JPS6161224A - 磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属Ｓ膜型の磁気記録媒
体と磁気記録方法に関する。

先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属８Ｍ膜
型の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。

このような金属薄Ｈ型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め′Ｉｓ着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｒ
系等からなる蒸着膜や、電気メッキ、無電解メッキ、ス
パッタリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方
法による強磁性ｌ膜を設けた磁気記録媒体が好適である
。

このような媒体は、スペーシングロスによる特性低下が
大きいので、その表面をでさるたけ平滑化する必要があ
る。

しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大さくなり
、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。

ところで、金属ｌ１ｌｌｉ！型の媒体では、ｒａ磁性層
０．０５〜０．５勝■と非常にうすいため、媒体の表面
性は基板の表面性に依存する。

このため、基板表面に比較的なだらかな。

いわゆる、しわ状、ミミズ状等の突起を設ける旨が提案
されている（特開昭５３−１１８１１５号等）。

また、特開昭５８−６８２２７号、同５８−１００２２
１号には、人体表面に微粒子を配設して、光学顕微鏡、
−５０〜４００倍で観察でき、しかも触針式表面粗さ測
定？を置で実測できる高さの凹凸を設ける旨が提案され
ている。

しかし、これらでも、走行庁擦、耐久走行性、走行安定
性等の物性や、ｉｍ変換特性の点で未だ不十分である。

一方、特公昭３９−２５２４８号等には１強磁性金属ｆ
ｉｌＨＭ表面に、有機物潤滑剤からなるトップコート層
を設け、走行摩擦を低減する旨が提案されている。

しかし、有機物潤滑剤を用いるときには、潤滑剤のヘッ
ドへの付着、ヘッド目づまりが発生し、実用上大きな問
題となる。

すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着。

ヘッド目づまりを解消し、かつ電磁変換特性の面でも不
都合の生じない技術は未だ実現していない。

ＩＩ　　発明の目的 本発明の目的は、金属■膜型の磁気記録媒体と、それを
用いた磁気記録方法において、特に低温での搾擦、耐久
走行性、走行安定性等の物性を改良し、しかも物性面で
支障のない範囲で走行中に研磨効果（クリーニング効果
）をもたせることにより、ヘッド付着や目づまりを解消
し、かつ屯を鵡変換４．￥性の面でも何ら不都合が生じ
ないようにすることにある。

このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち第１の発明は、可とう性基板の一面上に、平均
粒径５０〜ｔｏｏｏ人の微粒子を配設し、この上に強磁
性部Ｈ暦とトップコート層が形成されている磁気記録媒
体において、ｒｊ１気ヘッドの摺動方向にて０．４〜４
絡−の周期となるように前記微粒子を疎密に配設したこ
とを特徴とする磁気記録媒体であり、第２の発明は、可
とう性基板の一面上に、平均粒径５０〜１０００人の微
粒子を配設し、この上に強磁性薄１！暦とトップコート
層とが形成されており、他方の面にバックコート暦が形
成されている磁気記録媒体において、＆ｉ気ヘッドの摺
動方向にて０．４〜４ル曹め周期となるように前記微粒
子を疎密に配設したことを特徴とするＦ１１気記録媒体
である。

■　発１１の具体的構成 以下１本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明における磁性層は１強磁性金ａＳ膜よりなる金属
薄膜型のものである。

強磁性金ｉｓ膜には、鉄、コバルト、ニッケルその他の
強磁性金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｔ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ
、Ｃｏ−Ａｕ。

Ｇｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ　−Ｇｄ、Ｃ
ｏ−５ｍ、Ｃｏ−ＰＬ、Ｎ１−Ｃｕ。

Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ１．Ｍｎ−３ｂ。

Ｍｎ−Ａ１．Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ等の
磁性合金を挙げることができる。

従来、強磁性粉末としては１例えば、γ−Ｆ　ｅ２．０
３　、　Ｃｏ含有ｙ−Ｆｅ２０３゜Ｆｅ３０４　、Ｃｏ
含有Ｆｅ３０４　、ＣｒＯ２等がよく使用されていたが
、これら強磁性粉末の保磁力および最大残留磁束密度等
の磁気特性は高感度高密度記録用としては不十分であり
、約ｔｉＬ■以下の記録波長の短い信号や、トラック巾
の狭い磁気記録にはあまり適していない。

本発明において特に好ましい磁性層としての強磁性金属
薄１１１層は、Ｃｏを主成分とし、これにＯを含み、さ
らに必要に応じＮｉおよび／またはＣｒが含有される組
成を有する。

すなわち、好ましい態様においては、Ｃｏ単独からなっ
てもよ＜、ＣｏとＮｉからなってもよいａ　　Ｎｒが含
まれる場合、Ｃｏ　／　Ｎ　ｉの重量比は、１．５以と
であることが好ましい。

さらに、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。

Ｃｒが含有されると、［磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。

このような場合、Ｃｒ／Ｃｏあるいはｃｒ／（Ｃｏ＋Ｎ
ｉ）のｆｆｉ量比は０．００１〜０．１、より好ましく
は、０．００５〜０．０５であることが好ましい。

さらに１強磁性金属薄Ｉｌｑ中にはＯが含有されるもの
である。

強磁性金属薄膜中の平均酸素量は、原子比、特にＯ／（
ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比で、０．５以下、より
好ましくは０．０５〜０．５であることが好ましい。

この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金Ｉｉ！（Ｃｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成している・ すなわち、表面部、特に表面から５０〜５００人、より
好ましくは５０〜２００人の厚さの範囲には、オージェ
分光分析により、酸化物を示すピークが認められるもの
である。　そして、この酸化物層の酸素金力量は、原子
比で０．５〜１．０程度である。

なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばＦｅ、Ｍｎ、Ｖ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ　。

Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｗ　、　Ｃｕ等が含まれてい
てもよい。

このような強磁性金Ｂ　ｔ’ｌ　Ｈｆ１層は、好ましい
態様において、１記したｃｏを１成分とする柱状結晶粒
の集合体からなる。

この場合、強磁性金属薄１１ｆｆ　７ｉ５の厚さは９０
．０５〜０，５ル１．好ましくは、０．０７〜０３ル謬
とされる。

そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０’の範囲にて傾斜していることが好
ましい。

なお、酸素は１表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。

また１強磁性金属薄膜層の酸素の濃度勾配の何如には特
にｍノ限はない。

また、結晶粒の短隋は、５０〜５００人程度の長さをも
つことが好ましい。

また、もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属＠膜層を介在させて
もよい。

このような強磁性金ｐｙｓｓ膜暦を形成する基板は、４
１ｍ性のものでありさえすれば特にＩＪＩ限１オないが
、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリスチル等があるが、特にポリエステル、ポ
リイミド等の樹脂製のものであることが好ましい。

このように構成される本発明の磁気記録媒体の基体上に
は、微粒子が配設され、媒体表面には、微細な突起が存
在することになる。

配設される微粒子は、５０〜１０００人、より好ましく
は８０〜５００人の平均粒径を有するものである。

すなわち、媒体表面の突起は、微粒子径に対応し、光学
顕微鏡で観察でき、かつ触針型表面粗さ計で測定できる
ものではなく、走査型電子特性の劣化と、走行安定性の
低下をもたらす。

さらに好ましくは５００人、特に３００人である。

また、５０人未満となると、物性の向上、走行性の改良
の実効がない。

このような微粒子は、磁気ヘッドのｌｉ！Ｉ動方向ニオ
イて、０．４〜２μｍの周期となるように疎密に配設さ
れる。

この場合１周期とは、最も密な部分または最も疎な部分
から次の最も密な部分または最も疎な部分までの平均距
離をいい、電子顕微鏡にて観察できるものである。

そして、このような疎密周期がないもの、あるいはこの
ような範囲外の＠高周期をもつものでは、自己クリーニ
ング作用をもたず、特に低１温でのヘー、ト目づまり、
ヘッド付着がきわめて大きくなってしまう。

このような場合、配設された微粒子の疎な部分の密度（
個／ｍｍ２）は、′！Ｅな部分の密度（個／■２）の０
．０１〜０．６、より好ましくは０．０３〜０．５であ
ることが好ましい。

