JPS59208089A - 硫酸酸性水溶液からのビスマス及びアンチモンの除去方法 - Google Patents

硫酸酸性水溶液からのビスマス及びアンチモンの除去方法

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JPS59208089A
JPS59208089A JP58082402A JP8240283A JPS59208089A JP S59208089 A JPS59208089 A JP S59208089A JP 58082402 A JP58082402 A JP 58082402A JP 8240283 A JP8240283 A JP 8240283A JP S59208089 A JPS59208089 A JP S59208089A
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antimony
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緒方　俊
Koji Hosaka
広司 保坂
Shunichi Kasai
笠井　俊一
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    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
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    • C01G29/003—Preparations involving a liquid-liquid extraction, an adsorption or an ion-exchange
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G30/00—Compounds of antimony
    • C01G30/001—Preparation involving a solvent-solvent extraction, an adsorption or an ion-exchange
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、（５ｉｔ　Ｉ’Ｙ酸性水溶液中に溶存してい
るビスマスおよび／又はアンチモンを除去する方法、更
に詳しくは金属などの電解精製で生成する電解液のよう
な、ビスマスおよび／又はアンチモンが他の金属と混在
して溶存している硫酸酸性水溶液からビスマスおよび／
又はアンチモンを選択的に除去する方法に関する。
従来技術 非鉄金属の精製線においては、種々の鉱石を原料として
用いるため多くの種類の金属元素が不純物として混入す
ることが避けられず、このような不純物にはビスマスお
よび／又はアンチモンも含まれている。特に、銅の精製
線でぶ乾式法によってはこのような不純物金属を完全に
　　　　　　゛除去することは実際上困難であり、した
がって量的には少ないとしてもこれらのビスマス並びに
アンチモンが銅陽極に含まれて次の電解精製工程へもち
こまれるようになる。ところで銅の電解精製は硫酸酸性
水溶液中で行われるものであって、その際銅陽極中に含
まれるビスマスおよび／又はアンチモンの一部が該水溶
液中に溶出し、その濃度が除々に上昇するようになる。
ソシて、この濃度の上昇に伴ないビスマスやアンチモン
が銅陰極へ析出するので、通常電解液としての硫酸酸性
水溶液中のビスマスとアンチモンの濃度は０３〜Ｏ’、
５ｇ／！前後に維持されるようになる。
而して、従来上記硫酸酸性水溶液中のビスマスとアンチ
モンの濃度を管理する方法として、該水溶液（すなわち
、銅電解液）の一部を系外へ抜き出して中和法、硫化法
、更には不溶性陽極を用いた電解採取法等が行われてい
る。
しかしながら、銅電解液には一般に遊離硫酸が凡そ２０
０　ｆｉ／１．　、銅イオンカ凡そ５０　ｆ；ｌ／Ｉ　
、砒素が凡そＦｌ／ノおよび鉄が凡そ３ｇ／ノ等が含ま
れているため、上記方法では該銅電解液からビスマス並
び九アンチモンを効率よく選択的に除去することは困難
であった。
本発明者は、銅電解液のような、ビスマスおよび／又は
アンチモンが他の金属と共に溶存している硫酸酸性水容
液から、ビスマスおよび／又はアンチモンのみを効率的
に除去し得る方法について研究した結果、上記硫酸酸性
水溶液をホスホメチルアミノ型のキレート樹脂と接触さ
せることにより、該水溶液からビスマスとアンチモンを
選択的に除去し得ることの知見を得て本発明をなすに至
った。
発明の目的 したがって、本発明は、銅Ｆ４Ｊｎ液のような、ビスマ
スおよび／又はアンチモンが溶存している硫酸酸性水溶
液からこれらの金属を選択的に効率よく除去し得る方法
