JPH02161612A - 磁気ディスク媒体 - Google Patents
磁気ディスク媒体Info
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- JPH02161612A JPH02161612A JP31718688A JP31718688A JPH02161612A JP H02161612 A JPH02161612 A JP H02161612A JP 31718688 A JP31718688 A JP 31718688A JP 31718688 A JP31718688 A JP 31718688A JP H02161612 A JPH02161612 A JP H02161612A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
情報処理システムにおける外部記憶装置として使用され
る磁気ディスク装置の磁気ディスク媒体、特にアルミニ
ウムなどの非磁性の円板にＣｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなど
の金属磁性膜や酸化鉄膜を成膜して成る薄膜型の磁気デ
ィスク媒体に関し、 磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に接触しても、ヘラド
クラッシュが起きにくく、磁性膜まで到達するような傷
の発生を防止できるようにすることを目的とし、 非磁性の基板上に直接もしくは下地層を介して磁性膜が
形成されており、該磁性膜より上側に、カーボンから成
る保護膜を有する層構成において、該カーボンから成る
保護膜は、磁性膜側か耐久性に優れた改質と成り、その
上に潤滑性に優れた膜質を積層した２層構成とする。
る磁気ディスク装置の磁気ディスク媒体、特にアルミニ
ウムなどの非磁性の円板にＣｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなど
の金属磁性膜や酸化鉄膜を成膜して成る薄膜型の磁気デ
ィスク媒体に関し、 磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に接触しても、ヘラド
クラッシュが起きにくく、磁性膜まで到達するような傷
の発生を防止できるようにすることを目的とし、 非磁性の基板上に直接もしくは下地層を介して磁性膜が
形成されており、該磁性膜より上側に、カーボンから成
る保護膜を有する層構成において、該カーボンから成る
保護膜は、磁性膜側か耐久性に優れた改質と成り、その
上に潤滑性に優れた膜質を積層した２層構成とする。
〔産業上の利用分野］
情報処理システムにおける外部記憶装置として使用され
る磁気ディスク装置の磁気ディスク媒体は、アルミニウ
ムなどの非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜型
と、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなどの金属磁性膜や酸化鉄
膜を成膜して成る薄膜型とがある。本発明は、後者の薄
膜型の磁気ディスク媒体に関する。
る磁気ディスク装置の磁気ディスク媒体は、アルミニウ
ムなどの非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜型
と、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなどの金属磁性膜や酸化鉄
膜を成膜して成る薄膜型とがある。本発明は、後者の薄
膜型の磁気ディスク媒体に関する。
第６図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図で
ある。１は例えばアルミニウムなどのような非磁性体か
らなる基板（円板）であり、その上に直接に、あるいは
下地層２を介して、磁性層３、保護膜４の順に積層され
ている。
ある。１は例えばアルミニウムなどのような非磁性体か
らなる基板（円板）であり、その上に直接に、あるいは
下地層２を介して、磁性層３、保護膜４の順に積層され
ている。
第７図は従来の磁気記録媒体の断面構造を示す図であり
、磁性層３が酸化鉄（ｒ Ｆｅｚｅｓ）によって形成
されている。基板１はアルミニウムからなっており、そ
の表面を酸化させてアルマイト（Ａ１゜０３）層を形成
することで下地層２としている。磁性層３は、Ｆｅ合金
をスパッタリングし、その後還元酸化処理を施すことで
形成される。一般に、保護膜４としては、カーボンやＳ
ｉＯ□が適しており、スパッタリングで形成される。
、磁性層３が酸化鉄（ｒ Ｆｅｚｅｓ）によって形成
