JPS62104893A - 小粒子螢光体の作製方法 - Google Patents

小粒子螢光体の作製方法

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JPS62104893A
JPS62104893A JP60244561A JP24456185A JPS62104893A JP S62104893 A JPS62104893 A JP S62104893A JP 60244561 A JP60244561 A JP 60244561A JP 24456185 A JP24456185 A JP 24456185A JP S62104893 A JPS62104893 A JP S62104893A
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Katsutoshi Ono
勝利 大野
Tomohiko Abe
阿部 具彦
Yuichi Kimizuka
君塚 雄一
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はコックビット用或いはプロジェクション用陰極
線管におけるように高輝度、高精細度陰極線管の螢光面
に用いられる小粒子螢光体の作製方法に係わる。
〔発明の概要〕
本発明は、目的とする螢光体の単相合成を行い、これを
粉砕して微粒子として後、熱処理を行うことによって輝
度の高い小粒子螢光体を作製する。
〔従来の技術〕
例えばコックビットで用いられるカラー陰極線管、或い
はカラープロジェクション陰極線管においては、高解像
度、高精細度、高輝度化が要求される。通常、カラー陰
極線管のカラー螢光面は、各色の螢光体がストライプ状
、ドツト状等の所定のパターンに塗り分けられて成るも
のであり、このパターンは高解像度、高精細度化に伴っ
て、より幅狭化、高密度化が要求されるものであり、こ
れら螢光体パターンを形成する螢光体粒子は、通常一般
の螢光体粒子における粒径10μm程度では、粒径が大
き過ぎて、高輝度を得るに最適な螢光体塗布厚を得難い
。そこで、この種高輝度、高精細度カラー陰極線管を得
るには、小粒子の螢光体の作製が必要となる。
従来、小粒径の螢光体を得る第1の方法は、螢光体生成
時に添加するフラックスの量を減じるか、フラックスの
使用を回避することによって結晶成長を抑制させる方法
であり、第2の方法は通常の方法で作製した螢光体から
小粒子の螢光体を分級する方法であり、第3の方法は通
常の方法で得た螢光体を更に粉砕して小粒子化するとい
う方法がある。
しかしながら、上述の第1の方法では、粒子成長が中間
状態であって不安定であるとか、目的の螢光体生成物が
単相にならず、副次生成物が混入するなどの不都合があ
り、輝度が低下する。また、第2の方法では、手間が掛
り、また収率が極めて低い。そして、第3の方法では、
粉砕によって粒子表面が損傷することによってその輝度
が本来の輝度の30〜40%も低下してしまう。
一方、上述したように各色の螢光体パターンを微細化す
ると、各部における螢光体粒子の充填密度などの問題か
ら、螢光面として形成された状態で輝度が低下する方向
にあることから、螢光体粒子としては、できるだけ高輝
度が要求されてくる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、高輝度の小粒子螢光体を収率良く得ることが
できるようにした小粒子螢光体の作製方法を提供するも
のである。
C問題点を解決するための手段〕 本発明においては、先ず目的とする螢光体組成物の単相
体、すなわち、最終的に得ようとする螢光体と同一組成
、構造の螢光体を得て、その後、これを粉砕して微細粒
子とする。この微細粒子は、単相であるが、このままで
は輝度が低下している。
次に、この微細粒子を熱処理する。そして、この熱処理
によって、粉砕された?!i細粒子を焼結して輝度の回
復を行う。
〔作用〕
本発明において先ず結晶成長が充分なされて単相の安定
で高輝度の螢光体を一旦作製し、これを粉砕するもので
あるが、その後熱処理を行うことによってこの粉砕によ
って表面損傷によって低下した輝度を回復する効果が生
じ、最終的に高輝度でしかも小粒子の螢光体を収率良く
得ることができるものである。
〔実施例〕
第1の工程として、単相Y3 Al! 5012 : 
Tbの緑の螢光体の合成を行う。この合成は、Y3^j
!5ot2:Tb (Tb (モル) / (Y+Tb
)  Cモル)=5)1モルを焼成して生成するに必要
