JPS62109220A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS62109220A JPS62109220A JP25017185A JP25017185A JPS62109220A JP S62109220 A JPS62109220 A JP S62109220A JP 25017185 A JP25017185 A JP 25017185A JP 25017185 A JP25017185 A JP 25017185A JP S62109220 A JPS62109220 A JP S62109220A
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- JP
- Japan
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- film
- thin
- thin film
- magnetic
- lubricating
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔１既要〕
この発明の磁気記録媒体は、連続磁性薄膜上に硬質炭素
薄膜と潤滑性炭素薄膜の二層構造の潤滑保護膜を設けた
ことにより、表面潤滑性と耐久性の向上を図ったもので
ある。
薄膜と潤滑性炭素薄膜の二層構造の潤滑保護膜を設けた
ことにより、表面潤滑性と耐久性の向上を図ったもので
ある。
この発明は、磁気記録媒体に係り、特に表面潤滑性と耐
久性の優れた記録媒体構造に関するものである。
久性の優れた記録媒体構造に関するものである。
磁気テープや磁気ディスクなどの磁気記録媒体では、磁
気へ、ドとの接触抵抗を軽減するために記録媒体表面に
潤滑膜を設けるのが普通である。
気へ、ドとの接触抵抗を軽減するために記録媒体表面に
潤滑膜を設けるのが普通である。
特に、コンタクトスタート・ストップ方式の磁気ディス
ク装置に使用する磁気ディスクでは、この表面潤滑膜は
不可欠なものである。
ク装置に使用する磁気ディスクでは、この表面潤滑膜は
不可欠なものである。
ところで、磁気ディスク装置にあっては記録密度の向上
が常に要求されており、それに応えるためにはヘッドと
記録媒体との間隙を従来以上に狭く、例えば０．１μｍ
以下にする必要がある。この場合、前記潤滑膜はその間
隙を増大するので可能な限り薄くする必要があると同時
に、ヘッドと媒体との接触する確率が高くなるため潤滑
性、耐久性ともより優れたものにする必要がある。
が常に要求されており、それに応えるためにはヘッドと
記録媒体との間隙を従来以上に狭く、例えば０．１μｍ
以下にする必要がある。この場合、前記潤滑膜はその間
隙を増大するので可能な限り薄くする必要があると同時
に、ヘッドと媒体との接触する確率が高くなるため潤滑
性、耐久性ともより優れたものにする必要がある。
従来、磁気ディスク表面の潤滑膜としては、液体潤滑剤
により形成した潤滑膜が主流である。
により形成した潤滑膜が主流である。
しかし最近では炭素の潤滑性を活かして、ディスク表面
に炭素薄膜を形成し潤滑作用を持たせることが提案され
ている。
に炭素薄膜を形成し潤滑作用を持たせることが提案され
ている。
前記液体潤滑剤は、過小の場合には潤滑性が悪くなり、
過剰の場合にはへノドがディスク表面に吸着しやすくな
り、その塗布量の調整が非常に難しい。特に汎用の液体
潤滑剤は磁性酸化鉄粉塗布型のディスクに適したもので
、今後発展が予想される連続磁性薄膜に対しては次の理
由により不向きであることが明らかとなっている。
過剰の場合にはへノドがディスク表面に吸着しやすくな
り、その塗布量の調整が非常に難しい。特に汎用の液体
潤滑剤は磁性酸化鉄粉塗布型のディスクに適したもので
、今後発展が予想される連続磁性薄膜に対しては次の理
由により不向きであることが明らかとなっている。
すなわち、連続磁性薄膜を用いるディスクでは、前述し
たようにヘッドとディスクとの間隙を小さくし記録密度
を高くしようとしているため、ディスク表面は塗布型デ
ィスクに比べて平滑に仕上げなければならず、表面が平
滑になると少量の潤滑剤でも吸着を起こしやすい。この
ことから潤滑剤の適量範囲が前記塗布型よりも狭くなっ
て適量塗布がより困難となる、つまり製造が困難となる
わけである。
たようにヘッドとディスクとの間隙を小さくし記録密度
を高くしようとしているため、ディスク表面は塗布型デ
ィスクに比べて平滑に仕上げなければならず、表面が平
