JPS6168307A - 硫酸溶液の浄液法 - Google Patents
硫酸溶液の浄液法Info
- Publication number
- JPS6168307A JPS6168307A JP19193584A JP19193584A JPS6168307A JP S6168307 A JPS6168307 A JP S6168307A JP 19193584 A JP19193584 A JP 19193584A JP 19193584 A JP19193584 A JP 19193584A JP S6168307 A JPS6168307 A JP S6168307A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfuric acid
- group
- arsenic
- ions
- adsorbent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
- C01B17/90—Separation; Purification
- C01B17/908—Removal of antimony or bismuth
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、特定の吸着剤を用いて、硫酸溶液中からヒ素
の酸素酸イオンを選択的に吸着分離する硫酸溶液の浄液
法に関する。
の酸素酸イオンを選択的に吸着分離する硫酸溶液の浄液
法に関する。
従来技術
従来、ヒ素の酸素酸イオンを含有する硫酸溶液の浄液、
例えば不純物であるヒ素の酸素酸イオンを蓄積した銅電
解液の浄液は、脱銅電解法１で行われている。しかしな
がら、この方法は１）浄液能力が電解原料陽極から過剰
に溶出する銅（溶出率）に左右され、２）カソードで金
属の析出と同時に水素の発生を伴う電解採取法であるた
め、極めて電力効率の低い方法であり、３）その上フル
シンガスの発生を伴うので作業環境上も好ましいもので
はなかった。また、このようにして、電解採取したＡｓ
を含有する銅は、通常鋼を回収するために溶錬工場へ返
されるが、せっかく採取したＡｓが溶錬工場で完全に除
去されず一部電解原料陽極へ再び返されるという欠点を
有している。
例えば不純物であるヒ素の酸素酸イオンを蓄積した銅電
解液の浄液は、脱銅電解法１で行われている。しかしな
がら、この方法は１）浄液能力が電解原料陽極から過剰
に溶出する銅（溶出率）に左右され、２）カソードで金
属の析出と同時に水素の発生を伴う電解採取法であるた
め、極めて電力効率の低い方法であり、３）その上フル
シンガスの発生を伴うので作業環境上も好ましいもので
はなかった。また、このようにして、電解採取したＡｓ
を含有する銅は、通常鋼を回収するために溶錬工場へ返
されるが、せっかく採取したＡｓが溶錬工場で完全に除
去されず一部電解原料陽極へ再び返されるという欠点を
有している。
このような現状から、不純イオンであるヒ素の酸素酸イ
オンを電解液中のＣｕ濃度に左右されず、簡単で、かつ
環境保全上の問題を有しない方法で、銅電解液から工程
外に分離する方法の開発が重要な課題となっている。
オンを電解液中のＣｕ濃度に左右されず、簡単で、かつ
環境保全上の問題を有しない方法で、銅電解液から工程
外に分離する方法の開発が重要な課題となっている。
一方、最近、溶液中の不純物イオンをとり除く方法とし
て、イオン交換樹脂やキレート樹脂を用いる吸着法が種
々提案されている。その中で水溶液中のヒ素の酸素酸イ
オンの吸着除去については、カルボン酸基を有する弱酸
性イオン交換樹脂やイミノジ酢酸基を有するキレート樹
脂に、鉄などの遷移金属イオンを吸着させたＡｓ吸着剤
が提案されている（特公昭５６−２２５７８号公報）。
て、イオン交換樹脂やキレート樹脂を用いる吸着法が種
々提案されている。その中で水溶液中のヒ素の酸素酸イ
オンの吸着除去については、カルボン酸基を有する弱酸
性イオン交換樹脂やイミノジ酢酸基を有するキレート樹
脂に、鉄などの遷移金属イオンを吸着させたＡｓ吸着剤
が提案されている（特公昭５６−２２５７８号公報）。
この吸着剤に通常の一般工場廃水や地熱水中に含まれて
いるＡｓの吸着除去のために使用され得るものであり、
この吸着剤が適用される溶液のｐＨは中性ないし微アル