を提供することを目的とする。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明の構成上の特徴は、ビスマスおよび／又はアンチ
モンが溶存している硫酸酸性水容液をホスホメチルアミ
ノ型キレート樹稍と接触させることによシ５該硫酸酸性
水溶液からビスマスおよび／又はアンチモンを選択的に
除去することにある。
本発明で対象とする硫酸酸性水溶液は、銅電解液のよう
な、他の金属と共にビスマスおよび／又はアンチモンが
溶存している硫酸酸性水溶液であって、一般にはビスマ
スやアンチモンのほかに、銅。
ニッケル、コバルト、鉄、砒ｔ、マンガン、亜鉛。
カルシウム等の金属を含んでいる。
本発明でこのような硫酸酸性水溶液からビスマスとアン
チモンを選択的に除去するために用いるホスホメチルア
ミノ型キレート樹脂は下記一般式で示される構造式を有
するもの並びにその金属塩である。
（式中Ｒは樹脂の基本をなす高分子炭化水素を示す）こ
のホスホメチルアミノ型キレート樹脂と上記硫酸酸性水
溶液の接触は、両者を攪拌下に混合するか、又通常のイ
オン交換樹脂のときのようなカラム方式で回分式又は連
続式で行うことができ、実際には連続式で行うのが効果
的である。
この接触に際しての硫酸酸性水溶液の硫酸濃度は広範囲
のものでも適用できるので特に調節する必要はない。又
接触時の温度も周囲の温度下で十分有効であるので特に
管理する必要がない。
叙上のように、本発明によると、従来困難とされていた
硫酸酸性水溶液中に溶存しているビスマスおよび／又は
アンチモンが選択的に効率よく除去し得るので、例えば
銅電解液等の浄化が有効に行い得るようになる利点があ
る。
以下に実施例を示して本発明の効果を具体的に説明する
。
実施例１ 下記表１に示した組成を有する硫酸酸性水溶液５０ｔｎ
ｌと水素型としたホスホメチルアミノ型キレート樹脂１
０　ｍｌをビーカーに収容し、１８℃の温度で２．５時
間緩徐に攪拌して均一に接触させた。
次いで得られた混合物を沖過し、涙液中の各槙イオンを
分析り、た。結果は表１に示すとおりである。
表　　　１ 表１にみられるように、ビスマス並びにアンチモンが選
択的に効率よく除去されることが判る。
実施例２ 下記表２並びに表３に示しだ組成を有する各硫酸酸性水
溶液を実施例１に記載と同様な手順で接触処理し、同様
にろ液について分析を行った。結果は表２並びに茨３に
示すとおりである。
表　　　２ 表　　　３ 実施例３ 下記表４に示した組成の液を原液として、水素型にした
ホスホメチルアミノ型キレ−）＆Ｊ脂４０πｌを充填し
たカラムに５０℃の温度下で通液し、所定時毎にカラム
の通過液をサンプリングして分析を行った。結果は表４
に示すとおりである。
表　　　４ 表４にみられるように、液中に銅、鉄、砒素などと共に
混在して溶存しているビスマスおよびアンチモンが該液
から選択的に除去されることが判る。
４８

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ビスマスおよび／又はアンチモンが溶存している硫酸酸
    性水８液からビスマスおよび／又はアンチモンを除去す
    る方法において、該硫酸酸性水溶液をホスホメチルアミ
    ノ型キレート樹脂と接触させることを特徴とする、上記
    硫酸酸性水溶液からビスマスとアンチモノを除去する方
    法。
JP58082402A 1983-05-11 1983-05-11 硫酸酸性水溶液からのビスマス及びアンチモンの除去方法 Granted JPS59208089A (ja)

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JP58082402A JPS59208089A (ja) 1983-05-11 1983-05-11 硫酸酸性水溶液からのビスマス及びアンチモンの除去方法
US06/606,372 US4501666A (en) 1983-05-11 1984-05-02 Process for the removal of bismuth and antimony from aqueous sulfuric acid solution containing bismuth and/or antimony

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JPS59208089A true JPS59208089A (ja) 1984-11-26
JPS626751B2 JPS626751B2 (ja) 1987-02-13

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JPS626751B2 (ja) 1987-02-13

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