JPH035913A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH035913A JPH035913A JP14017289A JP14017289A JPH035913A JP H035913 A JPH035913 A JP H035913A JP 14017289 A JP14017289 A JP 14017289A JP 14017289 A JP14017289 A JP 14017289A JP H035913 A JPH035913 A JP H035913A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ca業上の利用分野]
本発明は、磁気記録媒体に係り、より詳細には、合成樹
脂製の基板を用いた磁気記録媒体に関する。
脂製の基板を用いた磁気記録媒体に関する。
[従来の技術]
従来、磁気記録媒体としては、アルミ合金製基板の表面
をアルマイト処理または金属メツキし、さらにその表面
を鏡面研磨仕上した基板を用いたものが知られている。
をアルマイト処理または金属メツキし、さらにその表面
を鏡面研磨仕上した基板を用いたものが知られている。
しかるに、近時、磁気記録媒体にも軽量化及び加工容易
性が強く要請されており、かかる要請に基ツき、アルミ
合金製基板よりも軽量で加工が容易な合成樹脂製の基板
が提案されている。しかし、合成樹脂製の基板は硬度が
十分ではなく、そのため、合成樹脂製の基板を用いたb
ri気記録媒体の耐C3S特性は不十分であり、ヘッド
クラッシュを生じるという問題があった。また、合成樹
脂製の基板は一般に絶縁性であり、ハンドリング及び磁
気記録層形成の際に基板表面に静電気が帯電し、このた
め異物付着を起こしやすく、信号欠陥が多いという問題
もあった。
性が強く要請されており、かかる要請に基ツき、アルミ
合金製基板よりも軽量で加工が容易な合成樹脂製の基板
が提案されている。しかし、合成樹脂製の基板は硬度が
十分ではなく、そのため、合成樹脂製の基板を用いたb
ri気記録媒体の耐C3S特性は不十分であり、ヘッド
クラッシュを生じるという問題があった。また、合成樹
脂製の基板は一般に絶縁性であり、ハンドリング及び磁
気記録層形成の際に基板表面に静電気が帯電し、このた
め異物付着を起こしやすく、信号欠陥が多いという問題
もあった。
一方、耐C5S特性を改善するための対策としては、ア
ルミニウム合金製基板を用いた場合については、以下に
示すような方法が技術開示されている。これらの技術に
よれば、基板上に、表面に凹凸を有する硬度の高い下地
層を形成することにより、磁気記録媒体の耐久性を向上
させ、信頼性を高めることができる。
ルミニウム合金製基板を用いた場合については、以下に
示すような方法が技術開示されている。これらの技術に
よれば、基板上に、表面に凹凸を有する硬度の高い下地
層を形成することにより、磁気記録媒体の耐久性を向上
させ、信頼性を高めることができる。
■特開昭61−230618号公報に開示された技術
本公報では、合金基板(AIl−Mg合金)の上に、下
地層としてシリカ(粒径250人)とエポキシ樹脂とか
らなるUV硬化11i(0,1μm)を設け、さらに、
記録層としてスパッタ磁性膜を形成した6n気記録媒体
が開示されている。上記下地層を形成することにより、
C3S時の応力を吸収する効果と微粒子が形成する表面
の突起によるヘッドに対する摩擦力を低下させる効果と
が得られ、その結果として磁性膜に傷が入ることを防止
することができる。
地層としてシリカ(粒径250人)とエポキシ樹脂とか
らなるUV硬化11i(0,1μm)を設け、さらに、
記録層としてスパッタ磁性膜を形成した6n気記録媒体
が開示されている。上記下地層を形成することにより、
C3S時の応力を吸収する効果と微粒子が形成する表面
の突起によるヘッドに対する摩擦力を低下させる効果と
が得られ、その結果として磁性膜に傷が入ることを防止
することができる。
■特開昭59−22220号公報に開示された技術
本公報では、アルミニウム合金基板の表面をアルマイト
イ層で被覆し、これを鏡面仕上げした後に、02または
A「若しくはこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツ
チングを行なうことにより凹部を形成してRa O,O
O7〜0. 014 μmの表面粗度にし、この上に磁