されている。基板１はアルミニウムからなっており、そ
の表面を酸化させてアルマイト（Ａ１゜０３）層を形成
することで下地層２としている。磁性層３は、Ｆｅ合金
をスパッタリングし、その後還元酸化処理を施すことで
形成される。一般に、保護膜４としては、カーボンやＳ
ｉＯ□が適しており、スパッタリングで形成される。
保護膜４の上には、磁気ヘッドが摺動する際の吸着を防
止し摩擦係数を小さくするための凹凸層５を形成し、微
小な凹部中に潤滑剤６を含浸させることで、磁気ヘッド
が接触摺動する際の媒体表面の磨耗を防止するようにし
ている。なお、保護膜４は、凹凸層５の密着性を良くす
るだめのものである。
止し摩擦係数を小さくするための凹凸層５を形成し、微
小な凹部中に潤滑剤６を含浸させることで、磁気ヘッド
が接触摺動する際の媒体表面の磨耗を防止するようにし
ている。なお、保護膜４は、凹凸層５の密着性を良くす
るだめのものである。
凹凸Ｎ５は、次のようにして形成される。まず、Ｓｉを
含む溶剤と易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布すると
、易熱蒸発性の物質が凝集し玉状になる。次に、焼付け
、硬化を行なうと、玉状の５熱蒸発性物質が蒸発する。
含む溶剤と易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布すると
、易熱蒸発性の物質が凝集し玉状になる。次に、焼付け
、硬化を行なうと、玉状の５熱蒸発性物質が蒸発する。
このとき、玉状の５熱蒸発性物質とＳｉ混合液との境が
盛り上がり、凹凸が形成される。
盛り上がり、凹凸が形成される。
Ｓｉの混合量とは、塗布液中のＳｉの割合であり５、こ
れをベースとして種々の溶剤を添加し、Ｓｉの濃度をコ
ントロールする。Ｓｉの混合量が多いと、凹凸の高さが
大きくなり、少ないと低くなる。
れをベースとして種々の溶剤を添加し、Ｓｉの濃度をコ
ントロールする。Ｓｉの混合量が多いと、凹凸の高さが
大きくなり、少ないと低くなる。
第８図、第９図は、磁性層３として、Ｃｏを主成分とす
る金属磁性膜を用いている。 第８図は、ＡＩから成る
基板１の上に、Ｎ１−Ｐ層２１とＣｒ層２２から成る下
地層２を形成し、その上にＣｏＮ ｉから成る磁性層３
を形成している。保護膜４は、Ｃｒ層４１と０層４２０
２層構造になっている。
る金属磁性膜を用いている。 第８図は、ＡＩから成る
基板１の上に、Ｎ１−Ｐ層２１とＣｒ層２２から成る下
地層２を形成し、その上にＣｏＮ ｉから成る磁性層３
を形成している。保護膜４は、Ｃｒ層４１と０層４２０
２層構造になっている。
第９図は、Ａｔから成る基板ｌの上に、Ｎ１−Ｐ層２１
とＣｒＮ２２から成る下地層２を形成し、その上にＣ。
とＣｒＮ２２から成る下地層２を形成し、その上にＣ。
ＮｉＣｒから成る磁性層３、Ｃから成る保護膜４の順に
積層されている。これらの層構造においても、接着用の
保護膜４の上に、潤滑剤を含浸するための凹凸層５が形
成される。
積層されている。これらの層構造においても、接着用の
保護膜４の上に、潤滑剤を含浸するための凹凸層５が形
成される。
〔発明が解決しようとする課題］
しかしながら、このような構成では、磁気ヘッドと磁気
ディスク媒体との接触により潤滑膜の剥離もしくはそれ
に準する現象が生じた場合、微小な突起の一部が磨耗し
て、その摩耗粉が磁気ヘッドの浮上性を悪くし、ヘッド
クラッシュの原因となる。ヘッドクラッシュが起きると
、磁気ディスク媒体の磁性膜まで到達するような傷が発
生し、情報の記録機能が失われ、磁気記録／再生のエラ
ーの原因となる。
ディスク媒体との接触により潤滑膜の剥離もしくはそれ
に準する現象が生じた場合、微小な突起の一部が磨耗し
て、その摩耗粉が磁気ヘッドの浮上性を悪くし、ヘッド
クラッシュの原因となる。ヘッドクラッシュが起きると
、磁気ディスク媒体の磁性膜まで到達するような傷が発
生し、情報の記録機能が失われ、磁気記録／再生のエラ
ーの原因となる。
特に近年のように、磁気ディスク媒体が高記録密度化さ
れると、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面間の距離（浮
上量）が小さ（なるため、ヘッドクラッシュが起きやす
い。
れると、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面間の距離（浮
上量）が小さ（なるため、ヘッドクラッシュが起きやす
い。
本発明の技術的課題は、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体
面に接触しても、ヘッドクラッシュが起きにくく、磁性
膜まで到達するような傷の発生を防止できるようにする
ことにある。