この比が０．６より大となると疎密効果がなくなり、ヘ
ッドへの当たりが一様となるため。

＠密のないものと同じようにヘッドへの密着性がよすご
て低温多湿下でヘッド目づまり、ヘッド付着が増大する
。

また、０．０に、ｔ−満では、疎密効果の作用がなくな
り、ヘッドへの自己クリーニング作用が減り、目づまり
、走行ストップを発生しゃすい。

このような場合、疎な部分および密な部分の密度は　最
も疎および密な部分のＯ，５ＪＬ１２〜１　ｍｍ２程度
の面積にて、電子顕微鏡視野下にて算出すればよい。

なお、このような疎密状態は、少なくともへ７ド摺動方
向（テープではテープ長手方向）に存在すればよい。

すなわち、ヘッド摺動力向と直角な方向には、存在して
も存在しなくてもよいが１通常は存在させない、　通常
は、一方向のみに疎密状態が存在する。

また、上記の範囲の周期は、ヘッド摺動方向に実現すれ
ばよいものであって、疎密の１１続方向は必ずしもヘッ
ドＩＭ　’ｔｈ方向と一致していなくともよい。

このような場合、微粒子の平均配設密度は。

ｔＯＳ個／■−２以上、より好ましくは２ＸｔＯａ〜１
０９個／＋ｔｍ２であることが好ましい、　密度が１０
５個／ｍｍ２．より好ましくは２Ｘ１０１１個／ｍｍ２
未満となると、ノイズが増大し、スチル特性が低下し、
ヘッドの目づまりが多発する等物性の低下をきたし、実
用に酎えない。

また、１０９個／■Ｉ２をこえると、物性上の効果が少
なくなってしまう。

なお、平均配役密度は１通常０．５ｐｍ２〜ｌ■２程度
の視野下、２点以上の平均値とする。

また、このような微粒子配設にともなう媒体表面に形成
される突起の高さは２０〜５００人、特に５０〜３００
人程度とされる。

このような疎密状態にて微粒子を配設するには、以下の
ようにすればよい。

（１）町どう性基板製造工程において、へ仮を所定の抗
張力で引っ張り処理等の特殊な処理をすることにより、
０２〜ｌ　Ｏ８Ｌｍ程度の間隔で変形させる。　たとえ
ば、波状に変形させることができる。

この変形は変形力と変形方向により、後に微粒子塗布に
より所定の疎密周期をうろことができるように選択する
。

そして、変形は、ＲＭＳ値で０．０１〜０．１ル一程度
とする。

このような変形基板上に微粒子を塗設すれば、通常微粒
子は凹部に密に配設される。

（２）可とう性基板の裏面は可とう性基板の表面より飛
れているので、所定の荒れを持ったものを選択して、こ
の基板の裏面を磁性層形成面として用いる。　荒れはＲ
ＭＳ債でＯ，０３〜０．２ル一程度とする。

そして、＃１粒子塗設により、四部に密な部分ができる
。

（３）町とう性基板を急激に乾燥させ、乾燥温度を制御
することにより所定の変形をうる。

変形量は上記と同程度とする。

（４）ぬれの、じいポリマー等を可どう性基板上に塗布
し、所定の凹凸をうる。

（５）ぬれの悪いポリブー等を可とう性基板上に塗布し
、さらにその上にぬれの良いポリマー等を多層に塗布す
ることにより所定の凹凸をうる。

このようにして所定の凹凸を有する可とう性基板上に、
さらに、微粒子の下塗り層を配設すればよい、　微才文
子径は、５０〜１０００人。

特に８０〜５００人とすればよく、これにより微粒子径
と対応した微細突起が形成される。

用いる微粒子としては、ａ常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えば５ｉ０２（＝＋ロイダルシ
リカ）、Ａ１２ｏ３（アルミナツル）　　、　Ｍ　Ｋ　
Ｏ、Ｔ　ｉ　Ｏ２。

Ｃｒｚ　０３　　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ２，５ｎ０２　
　。

Ｓｂ２　０５　　、ＺｎＯ，Ｆｅ２０３　　。

Ｆｅ５Ｑ４．ジルコ＝７　、ＺｎＳ　ｉｏ４　＋ＣｄＯ
，ＮＩＯ，ＣａＷＯ４、ＣａＣｏ３。

ＢａＣｏ３、ＣａＣｏ３、ＢａＴｌ０３　　。

Ｔｉ（チタンブラック）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ。

Ｎ（、Ｆｅ、各種Ｌドロゾルや、樹脂粒子等が使用可能
である。　この場合、特に無機物質を用いるのが好まし
い。

これら微粒子は１例えば５ｉ０２の場合、■無水珪酸の
Ｍｉ微粒子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メタ
ノールシリカゾル、０産化学） ■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、日本ア
エロジル株式会社）などが挙げられる。　また、前記■
の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製造
される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタ
ンおよび前述微粒子顔料が使用され得る。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。

また、これら微粒子にもとづく微細突起に重畳して、ゆ
るやかな突起を設けることもできる。

なお、基板と強磁性金属世１１５Ｉ層との間には、必要
に応じ、各種下塗層を介在させることもできる。

微粒子を配設するための下塗層にはバインダー分が含有
することが好ましい。

また、前記のとおり、微粒子配設前に基板に凹凸をつけ
るための下塗層を形成する場合もある・ このような場合、特に、放射線に感応する二重結合を１
分子中に少なくとも２個有する化合物が下塗り層に含有
され、放射線照射により下塗り層に架橋構造が形成され
ている場合が好ましい。

放射線感応性の二重結合を２個以上有しているから、放
射線照射によって、その化合物自体から若しくは併用し
た熱可塑性化合物等から生じるｉｌｔ雌生成物のうち、
主に′ｊｉｍラジカルが開始種となって上記化合物の二
重結合に作用し。

いわゆるラジカル重合反応を引起こして複雑な網目状の
三次元架橋構造が形成される。　この架橋構造によって
下塗り層の耐溶剤性が向上し、粘着性が低下する上に、
架橋構造中に併用した熱可塑性樹脂等が包含された状態
で硬化するために居間粘着等の問題が生じない、　しか
もこの場合、下塗り後に直ちに放射線照射で架橋を導入
できるから、巻取り状の居間粘着や熱による変形を一切
防止できる。

このような化合物゛としては、二重結合数が２以上、望
ましくは３以上の反応性アクリルオリゴマー又はオリゴ
アクリレートが望ましい。

このアクリル系化合物の具体例として挙げられる例えば
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルとしては
、多価アルコールのポリアクリレート類及びポリメタク
リレート’Ｊ（ここで「ポリ」とはジアクリレート以上
を指す、）がある。

多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポ
リシクロヘキセンオキサイド、ポリエチレンオキサイド
、プロピレンオキサイド、ポリスチレンオキサイド、ポ
リオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シクロヘキサ
ンジオール、キシリレンジオール、ジー（β−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネ
オペンサルギリコール、トリメチロールプロパン、トリ
エチロールプロノくン、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、ソルビタン、ソルヒトール、ブタン
ジオール、ブタントリオール、２−ブテン−１゜４−ジ
オール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−プロパンジオー
ル、２〜ブチン−１，４−ジオール、３−クロル−１，
２−プロパノジオール、１．４−シクロヘキサンジメタ
ツール、３−シクロヘキセン−１，１−ジメタツール、
デカリンジオール、２．３−ジブシム−２−ブテン−１
，４−ジオール、２１２−ジエチル−１，３，プロパン
ジオール、１．５−ジヒドロキシ−１，２，３，４−ナ
トラヒドロナフタレン、２．５−ジメチル−２，５−ヘ
キサンジオール、２．２−ジメチル−１，３−プロノく
ンジオール、２．２−ジフェニル−１，３−プロパンジ
オール、ドデカンジオール、メゾエリスリトール、２−
エチル−１，３−へ竿サンジオール、２−エチル−２−
（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール、２
−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、ヘ
プタンジオール、へ革サンジオール、３−ヘキセン−２
，５−ジオール、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒド
ロキシエチルレゾルシノール、２−メチル−１，４−ブ
タンジオール、２−メチル−２，４−ベンタンジオール
、ノナンジオール、オクタンジオール、ベンタンジオー
ル、１−フェニル−１，２−エンタンジオール、プロパ
ンジオール、２，２，４．４−テトラメチル−１，３−
シクロブタンジオール。

２．３，５．６−テトラメチル−ｐ−キシレン−α、α
′−ジオール、１，１，４．４−テトラフェニル−１，
４−ブタンジオール、ｌ。

１．４．４−テトラフェニル−２−ブチン−１，４−ジ
オール、１，２．６−１リヒドロキシヘキサン、ｔ　、
　ｔ’　−ビー２−ナフトール、ジヒドロキシナフタレ
ン、１．１’　−メチレンジー２−ナフトール、１，２
．４−ベンゼントリオール、ビフニノール、２．２′−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン。

ビス（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、４−
クロルレゾルシノール、３．４−ジヒドロキシハイドロ
シンナミックアシット、ハイドロキノン、ヒドロキシベ
ンジルアルコール。

メチルハイドロキノン、メチル−２，４，６−トリヒド
ロキシベンゾエート、フロログルシノール、ヒロガロー
ル、レゾルシノール、グルコース、α−（１−アミノエ
チル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、２−アミ
ノ−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−アミ
ノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール。