カリ性の領域に限られていた。従って、遊離硫酸を含有
するような強酸性溶液、例えば、銅電解液中に不純金属
として共存するヒ素の酸素酸イオンの吸着除去に、この
吸着剤を適用するのは、不可能であった。
いるＡｓの吸着除去のために使用され得るものであり、
この吸着剤が適用される溶液のｐＨは中性ないし微アル
カリ性の領域に限られていた。従って、遊離硫酸を含有
するような強酸性溶液、例えば、銅電解液中に不純金属
として共存するヒ素の酸素酸イオンの吸着除去に、この
吸着剤を適用するのは、不可能であった。
発明の解決しようとする問題点
Ａｓの酸素酸イオンを含有する硫酸溶液の浄液法として
簡単な工程で、しがち環境保全上の問題を有しない前記
硫酸溶液の浄液な提供することを目的とする。
簡単な工程で、しがち環境保全上の問題を有しない前記
硫酸溶液の浄液な提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
特定のキレート樹脂に、ノルコニウム、ハフニウム、ス
ズ、チタンからなる群より選ばれた１種類以上の遷移金
属イオン（以下、Ｚｒ等の遷移金属イオンと略す）を吸
着させた吸着剤でヒ素の酸素酸イオンを含有する硫酸溶
液を処理すると上記の問題点が全て解決される。
ズ、チタンからなる群より選ばれた１種類以上の遷移金
属イオン（以下、Ｚｒ等の遷移金属イオンと略す）を吸
着させた吸着剤でヒ素の酸素酸イオンを含有する硫酸溶
液を処理すると上記の問題点が全て解決される。
すなわち、本発明はヒ素の酸素酸イオンを含有する硫酸
溶液を、遷移金属イオンをリン酸基又はホスホン酸基を
有するキレート樹脂に吸着させた吸着剤と接触させて、
該硫酸溶液中のヒ素の酸素酸イオンを吸着分離すること
を特徴とする硫酸溶液の浄液法である。
溶液を、遷移金属イオンをリン酸基又はホスホン酸基を
有するキレート樹脂に吸着させた吸着剤と接触させて、
該硫酸溶液中のヒ素の酸素酸イオンを吸着分離すること
を特徴とする硫酸溶液の浄液法である。
本発明において、用いられるリン酸基又はホスホン酸基
を有するキレート性イオン交換樹脂としては、リン酸基
又はホスホン酸基を有するキレート性イオン交換樹脂で
あればいかなる樹脂でも使用可能であるが、特に好まし
くは、キレート形成基として、フェノール核に導入され
た一級又は二級のフルキルアミノ基の水素原子の一部又
は全部がメチレンホスホン酸基で置換された基を有する
フェノール系キレート樹脂が用いられる。この様な樹脂
としてはユニチカ株式会社から市販されているユニセレ
ック■Ｕ １１？ −３３００等がある。
を有するキレート性イオン交換樹脂としては、リン酸基
又はホスホン酸基を有するキレート性イオン交換樹脂で
あればいかなる樹脂でも使用可能であるが、特に好まし
くは、キレート形成基として、フェノール核に導入され
た一級又は二級のフルキルアミノ基の水素原子の一部又
は全部がメチレンホスホン酸基で置換された基を有する
フェノール系キレート樹脂が用いられる。この様な樹脂
としてはユニチカ株式会社から市販されているユニセレ
ック■Ｕ １１？ −３３００等がある。
このキレート樹脂を用いて、ヒ素吸着剤を製造するには
、例えば特開昭５８−３６６３２号公報に記載されてい
るような方法を用いることが出来る。
、例えば特開昭５８−３６６３２号公報に記載されてい
るような方法を用いることが出来る。
すなわち、このキレート０（脂と遷移金属イオンとを含
有する水溶液とを、カラム法又はバッチ法で接触させる
ことにより製造することができる。
有する水溶液とを、カラム法又はバッチ法で接触させる
ことにより製造することができる。
この時の接触温度としては、１０°Ｃ〜７０°Ｃが好ま
しく、より好ましくは２０°Ｃ〜７４０℃である。
しく、より好ましくは２０°Ｃ〜７４０℃である。
また、遷移金属イオンを含有する水溶液の濃度としては
１０〜２５０ｇ／βが好ましく、より好ましくは、１５
０〜２００ｇ／ｌである。また、キレート性イオン交換
樹脂に対する遷移金属イオン含有水溶液の処理量として
は、２〜２０１／１−樹脂程度が好ましい。
１０〜２５０ｇ／βが好ましく、より好ましくは、１５
０〜２００ｇ／ｌである。また、キレート性イオン交換
樹脂に対する遷移金属イオン含有水溶液の処理量として
は、２〜２０１／１−樹脂程度が好ましい。