面に接触しても、ヘッドクラッシュが起きにくく、磁性
膜まで到達するような傷の発生を防止できるようにする
ことにある。
第１図は本発明による磁気ディスク媒体の基本原理を説
明する図である。非磁性の基板１上に、直接もしくは下
地層を介して磁性膜３が形成されている。そして、該磁
性膜３より上側に、カーボン膜７．８を有している。
明する図である。非磁性の基板１上に、直接もしくは下
地層を介して磁性膜３が形成されている。そして、該磁
性膜３より上側に、カーボン膜７．８を有している。
このカーボン膜は、磁性膜３側が、耐久性に優れた膜質
７となり、表面側が、潤滑性に優れた膜質８と成ってい
る。
７となり、表面側が、潤滑性に優れた膜質８と成ってい
る。
なお、磁性膜３と耐久性カーボン膜７どの間に、接着用
保護膜を介在させてもよく、また自己潤滑性カーボン膜
８の上に潤滑剤を塗布してもよい。
保護膜を介在させてもよく、また自己潤滑性カーボン膜
８の上に潤滑剤を塗布してもよい。
本発明では、カーボンから成る保護膜が、耐久性に優れ
たＭ質をした耐久性カーボン膜７と、その上の自己潤滑
性に優れた膜質をしまた自己潤滑性カーボン膜８からな
り、カーボン膜が２層構造に成っている。
たＭ質をした耐久性カーボン膜７と、その上の自己潤滑
性に優れた膜質をしまた自己潤滑性カーボン膜８からな
り、カーボン膜が２層構造に成っている。
そのため、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に接触して
、潤滑膜の剥離やそれに準する現象が４Ｆした場合でも
、表面側のカーボン膜である自己潤滑性カーボン膜８の
自己潤滑作用により、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面
との衝撃が緩和され、かつ磁気ヘッドと磁気ディスク媒
体面との吸着が起きに（くなる。また、自己潤滑性カー
ボン膜８を突き抜けるような大きな衝撃が生じた場合で
も、その下側には、膜強度の強い、耐久性に優れたカー
ボン膜７が存在する。これらの作用により、ヘッドクラ
ッシュが起きにく（なり、内部の磁性膜３まで達し、磁
気記録機能を喪失するような深い傷の発生が抑制され、
磁気ディスク媒体の長寿命化が可能となる。
、潤滑膜の剥離やそれに準する現象が４Ｆした場合でも
、表面側のカーボン膜である自己潤滑性カーボン膜８の
自己潤滑作用により、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面
との衝撃が緩和され、かつ磁気ヘッドと磁気ディスク媒
体面との吸着が起きに（くなる。また、自己潤滑性カー
ボン膜８を突き抜けるような大きな衝撃が生じた場合で
も、その下側には、膜強度の強い、耐久性に優れたカー
ボン膜７が存在する。これらの作用により、ヘッドクラ
ッシュが起きにく（なり、内部の磁性膜３まで達し、磁
気記録機能を喪失するような深い傷の発生が抑制され、
磁気ディスク媒体の長寿命化が可能となる。
〔実施例］
次に本発明による磁気ディスク媒体が実際上どのように
具体化されるかを実施例で説明する。第２図は本発明に
よる磁気ディスク媒体の第一実施例を示す断面図である
。
具体化されるかを実施例で説明する。第２図は本発明に
よる磁気ディスク媒体の第一実施例を示す断面図である
。
この磁気ディスク媒体は、アルミニウム基板１」二に、
下地層２としてＡｌ２Ｏ３を被覆し、この上に、７−Ｆ
ｅ２Ｏ２からなる磁性膜３をスパッタリング法により形
成する。そしてこの磁性膜３の上に、ＳｉＯ２からなる
接着用の保護膜４をスパッタリング法で形成し、その上
に、まず耐久性に優れた膜質のカーボン膜７をスパッタ
リング法で形成し、その上に自己潤滑性に優れた膜質の
カーボン膜８をスパッタリング法で形成する。最後にこ
の保護膜８上に潤滑剤６を塗布する。
下地層２としてＡｌ２Ｏ３を被覆し、この上に、７−Ｆ
ｅ２Ｏ２からなる磁性膜３をスパッタリング法により形
成する。そしてこの磁性膜３の上に、ＳｉＯ２からなる
接着用の保護膜４をスパッタリング法で形成し、その上
に、まず耐久性に優れた膜質のカーボン膜７をスパッタ
リング法で形成し、その上に自己潤滑性に優れた膜質の
カーボン膜８をスパッタリング法で形成する。最後にこ
の保護膜８上に潤滑剤６を塗布する。
各層の作製条件は、次の通りである。
１、磁性膜３ニスバツタリング法でα−Ｆ ｅ ２０３
を形成した後、還元酸化処理によって、膜厚が１６００
λ程度のγ−ＦｅｚＯ＝ とした。
を形成した後、還元酸化処理によって、膜厚が１６００
λ程度のγ−ＦｅｚＯ＝ とした。
２、保護膜４ニスバツタリング法にて、膜厚が１００人
程度のＳｉｎ、膜を形成する。
程度のＳｉｎ、膜を形成する。
