2 JP H0798672B2 JP 61239000 A JP61239000 A JP 61239000A JP 23900086 A JP23900086 A JP 23900086A JP H0798672 B2 JPH0798672 B2 JP H0798672B2
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- sio
- aluminosilicate glass
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は平板ディスプレイ装置、およびそのためのスト
ロンチウムアルミノシリケートガラス基板に関する。
ロンチウムアルミノシリケートガラス基板に関する。
（従来技術と発明が解決しようとする問題点） ２つの最近の技術的進歩は、平板ディスプレイ装置につ
いて明らかに実際的な次に示す可能性を大きくした。す
なわち、 （１） 改良された特性を示す液晶の調製；および （２） 微粒ポリシリコンの表面層の製造である。
いて明らかに実際的な次に示す可能性を大きくした。す
なわち、 （１） 改良された特性を示す液晶の調製；および （２） 微粒ポリシリコンの表面層の製造である。
液晶の発達は、小型カラーテレビ受像機を液晶から製造
し、非常に大きな情報ディスプレイパネルが技術的に可
能な所まで進んだ。液晶は本来、電気信号に対して遅い
応答を示すので、能動マトリックスディスプレイを組立
てるためには電気的刺激に対して素早く応答する「スイ
ッチ」が必要である。薄膜トランジスタ（TFT）がこの
機能を果たす。
し、非常に大きな情報ディスプレイパネルが技術的に可
能な所まで進んだ。液晶は本来、電気信号に対して遅い
応答を示すので、能動マトリックスディスプレイを組立
てるためには電気的刺激に対して素早く応答する「スイ
ッチ」が必要である。薄膜トランジスタ（TFT）がこの
機能を果たす。
TFTが単結晶シリコンから製造できることは良く知られ
ているが、単結晶シリコンのその性質によって、それか
ら作られるTFTの大きさに制限がある。基板上に付着さ
せた微粒ポリシリコン層をレーザーのような熱源を用い
てスキャンすることにより、粗粒ポリシリコンに再結晶
させることができることが見出された。粗粒ポリシリコ
ンから調製されたTFTは、単結晶シリコンから作られたT
FTに比べ電気特性においてわずかな悪化しか示さず、ま
た液晶ディスプレイを多重送信する場合、極めて満足に
働くことが認められた。
ているが、単結晶シリコンのその性質によって、それか
ら作られるTFTの大きさに制限がある。基板上に付着さ
せた微粒ポリシリコン層をレーザーのような熱源を用い
てスキャンすることにより、粗粒ポリシリコンに再結晶
させることができることが見出された。粗粒ポリシリコ
ンから調製されたTFTは、単結晶シリコンから作られたT
FTに比べ電気特性においてわずかな悪化しか示さず、ま
た液晶ディスプレイを多重送信する場合、極めて満足に
働くことが認められた。
粗粒ポリシリコン能動マトリックスディスプレイは透明
で、平らで、なめらかで、不活性であり、熱膨張に関し
てシリコンと一致しており、また少なくとも850℃の処
理温度に耐えられる基板が必要である。従って、ガラス
はアルカリ金属イオンを含まなければこれらの要求を満
たし、ほぼ30〜40×10-7/℃の線熱膨張係数（25゜〜300
℃）と少なくとも850℃、好ましくは875℃以上のアニー
ル点を示す。米国特許第3,338,696号に記述されている
ガラス板の製造方法を用いるためには、ガラスは少なく
とも100,000ポアズ、好ましくは250,000ポアズ以上の液
相線粘度を示さなければならない。また、900℃付近の
アニール点を有する透明で均質なガラスを約1800℃以下
の温度の溶融バッチで得ることは非常に難しい。1800℃
は酸化雰囲気下で用いられる白金−ロジウムおよび多く
の耐火物と接触する溶融材料についての実際的な制限を
意味する。最後に、従来の装置と技術を用いて行うガラ
ス生成を可能にするために、約1400℃を越えない液相線
温度が非常に好ましい。
で、平らで、なめらかで、不活性であり、熱膨張に関し
