JPS6179451A - レ−ザ−照射装置 - Google Patents
レ−ザ−照射装置Info
- Publication number
- JPS6179451A JPS6179451A JP59200863A JP20086384A JPS6179451A JP S6179451 A JPS6179451 A JP S6179451A JP 59200863 A JP59200863 A JP 59200863A JP 20086384 A JP20086384 A JP 20086384A JP S6179451 A JPS6179451 A JP S6179451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- laser
- laser irradiation
- optical
- laser beam
- Prior art date
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- Granted
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- Laser Surgery Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は人体の治療や工場における物の加工等に利用さ
れるレーザー照射装置に関するものである。
れるレーザー照射装置に関するものである。
従来の構成とその問題点
近年、レーザーメス、レーザー加工機等のレーザー照射
装置において、レーザー光を目的部位へ導びく導光路は
、従来のミラー関節導光路から操作性に優れる光ファイ
バーに置き換えられつつある。しかし光ファイバーに一
定限度以上のレーザーパワーを流すと元ファイバーが発
熱し焼損に至ることがある。光ファイバー焼損の原因は
光ファイバーに傷等の欠陥がある場合を除けば光ファイ
バー内のレーザーパワー密度が許容限度金越えてしまう
ためであるが、特に光ファイバー内では伝送されるレー
ザー光が互いに干渉しあい局部的に冒いパワー密度にな
る場合が多い。第１図はファイバーから出射されるレー
ザー光を光軸と直角方向て走査した時の強度分布である
が、スペックル状のパターンを示しており数個所〜数１
０個所で高いピーク値があり、このことが光ファイバー
焼損の一因となっていた。特に反射防止膜を元ファイバ
一端面に付けた場合においては、反射防止膜の許容パワ
ー密度が光ファイバーより低い場合が多く、さらに現損
しやすいという問題があった。
装置において、レーザー光を目的部位へ導びく導光路は
、従来のミラー関節導光路から操作性に優れる光ファイ
バーに置き換えられつつある。しかし光ファイバーに一
定限度以上のレーザーパワーを流すと元ファイバーが発
熱し焼損に至ることがある。光ファイバー焼損の原因は
光ファイバーに傷等の欠陥がある場合を除けば光ファイ
バー内のレーザーパワー密度が許容限度金越えてしまう
ためであるが、特に光ファイバー内では伝送されるレー
ザー光が互いに干渉しあい局部的に冒いパワー密度にな
る場合が多い。第１図はファイバーから出射されるレー
ザー光を光軸と直角方向て走査した時の強度分布である
が、スペックル状のパターンを示しており数個所〜数１
０個所で高いピーク値があり、このことが光ファイバー
焼損の一因となっていた。特に反射防止膜を元ファイバ
一端面に付けた場合においては、反射防止膜の許容パワ
ー密度が光ファイバーより低い場合が多く、さらに現損
しやすいという問題があった。
発明の目的
本発明は上記従来の問題点を解消するもので、光ファイ
バー内のレーザーパワー密度を均等化し、光ファイバー
の焼損を押えることを目的とする。
バー内のレーザーパワー密度を均等化し、光ファイバー
の焼損を押えることを目的とする。
発明の構成
本発明はレーザー発振器と、光ファイバーと、レーザー
発振器から出射されたレーザー光を集光して光ファイバ
ーに導びく集光光学系を備えたレーザー照射装置であり
、集光光学系を微少振動させることにより光ファイバー
内のレーザーパワー密度を均一化し、光ファイバーの焼
損を押えたものである。
発振器から出射されたレーザー光を集光して光ファイバ
ーに導びく集光光学系を備えたレーザー照射装置であり
、集光光学系を微少振動させることにより光ファイバー
内のレーザーパワー密度を均一化し、光ファイバーの焼
損を押えたものである。
実施例の説明
第２図は本発明の一実施例を示すレーザー照射装置の全
体図である。１はレーザー発振器、２は光ファイバーが
組み込まれた光ケーブルで２ａはそのコネクタ一部、２
ｂは手に持って操作するハンドピースである。３は集光
光学系である。第３図はハンドピース２ｂの断面図であ
る。４は光ファイバーで、ここから出射されたレーザー
光はレンズ５により集光され目的部位に照射される。第
４図は集光光学系３の断面図である。レーザー光は５ａ
、ｓｂで示す光路内を通り集光レンズ６で集光され反
射鏡７で直角に曲げられ光ファイバーコネクター２ａに
組み込まれた光ファイバー４の入射端面４ａに入射され
る。ここでのレーザービームスポット径は光ファイバー
４の径よりやや小さく絞っている。８は磁歪素子でこれ
を振動させることにより反射鏡７が振動し、光ファイバ
ー入射端４ａに入射するレーザービームは入射端面４ａ
内で振動する。このように入射されたレーザー光はファ
イバー内で攪判されパワー密度は均一化される。光ファ
イバーから出射されるレーザー光は第５図に示すように
平均化され局部的な高いパワー密度のまま長時間維持さ
れることがなくなり光ファイバーの焼損を押えることが
できる。本実施例では反射鏡７を振動させるのに磁歪素
子を用いたが、ボイスコイル等でももちろん同じ効果を
得る。また反射鏡７を振動させる代りにレンズ６を同様
の方法にて振動させて同じ効果を得る。
体図である。１はレーザー発振器、２は光ファイバーが
組み込まれた光ケーブルで２ａはそのコネクタ一部、２
ｂは手に持って操作するハンドピースである。３は集光
光学系である。第３図はハンドピース２ｂの断面図であ
る。４は光ファイバーで、ここから出射されたレーザー
光はレンズ５により集光され目的部位に照射される。第
４図は集光光学系３の断面図である。レーザー光は５ａ
、ｓｂで示す光路内を通り集光レンズ６で集光され反
射鏡７で直角に曲げられ光ファイバーコネクター２ａに
組み込まれた光ファイバー４の入射端面４ａに入射され
る。ここでのレーザービームスポット径は光ファイバー
４の径よりやや小さく絞っている。８は磁歪素子でこれ
を振動させることにより反射鏡７が振動し、光ファイバ
ー入射端４ａに入射するレーザービームは入射端面４ａ