な原料として、Y2O3321,78g 、  八12
th 254.9g及びTb40t 28.04gを粉
末のまま混合し、これにフラックスとしてBaF2を2
0モル%添加して1500℃、2時間の焼成を行ってY
3 八15012 : Tbを得た。このY3 AJ 
5012 : Tbの合成は、特開昭58−57491
号公報に開示の方法を通用し得るが、この合成処理後に
おける酸またはアルカリによる洗浄作業は省略し得る。
次に第2の工程として、このようにし得た単相のY3 
At!5012 : Tbを粉砕する。この粉砕工程は
、の混合物を10β容量のポリエチレンの瓶に入れて6
0rρmの回転数をもって、15時間ボールミル粉砕す
る。
そしてこの粉砕物にフラックスのBaF2を110g添
加して更に1時間のボールミル粉砕を行う、その後、ボ
ールをとり除き、濾過、乾燥する。
次に、第3の工程として、この粉砕物をアルミするつぼ
に充填し、加熱炉によって毎時200℃の昇温速度で1
500℃まで昇温し、この1500℃を2時間保持して
後、炉内で冷却する、その後、残留フラックスを除去す
るための酸またはアルカリでの洗浄処理を行う。
このようにして得た螢光体は粉砕工程を経て、微細化が
図られているにも拘わらず、初期の単相合成螢光体にお
ける輝度に比し、殆んど輝度の低下を来していない。今
、実施例1における第1の工程後における螢光体の発光
輝度を100%とすると、第2の工程後では、70%に
低下し、第3の工程後には99.5%にまで回復してい
ることが測定された。また、第1図、第2図及び第3図
は夫々走査型電子顕微写真図による上記第1の工程後、
第2の工程後及び第3の工程後の夫々の粒子状態を示し
た拡大図である。第1図に示された第1の工程後の大粒
径の螢光体が、第2図に示すように第2の工程の粉砕処
理によって一旦不規則に割れた状態となるが、第3図に
示すように、第3の工程の熱処理で、焼結によって均一
性、形状性に優れた微細粒子状の螢光体が得られる。ま
た、第4図は、各工程での螢光体粒子の粒度分布の測定
結果を示し、図中、曲線(11は第1の工程後の粒度分
布、曲線(2)は第2の工程後、つまり粉砕処理後の粒
度分布、曲線(3)は、第3の工程後、つまり加熱焼成
処理後の粒度分布を示し、第3の工程後では、初期の第
1の工程後に比しては微細化されているが、第2の工程
の粉砕螢光体が、焼結していることが分る。
つまり、実施例1によると、螢光体粒径は、その単相合
成の1/2以下にも小となし得るにも拘わらず、粉砕に
よる輝度低下は殆んど生じていないことが分る。
尚、本発明による小粒子螢光体の作製方法において、例
えばボールミルによる粉砕処理工程は、これを余り過剰
に行うと、熱処理による輝度回復工程を行って後の螢光
体に、異常に成長した巨大粒子が発生することが認めら
れた。すなわち、前述した実施例1によれば、熱処理工
程前に16時間のボールミルを行った場合で、この時の
粒径は第5図中曲線(2)(第4図中曲線(2)に対応
)で示すように熱処理前の状態での平均粒径が3.3μ
mで、1μ…以下の粒径の占める体積は、平均粒径の体
積の約5%であって、これの熱処理後の平均粒径は5.
9μmであって第5図中曲線(3)に示す分布が得られ
た。ところが、ボールミルによる粉砕処理を48時間と
した場合の粒径は、第5図中曲線(4)に示すようにな
り、その平均粒径は2.8μmとなり、1μm以下の粒
径の体積は、上記平均粒径の体積の約30%であった。
そして、熱処理後は、第5図中曲線(5)にその分布を
示し、第6図にその電子顕微鏡写真による図を示したよ
うに、その平均粒径が、28.7μmという異常成長を
示し、その輝度も、初期の輝度の85%に相当する程度
の低い輝度となった。
そこで、本発明においては、第2工程後、っまり第3工
程の熱処理前での螢光体は、1μl以下の粒径のものが
、平均粒径の体積の5%程度以下となるように、1μm
以下の粒径のものを分級などでとり除くことが望まれる
実施例2 この例は、通常のカラーテレビジョン受像機の赤色螢光
体Y2O2S : Euを得る場合である。
第1の工程として、 による混合物を容積21の蓋つきアルミするつぼに入れ
、昇温速度200℃/hourで、1150℃まで昇温
し、その温度で2時間保持し、その後、炉冷した。その
後、水または温水にて残留多硫化物などを除去するため
、PH7まで洗浄した。その後、濾過し、乾燥した。
次に、第2の工程として、 の混合物を、0.51容量のポリエチレンの瓶に入れ、
1100rpの回転数をもってボールミルした。