てシリコンと一致しており、また少なくとも850℃の処
理温度に耐えられる基板が必要である。従って、ガラス
はアルカリ金属イオンを含まなければこれらの要求を満
たし、ほぼ30〜40×10-7/℃の線熱膨張係数（25゜〜300
℃）と少なくとも850℃、好ましくは875℃以上のアニー
ル点を示す。米国特許第3,338,696号に記述されている
ガラス板の製造方法を用いるためには、ガラスは少なく
とも100,000ポアズ、好ましくは250,000ポアズ以上の液
相線粘度を示さなければならない。また、900℃付近の
アニール点を有する透明で均質なガラスを約1800℃以下
の温度の溶融バッチで得ることは非常に難しい。1800℃
は酸化雰囲気下で用いられる白金−ロジウムおよび多く
の耐火物と接触する溶融材料についての実際的な制限を
意味する。最後に、従来の装置と技術を用いて行うガラ
ス生成を可能にするために、約1400℃を越えない液相線
温度が非常に好ましい。
従って、本発明の主な目的は約30〜40×10-7/℃の線熱
膨張係数（25゜〜300℃）、少なくとも850℃のアニール
点、約1400℃以下の液相線温度、少なくとも100,000ポ
アズの液相線粘度を示し、約1800℃を越えない温度で溶
融できる透明で均質なガラスを調製することである。
膨張係数（25゜〜300℃）、少なくとも850℃のアニール
点、約1400℃以下の液相線温度、少なくとも100,000ポ
アズの液相線粘度を示し、約1800℃を越えない温度で溶
融できる透明で均質なガラスを調製することである。
（問題点を解決するための手段） 本発明の目的を満足するガラスは、酸化物を基礎とした
モルパーセントで表される約９〜12％のSrO、９〜12％
のAl2O3、および77〜82％のSiO2から本質的に成る組成
を有する三成分のSrO−Al2O3−SiO2系内に殆んどアルカ
リ金属酸化物を含まないガラスの制限された範囲から調
製できることを見出した。これらの組成割合の制限は、
極めて臨界的である。例証すると、SrOの水準が高すぎ
るとアニール点は所望の目標以下に下がり、線熱膨張係
数は満足できない高い値に上がる。逆にSrO含量が低す
ぎる場合、ガラスは溶融が非常に難しくなり、および／
または液相線温度が満足できない水準まで上がる。明記
したものより低いAl2O3濃度では、アニール点が低すぎ
てしまう。明記した以上のAl2O3含量は、望ましくない
高い液相線温度をもたらす。SiO2の分量が規定した最大
値をこえると、ガラスは溶融が非常に難しくなる。SiO2
水準が示した最小値以下の場合、アニール点が非常に低
くなるかまたは液相線温度が非常に高くなる。
モルパーセントで表される約９〜12％のSrO、９〜12％
のAl2O3、および77〜82％のSiO2から本質的に成る組成
を有する三成分のSrO−Al2O3−SiO2系内に殆んどアルカ
リ金属酸化物を含まないガラスの制限された範囲から調
製できることを見出した。これらの組成割合の制限は、
極めて臨界的である。例証すると、SrOの水準が高すぎ
るとアニール点は所望の目標以下に下がり、線熱膨張係
数は満足できない高い値に上がる。逆にSrO含量が低す
ぎる場合、ガラスは溶融が非常に難しくなり、および／
または液相線温度が満足できない水準まで上がる。明記
したものより低いAl2O3濃度では、アニール点が低すぎ
てしまう。明記した以上のAl2O3含量は、望ましくない
高い液相線温度をもたらす。SiO2の分量が規定した最大
値をこえると、ガラスは溶融が非常に難しくなる。SiO2
水準が示した最小値以下の場合、アニール点が非常に低
くなるかまたは液相線温度が非常に高くなる。
モルパーセントで表示された組成範囲を重量パーセント
の範囲に正確に変換することはできないが、重量パーセ
ントで表された三成分系の近似値は約13〜18％のSrO、1
3〜18％のAl2O3、および66〜72％のSiO2である。
の範囲に正確に変換することはできないが、重量パーセ
ントで表された三成分系の近似値は約13〜18％のSrO、1
3〜18％のAl2O3、および66〜72％のSiO2である。
三成分系中のSrOをMgO、CaO、ZnO、La2O3、およびMnOで
少量置換すると、ガラスの線膨張係数および／またはア