性薄膜を形成してなる磁気ディスクが開示されている。
イ層で被覆し、これを鏡面仕上げした後に、02または
A「若しくはこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツ
チングを行なうことにより凹部を形成してRa O,O
O7〜0. 014 μmの表面粗度にし、この上に磁
性薄膜を形成してなる磁気ディスクが開示されている。
このような下地層を形成することにより、磁気ディスク
表面に対するヘッドの吸着を防止することができ、さら
には磁気ディスク表面の摩擦係数を著しく改善すること
ができる。
表面に対するヘッドの吸着を防止することができ、さら
には磁気ディスク表面の摩擦係数を著しく改善すること
ができる。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、上記従来技術は、基板としてアルミニウムを用
いた場合には有効であるが、以下の理由により、基板と
して合成樹脂を用いた場合には利用することができなか
った。
いた場合には有効であるが、以下の理由により、基板と
して合成樹脂を用いた場合には利用することができなか
った。
■特開昭61−230618号公報に開示された技術
シリカとエポキシ樹脂とからなる下地層は、絶縁体であ
り、かつ、膜厚も0.1μmと薄い。したがって、基板
には、導電性を持つこと、0.1μm程度の下地層でも
十分耐C5Sに効果がある硬度を持つことが要求される
。すなわち、この技術は合成樹脂製の基板には適応でき
ない。
り、かつ、膜厚も0.1μmと薄い。したがって、基板
には、導電性を持つこと、0.1μm程度の下地層でも
十分耐C5Sに効果がある硬度を持つことが要求される
。すなわち、この技術は合成樹脂製の基板には適応でき
ない。
■特開昭59−22220号公報に開示された技術
一般に、アルマイトやニッケルーリンにより形成された
下地層は合成樹脂基板との密着性が悪く、加熱やひつか
きによって剥離が発生してしまうため実用に耐えない。
下地層は合成樹脂基板との密着性が悪く、加熱やひつか
きによって剥離が発生してしまうため実用に耐えない。
また、上記技術■の技術と上記■の技術とを組み合わせ
て応用しても、合成樹脂基板の硬度不足によるCSS耐
久性の悪さや合成樹脂基板が絶縁性を有することによる
信号欠陥の発生を改善することはできなかった。
て応用しても、合成樹脂基板の硬度不足によるCSS耐
久性の悪さや合成樹脂基板が絶縁性を有することによる
信号欠陥の発生を改善することはできなかった。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、CS
S特性に優れ、信号欠陥の発生しにくいt11気記録媒
体を提供することを目的とする。
S特性に優れ、信号欠陥の発生しにくいt11気記録媒
体を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の要旨は、合成樹脂基板と、当該合成樹脂基板上
に形成された下地層と、当該下地層上に形成された6f
i気記録層とを少なくとも有する6f1気記録媒体にお
いて、 前記下地層がアルミナと非磁性粒子とを含有する熱硬化
性樹脂によって形成され、当該非6fi性粒子の含有量
が前記下地層の表面抵抗か108〜1010Ω/□とな
るような含有量であり、かつ、当該下地層の表面に微細
な凹凸が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
に存在する。
に形成された下地層と、当該下地層上に形成された6f
i気記録層とを少なくとも有する6f1気記録媒体にお
いて、 前記下地層がアルミナと非磁性粒子とを含有する熱硬化
性樹脂によって形成され、当該非6fi性粒子の含有量
が前記下地層の表面抵抗か108〜1010Ω/□とな
るような含有量であり、かつ、当該下地層の表面に微細
な凹凸が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
に存在する。
以下、本発明の構成について、詳細に説明する。
(基板)
本発明において使用される基板は、耐熱性に優れた合成
樹脂により形成することが望ましい。なぜなら、本発明
の磁気記録媒体を製造するに際して、基板上に塗布した
熱硬化性樹脂を熱硬化させる必要があるからである。耐
熱性に優れた合成樹脂としては、例えば、ポリエーテル
イミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホ
ン、ポリフェニレンサルファイド等が挙げられるが、な
かでも、ポリエーテルイミドが特に好ましい。また、こ
れらの樹脂にガラス繊維、カーボン繊維、チタン酸カリ
ウムウィスカー、ガラスピーズ等の充填材を添加した複
合材料を使用することも可能である。
樹脂により形成することが望ましい。なぜなら、本発明
の磁気記録媒体を製造するに際して、基板上に塗布した
熱硬化性樹脂を熱硬化させる必要があるからである。耐
熱性に優れた合成樹脂としては、例えば、ポリエーテル
イミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホ
ン、ポリフェニレンサルファイド等が挙げられるが、な
かでも、ポリエーテルイミドが特に好ましい。また、こ
れらの樹脂にガラス繊維、カーボン繊維、チタン酸カリ
ウムウィスカー、ガラスピーズ等の充填材を添加した複
合材料を使用することも可能である。
(熱効果製樹脂)
本発明において使用可能な熱硬化性樹脂としては、例え
ば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、ホルマール樹脂、メラミン樹脂等が挙げ
られる。また、これらの混合物も使用可能である。
ば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、ホルマール樹脂、メラミン樹脂等が挙げ
られる。また、これらの混合物も使用可能である。
(アルミナ)
下地層にアルミナを含有させることにより、下地層に硬
度および適度な表面粗さを与えて耐C3S特性を向上さ
せることができる。また、アルミナは、下地層の硬化促
進剤としても作用する。
度および適度な表面粗さを与えて耐C3S特性を向上さ
せることができる。また、アルミナは、下地層の硬化促
進剤としても作用する。
アルミナの形状は特に限定されるものではない。例えば
、球状でも破砕状でも本発明においては同様の効果を得
ることができる。
、球状でも破砕状でも本発明においては同様の効果を得
ることができる。
なお、後述のごとく下地層の表面からアルミナを露出さ
せることにより下地層の表面粗さの最適値を得ようとす
る場合には、アルミナの平均粒径が問題となる。この場
合のアルミナの平均粒径は、0,5μm以下であること
が望ましい。
せることにより下地層の表面粗さの最適値を得ようとす
る場合には、アルミナの平均粒径が問題となる。この場
合のアルミナの平均粒径は、0,5μm以下であること
が望ましい。
(非磁性粒子)
本発明において使用可能な非磁性粒子としては、例えば
、S i C,T i C,Cr3c2等の炭化物や炭
素(C)、BN、Sia N4.TiN等の窒化物、T
iB2.ZrB2等のポウ化物、SnO,等の酸化物、
Ag、Cu等の金属等があげられる。同じ効果を得るた
めに少量ですむことや分散しやすいこと、安定性に優れ
ていることなどの理由から、炭素を用いることが最も好
ましい。
、S i C,T i C,Cr3c2等の炭化物や炭
素(C)、BN、Sia N4.TiN等の窒化物、T
iB2.ZrB2等のポウ化物、SnO,等の酸化物、
Ag、Cu等の金属等があげられる。同じ効果を得るた
めに少量ですむことや分散しやすいこと、安定性に優れ
ていることなどの理由から、炭素を用いることが最も好
ましい。
また、下地層の表面抵抗は、108〜10IOΩ/□で
あることが必要とされる。このような表面抵抗をは、非
磁性粒子の比抵抗をI X 1×108Ω・cm以下に
することにより容易に達成することができる。
あることが必要とされる。このような表面抵抗をは、非
磁性粒子の比抵抗をI X 1×108Ω・cm以下に
することにより容易に達成することができる。
本発明では、このように、非磁性粒子を含有せしめるこ
とにより、当該下地層に導電性を与え、基板表面の帯電
を防止することができる。
とにより、当該下地層に導電性を与え、基板表面の帯電
を防止することができる。
なお、後述のごとく下地層の表面から非磁性粒子とアル
ミナとを露出させることにより下地層の表面粗さの最適
値を得ようとする場合には、アルミナ同様、非磁性粒子
の平均粒径も問題となる。この場合の非磁性粒子の平均
粒径は、0. 5μm以下であることが望ましい。
ミナとを露出させることにより下地層の表面粗さの最適
値を得ようとする場合には、アルミナ同様、非磁性粒子
の平均粒径も問題となる。この場合の非磁性粒子の平均