３−アミノ−１，２−プロパンジオール、Ｎ−（３−７
ミノプロビル）−ジェタノールアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス
−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、２．２−ビス
（ヒドロキシメチル）、２．２′　、２−’″−二トリ
ロトリエタノール、２．２−ビス（ヒドロキシメチル）
プロピオニックアシッド、ｌ、３−ビス（ヒドロキシメ
チル）ウレア、ｌ、２−ビス（４−ピリジル）−１，２
−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジェタノールアミン
、ジェタノールアミン、Ｎ−エチルジェタノールアミン
、３−メルカプ）−１，２−プロパンジオール、３−ピ
ペリジノ−１，２−プロパンジオール、２−（２−ピリ
ジル）−１，３−プロパンジオール、トリエタノールア
ミン、α−（１−アミノエチル）−Ｐ−ヒドロキシベン
ジルアルコール、３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル
、スルホンなどがある。

これらの７クリＪし酸エステ１１文０及びメタクリル酸
エステル類のうち好ましいものは、その人手の容易さか
ら、エチレンジメタクリレート。

エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、グリセリントリアクリレ
ート、ジグリセリンジメタクリレート、１゜３−プロパ
ンジオールアクリレート、ｌ、２゜４−ブタントリオー
ルトリメタクリレート、１．４−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、１．５−ベンタンジオールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチ
レンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ
アクリル酸エステル等である。

またアクリル系化合物として使用可能なアクリルアミド
類及びメタクリルアミド類としては、メチレンビスアク
リルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほか、エ
チレンジアミン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、
ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン、ビス（２−
アミノプロピル）アミン、ジエチレントリアミンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン
、異種原子により中断された。ポリアミン、環を有する
ポリアミン〔例えばフェニレンジアミン、キシリレンジ
アミン、β−（４−７ミノフエニル）エチルアミン、ジ
アミノベンゾイックアシッド、ジアミノトルエン、ジア
ミノアントラキノン、ジアミノフルオレンなど〕のポリ
アクリルアミド及びポリメタクリルアミドがある。

また、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルア
ミド）エチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ビス（β−メタク
リロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレー
トなどの如く、異なった付加重合性不飽和結合を２つ以
上有する化合物も下塗り層用のアクリル系化合物として
好適である。

更に、アクリル系化合物として使用■ｒ能なものとして
、トリメチロールプロパンモノアクリレートとヘキサン
ジオールとアジピン酸との反応によってず与られる各種
重合度のポリエステル強重合体がある。　この場合、ト
リメチロールプロパンモノアクリレートに換えて、ペン
タエリスリトール等の脂肪族ポリオールのジアクリレー
トや、脂環式ジグリシジルエーテルのジアクリレート等
を使用してよい、　またヘキサンジオールに換えて、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、１．３−７
’ロパンジオール、ｌ、４−ブタンジオール、１．５−
ベンタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール。

２．２．４−１リメチル−１，３−ベンタンジオール、
■、４−シクロヘキサンジメタツール、ヒスフェノール
ＡのエチレンオキシＦ　付／Ｉｌｌ物及びプロピレンオ
キシド付加物、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキ
シド付加物及びプロピレンオキシド付加物、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラ
メチレングリコール等を使用してよい、　　トリメチａ
−ルエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペ
ンタエリスリトール等のトリ及びテトラオールを少量併
用してよい、　更にアジピン酸に換えて、テレフタル醜
、イソフタル酸、オルソフタル酸、１．５−ナフタル酷
等の芳香族ジカルボン酸；ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−（
ヒドロキシエトキシ）安息香酸等の芳香族オキシカルボ
ン酸；コハク酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン
ジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を使用してよい
、　この場合、芳香族カルボン酸と脂肪族カルボン酸と
を併用するときには、それらのモル比は５０７５０〜Ｚ
ｏｏ１０であり、芳香族カルボン酸の少なくとも３０モ
ル％がテレフタル酸であることが望ましい、　　トリメ
リット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等のトリ及び
テトラカルボン酸を少量併用してよい、　なおアジピン
酸等の酸成分はトリレンジインシアネート等の芳香族又
は脂肪族のジイソシアネートと置換えてポリウレタンと
してもよい、　また上記アクリレートとポリオールとの
割合は１モル比で、アクリレートがモノアクリレートの
場合は８０／２０〜ｔｏ／９０．７クリレートがジアク
リレートの場合は４０／６０〜５／９５であるのが望ま
しい。

これらの放射線感応性化合物は、具体的には柔軟性及び
接着性向上のためにポリウレタン。

ポリエステル、ゴム系（例えばＡＢ）等の熱可塑性樹脂
と混合されて使用されてよい、　この熱可塑性樹脂はア
クリル変性（二重結合が導入）されていてもよいし、そ
うでなくてもよい、　また、上記放射線感応性化合物の
うち。

活性水素基（例えば、−０Ｈ１−ＣｏＯＨｌ−ＮＨ２）
を有するものは、官能基のある熱可塑性樹脂例えば、末
端に一〇〇Ｎ、−ＯＨ等を有するポリウレタン又は末端
に−ＯＨを有するポリエステル又はアクリロニトリル−
ブタジェン系ポリマーと反応させ　この反応生成物を使
用してよい、　この反応生成物は磁性塗料中にそのま＼
添加するか、或いは上記反応前に両成分を磁性塗料に添
加してから塗布し、上記反応とラジカル重合反応とを同
時に行なうことができる。

下塗り層で使用する放射線感応性化合物は、上述のアク
リル系化合物、または上記反応生成物であってよいが、
いずれの場合もアクリル系二重結合１個当りの分子量は
２００〜２０．０００であるのが望ましい、　即　ち　
、分子量が２００未満であると、架橋反応の進行が速く
なりすぎて硬くて論い塗膜となり、接着等の面で問題が
ある。　また、分子量が２０．０００を越えると、三次
元網目構造を充分に成長させ難くなる。

下塗り層に照射する上述の放射線としては電子線２中性
子線、γ線等の電離性放射線を使用し、その照射量は１
−１０　Ｍ　ｒ　ａ　ｄがよく、１〜７　Ｍ　ｒ　ａ　
ｄがより望ましく、またその照射エネルギー（加速電圧
）は１００ｋｖ以上とするのがよい、　このＩＫ（射１
逢は上述のラジカル反応を引起こすに十分なものである
。

この下塗り層に対する放射線の照射処理は。

塗布・乾燥後に巻取る以前に行なうのが望ましいが、巻
取り後に行なってもよい。

さらに、具体的には、 下塗り層が、１分子中に（メタ）アクリロイル基を２個
以上有し、（メタ）アクリロイル基１個当りの分子が２
００以上であるオリゴマーもしくはポリマーの１種もし
くは２種以上、さらに必要に応じて溶剤もしくは光重合
開始剤を含有する放射線硬化性塗料を用い、放射線照射
により形成されてなることが好ましい。

このため、ラジカル重合により、三次元網目構造を有す
る塗膜を形成し、磁性層の塗布時に、溶剤による膨張を
起こすことなく、磁性層の平滑性を保持できる。

また、分子量が２００以上であるオリゴマーもしくはポ
リマーの一種もしくは二種以上有するので、架橋硬化反
応時に大きな体積収縮がなく、基板のカールがなく１寸
法安定性がよく。

接着性がよい、　乾燥硬化時の蒸発飛散もない。

化合物の例としては。

■　インシアネート基と反応性を有する基を有する（メ
タ）アクリルエステル単量体とポリイソシアネート化合
物との反応生成物２モル以上と１分子中に２個以上の水
酸基を有する化合物１モルとの反応生成物あるいはこれ
等３者の反応性を変えて得られた反応生成物。

例えばプロピレングリコールにフロピレンオキサイドを
付加した二官能性のポリエーテル（アテ力ホリエーテル
Ｐ−１０００旭電化社製）１モルにトルエンジイソシア
ネート２モルを反応させ、その後２モルの２−ヒドロキ
シエチルメタクリレートを反応させ得た分子末端にアク
リル系二重結合を２個有する樹脂、フレポリマー、オリ
′ゴマ−もしくはテロマーを挙げることができる。

ここで、使用される水酸ノ、（を１個以上含有する化合
物としては、７デカポリエーテルＰ−７００、アデカポ
リエーテルＰ−ｔｏｏｏ、７デカボリエーテルＧ−１５
００（以上旭電化社製）、ポリメグｔｏｏｏ、ポリメグ
６５０　（以上フォーカー・コーラ社Ｖ）等の多官能性
ポリエーテル類−二トロセルローズ、アセチルセルロー
ズ、エチルセルローズの様な＃Ｊｉ　ｍ素誘導体；ビニ
ライ）ＶＡＧＨ（米国ユニオンカーバイド社製）の様す
水酸基を有する一部ケン化された塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体：ボリビニルアルコール；ポリビニルホルマ
ール、ポリビニルブチラール；ポリカプロラクト７ＰＣ
Ｐ−０２００，ポリカプロラクトンＰＣＰ−０２４０、
ポリカプロラクトンＰＣＰ−０３００（以上チッソ社製
）等の多官能性ポリエステルポリオール類；フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、アジヒン酊、コｌ＼り酸
、セへチン酸のような飽和多１１！基酸とエチレンゲリ
コール、ジエチレングリコール。

