JPH0224821A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 磁気ディスク装置における記録媒体である磁気記録媒体
の磁気特性改善に関し、 テクスチャー処理とは異なる手法により、電磁変換特性
の向上を実現することを目的とし、非磁性の基板に設け
られた下地層と磁性膜との間に、中間層が介在している
ように構成する。

〔産業上の利用分野〕

磁気ディスク装置における記録媒体である磁気記録媒体
には、非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜型と
、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなどの磁性金属や酸化鉄磁性
膜を成膜して成る連続磁性膜型とがある。本発明は、後
者の連続磁性膜型の磁気記録媒体における磁気特性の改
善に関する。

〔従来の技術〕

第６図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図で
ある。ｌは例えばアルミニウムなどのような非磁性体か
らなる基板（円板）であり、その上に下地層２、磁性層
３、保護膜４の順に積層されている。

第７図は従来の磁気記録媒体の断面構造を示す図であり
、磁性Ｎ３が酸化鉄（ＴＦｅｚＯ：＋）によって形成さ
れている。基板１はアルミニウムからなっており、その
表面を酸化させてアルマイト（Ａ１２０、）層を形成す
ることで下地層２としている。磁性層３は、ｙ−Ｆｅ、
０．をスパッタ或いは塗布することで形成される。保護
膜４は、カーボンやＳｉＯ□をスパッタすることで形成
される。

この保護膜４の上に、さらに凹凸層５を形成し、微小な
凹部中に潤滑剤を含浸させることで、磁気ヘッドが接触
摺動する際の媒体表面の摩耗を防止するようにしている
。

凹凸層５は、次のようにして形成される。まず、Ｓｉを
含む溶剤と易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布すると
、易熱蒸発性の物質が凝集し玉状になる。次に、焼付け
を行なうと、玉状の５熱蒸発性物質が蒸発する。このと
き、玉状の５熱蒸発性物質とＳｔ混合液との境が盛り上
がり、凹凸が形成される。なお、Ｓｉを含む混合液は東
京応化■の物で、易熱蒸発性の物質としてパラフィンを
使用した。

Ｓｉの混合量とは、塗布液中のＳｔの割合である。

具体的には、前記のように東京応化製の０ＣＤＰ−５９
３１０という液にＳｉが含まれており、これをベースと
して種々の溶剤を添加し、Ｓｔの濃度をコントロールす
る。Ｓｉの混合量が多いと、凹凸の高さが大きくなり、
少ないと低くなる。

第８図、第９図は、磁性Ｍ３として、ＣＯを主成分とす
る金属磁性膜を用いている。第８図は、Ａｌから成る基
板１の上に、Ｎ１−Ｐ層２１とＣｒ層２２から成る下地
層２を形成し、その上にＣｏＮｉから成る磁性層３を形
成している。保護膜４は、Ｃｒ層４１と０層４２の２層
構造になっている。第９図は、ＡＩから成る基Ｆｉ１の
上に、Ｎ１−Ｐ層２１とＣｒ層２２から成る下地層２を
形成し、その上にＣｏＮｉＣｒから成る磁性層３、Ｃか
ら成る保護膜４の順に積層されている。これらの層構造
においても、保護膜４の上に、潤滑剤を含浸するための
凹凸層を形成することができる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、電磁変換特性を向上させるために、テクスチ
ャーという手法で基板表面を粗すことが行なわれている
。これは、ディスク状基板の表面に、円周方向に沿って
゛極めて細かく、かつ整った傷を全面につけるもので、
この傷の上に磁性膜が形成される。このようにテクスチ
ャー処理を行なうことで、形状異方性による磁気特性が
向上する。

通常、テクスチャー処理は、ディスク状基板を回転させ
ながら、アルミナ等の研磨テープを押し付けることで行
なわれるが、定量的に表面を粗すことが難しい。そのた
め、テクスチャー処理の目的を充分達成することができ
ず、電磁変換特性を向上することが不可能となり、また
テクスチャー処理の際に傷が発生し、磁気記録／再生の
際のエラーの原因となる。