滑になると少量の潤滑剤でも吸着を起こしやすい。この
ことから潤滑剤の適量範囲が前記塗布型よりも狭くなっ
て適量塗布がより困難となる、つまり製造が困難となる
わけである。
一方、炭素薄膜を表面潤滑膜とした媒体では、炭素膜の
膜質により・潤滑性、耐久性が異なる。例えば、グラフ
ァイト状の膜では良好な潤滑性を示すが、摩耗しやすい
ため耐久性に劣る。一方、ｉカーボンやダイヤモンド状
カーボンは、硬くて摩耗しにくく十分な耐久性を示すが
、潤滑作用に乏しい。したがって、良好な潤滑性と耐久
性を併せもつ炭素薄膜を得るのはきわめて困難であると
いう現状にある。
膜質により・潤滑性、耐久性が異なる。例えば、グラフ
ァイト状の膜では良好な潤滑性を示すが、摩耗しやすい
ため耐久性に劣る。一方、ｉカーボンやダイヤモンド状
カーボンは、硬くて摩耗しにくく十分な耐久性を示すが
、潤滑作用に乏しい。したがって、良好な潤滑性と耐久
性を併せもつ炭素薄膜を得るのはきわめて困難であると
いう現状にある。
この発明は、以上のような従来の状況から、潤滑性およ
び耐久性が優れた潤滑保護膜を有する磁気記録媒体の提
供を目的とするものである。
び耐久性が優れた潤滑保護膜を有する磁気記録媒体の提
供を目的とするものである。
この発明の磁気記録媒体では、第１図に示すように非磁
性基板ｌｌ上に形成した連続磁性薄膜１２の上に、硬質
炭素薄膜１３と潤滑性炭素薄膜１４との二層構造の潤滑
保護膜を具備している。また、第２図に示すように硬質
炭素薄膜２１．潤滑性炭素薄膜２２の表面をそれぞれ微
小な凹凸に形成している。
性基板ｌｌ上に形成した連続磁性薄膜１２の上に、硬質
炭素薄膜１３と潤滑性炭素薄膜１４との二層構造の潤滑
保護膜を具備している。また、第２図に示すように硬質
炭素薄膜２１．潤滑性炭素薄膜２２の表面をそれぞれ微
小な凹凸に形成している。
連続磁性薄膜１２上に形成した硬質炭素薄膜１３は、硬
いので摩耗しにくく、たとえ摩耗しても磁気ヘッドにダ
メージを与えにくい。またこの上に形成した潤滑性炭素
薄膜１３は、非常に平滑な面を持つ磁気へノドとの接触
に際し接触抵抗を軽減する。
いので摩耗しにくく、たとえ摩耗しても磁気ヘッドにダ
メージを与えにくい。またこの上に形成した潤滑性炭素
薄膜１３は、非常に平滑な面を持つ磁気へノドとの接触
に際し接触抵抗を軽減する。
なお、硬質炭素′ａ膜２１の表面を凹凸に形成すると、
その上に被覆される潤滑性炭素薄膜の表面を粗面にする
。表面が粗く （凹凸に）なった潤滑性炭素薄膜２２は
、ヘッドとの接触に際し接触面積が少なくなり、より接
触抵抗（接触力）を軽減する。
その上に被覆される潤滑性炭素薄膜の表面を粗面にする
。表面が粗く （凹凸に）なった潤滑性炭素薄膜２２は
、ヘッドとの接触に際し接触面積が少なくなり、より接
触抵抗（接触力）を軽減する。
したがって、この二層構造の潤滑保護膜は、磁気ヘット
との接触に対し十分耐久するとともに良好な潤滑作用を
呈して連続磁性薄膜１２を保護することになる。
との接触に対し十分耐久するとともに良好な潤滑作用を
呈して連続磁性薄膜１２を保護することになる。
以下、この発明を磁気ディスクに適用した実施例につき
図面を参照して詳細に説明する。
図面を参照して詳細に説明する。
第２図は本実施例による磁気ディスクを示し、１１は表
面をアルマイト処理したディスク基板、１２はこのディ
スクのアルマイト層上にスパンタリング法により形成さ
れた膜１￥０．１５μｍのＣｕ 、 Ｇｏ。
面をアルマイト処理したディスク基板、１２はこのディ
スクのアルマイト層上にスパンタリング法により形成さ
れた膜１￥０．１５μｍのＣｕ 、 Ｇｏ。
Ｔｉを含むγ−Ｆｅ２Ｏ３より成る連続磁性薄膜である
。この磁性薄膜の形成には、特公昭５５−１４５２３号
の磁性薄膜製造法を適用するのが好ましい。
。この磁性薄膜の形成には、特公昭５５−１４５２３号
の磁性薄膜製造法を適用するのが好ましい。
また２１は、前記磁性薄膜１２上に形成された膜厚０．
０３μｍの表面が粗い硬質カーボン薄膜である。
０３μｍの表面が粗い硬質カーボン薄膜である。
この表面凹凸な硬質カーボン薄膜２１は、次のようにし
て形成できる。すなわら、第３図を参照してまず炭素を
ターゲットにしＡｒガス圧２０ ｍＴｏｒｒのもとてス
パッタリングを行い、前記γ−Ｆｅ２０３磁性薄膜１２
上に０．０３μｍ厚のカーボン薄膜２１′を同図（ａｌ
に示すとおり付着形成する。なお、このカーボン薄膜２
１′は、第４図のカーボン膜形成時のスパッタガス圧と