１．４−ブタンジオール、ｌ、３−ブタンジオール、１
，２−プロピレングリコール、ジプロピレングリコール
、１．６−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコー
ル リン、トリメチロールフロパン、ペンタエリスリットの
ような多価アルコールとのエステル結合により得られる
飽和ポリエステル樹脂；水酸基を含有するアクリルエス
テルおよびメタクリルエステルを少なくとも一種以上重
合成分として含むアクリル系重合体を挙げることができ
る。

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては．２．４−）ルエンジイソシアネート．２．６−）
ルエンジイソシアネーｉｆ，４−キシレンジイソシアネ
ート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、インオロンジイソシアネートやデスモジュールし、デ
スモジュールＩＬ（西ドイツ　バイエル社製）等がある
。

イソシアネート基と反応する基および放射線硬化性不飽
和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸あるい
はメタクリル酸の２−ヒドロキシエチルエステル、２−
ヒドロキシプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチル
エステル等水酸基を有するエステル類；アクリルアマイ
ド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルアマ
イド等のイソシアネート基と反応する活性水素を持ちか
つアクリル系二重結合を含有する単量体：更に、アリル
アルコール、マレイン斂多価アルコールエステル化合物
、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるいはジ
グリセリド等イソシアネート基と反応する活性水素を持
ちかつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を含有する
単量体も含まれる。

■　分子中にエポキシ基を２個以上含む化合物１分子と
、エポキシ基と反応する基および電子線硬化性不飽和二
重結合をイＩする単量体２分子以上との反応物１例えば
、グリシジルメタクリルレートをラジカル重合させて得
たエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂にアク１ノル酸を
反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反応に
より、分子中にアクリル系二重結合をベンタクトさせた
樹脂、プシポ１ツマ−もしくはオリゴマーを挙げること
カーできる。

ここで分子中にエポキシ基を２酸以上含む化合物として
は、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
トの如きエポキシ基を含むアクリルエステルあるいはメ
タク■ノルエステルのホモポリマーあるいは他の重合性
上ノで−との共ｍ合体；エピコート８２Ｂ、エビコー）
１００１、エビコー）Ｌ（１０７、エピコート１００９
（以上シェル化学社製）等その他種々のタイプのエポキ
シ樹脂等力曵ある。

エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二重
結合を有する単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸
等のカルボキシル基を含有するアクリル系単量体、メチ
ル７ミノエチルアクリレート、メチルアミノメタクリレ
ート等の第１級もしくは第２級アミノ基を有するアクリ
ル単量体等が使用できる。

■　分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分
子とカルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物１例
えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル基
を含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレートを
反応させ、第１Ｉ項と同様にカルボキシル基とエポキシ
基の開環反応により分子中にアクリル系二重結合を導入
させた樹脂、プレポリマー１．オリゴマーを挙げること
ができる。

分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物としては
１分子鎖中または分子末端にカルボキシル基を含むポリ
エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、無水ヤレイン
酸、フマル酸等のラジカル重合性を持ち、かつカルボキ
シル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の重合
性モノマーとの共重合体等である。

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としてはグリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等がある。

必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。

溶剤としては特に剥離はないが、バインダーの溶解性お
よび相浴性等を考慮して適宜選択される。　例えば、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、ブタノール等のアルコール ン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類。

イソプロピルエーテル、エチルエーテル、ジオキサン等
のエーテル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等の
フラン類等を単一溶剤またはこれらの混合溶剤として用
いられる。

本発明において、磁性層の形成は真空蒸着。

スパッタリング、イオンブレーティング、電気メッキ、
無電解メッキ等を用いることもできるが、いわゆる斜め
蒸着法によって形成されることが好ましい。

この場合、基体法線に対する。蒸着物質の入射角の最小
値は、２０°以上とすることが好ましい。

入射角が２０°未満となると、電磁変換特性が低下する
。

なお、′ａ着着口囲気１通常、アルゴン、ヘリウム、真
空等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰ｖＪＪ気とし
、１０−’　〜１００　Ｐａ程度の圧力とし、また、Ｉ
Ｓ着距離、２基体搬送方向、キャンやマスクの構造、配
置等は公知の条件と同様にすればよい。

そして、酸素雰囲気での蒸着により１表面に金属酸化物
の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。

なお１表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。

適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。

り乾式処理 ａ、エネルギー粒子処理 特願昭５８−７６６４０号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。

ｂ、グロー処理 ０２　　、Ｎ２０，０２　＋Ｈ２０等とＡｒ。

Ｎ２等の不活性ガスとを用い、これをグロー放電してプ
ラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさら
すもの。

Ｃ３酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹きつけるもの。

ｄ、加熱処理 加熱によって酸化を行うもの、　加熱温度は６０〜１５
０℃程度。

２）湿式処理 ａ、陽極酸化 す、アルカリ処理 Ｃ０酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸ＩＪ！あ
理等を用いる。

ｄ、酸化剤処理 Ｎ２０２等を用いる。

このような磁性層上には、特定の有機物トップコート層
が設けられる。

本発明のトップコート層は、酸化防止剤を含有するもの
である含有することが好ましい。

未発明で用いられる酸化防止剤は金属の酸化を防止する
ものであれば、いずれのものでも良い。

本発明で用いられる酸化防止剤としては１通常の酸化防
止剤が用いられ、これらは、ｌ）フェノール系酸化防止
剤 ２）アミン系酸化防止剤。

３）リン系酸化防止剤。

４）硫黄系醸化防止剤。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、 ６）キノン系醸化防止剤。

７）無機酸、無機塩系酸化防止剤のように構造的に大別
される。

上記、各種酸化防止剤の具体例を挙げると、 １）フェノール系酸化防止剤としては、２．６−ジー第
三ブチル−ｐ−クレゾール。

２．６−ジー第三ブチル−フェノール、２．４−ジ−メ
チル−６−第三ブチル−フェノール、ブチルヒドロキシ
アニソール、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６
−４７’ｓ三ブチルフェニノール）、４．４′　−ブチ
リデノヒス（３−メチル−６−第三ブチルフェノール）
１４．４′−チオビス（３−メチル−６−第三ブチルフ
ェノール）、テトラキス〔メチレン−３（３Ｉ５−ジー
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
コメタン、１，１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ジグチルヒ
ドロキントルエン、没食子酸プロピル、グアヤク脂、ノ
ルジヒドログアヤレチン酸等がある。

放射線硬化型としては、モノグリコールサリチレート、
２．５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２．４−ジヒド
ロキシベンツフェノン、２．４．５−トリヒドロキシブ
チロフェノン。

ハイドロキノン等のメタクリレート、アクリレートタイ
プが挙げられる。

２）アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、α−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’　−ジー第
ニブチルーｐ−フェニレンジ゛アミン、フェノチアジン
、Ｎ　、　Ｎ′　−ジフェニル−Ｐ−７エニレ／ジアミ
ンの他、アルカノールアミン　リン脂質等が挙げられる
。

アミン系においても、放射線硬化型として、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、アクリレート等の放射線硬
化可能のものがある。

３）リン系酸化防止剤としては。

放射線硬化型あるいは放射線硬化型でないものが用いら
れ、リン酸エステル部分のＲとしてはアルキル基、アル
キルフェニル基、その他酸化エチレン、ａ化プロピレン
を含有し、そのＲとしてＣが１〜２６が好ましく、さら
に好ましいのは１〜２２である。

リン酸エステルとしては、モノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。

また、リン酸エステルは、ＮＨモタイプのものおよびメ
タクリレートタイプ、アクリレートタイプのものも含ま
れる。

具体的にはトリフェニルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、トリデノルホスファイト、トリラウリ
ルトリチオポスファイト等の亜すン醜エステルや、ヘキ
サメチルポスホリックトリアミト、ブチルポスフェート
、セチルホスフェート、ブトキンエチルポスフェート、
２−エチルヘキシルポスフェート、β−クロロエチルホ
スフェート、ブトキシエチルポスフェートジエチルアミ
ン１１　、ジ（２−エチルヘキシル）ホスフェート、エ
チレングリコールアシッドホスフェート、（２−ヒドロ
キシエチル）メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒ
ドロキシメタクリレート拳ポスフェート、カプリルヒド
ロキシメタクリレート・ポスフェート、ミリスチルヒド
ロキシメタクリレートΦポスフェート、ステアリルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、セチルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ブチルフェニルヒド
ロキシメタクリレート・ポスフェート、アミルフェニル
ヒドロキシメタクリレート・ポスフェート、ノこルフェ
ニルヒトロキシメタクリレート・ホスフェート、および
これらの７クリレートタイプ、フェニルホスフェート、
その他のアルコール、およびノニルフェニル等のフェニ
ルホスフェート、バナンウム系酸性リン酸エステル等の
リン酸エステルが挙げられる。