ニール点および／または液相線温度に望ましくない影響
を及ぼす。従って、所望のガラス特性を維持するには、
これらの物質を非常に少量だけ添加することが許され
る。アルカリ金属酸化物のような強力な融剤は、本質的
に存在しないことが望ましい。
少量置換すると、ガラスの線膨張係数および／またはア
ニール点および／または液相線温度に望ましくない影響
を及ぼす。従って、所望のガラス特性を維持するには、
これらの物質を非常に少量だけ添加することが許され
る。アルカリ金属酸化物のような強力な融剤は、本質的
に存在しないことが望ましい。
SrOの一部をBaOで置換すると線膨張係数がわずかに上昇
し、またガラスの粘度に逆影響を及ぼさずにかなりの程
度まで液相線温度を非常に望ましく減らすことができ
る。従って、SrOの代りにBaOを用いてもアニール点は少
しも変わらない。このBaOの性能は、SrOとBaO濃度のバ
ランスによって熱膨張係数を変化させ、注意深く調節す
るのに実際的意義がある。SrOの代りに８モルパーセン
トまで好ましくは約６モルパーセントを超えないでBaO
を置換することができるが、1800℃の溶融温度を採用す
る場合、BaOの揮発が問題となる。SiOは1800℃で揮発を
受けにくい。
し、またガラスの粘度に逆影響を及ぼさずにかなりの程
度まで液相線温度を非常に望ましく減らすことができ
る。従って、SrOの代りにBaOを用いてもアニール点は少
しも変わらない。このBaOの性能は、SrOとBaO濃度のバ
ランスによって熱膨張係数を変化させ、注意深く調節す
るのに実際的意義がある。SrOの代りに８モルパーセン
トまで好ましくは約６モルパーセントを超えないでBaO
を置換することができるが、1800℃の溶融温度を採用す
る場合、BaOの揮発が問題となる。SiOは1800℃で揮発を
受けにくい。
さらに、ガラス溶融の観点からも一層重要であるが、大
量のBaOを含むとガラス中に気泡の発生をもたらす。例
えば、SrOをBaOですべて置換すると、1800℃を超えない
溶融温度で少しも気泡を含まないガラスを生成すること
は実質的に不可能である。これに対して、ラボ実験で
は、三成分系SrO−Al2O3−SiO2の上述した範囲のガラス
から殆ど気泡を含まないガラスが調製できた。従って、
BaOを混合するとガラスに有益な特性を与えるが、その
存在は、揮発物が環境を汚染し、またガラスを良い品質
に溶融することを一層困難にする。
量のBaOを含むとガラス中に気泡の発生をもたらす。例
えば、SrOをBaOですべて置換すると、1800℃を超えない
溶融温度で少しも気泡を含まないガラスを生成すること
は実質的に不可能である。これに対して、ラボ実験で
は、三成分系SrO−Al2O3−SiO2の上述した範囲のガラス
から殆ど気泡を含まないガラスが調製できた。従って、
BaOを混合するとガラスに有益な特性を与えるが、その
存在は、揮発物が環境を汚染し、またガラスを良い品質
に溶融することを一層困難にする。
従来技術と本発明との比較 「酸化ストロンチウム−酸化アルミニウム−二酸化ケイ
素系におけるガラス形成の領域」（Kh.Sh.Iskhakov,Uz
b.Khim.Zh.15（１）,10〜12（1971））には、モルパー
セントで25〜60％のSrO、５〜30％のAl2O3、および35〜
65％のSiO2から成るガラスを1500゜〜1550゜で１〜1.5
時間溶融することにより調製することが記述されてい
る。SrO含量は明らかに、本発明のものから全く離れて
いる。
素系におけるガラス形成の領域」（Kh.Sh.Iskhakov,Uz
b.Khim.Zh.15（１）,10〜12（1971））には、モルパー
セントで25〜60％のSrO、５〜30％のAl2O3、および35〜
65％のSiO2から成るガラスを1500゜〜1550゜で１〜1.5
時間溶融することにより調製することが記述されてい
る。SrO含量は明らかに、本発明のものから全く離れて
いる。
「ストロンチア−アルミナ−シリカ系におけるガラスの
調製」（Kh.Sh.Iskhakov.Uzb.Khim.Zh.,15（２）,79〜8
1（1971））には、上記参照文献の範囲内の組成を有す
るガラスに関し決定されたいくつかの物理的特性につい