特開昭５８−３６６３２号公報には、ホスホン酸基を有
するフェノール系キレート樹脂と遷移金属イオンとから
無機アニオン吸着剤を製造する場合の製造法が記載され
ているが、池のリン酸又はホスホン酸基を含有するキレ
ート樹脂についても、この製造法に準じて、ヒ素吸着剤
を製造することが可能である６ 本発明において用いられる遷移金属はノルコニ−ラム、
ハフニウムおよび／または錫である。
するフェノール系キレート樹脂と遷移金属イオンとから
無機アニオン吸着剤を製造する場合の製造法が記載され
ているが、池のリン酸又はホスホン酸基を含有するキレ
ート樹脂についても、この製造法に準じて、ヒ素吸着剤
を製造することが可能である６ 本発明において用いられる遷移金属はノルコニ−ラム、
ハフニウムおよび／または錫である。
このようにして製造された（）、３〜０．７ｍｏｌ／Ｎ
樹脂程度のＺｒ等の遷移金属イオンを吸着したリン酸基
又はホスホン酸基を有するキレート樹脂は、例えば、銅
電解液等のごとき３０１７１以上の遊離硫ｌ！１２濃度
を有する硫酸溶液中のヒ素の酸素酸イオン吸着剤として
使用することが出来る。
樹脂程度のＺｒ等の遷移金属イオンを吸着したリン酸基
又はホスホン酸基を有するキレート樹脂は、例えば、銅
電解液等のごとき３０１７１以上の遊離硫ｌ！１２濃度
を有する硫酸溶液中のヒ素の酸素酸イオン吸着剤として
使用することが出来る。
本発明において、処理対象とする硫酸溶液は、遊離硫酸
を含む溶液である。そのような液として、例えば銅電解
液があげられ、この銅電解液中のヒ素の酸素酸イオンを
選択的に吸着分離して銅電解液を浄液することができる
。
を含む溶液である。そのような液として、例えば銅電解
液があげられ、この銅電解液中のヒ素の酸素酸イオンを
選択的に吸着分離して銅電解液を浄液することができる
。
本発明では、上記銅電解液以外にも、ヒ素を含有する非
鉄金属製練中間産物（マット、スパイス、電着物等）を
溶解して得られる硫酸溶液、亜鉛電解液、硫酸工場廃硫
酸等に適用して浄液することができる。
鉄金属製練中間産物（マット、スパイス、電着物等）を
溶解して得られる硫酸溶液、亜鉛電解液、硫酸工場廃硫
酸等に適用して浄液することができる。
本発明の方法は、連続式でもバッチ式でも実施すること
ができるが、連続式で行う方が有利である。連続式で行
う場合には、前述の方法により製造された本発明の吸着
剤を、充填塔又は多孔板塔に充填し、ヒ素の酸素酸イオ
ンを含有する硫酸溶液をＳＶｏ、５−２０、好ましくは
１−５８ｒ−’で、温度を室温ないし８０°Ｃで通液さ
せればよい。
ができるが、連続式で行う方が有利である。連続式で行
う場合には、前述の方法により製造された本発明の吸着
剤を、充填塔又は多孔板塔に充填し、ヒ素の酸素酸イオ
ンを含有する硫酸溶液をＳＶｏ、５−２０、好ましくは
１−５８ｒ−’で、温度を室温ないし８０°Ｃで通液さ
せればよい。
また、硫酸溶液の流れの方向は、上昇流、下降流のいず
れでもよい。
れでもよい。
本発明において、例えばヒ素の酸素酸イオン２−７ｇ（
ヒ素として）／１、Ｃｕ、 Ｎｉ、 Ｆｅ、 Ｓｂ、Ｂ
１等のイオンおよび遊離硫酸２０Ｃｈｔ／１を含有する
銅電解液を、本発明の吸着剤に連続式で通液を行った場
合の、ヒ素の酸素酸イオンの吸着量は、ヒ素として１０
〜３０ｇ／１−８４脂である。
ヒ素として）／１、Ｃｕ、 Ｎｉ、 Ｆｅ、 Ｓｂ、Ｂ
１等のイオンおよび遊離硫酸２０Ｃｈｔ／１を含有する
銅電解液を、本発明の吸着剤に連続式で通液を行った場
合の、ヒ素の酸素酸イオンの吸着量は、ヒ素として１０
〜３０ｇ／１−８４脂である。
本発明において、吸着剤に吸着されたヒ素の酸素酸イオ
ンは、０．３Ｎ以上、好ましくは０．５〜１Ｎの苛性ソ
ーダ溶液又は、苛性カリ溶液により脱着でき、吸着剤は
一般のイオン交換樹脂と同様に何回も繰り返し吸脱着が
可能である。また、脱着液中のアルカリとヒ素の酸素酸
イオンを分離する方法としては既存の方法を用いること
ができる。
ンは、０．３Ｎ以上、好ましくは０．５〜１Ｎの苛性ソ
ーダ溶液又は、苛性カリ溶液により脱着でき、吸着剤は
一般のイオン交換樹脂と同様に何回も繰り返し吸脱着が
可能である。また、脱着液中のアルカリとヒ素の酸素酸
イオンを分離する方法としては既存の方法を用いること
ができる。