粒径は、0. 5μm以下であることが望ましい。
(下地層)
下地層を形成するには、まず非磁性粒子と熱硬化性樹脂
とを混練し、この非磁性粒子を含有せしめた熱硬化性樹
脂を合成樹脂製の基板上に塗布し、熱硬化処理を施せば
よい。熱硬化性樹脂を塗布する方法としては、例えばス
ピンコード法を用いればよい。
とを混練し、この非磁性粒子を含有せしめた熱硬化性樹
脂を合成樹脂製の基板上に塗布し、熱硬化処理を施せば
よい。熱硬化性樹脂を塗布する方法としては、例えばス
ピンコード法を用いればよい。
下地層の厚みは、0.6μm以上であることが好ましい
。これは、硬度および帯電防止効果を十分に満足させる
ためである。
。これは、硬度および帯電防止効果を十分に満足させる
ためである。
このようにして形成した下地層の表面には、数千人程度
の突起物等が存在する。このような突起物等を除去し、
かつ、適度な表面粗さを得るために、下地層の表面を研
摩加工することが望ましい。研摩加工の方法としては、
例えば、ラッピング、ボリシング等がある。
の突起物等が存在する。このような突起物等を除去し、
かつ、適度な表面粗さを得るために、下地層の表面を研
摩加工することが望ましい。研摩加工の方法としては、
例えば、ラッピング、ボリシング等がある。
下地層の表面粗さの最適値は、Ra55〜110人程度
である。最適な表面粗さを得る方法としては、上述の研
摩加工の後に、真空中で下地層の表面付近の熱硬化性樹
脂をイオンビームエツチングすることにより、アルミナ
と非磁性粒子とを下地層の表面より適度な高さで露出さ
せる方法が効果的である。上述のように、この場合はア
ルミナと非磁性粒子の平均粒径が問題となり、平均粒径
は、0.5μm以下であることが望ましい。
である。最適な表面粗さを得る方法としては、上述の研
摩加工の後に、真空中で下地層の表面付近の熱硬化性樹
脂をイオンビームエツチングすることにより、アルミナ
と非磁性粒子とを下地層の表面より適度な高さで露出さ
せる方法が効果的である。上述のように、この場合はア
ルミナと非磁性粒子の平均粒径が問題となり、平均粒径
は、0.5μm以下であることが望ましい。
(記録層)
下地層上に形成される磁気記録層は、記録再生に関与す
る層であり、かかる作用を奏するならば、どのようなも
のであってもよい。すなわち、磁気記録層の形成材料や
形成方法、厚さ等は、本発明の効果に何ら影響を与える
ものではない。例えば、磁気記録層は、Co−Cr、C
o−Ni −Cr、酸化鉄等により形成してもよいし、
磁性粉末(例えば、炭化鉄粉、γ−FezO3粉等)を
樹脂で結合したものにより形成してもよい。
る層であり、かかる作用を奏するならば、どのようなも
のであってもよい。すなわち、磁気記録層の形成材料や
形成方法、厚さ等は、本発明の効果に何ら影響を与える
ものではない。例えば、磁気記録層は、Co−Cr、C
o−Ni −Cr、酸化鉄等により形成してもよいし、
磁性粉末(例えば、炭化鉄粉、γ−FezO3粉等)を
樹脂で結合したものにより形成してもよい。
以上、本発明の磁気記録媒体の構成について説明したか
、他の構成要件を加えたものであってもよい。例えば、
下地層と磁気記録層との間に他の層を設けてもよいし、
磁気記録層の上に保護層や潤滑層を設けてもよい。
、他の構成要件を加えたものであってもよい。例えば、
下地層と磁気記録層との間に他の層を設けてもよいし、
磁気記録層の上に保護層や潤滑層を設けてもよい。
C作 用]
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明では、合成樹脂製の基板に下地層を設け、その下
地層として合成樹脂製塗膜を用いている。すなわち、合
成樹脂製塗膜を合成樹脂製の基板上に塗布し熱により硬
化させるので、下地層と合成樹脂製の基板との間で良好
な密着性を得ることができる。
地層として合成樹脂製塗膜を用いている。すなわち、合
成樹脂製塗膜を合成樹脂製の基板上に塗布し熱により硬
化させるので、下地層と合成樹脂製の基板との間で良好
な密着性を得ることができる。
この下地層にはアルミナが含有されている。これにより
、下地層を設けた合成樹脂製の基板の硬度を高めること
ができる。さらに、このアルミナによって、磁気記録媒
体表面の粗さを調節し、適度な表面の粗さ(Ra55〜
110人程度)を得ることができる。表面の粗さをRa
55〜110人程度とすれば、ヘッドと磁気記録媒体と
の接触面積が小さくなり、よってヘッドと磁気記録媒体