生成膜の比抵抗との関係図を参照して比抵抗が１０Ω−
ｃｍ強でバルクのグラファイトの０．００１Ω−ｃｍよ
りはるかに高い値を示し、かつＸ線分析からグラファイ
ト化が検出されないことから非晶質構造である。また第
５図の同スパッタガス圧と生成膜の耐久時間（磁気ヘッ
ドを２５ｇ荷重、走行速度２ ｍ／ｓで摺動テストした
結果のデータ）との関係図より、６０分以上耐久し耐久
性が良いことから硬質構造である。さらに第６図に示す
スパッタガスと生成膜の摩擦係数との関係図より、摩擦
係数μは０．４程度で潤滑性は良くない。
て形成できる。すなわら、第３図を参照してまず炭素を
ターゲットにしＡｒガス圧２０ ｍＴｏｒｒのもとてス
パッタリングを行い、前記γ−Ｆｅ２０３磁性薄膜１２
上に０．０３μｍ厚のカーボン薄膜２１′を同図（ａｌ
に示すとおり付着形成する。なお、このカーボン薄膜２
１′は、第４図のカーボン膜形成時のスパッタガス圧と
生成膜の比抵抗との関係図を参照して比抵抗が１０Ω−
ｃｍ強でバルクのグラファイトの０．００１Ω−ｃｍよ
りはるかに高い値を示し、かつＸ線分析からグラファイ
ト化が検出されないことから非晶質構造である。また第
５図の同スパッタガス圧と生成膜の耐久時間（磁気ヘッ
ドを２５ｇ荷重、走行速度２ ｍ／ｓで摺動テストした
結果のデータ）との関係図より、６０分以上耐久し耐久
性が良いことから硬質構造である。さらに第６図に示す
スパッタガスと生成膜の摩擦係数との関係図より、摩擦
係数μは０．４程度で潤滑性は良くない。
このような硬質カーボン薄膜２１′に対し、特開昭５９
−１２４０３１号のディスク製造法を適用してレーザビ
ームによる数ミクロンのスポット孔を多数持つスズマス
ク３１を第３図（ｂｌのとおり形成する。次いで酸素雰
囲気中のプラズマエツチング槽にて前記カーボン薄膜２
１’をエツチング後、前記スズマスク３１を硝酸により
除去する。この結果、表面に凹凸のある硬質カーボン薄
＋１２２１が同図（Ｃ）に示すように形成される。
−１２４０３１号のディスク製造法を適用してレーザビ
ームによる数ミクロンのスポット孔を多数持つスズマス
ク３１を第３図（ｂｌのとおり形成する。次いで酸素雰
囲気中のプラズマエツチング槽にて前記カーボン薄膜２
１’をエツチング後、前記スズマスク３１を硝酸により
除去する。この結果、表面に凹凸のある硬質カーボン薄
＋１２２１が同図（Ｃ）に示すように形成される。
再び第２図を参照して、２２はこの表面凸凹な硬質カー
ボン）°Ｎ膜２１上に形成された膜厚０．０２μｍの潤
滑性カーボン薄膜である。この潤滑性カーボン薄膜２２
は、炭素をターゲットにしてＡｒガス圧５ｍＴｏｒｒの
もとでスパックリングを行い付着形成した。この薄膜表
面は、第３図Ｆｄｌに示す如く下層の硬質カーボン薄膜
２１の表向構造に基づき微小な凹凸面となる。なお、こ
のスパッタガス圧で形成すると第４図〜第６図を参照し
て、比抵抗は０．１Ω−ｃｍでこれもバルクのグラファ
イトより高値を示す。またＸ線分析からグラファイト化
も検出されず、ゆえに潤滑性カーボン薄膜２２も前記硬
質潤滑薄膜２１と同じ非晶質構造である。一方、耐久性
は２分程度しか耐久せず良くないが、摩擦係数μは表面
が凹凸であることと相まって０．１５と小さ〈従来の液
体潤滑剤を用いた潤滑膜の０．１３〜０．１７と同じよ
うな値を示した。従って、潤滑性は良好である。なおこ
こで前記二種類のカーボン薄膜を区別する目安として、
比抵抗が１Ω−ｃｍ以上のものを硬質カーボン薄膜、１
Ω−ｃｍ以下のものを潤滑性カーボン薄膜とする。
ボン）°Ｎ膜２１上に形成された膜厚０．０２μｍの潤
滑性カーボン薄膜である。この潤滑性カーボン薄膜２２
は、炭素をターゲットにしてＡｒガス圧５ｍＴｏｒｒの
もとでスパックリングを行い付着形成した。この薄膜表
面は、第３図Ｆｄｌに示す如く下層の硬質カーボン薄膜
２１の表向構造に基づき微小な凹凸面となる。なお、こ
のスパッタガス圧で形成すると第４図〜第６図を参照し
て、比抵抗は０．１Ω−ｃｍでこれもバルクのグラファ
イトより高値を示す。またＸ線分析からグラファイト化
も検出されず、ゆえに潤滑性カーボン薄膜２２も前記硬
質潤滑薄膜２１と同じ非晶質構造である。一方、耐久性
は２分程度しか耐久せず良くないが、摩擦係数μは表面
が凹凸であることと相まって０．１５と小さ〈従来の液
体潤滑剤を用いた潤滑膜の０．１３〜０．１７と同じよ
うな値を示した。従って、潤滑性は良好である。なおこ
こで前記二種類のカーボン薄膜を区別する目安として、