て記述されている。ガラスは64〜97×10-7/℃の熱膨張
係数を示すことが認められた。SrO含量が増すと、熱膨
張係数が上がることが述べられている。
調製」（Kh.Sh.Iskhakov.Uzb.Khim.Zh.,15（２）,79〜8
1（1971））には、上記参照文献の範囲内の組成を有す
るガラスに関し決定されたいくつかの物理的特性につい
て記述されている。ガラスは64〜97×10-7/℃の熱膨張
係数を示すことが認められた。SrO含量が増すと、熱膨
張係数が上がることが述べられている。
「ガラス」（G.I.Zhuravlavら、Glass,USSR SU 870,3
65,1984年１月７日）は、重量パーセントで25〜35％のS
rO、11〜20％のAl2O3、および41〜63％のSiO2を含み、
一層高い軟化点と特別な電気抵抗率を示すガラスの調製
を発表している。濃度を比較すると一般に、SrO水準は
本発明のガラスより高く、SiO2水準は低い。
65,1984年１月７日）は、重量パーセントで25〜35％のS
rO、11〜20％のAl2O3、および41〜63％のSiO2を含み、
一層高い軟化点と特別な電気抵抗率を示すガラスの調製
を発表している。濃度を比較すると一般に、SrO水準は
本発明のガラスより高く、SiO2水準は低い。
「電気泳動デポジションによりニオブ基板上に二酸化ケ
イ素−酸化アルミニウム・酸化ストロンチウム系を分散
させたガラスの応用」（G.I.Zhuravlavら、Zh.Prikl.Kh
im.（Leningrad）54（７） 1601〜４（1981））は、上
記の参照文献に示された範囲内の組成を有するガラスの
電気泳動デポジションによる、保護電気絶縁コーティン
グの高圧ランプのニオブパーツへの応用について記述し
ている。
イ素−酸化アルミニウム・酸化ストロンチウム系を分散
させたガラスの応用」（G.I.Zhuravlavら、Zh.Prikl.Kh
im.（Leningrad）54（７） 1601〜４（1981））は、上
記の参照文献に示された範囲内の組成を有するガラスの
電気泳動デポジションによる、保護電気絶縁コーティン
グの高圧ランプのニオブパーツへの応用について記述し
ている。
米国特許第4,180,618号は、基板上に付着させたケイ素
の薄膜から成る電子装置の製造について発表しており、
ここで基板は本質的に重量パーセントで55〜75％のSi
O2、５〜25％のAl2O3、および９〜15％のCaO、14〜20％
のSrO、および18〜26％のBaOの割合で示された群から選
ばれた少なくとも１種のアルカリ土類酸化物から成るガ
ラスで構成される。CaOとBaO含量は、本発明のガラスに
許容できるものより高い。SrO、Al2O3、およびSiO2の広
い範囲は本発明のガラスのものと重なるが、組成を本発
明の狭く制限した範囲内に確保することができるすぐれ
た特性のマトリックスは認められず、また本発明のガラ
スの制限内にある実施例も示されていない。
の薄膜から成る電子装置の製造について発表しており、
ここで基板は本質的に重量パーセントで55〜75％のSi
O2、５〜25％のAl2O3、および９〜15％のCaO、14〜20％
のSrO、および18〜26％のBaOの割合で示された群から選
ばれた少なくとも１種のアルカリ土類酸化物から成るガ
ラスで構成される。CaOとBaO含量は、本発明のガラスに
許容できるものより高い。SrO、Al2O3、およびSiO2の広
い範囲は本発明のガラスのものと重なるが、組成を本発
明の狭く制限した範囲内に確保することができるすぐれ
た特性のマトリックスは認められず、また本発明のガラ
スの制限内にある実施例も示されていない。
（実 施 例） 表Ｉは、酸化物を基礎とするモルパーセントで表された
多数のガラス組成を示し、本発明のパラメーターを例示
する。実際のバッチ成分は共に溶融した時、適当な割合
で所望の酸化物に変化する酸化物または他の化合物の任
意の材料を含む。以下に示すラボ実験では、バッチ材料
は高純度砂、Al2O3、SrCO3、BaCO3、MgO、CaO、ZnO、Mn
O、およびLa2O3から成る。
多数のガラス組成を示し、本発明のパラメーターを例示