３、耐久性カーボン膜７：Ａｒガス圧を高くして、スパ
ッタリング法にて、耐久性に富んだ膜質のカーボン膜を
、２００〜２５０人程度、成膜する。
ッタリング法にて、耐久性に富んだ膜質のカーボン膜を
、２００〜２５０人程度、成膜する。
４、自己潤滑性カーボン膜８：Ａｒガス圧を低くして、
スパッタリング法にて、自己潤滑性に富んだ膜寡のカー
ボン膜を、１００〜１５０人程度、成膜する。
スパッタリング法にて、自己潤滑性に富んだ膜寡のカー
ボン膜を、１００〜１５０人程度、成膜する。
第４図は磁気ディスク媒体製造用のスパッタリング装置
であり、第８図や第９図のような金属薄膜媒体に、本発
明によって２層のカーボン膜７．８を形成する装置であ
る。この装置は、１つの装置において、各層を連続成膜
できる。いま、搬入口９から基板を入れると、加熱室Ｉ
Ｏに搬送されて、所定温度まで加熱された後、下地成膜
室１１でＮ１−ＰやＣｒなどがスパッタリングされる。
であり、第８図や第９図のような金属薄膜媒体に、本発
明によって２層のカーボン膜７．８を形成する装置であ
る。この装置は、１つの装置において、各層を連続成膜
できる。いま、搬入口９から基板を入れると、加熱室Ｉ
Ｏに搬送されて、所定温度まで加熱された後、下地成膜
室１１でＮ１−ＰやＣｒなどがスパッタリングされる。
そして、次の磁性膜成膜室１２で、ＣｏＮ ｉあるいは
ＣｏＮ ｉＣｒがスパッタリングされる。その後、保護
膜成膜室１３で、接着用のＣと耐久性に優れた膜質のカ
ーボン膜を、Ａｒガス圧を高（してスパッタリング形成
する。その上に、カーボン膜成膜室１４で、自己潤滑性
に優れた膜質のカーボン膜を、静ガス圧を低（してスパ
ッタリング形成する。こうして、２層のカーボン膜を形
成した後に、搬出口］５がら取り出し、表面に潤滑剤を
塗布する。
ＣｏＮ ｉＣｒがスパッタリングされる。その後、保護
膜成膜室１３で、接着用のＣと耐久性に優れた膜質のカ
ーボン膜を、Ａｒガス圧を高（してスパッタリング形成
する。その上に、カーボン膜成膜室１４で、自己潤滑性
に優れた膜質のカーボン膜を、静ガス圧を低（してスパ
ッタリング形成する。こうして、２層のカーボン膜を形
成した後に、搬出口］５がら取り出し、表面に潤滑剤を
塗布する。
なお、金属薄膜媒体は、いわゆるテクスチャー処理によ
って、基板表面を粗面化し、その」二に磁性膜を形成で
きるため、本発明を適用することで、耐久性カーボン膜
７および自己潤滑性カーボン膜８を形成した後も、テク
スチャー処理による微細凹凸が残存し、潤滑剤の含浸作
用が期待できる利点もある。
って、基板表面を粗面化し、その」二に磁性膜を形成で
きるため、本発明を適用することで、耐久性カーボン膜
７および自己潤滑性カーボン膜８を形成した後も、テク
スチャー処理による微細凹凸が残存し、潤滑剤の含浸作
用が期待できる利点もある。
第３図は本発明による磁気ディスク媒体の第二実施例を
示す断面図である。
示す断面図である。
この磁気ディスク媒体は、アルミニウム基板１上に、下
地層２としてＡｌ（ｈを被覆し、この上に、７−Ｆｅ２
Ｏ２からなる磁性膜３をスパッタリング法により形成す
る。そしてこの磁性膜３の上に、ＳｉＯ□からなる接着
用の保護膜４をスパッタリング法で形成し、この保護膜
４−トに、凹凸を持ちＳｉを含む保護膜５をスピンコー
ドにより形成する。この凹凸保護膜５の上に、まず耐久
性に優れた膜質のカーボン膜７をスパッタリングで形成
し、その上に自己潤滑性に優れた膜質のカーボン膜８を
スパッタリング法で形成する。最後にこの保護膜８上に
潤滑剤６を塗布する。
地層２としてＡｌ（ｈを被覆し、この上に、７−Ｆｅ２
Ｏ２からなる磁性膜３をスパッタリング法により形成す
る。そしてこの磁性膜３の上に、ＳｉＯ□からなる接着
用の保護膜４をスパッタリング法で形成し、この保護膜
４−トに、凹凸を持ちＳｉを含む保護膜５をスピンコー
ドにより形成する。この凹凸保護膜５の上に、まず耐久
性に優れた膜質のカーボン膜７をスパッタリングで形成
し、その上に自己潤滑性に優れた膜質のカーボン膜８を
スパッタリング法で形成する。最後にこの保護膜８上に
潤滑剤６を塗布する。
各層の作製条件は、次の通りである。
■、磁性膜３ニスバッタリング法でα−Ｆｃ４０１を形
成した後、還元酸化処理によって、Ｓ厚が１６００人程
度Ｏ７−Ｆｅ、０．とした。
成した後、還元酸化処理によって、Ｓ厚が１６００人程
度Ｏ７−Ｆｅ、０．とした。
２、保護膜４ニスバツタリング法にて、膜厚が１００人
程鹿のＳｉＯ□膜を形成する。
程鹿のＳｉＯ□膜を形成する。
３、凹凸保護膜５：Ｓｉと流動パラフィンを含む混合液
をスピンコードした後、焼き付けることで、膜厚１５０
λ程度の膜とする。
をスピンコードした後、焼き付けることで、膜厚１５０
λ程度の膜とする。