本発明の技術的課題は、従来の磁気記録媒体におけるこ
のような問題を解消し、テクスチャー処理とは異なる手
法により、電磁変換特性の向上を実現することにある。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は本発明による磁気記録媒体の基本原理を説明す
る断面図である。１は非磁性の基板であり、通常下地層
２が形成される。下地層２の上には、中間層６を形成し
、その上に磁気記録用の磁性膜３が形成されている。磁
性膜３の上には、通常保護膜４が形成される。

〔作用〕

従来の層構造では、非磁性基板の下地層２上に直接磁性
膜３が形成されているのに対し、本発明では、下地層２
と磁性膜３との間に、下地層２と磁性膜３との中間の熱
膨張率を有する中間層６が介在している。

磁気記録媒体を完成するには、磁性膜３を形成した後に
、加熱処理を要する工程が存在するが、従来の層構成の
ように、下地層２の上に直接磁性膜３が密着していると
、加熱処理の際に、両者の熱膨張率の差異に起因して、
磁性膜３に歪みが発生し易い。

これに対し、本発明の層構成は、下地Ｎ２と磁性膜３と
の間に、両者の中間の熱膨張率を有する中間層６が介在
している。そのために、加熱処理の際に、熱膨張率の差
異により磁性膜３の受ける歪みが抑制され、電磁変換特
性が向上する。またテクスチャー処理を行なうことなし
に、電磁変換特性を改善できるので、テクスチャーの際
の傷に起因するエラー発生などの問題も生じない。

〔実施例〕

次に本発明による磁気記録媒体が実際上どのように具体
化されるかを実施例で説明する。第２図は本発明による
磁気記録媒体の第一実施例を示す断面図である。アルミ
ニウム等のような非磁性の基板１に下地層２を形成し、
その上に、下地層２と磁性膜３との中間の熱膨張率を有
する中間層６が積層されている。そして、中間層６の上
に、磁性膜３、保護膜４の順に積層されている。保護膜
４の上には、第７図で説明したような、凹凸層５が形成
されている。この凹凸層５に潤滑剤を含浸し、潤滑剤の
膜７を付けて磁気記録媒体とする。

なお、中間層６は、下地層２の上に直接、Ｓｉを含む混
合液を塗布し、焼付けることで形成される。

第３図は本発明の第二の実施例を示す断面図である。こ
の実施例は、下地層２上に中間層を形成する際に、第７
図における凹凸層５を形成する場合と同じ手法により、
Ｓｉを含む液と易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布し
、焼付けることで、微小な凹凸を有する中間層６１とし
たものである。このように凹凸のついた中間層６１の上
に、磁性膜３を形成し、その上から保護膜４を形成すれ
ば、中間層６１の凹凸形状がそのままならい、凹凸のつ
いた保護膜４１となる。この実施例によれば、保護膜表
面に微小凹凸が形成されるので、摩耗防止と磁気特性の
向上の両方の効果が得られる。

次に、中間層の形成方法の実施例を工程順に説明する。

（１）、塗布Ａ；第２図におけるアルミニウム基板上の
アルマイト層２の上、に、次の様にＳｔを含む混合液を
スピンコードする。

ＯＣＤ　　Ｐ−５９３ｉ０　　（東京応化製）酢酸エチ
レングリコールモノエチルエーテルキシレン 酢酸エチル （２）、焼付け：１５０〜３５０’Ｃで１〜５時間行な
う。

こうして形成したヰ間層の上に、磁性材料α−Ｆｅ２０
．を０．２μｍスパッターし還元酸化処理して磁性膜を
作成した。その保護膜として、５ｉＯｚ（２００人）を
スパッタした後、更に下記のような液を塗布し焼付けを
行なった。

（３）、塗布Ｂ：ＯＣＤ　　Ｐ−５９１３０（東京応化
製）酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルキシレ
ン 酢酸エチル 流動パラフィン （４）、焼付け：１５０〜３５０°Ｃで１〜５時間行な
う。