具体的には、例えば、ヒ素の酸素酸イオンを含有する溶
液に消石灰を加え、ヒ素なヒ酸カムルシウムまたは亜砒
酸カムルシウムとしてアルカリ水溶液から分離回収する
ことが出来、ヒ素が分離されたアルカリ水溶液は、吸着
剤の肌着に繰り返し使用することができる。
液に消石灰を加え、ヒ素なヒ酸カムルシウムまたは亜砒
酸カムルシウムとしてアルカリ水溶液から分離回収する
ことが出来、ヒ素が分離されたアルカリ水溶液は、吸着
剤の肌着に繰り返し使用することができる。
１吸α位来
以上詳述したように、本発明によれば、簡単にかつ効率
よくヒ素の酸素酸イオンを含有する高濃度の硫酸水溶液
の浄液を行うことができ、従来法の問題点が全て解消さ
れる。
よくヒ素の酸素酸イオンを含有する高濃度の硫酸水溶液
の浄液を行うことができ、従来法の問題点が全て解消さ
れる。
以下、実施例に基づき本発明の内容を更に、具体的に説
明する。
明する。
実施例１ （吸着剤の調製）
■
７エ／−ル系キレート樹脂（ユニセレックＵＲ−３３０
０：ユニチカ（株）製）３０Ｉ（とオキシ塩化ノルコニ
ウム８水塩より調製した１５０ｇ／ｌのＺｒ濃度を有す
る水溶液’ｔｏＩＩｆ！とを３０°Ｃで、２４時間攪拌
して、接触せしめた。しかる後、Ｚｒを吸着したキレー
トＯ（脂を単離し、水洗後、ＩＮ苛性ソーダ、犬いて’
ＩＮ硫酸水溶液で洗浄し、Ｑ 、 ３８ ｍｏｌ／ １
−樹脂のＺｒイオンを吸着したヒ素吸着剤を調製した（
本吸着剤をＡとする）。
０：ユニチカ（株）製）３０Ｉ（とオキシ塩化ノルコニ
ウム８水塩より調製した１５０ｇ／ｌのＺｒ濃度を有す
る水溶液’ｔｏＩＩｆ！とを３０°Ｃで、２４時間攪拌
して、接触せしめた。しかる後、Ｚｒを吸着したキレー
トＯ（脂を単離し、水洗後、ＩＮ苛性ソーダ、犬いて’
ＩＮ硫酸水溶液で洗浄し、Ｑ 、 ３８ ｍｏｌ／ １
−樹脂のＺｒイオンを吸着したヒ素吸着剤を調製した（
本吸着剤をＡとする）。
上述の方法と同様にして、フェノール系キレート＃Ｊ１
脂Ｃユニセレック ＵＲ−３３００：ユニチカ（株）製
）と、四塩化銀の水溶液とを接触せしめ、０ 、３５
ｔａｏ１／ ｌ−樹脂の錫イオンを吸着したヒ素吸着剤
を調製した（本吸着剤をＢとする）。
脂Ｃユニセレック ＵＲ−３３００：ユニチカ（株）製
）と、四塩化銀の水溶液とを接触せしめ、０ 、３５
ｔａｏ１／ ｌ−樹脂の錫イオンを吸着したヒ素吸着剤
を調製した（本吸着剤をＢとする）。
また、ＡおよびＢと同様にして、ユニセレックＵＲ−３
３００とオキシ塩化ハフニウムの水溶液とを接触せしめ
０．３６ｍｏ＆／＆−樹脂のハフニウムイオンを吸着し
たヒ素吸着剤を調製した（本吸着剤をＣとする）。
３００とオキシ塩化ハフニウムの水溶液とを接触せしめ
０．３６ｍｏ＆／＆−樹脂のハフニウムイオンを吸着し
たヒ素吸着剤を調製した（本吸着剤をＣとする）。
比較例１ （Ａｓ吸着剤の調製）
特公昭５６−２２５７８号公報記載の方法に従って、３
価の鉄イオンを０ 、５ ｍｏρ／ρ−樹脂吸着したイ
ミノジ酢酸系キレート樹脂ダウエックスＡ−１（ダウケ
ミカル社製）を調製した（本吸着剤をＤとする）。また
同様に、３価の鉄イオンを０．６ｍａｉｌ／１−樹脂吸
着したイミ７ノ酢酸系キレートｊＭ脂ユニセレック［Ｊ
Ｒ−３０（ユニチカ（株）製）を調製した（本吸着剤を
Ｅとする）、また同様に、ジルコニウムイオンを０．４
１１Ｉｏｌ／１−樹脂吸着し［Ｆ］ た弱酸性イオン交換樹脂アンバーライト ＩＲＣ−５０
（ｔ１７−ムアンドハース社製）を調製した（本吸着剤
をＦとする）。
価の鉄イオンを０ 、５ ｍｏρ／ρ−樹脂吸着したイ
ミノジ酢酸系キレート樹脂ダウエックスＡ−１（ダウケ
ミカル社製）を調製した（本吸着剤をＤとする）。また
同様に、３価の鉄イオンを０．６ｍａｉｌ／１−樹脂吸
着したイミ７ノ酢酸系キレートｊＭ脂ユニセレック［Ｊ
Ｒ−３０（ユニチカ（株）製）を調製した（本吸着剤を
Ｅとする）、また同様に、ジルコニウムイオンを０．４
１１Ｉｏｌ／１−樹脂吸着し［Ｆ］ た弱酸性イオン交換樹脂アンバーライト ＩＲＣ−５０
（ｔ１７−ムアンドハース社製）を調製した（本吸着剤
をＦとする）。
次に、実施例１に記載した方法と同様の方法により、３
価の鉄イオンを０．５ ｍｏｌ／１ ｆ邊（脂吸着し
たユニセレック ＵＲ−３３００を調製した（本吸着剤
をＧとする）。
価の鉄イオンを０．５ ｍｏｌ／１ ｆ邊（脂吸着し
