JPH0244223B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は人体の治療や工場における物の加工等
に利用されるレーザー照射装置に関するものであ
る。

従来の構成とその問題点 近年、レーザーメス、レーザー加工機等のレー
ザー照射装置において、レーザー光を目的部位へ
導びく導光路は、従来のミラー関節導光路から操
作性に優れる光フアイバーに置き換えられつつあ
る。しかし光フアイバーに一定限度以上のレーザ
ーパワーを流すと光フアイバーが発熱し焼損に至
ることがある。光フアイバー焼損の原因は光フア
イバーに傷等の欠陥がある場合を除けば光フアイ
バー内のレーザーパワー密度が許容限度を越えて
しまうためであるが、特に光フアイバー内では伝
送されるレーザー光が互いに干渉しあい局部的に
高いパワー密度になる場合が多い。第１図はフア
イバーから出射されるレーザー光を光軸と直角方
向に走査した時の強度分布であるが、スペツクル
状のパターンを示しており数個所〜数10個所で高
いピーク値があり、このことが光フアイバー焼損
の一因となつていた。特に反射防止膜を光フアイ
バー端面に付けた場合においては、反射防止膜の
許容パワー密度が光フアイバーより低い場合が多
く、さらに焼損しやすいという問題があつた。

発明の目的 本発明は上記従来の問題点を解消するもので、
光フアイバー内のレーザーパワー密度を均等化
し、光フアイバーの焼損を押えることを目的とす
る。

発明の構成 本発明はレーザー発振器と、光フアイバーと、
レーザー発振器から出射されたレーザー光を集光
して光フアイバーに導びく集光光学系を備えたレ
ーザー照射装置であり、集光光学系を微少振動さ
せることにより光フアイバー内のレーザーパワー
密度を均一化し、光フアイバーの焼損を押えたも
のである。

実施例の説明 第２図は本発明の一実施例を示すレーザー照射
装置の全体図である。１はレーザー発振器、２は
光フアイバーが組み込まれた光ケーブルで２ａは
そのコネクター部、２ｂは手に持つて操作するハ
ンドピースである。３は集光光学系である。第３
図はハンドピース２ｂの断面図である。４は光フ
アイバーで、ここから出射されたレーザー光はレ
ンズ５により集光され目的部位に照射される。第
４図は集光光学系３の断面図であ。レーザー光は
５ａ，５ｂで示す光路内を通り集光レンズ６で集
光され反射境７で直角に曲げられ光フアイバーコ
ネクター２ａに組み込まれた光フアイバー４の入
射端面４ａに入射される。ここでのレーザービー
ムスポツト径は光フアイバー４の径よりやや小さ
く絞つている。８は磁歪素子でこれを振動させる
ことにより反射境７が振動し、光フアイバー入射
面４ａに入射するレーザービームは入射端面４ａ
内で振動する。このように入射されたレーザー光
はフアイバー内で撹拌されパワー密度は均一化さ
れる。光フアイバーから出射されるレーザー光は
第５図に示すように平均化され局部的な高いパワ
ー密度のまま長時間維持されることがなくなり光
フアイバーの焼損を押えることができる。本実施
例では反射境７を振動させるのに磁歪素子を用い
たが、ボイスコイル等でももちろん同じ効果を得
る。また反射境７を振動させる代りにレンズ６を
同様の方法にて振動させて同じ効果を得る。

発明の効果 以上のように本発明のレーザー照射装置はレー
ザー発振器と、光フアイバーと、レーザー発振器
から出射されたレーザー光を集光して光フアイバ
ーに導びく集光光学系とを備え、集光光学系を微
少振動させることにより光フアイバー内のレーザ
ーパワー密度を均等化し光フアイバーの焼損を押
えることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例のレーザー照射装置における光
フアイバーから出射されるレーザー光の強度分布
図、第２図は本発明の一実施例におけるレーザー
照射装置の全体図、第３図はハンドピース断面
図、第４図は集光光学系の断面図、第５図は本発
明の一実施例における光フアイバーから出射され
るレーザー光の強度分布図である。 １……レーザー発振器、２……光ケーブル、３
……集光光学系、４……光フアイバー、８……磁
歪素子。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ レーザー発振器と、光フアイバーと、前記レ
   ーザー発振器から出射されたレーザー光を集光し
   て前記光フアイバーに導びく集光光学系とを備
   え、前記集光光学系を微少振動させ、光フアイバ
   ーに入射するレーザー光を光フアイバー径の範囲
   で振動させてなるレーザー照射装置。