こうして形成された凹凸層上に潤滑剤を塗布して、磁気
ディスク媒体とした。潤滑剤にはフッ素系の潤滑剤を用
いた。

なお別の実施例として、Ｎ１−Ｐ製の基板りに、上記と
同様の工程で膜を付けて中間層とし、磁性膜にはＣｏＮ
ｉＣｒあるいはＣｏＮｉを用いることもできる。

表、１ 表、１は、Ｓｉを含む液と易熱蒸発性の物質を含む混合
液（以下ガラスレジン：ＧＲと呼ぶ）を塗布し焼付けて
なる中間層の膜厚対磁気特性（Ｂ−Ｈ特性）を示す実験
データである。この表において、本発明による中間層と
しては、膜Ｊ￥３００人と１０００人の２例について実
験した。また層構成は、第１図に示すように、平坦な中
間層６を使用し、表面には凹凸の無い平坦な保護膜４を
形成した例である。なお■は、磁気記録媒体における内
周（インナー）側、０は外周（アウター）側である。

この表、１から明らかなように、中間層６の膜厚と磁気
特性（Ｂ−）（特性）との相関はあまり存在せず、中間
層６が存在するだけで、高い残留磁気８ｒが得られる。

すなわち、残留磁気Ｂｒ、　Ｂｓが２０％程度向上し、
磁気ヒステリシス曲線がより角形に近くなる。

第４図はＧＲから成る中間層の膜厚と面粗度との関係を
示す図である。（ａ）は中間層の膜厚が３００人の例、
（ｂ）は膜厚が１ｏｏｏ人の例である。この図から明ら
かなように、中間層の膜厚が相違しても、面粗さには影
響しない。また面粗さと磁気特性の関係も変わらない。

第５図はＸ線解析の結果を示すデータで、（ａ）は本発
明によりＧＲ中間層を有する媒体、Φ）は従来の媒体、
（Ｃ）は５ｉ０２をスパッタしてなる中間層を有する媒
体の例である。このデータは、磁気記録媒体における結
晶の結合状態を評価したものである。（ａ）のように本
発明の中間層を有する媒体は、ｒ　（３１１）　とｒ　
（２２２）との間に、中間層に起因するピークＰＩが存
在するのに対し、（ｂ）に示す中間層無しの媒体や、（
Ｃ）の中間層としてスパッタ５ｉ０２を用いた媒体は、
中間層に起因するピークが存在しない。Ｐ２はアルミニ
ウム基板部分に起因するピークである。このように、Ｔ
磁性膜の特性（高Ｂｒ。

高Ｓ）には、（２２２）面の面内配向が効果的である。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、非磁性基板の下地層２と
磁性膜３との間に、両者の中間の熱膨張率を有する中間
層６を介在させることで、電磁変換特性が大幅に向上す
る。またテクスチャー処理を要しないので、磁性膜３に
欠陥が生じてエラーを招くような恐れもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気記録媒体の基本原理を説明す
る断面図、第２図は本発明の第一実施例を示す断面図、
第３図は本発明の第二実施例を示す断面図、第４図は中
間層の膜厚と面粗度との関係を示す図、第５図はＸ線解
析の結果を示す図、第６図は従来の薄膜磁気記録媒体の
全容を示す断面図、第７図〜第９図は従来の各種薄膜型
磁気記録媒体の層構成を示す断面図である。 図において、１は非磁性基板、２は下地層、３は磁性膜
、４．４１は保護膜、５は凹凸層、６．６１は中間層、
７は潤滑剤の膜をそれぞれ示す。 第１図 り 特許出願人　　　　　富士通株式会社 復代理人　弁理士　　福　島　康　文 第２図 第二実施例 第３図 第６図 第 ７図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性の基板（１）に設けられた下地層（２）と磁性膜
   （３）との間に、中間層（６）が介在していることを特
   徴とする磁気記録媒体。