たユニセレック ＵＲ−３３００を調製した（本吸着剤
をＧとする）。
実施例２ （ヒ素吸着能の測定）
実施例１で調製したＡ−Ｃの吸着剤３０ｚｆを２７．５
ｃｚのカラムに充填し、これにヒ素の酸素酸イオンをヒ
素として３ 、８ ｇ／ｐ含有し、がっ銅４０ｇ／ｌ、
ニッケル１０９／１、アンチモン０ 、２ ｇ／ｐ、ビ
スコス０．４ｇ／β、鉄１ 、５９／ｎおよび遊離硫酸
２００ｇ／ｌを含む銅電解液０．６ｒを、温度６０℃、
通液速度（ＳＶ）３ Ｈｒ−’の条件で通液後の液の
ヒ素濃度を測定した。
ｃｚのカラムに充填し、これにヒ素の酸素酸イオンをヒ
素として３ 、８ ｇ／ｐ含有し、がっ銅４０ｇ／ｌ、
ニッケル１０９／１、アンチモン０ 、２ ｇ／ｐ、ビ
スコス０．４ｇ／β、鉄１ 、５９／ｎおよび遊離硫酸
２００ｇ／ｌを含む銅電解液０．６ｒを、温度６０℃、
通液速度（ＳＶ）３ Ｈｒ−’の条件で通液後の液の
ヒ素濃度を測定した。
その結果、電解液中のヒ素濃度は、Ａのカラムでは２
、５ ｇ／ｌ、Ｂでは２．９ｇ／ρ、およびＣでは２．
３ｇ／ｌに低下しており、池の成分の濃度は殆んど変化
していなかった。このことがらみて、吸着剤Ａ−Ｃによ
り、上記電解液中のヒ素の酸素酸イオンが選択的に吸着
除去されていることば明らかで゛ある。
、５ ｇ／ｌ、Ｂでは２．９ｇ／ρ、およびＣでは２．
３ｇ／ｌに低下しており、池の成分の濃度は殆んど変化
していなかった。このことがらみて、吸着剤Ａ−Ｃによ
り、上記電解液中のヒ素の酸素酸イオンが選択的に吸着
除去されていることば明らかで゛ある。
比較例２ （ヒ素吸着能の測定）
比較例１で調製した吸着剤Ｄ−Ｇにつき、実施例２と同
様の条件で、実施例２と同様の液！ＩＬ成を有する銅電
解液を通液した。通液後の液のヒ素の酸素酸イオンの濃
度を測定したところ、通液ボｊのヒ素濃度と殆んど変ら
ず、吸着剤Ｄ−Ｇでは殆んどヒ素の浄液は、出来でいな
った。
様の条件で、実施例２と同様の液！ＩＬ成を有する銅電
解液を通液した。通液後の液のヒ素の酸素酸イオンの濃
度を測定したところ、通液ボｊのヒ素濃度と殆んど変ら
ず、吸着剤Ｄ−Ｇでは殆んどヒ素の浄液は、出来でいな
った。
実施例３ （ヒ素の脱離）
吸着剤Ａにつき、実施例１と同様の条件で、銅電解液の
通液を行った後（通液後の液のヒ素濃度は実施例１と同
様に２ 、５ ｇ／ｉ’）、６０社のイオン交換水をＳ
Ｖ２で通液し、続いて１２０社の０゜６Ｎ苛性ソーダを
ＳＶ２で通液し、続いて６０ｐＩ！のイオン交換水をＳ
Ｖ２で通液することにより、樹脂に吸着されていたヒ素
の酸素酸イオンの脱離を行った。脱離液中のヒ素濃度か
ら、ヒ素の脱着率を算出したところ、吸着したヒ素の８
８％が脱離されていた。
通液を行った後（通液後の液のヒ素濃度は実施例１と同
様に２ 、５ ｇ／ｉ’）、６０社のイオン交換水をＳ
Ｖ２で通液し、続いて１２０社の０゜６Ｎ苛性ソーダを
ＳＶ２で通液し、続いて６０ｐＩ！のイオン交換水をＳ
Ｖ２で通液することにより、樹脂に吸着されていたヒ素
の酸素酸イオンの脱離を行った。脱離液中のヒ素濃度か
ら、ヒ素の脱着率を算出したところ、吸着したヒ素の８
８％が脱離されていた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ヒ素の酸素酸イオンを含有する硫酸溶液を、リン酸
基又はホスホン酸基を有するキレート樹脂にジルコニウ
ム、ハフニウム、スズ、チタンからなる群より選ばれた
１種類以上の金属イオンを吸着させた吸着剤に接触させ
て、該硫酸溶液中のヒ素の酸素酸イオンを吸着分離する
ことを特徴とする硫酸溶液の浄液法。 ２、硫酸溶液が濃度１０ｇ／ｌ以上の硫酸濃度を有する
硫酸溶液である特許請求の範囲第１項記載の浄液法。 ３、ヒ素の酸素酸イオンを含有する硫酸溶液が銅電解液
である特許請求の範囲第１項記載の浄液法。 ４、リン酸基又はホスホン酸基を有するキレート樹脂が
、キレート形成基としてフェノール核に導入された一級
又は二級のアルキルアミノ基の活性水素原子の一部又は
全部がメチレンホスホン酸基で置換された基を有するフ
ェノール系キレート樹脂である特許請求の範囲第１項記
