JPS62106649A - 半導体装置の実装方法 - Google Patents

半導体装置の実装方法

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JPS62106649A
JPS62106649A JP60246178A JP24617885A JPS62106649A JP S62106649 A JPS62106649 A JP S62106649A JP 60246178 A JP60246178 A JP 60246178A JP 24617885 A JP24617885 A JP 24617885A JP S62106649 A JPS62106649 A JP S62106649A
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JP
Japan
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semiconductor device
circuit board
mounting
adhesive
terminal
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JP60246178A
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Akiya Izumi
泉 章也
Masahiko Kadowaki
正彦 門脇
Makoto Auchi
誠 阿内
Toshio Nakano
中野 寿夫
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体素子をリードレスセラミックチップキャ
リアに装着した半導体装置の実装方法に関するものであ
る。
〔発明の背景〕
一般に半導体素子を装着したり=ドレスセラミックチッ
プキャリア(以下LCCと称する)は、半田ペーストを
印刷した例えばガラスエポキシ材からなる回路基板上に
載置してリフロー炉で約250℃で約20秒間加熱して
半田付けし、電気的。
機械的に接続されることが行なわれている。
しかしながら、このように構成される半導体装置は、L
CCが大形化した場合、ガラスエポキシ回路基板との熱
膨張率の差が大きいため、熱履歴のくり返えして半田付
部分が疲労破壊し、信頼性を低下させることから、セラ
ミック製マザーボード等に実装されるが、コスト高とな
る問題があった。
また、半田リフロ一時に約250℃程度の高温にさらさ
れるだめ、耐熱性の低い電気部品は実装できないという
問題があり、レーザ等による局部加燃法も考えられるが
、その手段は未だ確立されていない。
また、前述したLCCを、LCC用ソケットあるいはビ
ンフレームに装着し、回路基板上に載置して半田付によ
り接続する構成によると、ソケットが大型となるので、
LCCの利点である高密度実装の効果が得られなくなる
という問題があった。またソケット接点の酸化等による
接触不良により信頼性が低下するという問題があり、さ
らにはソケットの使用によりコスト高となる問題があっ
た。
したがって、半導体装置として例えば固体撮像装置の如
く形状が約15m+n X 15’XW角でかつ耐熱性
が最大約200℃と低いカラーフィルタを内蔵し、また
セラミック基板とガラスキャップとを共晶半田(溶融魚
釣183℃)あるいは有機シール材で融着した固体撮像
装置については、現行のりフロ一方式は全く適用できな
いのが実状である。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、大型のLCCをガラスエポキシ回路基
板上に直接実装可能とした半導体装置の実装方法を提供
することにある。
本発明の他の目的は、少なくとも170℃以下の低温で
LCCの回路基板上への実装を可能とした半導体装置の
実装方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、LCCを低コストで回路基
板上に実装可能とした半導体装置の実装方法を提供する
ことにある。
〔発明の概要〕
本発明の一実施例によれば、リードレスセラミックチッ
プキャリアに半導体素子を装着した半導体装f全回路基
板上に実装する際、半導体装置の端子部と回路基板の端
子部との間に異方導電性コネクタを介在させ、加圧しな
がら半導体装置と回路基板とを接着剤で固定することに
より、低温で信頼性の高い接続を可能とした半導体装置
の実装方法が提供される。
〔発明の実施例〕
図は本発明による半導体装置の実装方法を固体撮像装置
の実装方法に適用した一実施例を説明するための断面図
である。同図において、平板状セラミック板1m、表面
に配線用メタライズ層を形成した枠状セラミック板1b
および枠状セラミック板1cを順次積層し、接着固化さ
せてセラミック成形体1を形成し、このセラミック成形
体1の外面にはその外形形状に沿ってメタライズ層によ
り外部回路接続用の外部端子部2が形成されてり−ドレ
スセラミックチップキャリア(LCC)が構成されるま
た、このセラミック成形体1内の所定位置に図示しない
Agペーストにより固体撮像素子3を接着配置した後、
固体撮像素子3と枠状セラミック板1bのメタライズ層
をボンディングワイヤ4に接続する。この場合、セラミ
ック板1bのメタライズ層はセラミック成形体1の外面
に形成された端子部2に接続されている。次にこのセラ
ミック成形体1の開口部に、透光性ガラス窓5に図示し
ないフリットガラスでセラミック枠6を融着したガラス
キャップTを図示しない共晶半田等により気密封止させ
て固体撮像装置8を製作する。
このように構成された固体撮像装置8は、その端子部2
とガラスエポキシ回路基板10上の端子部11との間に
例えば信越ポリマー製インタコネクタMAFタイプ(0
,5+nm厚)等の枠状の異方導電性エラスチックコネ
クタ12を、またその底面と回路基板10との間に所定
の厚さを有するスペーサ13を固定用接着剤14を介在