する。実際のバッチ成分は共に溶融した時、適当な割合
で所望の酸化物に変化する酸化物または他の化合物の任
意の材料を含む。以下に示すラボ実験では、バッチ材料
は高純度砂、Al2O3、SrCO3、BaCO3、MgO、CaO、ZnO、Mn
O、およびLa2O3から成る。
バッチ材料を配合し、均一な溶融体になるようにボール
ミル粉砕し、白金または白金−ロジウムるつぼに詰め
た。77％のSiO2およびそれ以下を含むこれらのバッチを
電熱炉内にて1600〜1650℃で４〜16時間溶融した。SiO2
含量が一層高いバッチは、気体酸素点火炉にて1700゜〜
1800℃で16時間溶融した。それぞれの場合について、溶
融体を鉄の鋳型に流し込み、約30.5cm（12インチ）の直
径と約1.9cm（0.75インチ）の厚さの円形スラブを形成
し、これらのスラブをすぐに焼なまし器に移した。表IA
は表Ｉの組成を酸化物を基礎とする重量パーセントによ
り示した。
ミル粉砕し、白金または白金−ロジウムるつぼに詰め
た。77％のSiO2およびそれ以下を含むこれらのバッチを
電熱炉内にて1600〜1650℃で４〜16時間溶融した。SiO2
含量が一層高いバッチは、気体酸素点火炉にて1700゜〜
1800℃で16時間溶融した。それぞれの場合について、溶
融体を鉄の鋳型に流し込み、約30.5cm（12インチ）の直
径と約1.9cm（0.75インチ）の厚さの円形スラブを形成
し、これらのスラブをすぐに焼なまし器に移した。表IA
は表Ｉの組成を酸化物を基礎とする重量パーセントによ
り示した。
表IIは、上記ガラスについて測定した若干の物理的特性
を示す。℃で表されたアニール点およびひずみ点は、AS
TMC 598に記述されているビーム曲り法に従って測定し
た。×10-7℃で表された25゜〜300℃の範囲の線熱膨張
係数は、溶融シリカ膨張計を用いるASTM E 228に従っ
て確認した。℃で表された内部液相線温度は、ガラスを
白金ボートに入れ、このボートを液相線温度また段々に
温度グラジエントする炉内に入れ、この炉内にボートを
24時間保持させることによって求めた。105ポアズで表
された液相線でのガラスの粘度は、ガラスを２℃／分で
冷却しながら回転粘度計を用いて求めた。オーム -cmで
表された直流抵抗率（250℃および350℃）、室温および
1KHzでの誘電率、室温および1KHzでの誘電正接は、ASTM
D 150、D 257、およびD 657に示されている方法に従
って求めた。また、５％HCl水溶液に24時間、５％NaOH
水溶液に６時間、および0.02NNa2CO3水溶液に６時間、
それぞれ浸漬し、各浸漬を95℃で行い、各減量をmg/cm2
で表した際の化学的耐久性は、視覚による外観と重量損
失によって、磨いたガラス板で確認した。外観に関し
て、変化なし、わずかなフロスト、およびわずかな曇り
の表示を用いて示した。
を示す。℃で表されたアニール点およびひずみ点は、AS
TMC 598に記述されているビーム曲り法に従って測定し
た。×10-7℃で表された25゜〜300℃の範囲の線熱膨張
係数は、溶融シリカ膨張計を用いるASTM E 228に従っ
て確認した。℃で表された内部液相線温度は、ガラスを
白金ボートに入れ、このボートを液相線温度また段々に
温度グラジエントする炉内に入れ、この炉内にボートを
24時間保持させることによって求めた。105ポアズで表
された液相線でのガラスの粘度は、ガラスを２℃／分で
冷却しながら回転粘度計を用いて求めた。オーム -cmで
表された直流抵抗率（250℃および350℃）、室温および
1KHzでの誘電率、室温および1KHzでの誘電正接は、ASTM
D 150、D 257、およびD 657に示されている方法に従
って求めた。また、５％HCl水溶液に24時間、５％NaOH
水溶液に６時間、および0.02NNa2CO3水溶液に６時間、
それぞれ浸漬し、各浸漬を95℃で行い、各減量をmg/cm2
で表した際の化学的耐久性は、視覚による外観と重量損
失によって、磨いたガラス板で確認した。外観に関し
て、変化なし、わずかなフロスト、およびわずかな曇り
の表示を用いて示した。
ガラス19〜28を電熱炉内にて1650℃で16時間溶融した。
ガラス25と26は透明で、粘性があり、気泡がなかった。