載の浄液法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19193584A JPS6168307A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 硫酸溶液の浄液法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19193584A JPS6168307A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 硫酸溶液の浄液法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168307A true JPS6168307A (ja) | 1986-04-08 |
| JPH0454605B2 JPH0454605B2 (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=16282896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19193584A Granted JPS6168307A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 硫酸溶液の浄液法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168307A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0648709A1 (en) * | 1993-10-19 | 1995-04-19 | The University Of British Columbia | Method for selectively removing antimony and bismuth from sulphuric acid solutions |
| CN1309657C (zh) * | 2004-10-10 | 2007-04-11 | 武汉科技大学 | 一种用精苯废酸制取净化酸的方法 |
| JP2007185604A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Japan Atomic Energy Agency | ジルコニウム残基を有する陰イオン吸着材の合成方法及びそれによって得られた吸着材 |
| JP2016222997A (ja) * | 2015-06-03 | 2016-12-28 | 住友金属鉱山株式会社 | 砒素の回収方法 |
| CN113354171A (zh) * | 2021-05-13 | 2021-09-07 | 西北矿冶研究院 | 一种从铜冶炼废酸中深度脱砷的工艺方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5836632A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-03 | Unitika Ltd | 無機アニオン吸着剤とその製造法及び吸着処理法 |
-
1984
- 1984-09-13 JP JP19193584A patent/JPS6168307A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5836632A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-03 | Unitika Ltd | 無機アニオン吸着剤とその製造法及び吸着処理法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0648709A1 (en) * | 1993-10-19 | 1995-04-19 | The University Of British Columbia | Method for selectively removing antimony and bismuth from sulphuric acid solutions |
| CN1309657C (zh) * | 2004-10-10 | 2007-04-11 | 武汉科技大学 | 一种用精苯废酸制取净化酸的方法 |