４、耐久性カーボン膜７：Ａｒガス圧を高くして、スパ
ッタリング法にて、耐久性に富んだ膜質のカーボン膜を
、２００〜２５０人程度、成膜する。
ッタリング法にて、耐久性に富んだ膜質のカーボン膜を
、２００〜２５０人程度、成膜する。
５、自己潤滑性カーボン膜８：Ａｒガス圧を低くして、
スパッタリング法にて、自己潤滑性に富んだ膜質のカー
ボン膜を、１００〜１５０人程度、成膜する。
スパッタリング法にて、自己潤滑性に富んだ膜質のカー
ボン膜を、１００〜１５０人程度、成膜する。
本発明により、２層のカーボン膜７．８をスパッタリン
グするには、次のような条件が適している。
グするには、次のような条件が適している。
カーボン・スパッタリング時の基板加熱温度は、耐久性
カーボン膜７および自己潤滑性カーボン膜８のいずれの
場合も、１５０°Ｃ〜２５０ ’Ｃの範囲が適しており
、特に１８０ ’Ｃ程度が良い。
カーボン膜７および自己潤滑性カーボン膜８のいずれの
場合も、１５０°Ｃ〜２５０ ’Ｃの範囲が適しており
、特に１８０ ’Ｃ程度が良い。
スパッタガス圧は、耐久性カーボン膜７の場合は、３０
〜６０ｍＴｏｒｒ程度の高い圧が適しており、特に４０
ｍＴｏｒｒ程度が良い。自己潤滑性カーボン膜８の場合
は、３〜７ ｍＴｏｒｒ程度の低い圧が適し７ており、
特に５澤７ｏｒｒ程度が良い。
〜６０ｍＴｏｒｒ程度の高い圧が適しており、特に４０
ｍＴｏｒｒ程度が良い。自己潤滑性カーボン膜８の場合
は、３〜７ ｍＴｏｒｒ程度の低い圧が適し７ており、
特に５澤７ｏｒｒ程度が良い。
それぞれの膜厚は、耐久性カーボン膜７が、２００〜２
５０人程度、自己潤滑性カーボン膜８が、１００〜１５
０人程度が良い。
５０人程度、自己潤滑性カーボン膜８が、１００〜１５
０人程度が良い。
前記のような最適条件で、２つのカーボン膜７．８を成
膜した場合、耐久性カーボン膜７は、摩擦係数が０．４
８、耐久性が３９分であり、強度が高いことが判明した
。また自己潤滑性カーボン膜８は、スパッタガス圧が低
く、非晶質の膜質となるため、自己潤滑性は向上するが
、摩擦係数が０．１２、耐久性が２分であり、耐久性は
劣ることが判明した。
膜した場合、耐久性カーボン膜７は、摩擦係数が０．４
８、耐久性が３９分であり、強度が高いことが判明した
。また自己潤滑性カーボン膜８は、スパッタガス圧が低
く、非晶質の膜質となるため、自己潤滑性は向上するが
、摩擦係数が０．１２、耐久性が２分であり、耐久性は
劣ることが判明した。
なお、耐久性測定は、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体而
に密着するように真空中において、磁気ディスク媒体を
高速回転させることで行なう。そして、ヘッドクラッシ
ュにより、磁気ディスク媒体の磁性膜に達するような深
い傷が発生するまでの、経過時間（分）を測定した。
に密着するように真空中において、磁気ディスク媒体を
高速回転させることで行なう。そして、ヘッドクラッシ
ュにより、磁気ディスク媒体の磁性膜に達するような深
い傷が発生するまでの、経過時間（分）を測定した。
第５図は、前記の最適条件で成膜した耐久性カーボン膜
７と自己潤滑性カーボンｎＭＢのレーザーラマン分光分
析の結果である。（ａ）は自己潤滑性カーボン膜８の測
定結果であり、アモルファスカーボン（１６００ｃｍ
’と１３５０ｃｍ ’付近に２本のピーク）とｉカー・
ボン（１５５０ｃｍ ’にピーク）が重畳したものに近
似し２ている。（１））は耐久性カーボン膜７の測定結
果であり、ｉカーボンのラマンスペクトルと良く一敗し
ていることから、ｉカーボンに近い構造をしており、強
度が強く、耐久性に優れていることがわかる。（ａ）に
示す自己潤滑性カーボン膜８は、アモルファスカーボン
に近い膜質を有しているため、耐久性は劣るが、自己潤
滑性に優れている。
７と自己潤滑性カーボンｎＭＢのレーザーラマン分光分
析の結果である。（ａ）は自己潤滑性カーボン膜８の測
定結果であり、アモルファスカーボン（１６００ｃｍ
’と１３５０ｃｍ ’付近に２本のピーク）とｉカー・
ボン（１５５０ｃｍ ’にピーク）が重畳したものに近
似し２ている。（１））は耐久性カーボン膜７の測定結
果であり、ｉカーボンのラマンスペクトルと良く一敗し
ていることから、ｉカーボンに近い構造をしており、強
度が強く、耐久性に優れていることがわかる。（ａ）に
示す自己潤滑性カーボン膜８は、アモルファスカーボン
に近い膜質を有しているため、耐久性は劣るが、自己潤
滑性に優れている。
［発明の効果〕
以上のように本発明によれば、６イタ性膜３をへラドク
ラッシュから保護するための保護膜は、耐久性にすぐれ
たカーボン膜７の上に、自己潤滑性にすぐれたカーボン