内で振動する。このように入射されたレーザー光はファ
イバー内で攪判されパワー密度は均一化される。光ファ
イバーから出射されるレーザー光は第５図に示すように
平均化され局部的な高いパワー密度のまま長時間維持さ
れることがなくなり光ファイバーの焼損を押えることが
できる。本実施例では反射鏡７を振動させるのに磁歪素
子を用いたが、ボイスコイル等でももちろん同じ効果を
得る。また反射鏡７を振動させる代りにレンズ６を同様
の方法にて振動させて同じ効果を得る。
発明の効果
以上のように本発明のレーザー照射装置はレーザー発振
器と、光ファイバーと、レーザー発振器から出射された
レーザー光全集光して光ファイバーに導びく集光光学系
とを備え、集光光学系を微少振動させることにより光フ
ァイバー内のレーザーパワー密度を均等化し光ファイバ
ーの焼損を押えることができる。
器と、光ファイバーと、レーザー発振器から出射された
レーザー光全集光して光ファイバーに導びく集光光学系
とを備え、集光光学系を微少振動させることにより光フ
ァイバー内のレーザーパワー密度を均等化し光ファイバ
ーの焼損を押えることができる。
第１図は従来例のレーザー照射装置における光ファイバ
ーから出射されるレーザー光の強度分布図、第２図は本
発明の一実施例におけるレーザー照射装置の全体図、第
３図はハンドピース断面図、第４図は集光光学系の断面
図、第５図は本発明の一実施例における光ファイバーか
ら出射されるレーザー光の強度分布図である。 １・・・・・・レーザー発振器、２・・・・・・光ケー
ブル、３・・・・・・集光光学系、４・・・・・・光フ
ァイバー、８・・・・・・磁歪素子。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１基箱
１ 図 パワづ蜆 ↑ ０ 半梁を方向 光軸中心 第 ２ 図 ２の 第３図 ひ 第４図 ｎ 第５図 え□ヤ１． 半径方向
ーから出射されるレーザー光の強度分布図、第２図は本
発明の一実施例におけるレーザー照射装置の全体図、第
３図はハンドピース断面図、第４図は集光光学系の断面
図、第５図は本発明の一実施例における光ファイバーか
ら出射されるレーザー光の強度分布図である。 １・・・・・・レーザー発振器、２・・・・・・光ケー
ブル、３・・・・・・集光光学系、４・・・・・・光フ
ァイバー、８・・・・・・磁歪素子。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１基箱
１ 図 パワづ蜆 ↑ ０ 半梁を方向 光軸中心 第 ２ 図 ２の 第３図 ひ 第４図 ｎ 第５図 え□ヤ１． 半径方向
Claims (1)
- レーザー発振器と、光ファイバーと、前記レーザー発振
器から出射されたレーザー光を集光して前記光ファイバ
ーに導びく集光光学系とを備え、前記集光光学系を微少
振動させ、光ファイバーに入射するレーザー光を光ファ
イバー径の範囲で振動させてなるレーザー照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59200863A JPS6179451A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | レ−ザ−照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59200863A JPS6179451A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | レ−ザ−照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179451A true JPS6179451A (ja) | 1986-04-23 |
| JPH0244223B2 JPH0244223B2 (ja) | 1990-10-03 |
Family
ID=16431475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59200863A Granted JPS6179451A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | レ−ザ−照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179451A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887523A (ja) * | 1981-11-19 | 1983-05-25 | Olympus Optical Co Ltd | 照明装置付撮像装置 |
| JPS58116349A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | 住友電気工業株式会社 | レ−ザメス用内視鏡 |
| JPS58133248A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-08 | オリンパス光学工業株式会社 | レ−ザ−照射装置 |
| JPS5942502A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外光導光路 |
-
1984
- 1984-09-26 JP JP59200863A patent/JPS6179451A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887523A (ja) * | 1981-11-19 | 1983-05-25 | Olympus Optical Co Ltd | 照明装置付撮像装置 |
| JPS58116349A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | 住友電気工業株式会社 | レ−ザメス用内視鏡 |
| JPS58133248A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-08 | オリンパス光学工業株式会社 | レ−ザ−照射装置 |
| JPS5942502A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外光導光路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0244223B2 (ja) | 1990-10-03 |
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