との摩擦係数も小さくなる。これによりヘッドと磁気記
録媒体との間での吸着を防止することができる。
、下地層を設けた合成樹脂製の基板の硬度を高めること
ができる。さらに、このアルミナによって、磁気記録媒
体表面の粗さを調節し、適度な表面の粗さ(Ra55〜
110人程度)を得ることができる。表面の粗さをRa
55〜110人程度とすれば、ヘッドと磁気記録媒体と
の接触面積が小さくなり、よってヘッドと磁気記録媒体
との摩擦係数も小さくなる。これによりヘッドと磁気記
録媒体との間での吸着を防止することができる。
さらに、本発明では、下地層の表面抵抗値が108〜1
010Ω/□程度以下となるように、熱硬化性樹脂中に
非磁性粒子を含有せしめているため、下地層に導電性が
付与され、磁気記録媒体の帯電が防止される。下地層の
表面抵抗値は、含有せしめる非磁性粒子の稙類、含有量
、下地層内における分布状況等の条件によって変化する
ので、108〜1010Ω/□程度以下とするには、予
めこれらの条件と表面抵抗値との関係を求めておき適宜
決定すればよい。
010Ω/□程度以下となるように、熱硬化性樹脂中に
非磁性粒子を含有せしめているため、下地層に導電性が
付与され、磁気記録媒体の帯電が防止される。下地層の
表面抵抗値は、含有せしめる非磁性粒子の稙類、含有量
、下地層内における分布状況等の条件によって変化する
ので、108〜1010Ω/□程度以下とするには、予
めこれらの条件と表面抵抗値との関係を求めておき適宜
決定すればよい。
また、アルミナおよび非磁性粒子により、磁気記録媒体
表面の粗さを調節し、適度な表面の粗さ(Ra55〜1
10人程度)を得ることができる0表面の粗さをRa5
5〜110人程度とすれば、ヘッドと磁気記録媒体との
接触面積が小さくなり、よってヘットと磁気記録媒体と
の摩擦係数も小さくなる。これによりヘッドと磁気記録
媒体との間での吸着を防止することができる。
表面の粗さを調節し、適度な表面の粗さ(Ra55〜1
10人程度)を得ることができる0表面の粗さをRa5
5〜110人程度とすれば、ヘッドと磁気記録媒体との
接触面積が小さくなり、よってヘットと磁気記録媒体と
の摩擦係数も小さくなる。これによりヘッドと磁気記録
媒体との間での吸着を防止することができる。
本発明では以上に述べたような下地層により、合成樹脂
製の基板に対して充分な硬度を付与することができ、よ
ってC3S耐久性が向上させることができる。下地層が
合成樹脂塗膜であるため合成樹脂製の基板との密着性も
よい。また、合成樹脂製の基板の帯電を防止するので、
磁気記録層が形成される面上への異物の付着を話発しな
いため、形成された磁気記録層の信号欠陥が大幅に減少
する。さらに、製造された磁気記録媒体の表面に適度な
粗さを与えることで、使用時のヘットと記録媒体との間
の吸着が防止できる。
製の基板に対して充分な硬度を付与することができ、よ
ってC3S耐久性が向上させることができる。下地層が
合成樹脂塗膜であるため合成樹脂製の基板との密着性も
よい。また、合成樹脂製の基板の帯電を防止するので、
磁気記録層が形成される面上への異物の付着を話発しな
いため、形成された磁気記録層の信号欠陥が大幅に減少
する。さらに、製造された磁気記録媒体の表面に適度な
粗さを与えることで、使用時のヘットと記録媒体との間
の吸着が防止できる。
[実施例]
以下、本発明の具体的な実施例として、磁気ディスクを
例にとって、製造工程とともにさらに詳細に説明する。
例にとって、製造工程とともにさらに詳細に説明する。
第1図(a)〜(d)は本実施例の磁気ディスクの製造
工程を説明するための概略的断面図であり、第1図(d
)が完成図である。第1図(a)〜(d)において、そ
れぞれ、1は下地層としての熱硬化性塗膜、2は熱硬化
性樹脂、3はアルミナ、4は非磁性粒子としてのカーボ
ンブラック粒子、5は合成樹脂製基板としてのポリエー
テルイミド基板、6はCr/l、7は磁気記録層として
のCo合金層、8は侃護膜としてのカーボン層、9は潤
滑層である。
工程を説明するための概略的断面図であり、第1図(d
)が完成図である。第1図(a)〜(d)において、そ
れぞれ、1は下地層としての熱硬化性塗膜、2は熱硬化
性樹脂、3はアルミナ、4は非磁性粒子としてのカーボ
ンブラック粒子、5は合成樹脂製基板としてのポリエー
テルイミド基板、6はCr/l、7は磁気記録層として
のCo合金層、8は侃護膜としてのカーボン層、9は潤
滑層である。