膜８を成膜した構成に成っている。そのため、磁気ヘッ
ドが磁気ディスク媒体面に接触したときに、表面側の自
己潤滑性カーボン膜８の自己潤滑作用によって、磁気ヘ
ッドの吸着が軽減され、衝撃が緩和される。また、自己
潤滑性カーボン膜８の下には、強度の強い耐久性カーボ
ン膜７が有るため、自己潤滑性カーボン膜８を通過した
傷は、耐久性カーボン膜７で阻止されて、磁性膜まで到
達不能となる。その結果、ヘッドクラッシュの発生が防
止され、エラーの原因となるような、磁性膜に達する深
い傷が発生しにくくなる。特に、近年は、磁気ディスク
媒体の高記録密度化に伴ない、磁気ヘッドと磁気ディス
ク媒体面間の距離（浮」二量）が小さくなる傾向にある
が、本発明により、高記録密度の磁気ディスク媒体にお
いても、長寿命化が可能となる。
ラッシュから保護するための保護膜は、耐久性にすぐれ
たカーボン膜７の上に、自己潤滑性にすぐれたカーボン
膜８を成膜した構成に成っている。そのため、磁気ヘッ
ドが磁気ディスク媒体面に接触したときに、表面側の自
己潤滑性カーボン膜８の自己潤滑作用によって、磁気ヘ
ッドの吸着が軽減され、衝撃が緩和される。また、自己
潤滑性カーボン膜８の下には、強度の強い耐久性カーボ
ン膜７が有るため、自己潤滑性カーボン膜８を通過した
傷は、耐久性カーボン膜７で阻止されて、磁性膜まで到
達不能となる。その結果、ヘッドクラッシュの発生が防
止され、エラーの原因となるような、磁性膜に達する深
い傷が発生しにくくなる。特に、近年は、磁気ディスク
媒体の高記録密度化に伴ない、磁気ヘッドと磁気ディス
ク媒体面間の距離（浮」二量）が小さくなる傾向にある
が、本発明により、高記録密度の磁気ディスク媒体にお
いても、長寿命化が可能となる。
第１図は本発明による磁気ディスク媒体の基本原理を説
明する断面図、第２図は本発明の第一実施例を示す断面
図、第３図は本発明の第二実施例を示す断面図、第４図
は磁気ディスク媒体製造用の連続スパッタリング装置を
示す図、第５図は２つのカーボン膜のレーザーラマン分
光分析の結果を示す図である。 第６図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図、
第７図は従来の酸化鉄磁気記録媒体の断面構造を示す図
、第８図、第９図は磁性層として金属磁性膜を用いた磁
気ディスク媒体の断面図である。 図において、１は非磁性基板、２は下地層、３は磁性膜
、４は接着用保護膜、５は凹凸状保護（Ｊり、６は潤滑
膜、７は耐久性カーボン膜、８は自己潤滑性カーボン膜
をそれぞれ示す。
明する断面図、第２図は本発明の第一実施例を示す断面
図、第３図は本発明の第二実施例を示す断面図、第４図
は磁気ディスク媒体製造用の連続スパッタリング装置を
示す図、第５図は２つのカーボン膜のレーザーラマン分
光分析の結果を示す図である。 第６図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図、
第７図は従来の酸化鉄磁気記録媒体の断面構造を示す図
、第８図、第９図は磁性層として金属磁性膜を用いた磁
気ディスク媒体の断面図である。 図において、１は非磁性基板、２は下地層、３は磁性膜
、４は接着用保護膜、５は凹凸状保護（Ｊり、６は潤滑
膜、７は耐久性カーボン膜、８は自己潤滑性カーボン膜
をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性の基板（１）上に直接もしくは下地層を介して磁
性膜（３）が形成されており、該磁性膜（３）より上側
に、カーボンから成る保護膜を有する層構成において、 該カーボンから成る保護膜は、磁性膜（３）側が耐久性
に優れた膜質（７）と成り、その上に潤滑性に優れた膜
質（８）を積層した２層構成であることを特徴とする磁
気ディスク媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31718688A JPH02161612A (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 | 磁気ディスク媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31718688A JPH02161612A (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 | 磁気ディスク媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02161612A true JPH02161612A (ja) | 1990-06-21 |
Family