比抵抗が１Ω−ｃｍ以上のものを硬質カーボン薄膜、１
Ω−ｃｍ以下のものを潤滑性カーボン薄膜とする。
以上のようにして形成した磁気ディスクに対し、磁気ヘ
ッドを荷重２５ｇ、走行速度２ ｍ／ｓで摺動テストし
た結果、６０分以上耐久した。
ッドを荷重２５ｇ、走行速度２ ｍ／ｓで摺動テストし
た結果、６０分以上耐久した。
一方、第１図に示す本発明の磁気ディスクは、硬質カー
ボン薄膜１３および潤滑性カーボン薄膜１４の表面が凹
凸になっていない以外、前述した第２図の磁気ディスク
と同じである。したがって、このディスクでは製造にお
いて硬質カーボン薄膜に微小な孔を形成する工程が省略
できる。また性能面では潤滑性カーボン薄膜１３の表面
が平坦となる関係上磁気ヘッドとの接触面積が増えるた
め摩擦形成μが０．２と僅かに大きくなる程度である。
ボン薄膜１３および潤滑性カーボン薄膜１４の表面が凹
凸になっていない以外、前述した第２図の磁気ディスク
と同じである。したがって、このディスクでは製造にお
いて硬質カーボン薄膜に微小な孔を形成する工程が省略
できる。また性能面では潤滑性カーボン薄膜１３の表面
が平坦となる関係上磁気ヘッドとの接触面積が増えるた
め摩擦形成μが０．２と僅かに大きくなる程度である。
なお、ｒ−Ｆｅ２０３連続磁性薄膜に添加する元素とし
ては、前記Ｃｏ、Ｃｕ、Ｔｉの他にＮｂも適用でき、使
用形態としてＣＯを生体に残りの元素を少な（とも一つ
加える。
ては、前記Ｃｏ、Ｃｕ、Ｔｉの他にＮｂも適用でき、使
用形態としてＣＯを生体に残りの元素を少な（とも一つ
加える。
以上の説明から明らかなように、この発明によれば、耐
久性および表面潤滑性の優れた磁気記録媒体を堤供し得
るという効果がある。したがって、高密度記録を要求さ
れた磁気ディスクに適用してきわめて有益である。
久性および表面潤滑性の優れた磁気記録媒体を堤供し得
るという効果がある。したがって、高密度記録を要求さ
れた磁気ディスクに適用してきわめて有益である。
第１図および第２図はこの発明に係る磁気記録媒体の断
面図、 第３図は第２図の記録媒体の一例製造法を工程順に示し
た断面図、 第４図はカーボン膜形成時のスパッタガス圧とその生成
カーボン薄膜の比抵抗との関係を示す図、第５図は同ス
パッタガス圧と生成カーボン薄膜の耐久時間との関係図
、 第６図は同スパッタガス圧と生成カーボン薄膜の摩擦係
数との関係を示す図である。 第１図、第２図において、 １１は非磁性基板、 １２は連続磁性薄膜、 １３は硬質炭素’ｔ’ｒＶ膜、 １４は潤滑性炭素薄膜、 ２１は表面凹凸な硬質炭素薄膜、 ２２は表面凹凸な潤滑性炭素薄膜をそれぞれ示す。 、事ぐた朝７６あ、気匠ｉスク本印徊田第１図 ＠２ 図 ８３９ＦＩｇと４〉Δγ１イ２トσ戸シシａσＪ杯Ｉ已
σ第３ 図 Ａｒ たス圧 （、、Ｔｏｒｒ）
Ａｒ力”ス／Ｅ （ｍ Ｔｏｙｒ）第４ 閃
＠５ 図Ａと 刀′ス反（司Ｔｏ
ｒｒ） ＠６図
面図、 第３図は第２図の記録媒体の一例製造法を工程順に示し
た断面図、 第４図はカーボン膜形成時のスパッタガス圧とその生成
カーボン薄膜の比抵抗との関係を示す図、第５図は同ス
パッタガス圧と生成カーボン薄膜の耐久時間との関係図
、 第６図は同スパッタガス圧と生成カーボン薄膜の摩擦係
数との関係を示す図である。 第１図、第２図において、 １１は非磁性基板、 １２は連続磁性薄膜、 １３は硬質炭素’ｔ’ｒＶ膜、 １４は潤滑性炭素薄膜、 ２１は表面凹凸な硬質炭素薄膜、 ２２は表面凹凸な潤滑性炭素薄膜をそれぞれ示す。 、事ぐた朝７６あ、気匠ｉスク本印徊田第１図 ＠２ 図 ８３９ＦＩｇと４〉Δγ１イ２トσ戸シシａσＪ杯Ｉ已
σ第３ 図 Ａｒ たス圧 （、、Ｔｏｒｒ）
Ａｒ力”ス／Ｅ （ｍ Ｔｏｙｒ）第４ 閃
＠５ 図Ａと 刀′ス反（司Ｔｏ
ｒｒ） ＠６図
Claims (3)
- （１）非磁性基板（１１）上に連続磁性薄膜（１２）を
形成した記録媒体構成において、 前記連続磁性薄膜（１２）上に、硬質炭素薄膜（１３）
と潤滑性炭素薄膜（１４）を積層して成ることを特徴と
する磁気記録媒体。 - （２）前記硬質炭素薄膜および潤滑性炭素薄膜の表面が
、それぞれ微小な凹凸を有してなることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - （３）前記硬質炭素薄膜が比抵抗１Ω＿−＿ｃ＿ｍ以上
の非晶質カーボン薄膜より成り、潤滑性炭素薄膜が比抵
抗１Ω＿−＿ｃ＿ｍ以下の非晶質カーボン薄膜より成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項および第２項の
いずれかに記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25017185A JPS62109220A (ja) | 1985-11-07 | 1985-11-07 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25017185A JPS62109220A (ja) | 1985-11-07 | 1985-11-07 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62109220A true JPS62109220A (ja) | 1987-05-20 |
Family
ID=17203873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25017185A Pending JPS62109220A (ja) | 1985-11-07 | 1985-11-07 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62109220A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS641118A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Mitsubishi Electric Corp | Magnetic disk |
| JPS6479915A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Hitachi Maxell | Magnetic recording medium |
| JPH01227218A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH02143912A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH02161612A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-21 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体 |
| JPH02161614A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-21 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体 |
-
1985
- 1985-11-07 JP JP25017185A patent/JPS62109220A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS641118A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Mitsubishi Electric Corp | Magnetic disk |
| JPS6479915A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Hitachi Maxell | Magnetic recording medium |
| JPH01227218A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH02143912A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH02161614A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-21 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体 |
| JPH02161612A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-21 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体 |
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