次に、第3の工程として、 の混合物を容、tizのアルミするつぼに入れ、昇温速
度200℃/hourで、900〜1000′C例えば
950℃まで昇温し、1〜3時間保持し、その後炉冷す
る。
その後、水または温水で洗浄し、小粒子のY2O2S 
: Euの螢光体を得た。
第7図に、この実施例2における第2の工程でのボール
ミルの処理時間を変化させて得た夫々の最終的に得た螢
光体の平均粒径と、その時の夫々の相対輝度の測定結果
を示した。
ここで、最終的に得る螢光体で必要とされる粒径は、こ
の螢光体の塗布によって形成される螢光体パターンの幅
、例えば螢光体ストライプの幅との関連で決定されるも
のである。すなわち、通常のカラーテレビジョン受像機
では、14吋型で、そのストライプ幅は約250μmで
あり、この時用いる螢光体粒子の平均粒径は、約10μ
m程度で良いが、高精細度陰極線管のようにその螢光体
ストライプ幅が約40μmの場合は、用いられる螢光体
としては、平均粒径が2μm程度のものを必要とする。
ところが、第7図でわかるように、螢光体の平均粒径が
小さくなると螢光体の相対輝度は低くなる。平均粒径が
2μmの場合、粉体輝度は、約92%となるが、この螢
光体を用いて、実際に上述した螢光体ストライプ幅が4
0μmの高精細度陰極線管の螢光面を作製する時は、良
好な螢光面が得られた。これは、螢光体ストライプ幅が
40μmの場合に、従来におけるように平均粒径10μ
mの螢光体を用いたのでは、輝度に対する最適膜厚から
大きくずれるからである。
そして、この実施例2においても、そのボールミル粉砕
を余り長時間行うと、実施例1で説明したと同様に第3
の工程を経た最終的に得た螢光体に巨大粒子が発生した
実施例3 この実施例は、プロジェクションテレビジョン陰極線管
の赤色螢光体Y2O3: Euを得る場合の例である。
第1の工程として、 による混合物を容積が201のポリエチレン瓶に入れ、
30rpmの回転速度で20時間回回転台した。この混
合物を容積21の蓋つきアルミするつぼに入れ、昇温速
度200℃/hourで、1400〜1500℃、望ま
しくは1500℃まで昇温し、その温度で1〜3時間保
持し、その後炉冷した。この粉末を100メソシユのふ
るいに通し、はぐした。
次に第2の工程として、 の混合物を、top容量のポリエチレンの瓶に入れ、6
0rpmの回転数をもって15時間ボールミルした。
その後、濾過し、乾燥後100メソシユのふるいでほぐ
した。
第3の工程として、第2の工程で得た混合物を容fn2
1の蓋つき、アルミするつぼに入れ、昇温速度200℃
/hourで1400℃まで昇温し、1〜3時間保持し
炉冷した。その後、残留フラックス除去のため、この螢
光体1000gと、3%1lNO31500ccとを6
0分間攪拌による酸洗浄し、その後中性になるまで、水
洗し、濾過、乾燥する。このようにして得た螢光体は、
平均粒径が2.4μmの第8図中曲線0ωで示す粒径を
示すY2O3: Eu螢光体であった。同図中曲線(1
1)及び(12)は夫々この場合の第1の工程後、及び
第2の工程後の夫々の粒径を示したものである。
〔発明の効果〕
上述したところから明らかなように、本発明によれば、
微細小粒子の螢光体を輝度低下を招来することな(作製
できるので、第1の工程で高輝度螢光体を合成すること
によって最終的に高輝度微細の螢光体を得ることができ
る。したがって、本発明による螢光体を用いることによ
って高輝度。
高精細度のコックビット用、或いはプロジェクタ用のカ
ラー陰極線管を構成することができるものであり、その
実用上の利益は極めて大なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第3図は夫々本発明による小粒子螢
光体の作製方法の一例の各工程後の顕微鏡写真に基づく
各粒子の拡大図、第4図は各工程後の粒度分布を示す図
、第5図は本発明と比較例との粒度分布図、第6図は比
較例の顕微鏡耳翼に基づく螢光体粒子の拡大図、第7図
はボールミル粉砕時間と粒径及び輝度の関係を示す図、
第8図は草i度分布図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (a)目的とする螢光体の単相合成工程と、(b)上記
    単相合成工程を経て得た螢光体粒子の粉砕処理工程と、 (c)熱処理による輝度回復工程とを具備する小粒子螢
    光体の作製方法。
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