ID=18085413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31718688A Pending JPH02161612A (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 | 磁気ディスク媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02161612A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5607783A (en) * | 1993-06-08 | 1997-03-04 | Fuji Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for fabricating the same |
| US6132875A (en) * | 1993-09-12 | 2000-10-17 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic head having carbon protective layers |
| KR100650537B1 (ko) * | 2004-08-31 | 2006-11-27 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 자기 기록 매체, 헤드 슬라이더 및 그 제조 방법 |
| CN103073268A (zh) * | 2011-10-25 | 2013-05-01 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种氧化铝陶瓷自润滑复合材料及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61265725A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62109220A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-20 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62246129A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62277617A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-02 | Ulvac Corp | 耐摩耗性磁気記録体 |
-
1988
- 1988-12-14 JP JP31718688A patent/JPH02161612A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61265725A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62109220A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-20 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62246129A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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|---|---|---|---|---|
| US5607783A (en) * | 1993-06-08 | 1997-03-04 | Fuji Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for fabricating the same |
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| KR100650537B1 (ko) * | 2004-08-31 | 2006-11-27 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 자기 기록 매체, 헤드 슬라이더 및 그 제조 방법 |
| CN103073268A (zh) * | 2011-10-25 | 2013-05-01 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种氧化铝陶瓷自润滑复合材料及其制备方法 |
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