４）硫黄系酸化防止剤としては。

ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネ
ート、ジミリスリルチオジブロピオネート、ジステアリ
ルβ、β′−チオブチレート、２−メルカプトベンツイ
ミダゾール、ジラウリルサルファイドの他、４．４’−
チオ−ビス（３−メチル−６−第三ブチルーフェノール
）、２．２’−チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブチ
ル−フェノール）等のメタクリレート、アクリレート等
の放射＆９硬化型が挙げられる。

また、これらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し
ていてもよい。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止／ｉｌｌ
　ト１．　（１１。

ソルヒトール、グリセリン、プロピレングリコール、ア
ジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、こ
れらの放射線硬化型であってもよい。

６）キノン系酸化防止剤としては。

ヒドロキノン、トコフェロール等があり、これらの中で
放射線硬化型であってもよい。

７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としては、リン酸がそ
の代表例として挙げられる。

上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
えうるという点から１分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート（アクリレート）、４−ｒｌＳｌ
Ｓ三層チルカテコールメタクリレートクリレート）、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、
エチルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホス
フェート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレー
ト（アクリレート）、ステアリルメタクリレート（７ク
リレー１）；ｌミスフェート、および北見のもののフェ
ニルクイプのもの、２．２′チオ−ビス（４−メチル−
６−第三ブチル−フェノール）メタクリレート（アクリ
レート）等が好ましい。

リン酸エステルの製法としては公知の方法で行われるが
、特公昭５７−４４２２３号公報記載の方法も挙げられ
る。

放射線硬化型防止剤では、強磁性薄膜へのオンライン硬
化ができるため、熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写
による表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がない
。

強磁性ｆａＩＩｉ上のトップコートは、後述のように１
００Å以下が好適であり、これ以上厚くすると電特の低
下を生じる。　また、あまり厚すざるとトップコート層
が削れる。　このようなことは本発明においてはじめて
判明したことである。　そして、放射線硬化型酸化防止
剤の使用により、ドロップアウトの防止、ロール状に巻
かれたときの内外系の個所による出力差の減少といった
１、ν性上の効果の他、オンライン上での製造が可能と
いった処理上の効果をもあげうるものである。

さらに、トップコート層には潤滑剤が含有されることが
好ましい。

本発明で用いられる潤滑剤としては、従来この種の磁気
記録媒体に用いられる潤滑剤として、シリコンオイル、
フッ素オイル、脂肪酸。

脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活
性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／または
脂肪酸エステルを用いるのが好ましい・ 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸。

ラウリン醜、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステア０−ル酸等の炭素数１２以上の脂肪
酸（Ｒ’Ｃ００Ｈ１Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）
等が使用される。

脂肪酸エステルとしては、戊−靴数１２〜１６個の一１
１１基性脂肪酸と炭素数３〜ｌｚ側の一価のアルコール
からなる脂肪酸エステル類、炭素数１７個以との一塩基
性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜
２３個よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸エス
テル等が使用される。

シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。

アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解Ｗｌ換、テロメリゼーション、オリゴメ
リゼーション等によって得られるものが使用される。

潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。

これらは強磁性ｌｉＩ膜への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑＋′１を示す分子鎖と
アクリル系二組結合とを分子中に有する化合物、例えば
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢
酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコ
ールエステル、メチルビニルアルコールエステル、アリ
ルアルコールエステル、グリセライド等がある。

これらの潤滑剤を構造式で表すと。

ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２ＧＯＯＲ。

ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣｏＲ ＲＣｏＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＲＣｏＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等がある。

ここで、Ｒは直鎖または分枝状の飽和もしくは不飽和度
化水素ノ、−で、炭、も数は７以上、好ましくは１２以
上２３以下であり、これらはフッ素置換体とすることも
できる。

フッ素１１検体としては。

ＣｎＦ　　　−１ｃ　ｎ　Ｆ　２　ｎ　＋　ｒ　（ＣＨ
２）　ｍ　−２ｎ令１ （ただし、ｍ＝１〜５）。

ＣｎＦ２ｌ１，１Ｓ０２　ＮＣＨ２ＣＨ２−１ＣｎＦｎ
ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−。

Ｃ□−１゜０°２□□□− 等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステ７
リルアルコールのメタクリレート　（アクリレート）、
グリセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコ
ールのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンの
メタクリレート（アクリレート）等が挙げられる。

強磁性薄膜表面に、トップコート層を設ける方法として
は、前記添加剤を溶剤で希釈して。

強磁性金属薄膜上にＢく塗布したり、添加剤を大気中、
不活性ガス中、あるいは真空中で気化せしめて、その蒸
気を強磁性金属表面に当てるなどの手段があり、これら
を適用することができる。

本発明のトップコート層には、ポリマー等の有機バイン
ダー等を含むことができる。　　トップコート層で用い
るポリマーとしては従来、磁気記録媒体用に利用されて
いる熱可塑性、熱硬化性または反応型樹脂や、これらの
混合物が使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬
化型、特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１００００〜２００００（１、重合度が約２００
〜２０００程度のもので、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニ
ル−酢酸ビニルービニルアルコール共重合体（カルボン
酸導入のものも含む）、ｍ化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル−７クリロニトリル共重合体、アク
リル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル
酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エス
テル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−アク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステルーステシン共
重合体、ウレタンエラストツー。

ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリア
ミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−７クリ
ロニトリル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロールトリアセテート、セルロースプ
ロピオネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタ
ジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種
の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物が使
用される。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しないも
のが好ましい。

具体的には１例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン軟化！！！樹脂、尿素樹脂。

メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセル
ロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイン
シアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重
合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリインシアネートの混合物、尿素
ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂およびこれらのＩＩＩ：合物である
。

特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、ある
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリル変
性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンアクリ
レートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、
放射線硬化系樹脂については前記の好ましい組合わせの
外に、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すア
クリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化
合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレート
のようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘
導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるい
は重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または
導入した樹脂等を用いることができる。

その他、使用ＩＩＦ　滝なバインダー成分としては、単
量体としてアクリル酸、メタクリル酸アクリルアミド等
がある。　二重結合のあるバインダーとしては１種々の
ポリエステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル
二重結合を有する化合物で変性することもできる。　さ
らに、必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を
配合することによって種々の分子量のものもできる。　
放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり、こ
れらは混合して用いることもできる。

本発明トップコート層で用いられる放射線硬化型モノマ
ー、放射線硬化型オリゴマーおよび放射線硬化型ポリマ
ーとしては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリ
ル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリ
ル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重
結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基
を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーお
よびポリマー等を挙げることができる。

放射線硬化型モノマーとしては、分子量２０００未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子１１２０００〜１０
０００のものが用いられる。

これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールメタクリレート、！、８−ヘキサングリ
コールジアクリレート、ｌ、Ｂ−ヘキサングリコールジ
メタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものと
しては、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート（メタクリレート）、ペンタエリス
リトールアクリレート（メタクリレート）、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート（メタクリレート）、ト
リメチロールプロパンジアクリレート（メタクリレ−ト
）、多官能オリゴエステルアクリレート（アロニックス
Ｍ−７１００，Ｍ−５４００゜５５００．５７００等、
東亜合成）、ウレタンエラストマーにツボラン４０４０
）のアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣ０ＯＨ
等の官能基が導入されたもの、フェノールエチレンオキ
シド付加物の７クリレート（メタクリレート）、下記一
般式で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル
基（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリ
ル基のついた化合物、 式中、ｍ＝Ｌ、ａ＝２、ｌ＞＝４の化合物（１」下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ＝１．ａ＝３、ｂ＝＝３の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｂという）。

ｍｓｌ、ａ＝６．ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、ｍ＝２、ａｓ８、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物り
という）、および下記式一般式で示される特殊アクリレ
ート類等が挙げられる。

１）　　（ＣＨ２＝ＣＨＣｏＯＨ２）　３−ＣＣＨ２０
Ｈ（４，’ｉ殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＨ２）３−ＣＣＨ２０
Ｈ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　（ＣＨ２＝ＣＨ０Ｃ（ＯＣ３Ｈａ　）　ｎ　−
０ＣＨ２）　３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ
） （特殊アクリレートＤ） （４，９朱アクリレ−）Ｅ） （特殊アクリレ−）Ｆ） （ｍ＝１６）　　　　　　　（特殊アクリレートＧ）８
）　　　ＣＨ２＝ＣＨＣｏＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−
ＣＣＨ２０Ｈ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレート■） （特殊アクリレートＪ） Ａ−（Ｘ−ｙ＋−Ｘ−Ａ Ａニアクリル酸、　　　Ｘ：多価アルコールＹ：多ｍ基
耐　　　　　（牛９朱アク１ルートＫ）また、放ｌｌｔ
　ｌＱ硬化型オリゴマーとしては、下記一般式で示され
る多官能オリゴエステルアクリレートやウレタンエラス
トマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣ０
ＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。