ガラス20,22および24は透明であるが気泡が入ってい
た。また他のガラスは、いくらかの気泡を含み、透明で
あった。例示的組成の残りのものは、気体酸素炉内にて
1800℃で16時間溶融した。81モルパーセントまでのSiO2
水準では、ガラスは透明で粘性があり、気泡がなかっ
た。82モルパーセントのSiO2濃度で、ガラスは透明で、
非常に粘性があり、また意外にも気泡がなかった。83モ
ルパーセントのSiO2含量で、ガラスは透明であったが、
わずかに動くほどの粘性があり、またいくらか気泡を含
んでいた。
ガラス25と26は透明で、粘性があり、気泡がなかった。
ガラス20,22および24は透明であるが気泡が入ってい
た。また他のガラスは、いくらかの気泡を含み、透明で
あった。例示的組成の残りのものは、気体酸素炉内にて
1800℃で16時間溶融した。81モルパーセントまでのSiO2
水準では、ガラスは透明で粘性があり、気泡がなかっ
た。82モルパーセントのSiO2濃度で、ガラスは透明で、
非常に粘性があり、また意外にも気泡がなかった。83モ
ルパーセントのSiO2含量で、ガラスは透明であったが、
わずかに動くほどの粘性があり、またいくらか気泡を含
んでいた。
表Ｉと表IIを共に検討すると、約1800℃以下の温度で溶
融でき、また少なくとも850℃のアニール点、25゜〜300
℃の温度範囲で約30〜40×10-7/℃の線熱膨張係数、約1
400℃を超えない液相線温度、および少なくとも100,000
ポアズの液相線粘度を示すガラスを調製するために、Sr
O、Al2O3、およびSiO2濃度を規定した三成分系の範囲内
に保つことの重要性をはっきりと示している。またこの
検討では、MgO、CaO、ZnO、La2O3および／またはMnOの
混入が上記特性に関して生成したガラスにもたらす一般
に好ましくない影響を示している。これに対し、BaOの
添加はガラスの粘度に重大な影響を及ぼさずに液相線温
度を下げるのに有効であるが、この添加の際には、BaO
の揮発とガラス中の気泡の発生に注意をはらわなければ
ならない。
融でき、また少なくとも850℃のアニール点、25゜〜300
℃の温度範囲で約30〜40×10-7/℃の線熱膨張係数、約1
400℃を超えない液相線温度、および少なくとも100,000
ポアズの液相線粘度を示すガラスを調製するために、Sr
O、Al2O3、およびSiO2濃度を規定した三成分系の範囲内
に保つことの重要性をはっきりと示している。またこの
検討では、MgO、CaO、ZnO、La2O3および／またはMnOの
混入が上記特性に関して生成したガラスにもたらす一般
に好ましくない影響を示している。これに対し、BaOの
添加はガラスの粘度に重大な影響を及ぼさずに液相線温
度を下げるのに有効であるが、この添加の際には、BaO
の揮発とガラス中の気泡の発生に注意をはらわなければ
ならない。
Claims (2)
- 【請求項１】少なくとも850℃のアニール点、25゜〜300
℃の温度範囲で約30〜40×10-7/℃の線熱膨張係数、140
0℃を超えない液相線温度、および少なくとも１×105ポ
アズの液相線粘度を示す約1800℃以下の温度で溶融で
き、本質的にアルカリ金属酸化物を含まず、酸化物を基
礎とするモルパーセントで表した９〜12％のSrO、９〜1
2％のAl2O3、77〜82％のSiO2から本質的に成る明るい透
明なストロンチウムアルミノシリケートガラス。 - 【請求項２】SrOが８モルパーセントまでのBaOで置換さ
れている特許請求の範囲第１項記載のガラス。
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| US790369 | 1985-10-23 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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-
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-
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