本実施例として、表面粗さの異なる8種類の磁気ディス
クを作製し、それぞれ試料1〜8とした。以下、これら
の611気デイスクについて、製造工程に従って説明す
る。
クを作製し、それぞれ試料1〜8とした。以下、これら
の611気デイスクについて、製造工程に従って説明す
る。
■各磁気ディスク共に、下地層1を形成する塗料の組成
は、以下の通りとした。
は、以下の通りとした。
アルミナ 75重量部カーボングラツ
ク 10重量部エポキシ樹脂 2
5重量部フェノール樹脂 25重量部シクロ
へキサノン 400重量部分散剤
2重量部以上の組成でサンドミル型分散機によ
り10時間分散を行った後、濾過し、塗料を作製した。
ク 10重量部エポキシ樹脂 2
5重量部フェノール樹脂 25重量部シクロ
へキサノン 400重量部分散剤
2重量部以上の組成でサンドミル型分散機によ
り10時間分散を行った後、濾過し、塗料を作製した。
この塗料をスピンコード法を用いて、ポリエーテルイミ
ド樹脂製の3.5インチ基′Fi、5上に、硬化後の膜
厚が1μmになるように塗布した。膜厚の調整は、スピ
ンコーティングの振り切りの回数及び重ね塗り等で行っ
た。
ド樹脂製の3.5インチ基′Fi、5上に、硬化後の膜
厚が1μmになるように塗布した。膜厚の調整は、スピ
ンコーティングの振り切りの回数及び重ね塗り等で行っ
た。
■続いてオーブンで200℃2時間の熱処理を施して硬
化させ、表面の粗ざRa90人の下地層1を得た。この
状態を第1図(a)に示す。
化させ、表面の粗ざRa90人の下地層1を得た。この
状態を第1図(a)に示す。
■各磁気ディスクについて、下地層1の表面を研摩テー
プでボリシング加工した。この状態を第1図(b)に示
す。
プでボリシング加工した。この状態を第1図(b)に示
す。
ポリシング加工後の表面粗さは、試料1および4〜8は
Ra45人、試料2はRa80人、試料3はRa125
人であった。
Ra45人、試料2はRa80人、試料3はRa125
人であった。
■試料4〜8について、下地層1の表面に、以下の条件
で、イオンビームエツチングを施した。この状態を第1
図(c)に示す。
で、イオンビームエツチングを施した。この状態を第1
図(c)に示す。
加速電圧/電流 400 V / 50 m AAr
圧 3X10−”Pa エツチング速度 200人/ m i nイオンビー
ムエツチング後の表面粗さは、試料4はRa55人、試
料5はRa70人、試料6はRa90人、試料7はRa
110人、試料8はRa 120人であった。
圧 3X10−”Pa エツチング速度 200人/ m i nイオンビー
ムエツチング後の表面粗さは、試料4はRa55人、試
料5はRa70人、試料6はRa90人、試料7はRa
110人、試料8はRa 120人であった。
■その後、各磁気ディスクに、DCマグネトロン方式に
よるスパッタリングで厚さ2000人のCr層6、厚さ
800人のCo合金層7、厚さ300人のカーボン層8
を、それぞれ形成した。
よるスパッタリングで厚さ2000人のCr層6、厚さ
800人のCo合金層7、厚さ300人のカーボン層8
を、それぞれ形成した。
さらに潤滑処理を施し潤滑層9を形成し、第1図(d)
に示したような、本発明の実施例である磁気記録媒体を
得た。
に示したような、本発明の実施例である磁気記録媒体を
得た。
なお、比較のために、下地層1を有さない磁気ディスク
(表面粗さRa40人)を作製し、試料9とした。
(表面粗さRa40人)を作製し、試料9とした。
以上説明した試料1〜9について、トラック幅が20μ
mの3370タイプのヘッドを用いて、13号欠陥、静
摩擦係数およびCSS耐久性の評価を行なった。以下、
この結果について、表1〜表3を用いて説明する。
mの3370タイプのヘッドを用いて、13号欠陥、静
摩擦係数およびCSS耐久性の評価を行なった。以下、
この結果について、表1〜表3を用いて説明する。
(1)・信号欠陥
表1に示すように、下地層を有さない試料9は、ハンド
リング及び磁気記録層形成の際に発生する基板上の静電
気のために、異物を付着しやすく信号欠陥も多い。これ
に対して本発明の実施例である試料No、1〜8の磁気
記録媒体では信号欠陥が全く見られず、きわめて良好で
あった。
リング及び磁気記録層形成の際に発生する基板上の静電
気のために、異物を付着しやすく信号欠陥も多い。これ
に対して本発明の実施例である試料No、1〜8の磁気
記録媒体では信号欠陥が全く見られず、きわめて良好で