伏中Ｒ，，Ｒ２：アルキル、ｎ：整釦 これらの七ツマ−、オリゴマー、ポリで−の少なくとも
１種の有機バインダーを用いることにより、トップコー
ト層が補強され、塗膜の破断強度が上がり、塗膜の強化
がなされ、トップコート削れが少なく、かつ高温多湿下
での走行性が安定となる。　そこで、ドロップアウトの
少ない、ヘッド付着、トップコート削れが少なく、摩擦
の変化も安定した磁気記録媒体が得られる。　また、放
射線硬化型バインダーを用（すると、トップコート層の
製造上、連続処理が可能であり、オンラインで処理でき
るので、省エネルギー、コストの低減に役立つ。

トップコート層の厚みとしては５〜８００人が好ましい
、　あまり厚すぎると１特の低下を生じたり、ケズレを
生じる。　また、あまり薄すぎると目づまりが発生する
。　強磁性薄膜の場合は４５０Å以下が好ましい、　　
トップコートなしの強磁性薄膜の表面粗度は１００Å以
下が好ましいため、この上にトップコート層を形成する
場合、あまり厚すぎるとケズレを生じることがわかった
。　あまり少なすぎるとトップコート層の吸着が弱すぎ
、目づまりを発生することが予想される。

特に好ましい範囲としては５〜４５０人であり、中で６
１０−１００人がさらに好ましい。

本発明において、バックコート層があれば走行性がさら
に安定し、好ましい。

本発明のブくツクコート層で用いられる有機バインダー
は、従来、磁気記録媒体用に利用されている熱可譬性、
熱硬化性または反応型樹脂やこれらの混合物が使用され
るが、得られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線
硬化型の樹脂が好ましい。

熱可ヅ性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１００００〜２（１００００゜重合度が約２００
〜２０００程度のもので、例えば塩化ビニール−酢酸ビ
ニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）　、　
ＩＩＪ化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリ
ル共重合体、アクリル酸エステル−７クリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体
、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル
酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸
エステル−塩化ビニルデン共重合体、メタクリル酸エス
テル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイ
ロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド
樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニ
トリル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイア
セテート、セルローストリアセテート、セルロースプロ
ピオネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテ
ル−アクリル酸エステル共重合体、アミン樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物が使用
される。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、ｍ合、付加等の反応により分子量
が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶融しな
いものが好ましい。

具体的には１例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂。

メラミン樹脂、てルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル樹脂、アクリル系反応樹脂、エーポキシーポリ７ミド
樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエ
ステル樹脂とインシアネートプレポリマーの混合物、メ
タクリル醜塩共重合体とジイソシアネートプレポリマー
の混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネー
トの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリ
コール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイ
ンシアネートの混合物、ポリアミン８４脂、およびこれ
らの混合物である。

特に好ましいものは、 繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体、　’Ｆｌ、＝タフの組み合わ
せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）。

あるいは塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアルコール共
重合体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリ
ル変性塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアクコール共重
合体（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンア
ク１ル−トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであ
る。

放射線硬化系樹脂については、前記の好ましい組み合わ
せのほかに、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を
示すアクリル酸、メタン１）ル酸あるいはそれらのエス
テル化合物のようなアクリル系二重結合、 ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、 マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放
射線照射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂
の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることがで
きる。

その他、使用可崗なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等があ
る。

二重結合のあるバインダーとしては１種々のポリエステ
ル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を
有する化合物で変性することもできる。　さらに必要に
応じて、多価アルコールと多価カルボン酸を配合するこ
とによって、種々の分子量のものもできる。

放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり、こ
れらは混合して用いることもできる。

さらに好ましいのは。

（Ａ）放１射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を２
個以上有する、分子量５０００〜１０００００のプラス
チック状化合物。

（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合をｌｆ
Ｉ以上有するか、または放射線硬化性を有しない１分子
項に３０００〜１０００００のゴム状化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有する、分子量２００〜３０００の化合物を、 （Ａ）２０〜７０ｆｆｉ量％、 （Ｂ）２０〜８０重景％、 （Ｃ）１０〜４０重景％の割合で用いた組み合わせであ
る。

これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化がなさ
れ、バックコート削れが少なく。

バックコート層から磁性層への無機充填剤粉末の移転が
ないためドロップアウトの少ない、かつロール状に巻き
取った形での硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で
均一の特性を有する磁気記録媒体が得られる。

本発明の磁気記録媒体の製造において、有機バインダー
が熱硬化型では、製造過程において、バックコート層の
潤滑剤が磁性薄膜に裏型転写し、前述のような不安定な
走行による出力ダウンが発生し１画像が出なくなるとか
、あるいは、摩擦レベルが未だ大きく不十分であり、裏
型転写により強磁性薄膜が取れたり、あるいは破壊され
るという現象が生じ、好ましくない。

そのため、トップコートを最初に行うことが考えられる
が、操作上、傷つきやすく不都合なことが多い。

さらに、熱硬化型の場合、ｒ４！化時の巻さし：載りに
よるバックコート面の裏型転移のため、熱硬化中のジャ
ンボロールの内側、外側での電磁変換特性の差が問題と
なる。

これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製造上、連続
硬化が可能であり、硬化時間も短く、上記の裏型転写が
ないので、ドロップアウトが防止でき、その上放射線硬
化およびトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので。

省エネルギ一対策、製造時の人員の減少にも役立ち、コ
ストの低減にもつなカル。

特性面では熱硬化時の巻きしまりによるドロップアウト
の外に、ロール状に巻かれたときの内外径の側所の圧力
のちがいにより１ｍ％テープの長さ方向の距離による出
力差が生じることもなくなる。

前記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）からなる放射線硬化型
樹脂バインダーにおいて、（Ａ）だけでは柔軟性がなく
もろ＜、ＣＢ）だけでは弾性の欠けたものであり、（Ａ
）、（Ｂ）を組合わせることにより破壊エネルギー大と
なるが、脆性エネルギーを大とするには制限があり、ま
た（Ａ）、（Ｂ）だけでは硬度が低いためか。

高温多湿下で粘着性が生じ、静摩擦が高くなった。

これに対し、（Ａ）、（Ｂ）さらに（Ｃ）を組合わせる
ことにより、架橋性が増大し、バインダーの引っ張り強
度大、破断エネルギー、脆性エネルギーが大となり、バ
ックコート削れもなく、硬化度が高い強靭な塗膜となる
。

そのため、５０℃、８０％５日間の高温保存下においた
ところ、粘若を生ぜず、摩擦係数も低く、画像ひずみを
生じなかった。

これは（Ｃ）を加えることによりバックコートａの架橋
性が増し、硬化度が増したためである。

（Ａ）、（Ｂ）にさらに（Ｃ）を加えることにより、（
Ａ）、ＣＢ）のみよりなる組成の場合に比べ、（Ａ）成
分が低分子量の方まで使えるようになった。　これは（
Ａ）　Ｉｌｉ！ｌ、分よりなるプラスチック状のものを
、（Ｃ）成５）を；９人」“ることにより可塑性を向上
させた硬イし１炙のＩＪ−１上となるため、粘弾性にと
んだ脆性エネルギーの大なる塗膜となったものである。

本発明の放射線硬化型樹脂ｌ（イングーにお（１で、（
Ａ）の分子量５０００未満、（Ｂ）の分子量３５００未
満では塗膜が固くなって、＜ツクコート削れが激しく、
電磁変換特性も低下し、また（Ｂ）の分子１ｔｏｏｏｏ
ｏを超えると分散不良のため電磁変換特性が低下すると
ともに、（Ｂ）が放射線硬化性の場合に１よその特性が
低下して強度低下を生じる。

（Ｃ）については、分子量が３０００を超えると、架橋
性が低下し、塗膜の強度カー低下する。

（Ａ）は１００００〜８００００．（Ｂ）ｌよ３０００
〜８００００、（Ｃ）はＺｏｏ−２５００が好ましい分
子量範囲で、（Ｂ）（士放射線硬化性のものが、架橋性
を上げ、塗膜強度カー大となるので好ましい。

（Ａ）、（１１）、　　（Ｃ）の配合比率は。

（Ａ）が２０〜７０屯埴％、ｋｆまくは３０〜７９　！
ＴＥ　７１％、ＣＢ）が２０〜８０重Ｍ％、好ましくは
２０〜６０重量％、（Ｃ）が１０〜４０瓜量％、好まし
くは１０〜３０重量％である。

本発明の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物の分子量は１
次のような測定方法による数平均分子量によっている。