| JP2007185604A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Japan Atomic Energy Agency | ジルコニウム残基を有する陰イオン吸着材の合成方法及びそれによって得られた吸着材 |
| JP2016222997A (ja) * | 2015-06-03 | 2016-12-28 | 住友金属鉱山株式会社 | 砒素の回収方法 |
| CN113354171A (zh) * | 2021-05-13 | 2021-09-07 | 西北矿冶研究院 | 一种从铜冶炼废酸中深度脱砷的工艺方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0454605B2 (ja) | 1992-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100420761C (zh) | 一种从钼精矿焙烧烟道灰及淋洗液中提取铼的方法 | |
| JPS59162108A (ja) | 硫酸溶液の浄液法 | |
| KR100207041B1 (ko) | 구리전해액에서 안티몬 및 비스무트를 회수하는 방법 | |
| JPS6012414B2 (ja) | イオウ鉱石を処理するための湿式治金法 | |
| US4016054A (en) | Hydrometallurgical treatment process for extracting constituent metal values from ferro-nickel | |
| US4030990A (en) | Process for recovering electrolytic copper of high purity by means of reduction electrolysis | |
| US6514414B1 (en) | Process for separation and removal of iron ions from basic zinc solution | |
| US3656940A (en) | Process for the purification of nickel containing solutions | |
| CN110983070B (zh) | 一种铜电解液脱铜后液制备精制硫酸镍的方法 | |
| JPS6168307A (ja) | 硫酸溶液の浄液法 | |
| CN111204726B (zh) | 由锂磷铝石制备磷酸锂的方法 | |
| JP3369855B2 (ja) | 高純度ニッケル水溶液の製造方法 | |
| JPS641534B2 (ja) | ||
| JPS59193230A (ja) | ＧａおよびＩｎ微量含有物質からのＧａおよびＩｎの回収方法 | |
| CN113355701A (zh) | 分离回收金属银、镓的方法 | |
| US3393233A (en) | Method for recovering ethylene diamine tetraacetic acid | |
| CA2161308C (en) | Selective bismuth and antimony removal from copper electrolyte | |
| JPS59208089A (ja) | 硫酸酸性水溶液からのビスマス及びアンチモンの除去方法 | |
| CN109055775A (zh) | 一种用于净化铜电解液的络合沉淀剂的重生方法 | |
| JPS648715B2 (ja) | ||
| SU765402A1 (ru) | Способ очистки медного электролита от мышь ка сорбцией | |
| JPS62284025A (ja) | 銅電解液からの精製硫酸ニツケル回収方法 | |
| CA2245018A1 (en) | Production of electrolytic copper from dilute solutions contaminated by other metals | |
| JPS61141607A (ja) | 燐酸溶液からの脱砒素化法 | |
| JPS6018760B2 (ja) | 金属亜鉛メツキ工場から生じる亜鉛，鉄を含有する酸溶液からの金属亜鉛の電解回収方法 |