させてそれぞれ配置する。この場合、スペーサ13は接
着力および寸法精度が確保できる充分な材料を用いるこ
とが望ましい。また接着剤14は所定の接着力が得られ
る熱硬化形エポキシレジンあるいは瞬間接着剤を用いて
も良く、また回路基板10.固体撮像装置8のどちらか
一方にスペーサ13を接着して置いてホットメルト接着
剤を用いても良い。次に固体撮像装置8および回路基板
10の垂直方向に所定の応力を加えながら約150℃で
1.5時間程度加熱して接着剤14を硬化させる。この
場合、固体撮像装置8の大きさが例えば15X15mm
程度の場合には、スペーサ13の厚さは約0.411m
加圧力は約3 Kqf以上あれば良い。まだ、接着剤1
4は硬化が完了するまで(約1.50℃、1.5時間)
所定の加重を加えておく必要があるが、瞬間接着剤ある
いはホットメルト接着剤を用いた場合には硬化が約1分
以内で完了するので、作業能率を大幅に向上させること
ができる。次に、接着完了後、固体撮像装置8の端子部
2およびコネクタ12の外周部を保護用接着剤15によ
りシーノコする。この場合、この接着剤15はコネクタ
12と同系統の材料、例乏−ば常温硬化、脱アルコール
タイプシリコンレジンが好適である。
このような方法によれば、固体撮像装置8は、弾力性を
有する異方導電性コネクタ12を介し7て回路基板10
と接続されるので、熱膨張率の差を全く無視することが
でき、従来不可能とされていた大形のLCCパッケージ
をガラスエポキシ回路基板10上に直接実装することが
できる。また、約150℃以下室温付近で実装できるの
で、低融点ろう材でのシールあるいは有機フィルタ等を
有する耐熱性の低い固体撮像装置8の回路基板10への
実装が可能となる。さらにコネクタ12の接触面が保護
用接着剤15でシールされるので、接触面の信頼性を大
幅に向上させることができる。また、固体撮像装置8を
回路基板10上に接着固定する際、所定の治具または組
立装置により、固体撮像装置の受光面の位置決めを同時
に行なうことができる。
なお、前述した実施例においては、固体撮像装置8と回
路基板10とを固定する際、スペーサ13を用いた場合
について説明したが、加圧力を規定の値に保持し得る他
の手段がある場合にはスペーサ13を用いなくても良い
ことは勿論である。
また、前述した実施例においては、半導体装置として固
体撮像装置を用いた場合について説明した本発明はこれ
に限定されるものではなく、外面に沿って端子を有する
LCC形パッケージを具備してなるタイプの半導体装置
に適用され、前述と全く同様の効果が得られることは勿
論である。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明によれば、半導体装置の端子部と回
路基板の端子部との間に異方導電性コネクタを介在させ
、加圧しながら、固体撮像装置と回路基板とを接着剤で
固定させたことにより、LCC形パッケージに収納され
た大形かつ低融点ろう材で封止された半導体装置を、回
路基板上に低コストかつ充分な信頼性をもって実装する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明による半導体装置の一実施例を説明するため
のLCC形固体撮像装置の回路基板上に実装した状態を
示す要部断面図である。 11に+1φ@4板状のセラミック板、1b  −・・
・表面に配線用メタライズ層を形成した枠状のセラミッ
ク板 ic @豐・・枠状のセラミック板、1・・・・
セラミック成形体、2・・・・端子部、3・・・・固体
撮像素子、4・・・・ボンディングワイヤ、5・・・・
透光性ガラス窓、6・・・・セラミック枠、γ・・・・
ガラスキャップ、8・φ會・固体撮像装置、10・・e
・ガラスエポキシ回路基板、11・・・・端子部、12
・・・・異方導電性エラスチックコネクタ、13・・・
・スペーサ、14・φ・・固定用接着剤、15・・・・
保護用接着剤。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体素子をリードレスセラミックチップキャリア
    に装着した半導体装置を回路基板上に実装する際、半導
    体装置の端子部と回路基板上の端子部との間に異方導電
    性コネクタを介在させ、加圧しながら半導体装置と回路
    基板とを接着剤で固定することを特徴とした半導体装置
    の実装方法。 2、前記半導体装置と回路基板との間に所定の厚さのス
    ペーサを介在させ、異方導電性コネクタの加圧力を規定
    することを特徴とした特許請求の範囲第1項記載の半導
    体装置の実装方法。 3、前記接着剤として瞬間接着剤もしくはホットメルト
    樹脂を用いることを特徴とした特許請求の範囲第1項ま
    たは第2項記載の半導体装置の実装方法。 4、半導体素子をリードレスセラミックチップキャリア
    に装着した半導体装置を回路基板上に実装する際、半導
    体装置の端子部と回路基板の端子部との間に異方導電性
    コネクタを介在させ、加圧しながら、半導体装置と回路
    基板とを接着剤で固定した後、その外周部に有機樹脂を
    コーティングしたことを特徴とする半導体装置の実装方
    法。 5、前記半導体装置と回路基板との間に所定の厚さのス
    ペーサを介在させ、異方導電性コネクタの加圧力を規定
    することを特徴とした特許請求の範囲第4項記載の半導
    体装置の実装方法。 6、前記接着剤として瞬間接着剤もしくはホットメルト
    樹脂を用いることを特徴とした特許請求の範囲第4項ま
    たは第5項記載の半導体装置の実装方法。
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JPH01209795A (ja) * 1988-02-18 1989-08-23 Nissha Printing Co Ltd 積層回路基板
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