※ＧＰＣによるバインダーの平均分子量測定Ｇ　Ｐ　Ｃ
（Ｇｅｔ　Ｐ＠ｔｍｅａｔｉａｎ　Ｃｂｌｏｗ＋ａＬａ
Ｈｒａｐｈりとは試料中の分子を移動相中のその大きさ
に基ずいて分離する方法で１分子ふるいの役をする多孔
質ガルをカラムに充填し、液体クロＷトゲラフイーを行
う方法である。

平均分子量を算出するには、標準試料として分子量既知
のポリスチレンを使い、その溶出時間から検−量線を作
成する。

これにより、ポリスチレン換算の平均分子量を計算する
。

与えられた高分子量物質中に１分子量Ｍｉである分子が
Ｎｉ個あったとする七、 で表わせる。

本発明の（Ａ）、ＣＢ）、（Ｃ）の化合物における不飽
和二重結合は、１分子当り（Ａ）は２以上、好ましくは
５以上、（Ｂ）は１以上。

好ましくは５以上、（Ｃ）は１以上、好ましくは３以上
である。

本発明で用いる（Ａ）のプラスチック状化合物は、放射
線によりラジカルを発生し、架橋構造を生じるような、
不飽和二重結合を分子鎖中に２ｇｓ以上含むものなので
あり、これはまた熱可塑性樹脂を放射線感応変性するこ
とによっても得ることができる。

放射線硬化性樹脂の具体例としては　ラジカル重合性を
有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアクリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を、熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂であり、
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物で１分子料が５０００〜１０００００のも
の、好ましくは１００００〜ａｏｏｏｏのものであれば
用いることができる。

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては、次のような不
飽和ポリエステル樹脂がある。

分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合からなる飽和ポリエステル樹脂
で、多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不
飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げ
ることができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は、多塩基鎖成分
１種以上と、多価アルコール成分１種以上に、マレイン
酸、フマル酸等を加え、常法すなわち触媒の存在下で、
１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し。

０．５〜ｌ　ｍｍ）Ｉｇの減圧下、縮合反応により得る
ことができる。

マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放
射線硬化性等からｍ成分中１〜４０モル％、好ましくは
１０〜３０モル％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共ｍ
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、Ｉａ化ヒビニール酢酸ビニール−マレイン
酸共重合体、ＩＩＩ化ビエビニール酸ビニール−末端Ｏ
Ｈ側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社製Ｖ”ｔ
ＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹＥＳ、Ｙ
ＭＣＡ、ＶＡＧＨ等が挙ｌｆらＷ、このものに後述の手
法により、アクリル系ニル結合、マレイン酸系二重結合
、アリル系二重結合を導入して、放射線感応変性を行う
。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、７
ジピン酸、セバシン酸、のような悠和多塩基厳と、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、１．２７’ロビレングリコー
ル、１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、
１．４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペン
タエリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペン
チルグリコール、ｌ、４シクロヘキサンジメタツールの
ような多価アルコールとのエステル結合により得られる
飽和ポリエステル樹脂、またはこれらのポリエステル樹
脂をＳＯ＋Ｎａ等で変性した樹脂（例えばへイロン５３
Ｓ）が例として挙げられ、これらも同様にして放射線感
応変性を行う。

（３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し、後述の手法によ
り放射線感応変性を行う。

（４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとニブクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２゜１５４．８２８，１００１．．１００４
，１００７）、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１　、ＤＥ
Ｒ７３２、ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３３１）、大日本イン
キ社製（エビクロン４００，８００）、さらに上記エポ
キシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（
ＰＫＩ（Ａ　、ＰＫＨＣ。

ＰＫＨＨ）　、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒ
ドリンの共１（合体、大ロ木インキ化学工業製（エピク
ロン１４５，１５２，１５３．１１２０）等がある。

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。

（５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは、硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
。

樹脂中の水酸基を利用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルポロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステル、およびメタクリエステルを
重合成分として、少なくとも１種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

本発明で用いるＣＢ）の高分子化合物は、熱可塑性エラ
ストマーもしくはプレポリマー、またはこれらを放射線
感応変性したものであり、後者の場合は、より効果的で
ある。

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。

（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。

ウレタン化合物の例としては、インシアネートとして、
２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−）ルエン
ジイソシ７ネート、１゜３−キシレンジイソシアネート
、１．４−キシレンジイソシアネート、１．５−ナフタ
レンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネー
ト、３．３−ジメチル−４，４−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、４．４−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、３，３′　−ジメチルビフェニレンジイソシアネ
ート、４．４’−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、イン７オロンジインシア
ネート、ジシクロヘキシルメタンジインシアネート、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＮ等の各種多価イソシ
アネートと、 線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
１．４−ブタンジオール、ｌ、６−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリフト、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、１．４−シクロヘキサンジメチノールのような
多価アルコールと、フタル酸、イン７タル酸、テレフタ
ル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸のような飽和
多塩基酸とのＷＪｆｆｒ合によるもの）。

線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エス
テル、ヒドロキシ含有メタクリル酸エステル等の各稲ポ
リエステル類の縮合物よりなるポリウレタンエラストマ
ー、プレポリマーが有効である。

これらのウレタンエラストマーの末端のインシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。

（２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社！１／＼イカ−１４３２Ｊ：ｌｉのエラストマー
は、特にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカ
ルを生じ、架橋および重合させるエラストマー成分とし
て適する。

（３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水癩基を有するプレポリマ
ーが、特に熱可塑性との相溶性の点で好適である。

Ｒ−１５プレポリマーにおいては１分子末端が水酸基と
なっているため１分子末端にアクリル系不飽和二重結合
を付加することにより放射線感応を高めることが可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。

また、ポリブタジェンの環化物１日本合成ゴムＩｃＢＲ
−Ｍ９０１も熱可塑性８４ＷＢとの組合わせにより、す
ぐれた性質を有している。

その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、およびそ
の環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポ
キシ変性ゴム、内部可塑化ｆｆｉ！［１線状ポリエステ
ル（東洋紡バイロン＃３００）等のエラストマーも下記
に述べる放射線感応変性処理を施すことにより有効に利
用できる。

本発明で用いられる（Ｃ）放射線硬化性不飽和二重結合
を有する化合物としては。

スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレー）、１．６−ヘキサングリコールジ
アクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、多
官能オリゴエステルアクリレート（アロニツクスＭ−７
１００．東亜合成）、ウレタンエラストマーにツボラン
４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれらのものに
０００Ｈ等の官崗基が導入されたもの等が挙げられる。

高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
ｔＪ橘を起こすものが知られている。

分子間に架橋を起すものとしては、ピリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル斂エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。

このような架橋型ポリマーであれば、上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、前記変性
体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用バック
コート樹脂として使用可能である。

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂をバックコート用として用いること
ができる。

本発明の放射線硬化性樹脂組成物の、特に好ましい組合
わせとしては。

（Ａ）の化合物が一部ケン化した塩化ビニール−酢酸ビ
こ−ル共重合体、カルボレ酸が導入された塩化ビニール
−酢酸ビニール共重合体、フェノキシ樹脂にポリイソシ
アネート化合物を反応させて得られたインシアネート基
を有する化合物に、イソシアネート基との反応性を有す
る官能基をもつアクリル化合物、あるいはメタクリル化
合物を反応させてなる化合物であり、 （Ｂ）の化合物がポリオールにインシアネート化合物を
反応させて得られた。イソシアネート化合物またはポリ
オール（ポリウレタンエテストマー）に１反応性を有す
る官能基をもつアクリル化合物あるいはメタクリル化合
物を反応させてなる化合物であり。

（Ｃ）が多官能（メタ）クリレートモノマー、オリゴエ
ステルアクリレート、またはＣＢ）の低分子量化合物と
いうものである。

本発明のバックコート層に用いる有機バインダー、トッ
プコート層あるいはバックコート層に含まれる潤滑剤、
酸化防止剤が放射線硬化型のものが好ましい。

この場合、その架橋に使用する活性エネルギー線として
は、放射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０をｌａ
　ｓＬトＬ、、　ｆ＝　ｙ　−ｉｌｌ、Ｓ　ｒ９０を線
源としたβ−線、Ｘ線発生機を線源としたＸ！１．ある
いは紫外線が使用される。

特に照射線源としては、吸収線量の制御、Ｉｌ造工程ラ
インへの導入、電離放射線の遮断等の見地から、放射線
加熱器により放射線を使用する方法が有利である。

トップコート層を硬化する際に使用する放射線特性とし
ては、透過力の面から加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好
ましくは１５０〜３００ＫＶの放射線加速器を用い、吸
収線量を０．５〜２０メガラツドになるように照射する
のが好都合である。

本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティン
グ加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮断等
に極めて有利である。

また、従来より放射線加速材として広く活用されている
ことろのファンダグ５フ型加ａ器を使用してもよい。

また、放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の
不活性ガス気流中で放射線をバックコート層、トップコ
ート７！！）Ｋ照射することがｆｆｉ要であり、空気中
で放射線を照射することは、バインダー成分の架橋に際
し、放射線照射による生じた０３等の影響でポリマー中
に生じたラジカルが有利に架橋反応に働くことを阻害す
るので、極めて不利である。