あった。
表1
(2)静摩擦係数
表2に示すように、下地層を有しない試料9は、その表
面粗さが小さいためにヘッドに対する静摩擦係数が高い
のに対し、本発明の実施例である試料1〜8はいづれも
試料9よりも低い静摩擦係数を示した。
面粗さが小さいためにヘッドに対する静摩擦係数が高い
のに対し、本発明の実施例である試料1〜8はいづれも
試料9よりも低い静摩擦係数を示した。
表ま
たのに対し、本発明の実施例である試料1〜8はいずれ
もC3S回数35000回まではヘッドクラッシュを生
じなかった。特に表面粗さが最適値(Ra 55〜11
0人)である試料2および4〜7においては、C8S回
数35000回でもヘッドクラッシュは発生せず、傷の
発生やヘッド吸着もなかった。
もC3S回数35000回まではヘッドクラッシュを生
じなかった。特に表面粗さが最適値(Ra 55〜11
0人)である試料2および4〜7においては、C8S回
数35000回でもヘッドクラッシュは発生せず、傷の
発生やヘッド吸着もなかった。
表3
(3)C3S耐久性
表3に示すように、下地層を有さない試料9はC5S回
数2000回でヘッドクラッシュを起し[発明の効果] 本発明は、次に述へる諸々の効果を有する。
数2000回でヘッドクラッシュを起し[発明の効果] 本発明は、次に述へる諸々の効果を有する。
■下地層は塗料の状態で塗布した後に硬化させて形成す
るので、合成樹脂製の基板との密着性に優れ、平面性も
良好である。また、焼成の場合とは異なり、合成樹脂製
の基板に対して過大な熱を加えることなく高硬度を付与
することができるため、変形が極めて少なく平面性が損
なわれることがない。これにより、耐摩耗性、耐擦傷性
に優れ、かつC5S特性に優れた、合成樹脂製の基板を
用いた磁気記録媒体を実現することが可能となる。
るので、合成樹脂製の基板との密着性に優れ、平面性も
良好である。また、焼成の場合とは異なり、合成樹脂製
の基板に対して過大な熱を加えることなく高硬度を付与
することができるため、変形が極めて少なく平面性が損
なわれることがない。これにより、耐摩耗性、耐擦傷性
に優れ、かつC5S特性に優れた、合成樹脂製の基板を
用いた磁気記録媒体を実現することが可能となる。
■下地層に非磁性粒子を含有させることにより導電性が
付与されており、摩擦等による静電気の発生と、これに
よる塵埃の吸着、信号欠陥の発生という、合成樹脂製の
基板を用いた場合に生ずる特有の問題点を解決すること
ができる。
付与されており、摩擦等による静電気の発生と、これに
よる塵埃の吸着、信号欠陥の発生という、合成樹脂製の
基板を用いた場合に生ずる特有の問題点を解決すること
ができる。
■熱硬化性塗膜の表面を、研摩加工することにより、ま
たは研摩加工の後にイオンビームエツチングすることに
より、表面に微細な凹凸を設けて、磁気記録媒体のヘッ
ドとの吸着性を低下させることかでき、従って、長期的
信頼性に優れた磁気記録媒体を提供することができる。
たは研摩加工の後にイオンビームエツチングすることに
より、表面に微細な凹凸を設けて、磁気記録媒体のヘッ
ドとの吸着性を低下させることかでき、従って、長期的
信頼性に優れた磁気記録媒体を提供することができる。
また、イオンビームエツチング法は、容易に任意の表面
粗さを得ることができるため、今後の磁気記録媒体の高
密度化において予想されるヘッドの低浮−E化に対して
も、容易に対応することが可能である。
粗さを得ることができるため、今後の磁気記録媒体の高
密度化において予想されるヘッドの低浮−E化に対して
も、容易に対応することが可能である。
第1図(a)〜(d)は、本発明の一実施例に係る磁気
ディスクの製造工程を説明するための概略的断面図であ
る。 (符号の説明) 1・・・下地層としての熱硬化性塗膜、2・・・熱硬化
性樹脂、3・・・アルミナ、4・・・非磁性粒子として
のカーボンブラック粒子、5・・・合成樹脂製基板とし
てのポリエーテルイミド基板、6・・・Cr層、7・・
・磁気記録層としてのCo合金層、8・・・保護膜とし
てのカーボン層、9・・・潤滑層 (a) (C) 第 (b)
ディスクの製造工程を説明するための概略的断面図であ
る。 (符号の説明) 1・・・下地層としての熱硬化性塗膜、2・・・熱硬化
性樹脂、3・・・アルミナ、4・・・非磁性粒子として
のカーボンブラック粒子、5・・・合成樹脂製基板とし
てのポリエーテルイミド基板、6・・・Cr層、7・・
・磁気記録層としてのCo合金層、8・・・保護膜とし
てのカーボン層、9・・・潤滑層 (a) (C) 第 (b)
Claims (6)
- (1)合成樹脂基板と、当該合成樹脂基板上に形成され
た下地層と、磁気記録層とを少なくとも有する磁気記録
媒体において、 前記下地層がアルミナと非磁性粒子とを含有する熱硬化
性樹脂によって形成され、当該非磁性粒子の含有量が前
記下地層の表面抵抗が10^8〜10^10Ω/□とな
るような含有量であり、かつ、当該下地層の表面に微細
な凹凸が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
。 - (2)前記非磁性粒子の比抵抗を1×10^8Ω・cm
以下とすることにより、前記下地層の表面抵抗を10^
8〜10^10Ω/□となるようにしたことを特徴とす
る請求項1に記載の磁気記録媒体。 - (3)前記層の下地層の表面粗さがRa55〜110Å
であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気
記録媒体。 - (4)前記非磁性粒子がカーボン粒子であることを特徴
とする請求項1乃至3に記載の磁気記録媒体。 - (5)前記微細な凹凸を、前記下地層の表面を研摩加工
することにより形成することを特徴とする請求項1乃至
4に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - (6)前記微細な凹凸を、前記下地層の表面を研摩加工
し、その後、真空中で当該下地層表面をイオンビームエ
ッチングすることにより形成することを特徴とする請求
項1乃至4に記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14017289A JPH035913A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14017289A JPH035913A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH035913A true JPH035913A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15262563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14017289A Pending JPH035913A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH035913A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5756148A (en) * | 1991-01-21 | 1998-05-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
JP2008148283A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Korea Electronics Telecommun | 柔軟バネ型振動板を有するコンデンサーマイクロホン及びその製造方法 |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP14017289A patent/JPH035913A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5756148A (en) * | 1991-01-21 | 1998-05-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US5795646A (en) * | 1991-01-21 | 1998-08-18 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Magnetic recording medium |
JP2008148283A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Korea Electronics Telecommun | 柔軟バネ型振動板を有するコンデンサーマイクロホン及びその製造方法 |
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