したがって、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気
は、＃ｔに酸素濃度が最大で５％であるＮ２　、Ｈｅ、
Ｃｏ２等の不活性ガス雰囲気に保つことがｆｆｉ要とな
る。

本発明のトップコート、バックコートには。

光重合増感剤を加えることにより、紫外線硬化を行うこ
ともできる。

光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例えば
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロデオ隼ジベンゾイ
ン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン
、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、
アントラキノン、フエナントラキノン等の槃ノ類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。

光重合増感剤は、樹脂固形分に対し、０．１〜１０重景
％の範囲が望ましい。

他方、用いる磁気ヘッドは、種々のものが使用できる。

この場合、磁気ヘッドとしては、少なくもギャップ部端
面を金属磁性体で構成したものであることが好適である
。

この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。

第１図には１例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半休２１．２２のギャップ部端面にｌ〜５鉢層程度の
厚さの金属強磁性体３１゜３２をスパッタリング等によ
り被着し、ガラス質等のギャップ４を介してコア半休２
１．２２をつきあわせて磁気へフド１を構成した例が示
される。

これによりきわめて良好な電磁変換特性がえられ、しか
も走行が良好となり、ヘー、ド付着やヘッド目づまりも
良好となる。

そして、その形状、構造等は公知のものであってもよい
。

用いる金属強磁性体としては１種々のものが可能であり
、非晶質磁性金属、センダスト。

ハードパーマロイ、パーマロイ等の薄膜、薄板はいずれ
も使用可能である。

ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを主成分と
する非晶ａｍ性合金である。

このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９０ａ
ｔ％で、ガラス化元素として、Ｚｒ。

Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｐｈ土類元Ｊ、Ｓｌ、Ｂ。

Ｐ、Ｃ，Ａ１等、特にＺｒおよび／またはＮｂを５〜２
０ａｔ％含有するものが好適である。

あるいは、Ｃｏ６５〜８５ａｔ％で、ガラス化元素とし
てＳＩおよび／またはＢを１５〜３５ａｔ％含有するも
のも好適である。　この場合。

さらに１Ｏａｔ％以下のＦｅ、２５ａｔ％以下のＮｉ、
ｉＱ計２０ａｔ％以下のＣｒ、Ｔｉ、Ｒｕ。

Ｗ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｍ　ｎ等の１種以上
が含有されていてもよい。

これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高ａ急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。

ギャップ長ａは、通常０．１−０．５終■。

特に０．１〜０．４ｐＬｍ、またトラック幅は。

通常、ＬＯ〜５０ル麹、特に１０〜２０ト磨とする。

このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨ５方式、ベータ方式
、８麿−ビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シ
ステムに従えばよい。

■　発明の１１１体的作川効果 本発明によれば、特に低温での走行摩擦がきわめて小さ
くなり、安定化する。

また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向上する。

そして、走行安定性も高く、特に低温で高い安定性を示
す。

さらに、スベーシノグロスにもとづく再生出力もきわめ
て小さい。

また、ノイズもきわめて少ない。

モして１特に、自己クリーニング作用により、ヘッドの
目づまりやヘットの付着もきわめて少ない。

このような効果は、全屈強磁性体性ヘッドを用いるとき
、より高いものとなる。

また、このような効果は、ＦＩ低記録波長１μｍ未満の
高密度記録において、より一層高いものとなる。

■　発明の具体的実施例 以下に本発明の具体的実施例を示す。

実施例１ 実質的に微粒子を含まない厚さｌｌｐＬｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に。

０．０２％のトリチロールプロパン／ポリスチレン（８
：　２）溶液を塗布し、屹燥し、吸収線ｉ３Ｍｒａｄに
てＮ２ガス中で電子線照射を行った。

塗膜は約３０Ａｕであり、塗布液のヌレ性の悪さに起因
して、アイランド状に形成された。

＃！血条件をかえ、各種塗膜の凹凸状態の異なるサンプ
ルを用意した。

これに１表項に示される平均粒子径を有するコロイダル
シリカ溶液（０，００３％のエポキシアクリレート／ポ
リカプロラクトン（１：１）を含むＭＥＫ／）ルエン（
１：　１）溶液〕を塗布し、乾燥後、吸収線量３　Ｍｒ
ａｄにて、　Ｎ２ガス中電子！ａ照射を行い１表項に示
されるように微粒子を疎密に配設した。

なお、微粒子は、前記塗膜の四部に密に配設された。

次いで、以下の磁性層、トップコート層。

バックコート層を形成した。

（１）　Ｉｊｉ性層の形成 １亘止亘五」 上記基板を円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移動させ
、０２＋Ａｒ（容積比１：ｌ）を毎分８００ｃｃの早さ
で流し、真空度を１　、　ＯＸ　１０”Ｔｏｒｒとした
チ＋　７　Ａ−内で、Ｃｏ８０．Ｎｉ２Ｏよりなる合金
を溶融し。

入射角９０’　〜３０”の部分のみ斜め蒸着し、　ＩＩ
Ｑ厚０．１５μｍのＧｏ−Ｎｌ　−０１ｉ！［６を形成
した。

また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみに覆わ
れていた。

Ｈｃ　＝　ｌ　Ｏ０００ｓ。

膜中の平均酸素量は、ＣｏとＮｉに対する原子比 で４０％であった。

注ＪＵｉｌｕ１ヱ １記基板を円筒状冷却キャンの周面の沿わせて移動させ
、真空度を５．０Ｘ１０″’　Ｔｏｒｒとしたチャンバ
ー内で１強磁性薄膜１の場合と同様に１５着した。　薄
厚は、０．１５１Ｌｍで実質的にＣｏ−Ｎｉよりなる。

このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。

Ｈｃ　＝　９００　０ｅ、　　ｆｉｌ中の平均酸素量は
、ＣｏとＮｉに対する原子比で４５％であった。

洟ＪＬｔ！Ｊ目１３ 酸素による酸化工程を省略した以外は、弥劃υ口じと同
様に、上記基板を円筒状冷却キャンの周面に沿わせて移
動させ、真空度を５　、　ＯＸ　Ｌ　Ｏ’１Ｔｏｒｒと
したチャンバー内で。

１亘止亘五」の場合と同様に蒸着した。　膜厚は、Ｏ，
１５４ｍで実質的にＧｏ−Ｎｉよりなるものであった。

Ｈｃ　＝　９５０　０ｇ。

（２）バックコート層の形成 八ツ　コート−１（熱硬化型）　　　　重量部酸化亜鉛
　　　　　　８０ｐｍ　　　　２００硬化剤　コロネー
トＬ　　　　　　　　　２０潤滑剤　ステアリン酸変性
シリコーン　　４ステアリン酸ブチル　　　　　　２ 硝化線　　　　　　　　　　　　　　　４０塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール井欧合体（積木化学製
、エスレックＡ）３０ポリウレタンエラストフー３０ （Ｂ、Ｆグツドリッチ社製、エラセン５７０混合溶剤（
ＭＩＢＫ／）ルエン）２５０重量部の混合物を良く混合
溶解させる。

この塗料を１５ｐｍのポリエステルフィルム上に塗布し
、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後１
表面平滑化処理後。

８０℃に保持したオーブン中ロールを４８時間保持し、
インシアネーＩ・による架４＾反応を（Ｊｉ！進させた
。

バックコート層Ｚ　　　　　　　　　　ｆｉ量郡部カー
ボンブラック３０μｍ　　　　　５０（Ａ）アクリル変
性塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体 分子量４５．０００　　　　　５０ （Ｂ）アクリル変性ポリウレタンエラスト分子＠　５，
０００　　　　　５０ ステアリン酸　、　　　　　　　　　　　　５混合溶剤
（ＭＩＢＫ／ｌルエン−１／ｌ）上記混合物をボールミ
ル中５時間分散させ、磁性面が形成されているポリエス
テルフィルムの裏面に乾燥厚１μｍになるように塗布し
、エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加
速電圧１５０ＫｅＶ、電極７ｒｔ、流１０ｍＡ、吸収線
贋５　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で電子線をバックコー
ト層に照射した。

パークコート　３　　　　　　　　　屯脣部硫化亜鉛　
　５０μｍ　　　　　　　　３０カーボンブラツク　２
５終ｍ　　　　　２５アクリル変性塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体（分子量３万）アクリ
ル変性ポリウレタンエラストマー分子量２０，０００　
　　　　４０ 多官能アクリレート 分子量２０，０００　　　　　２０ オレイン酸　　　　　　　　　　　　　　４ミリスチン
酸変性シリコーン　　　　　２混合溶剤（ＭＩＢＫ／）
ルｚン）　　２５０これらをバックコート層２と同様に
処理、製造した。

ノヘ　７　　　　コ　−　ト　　　　４　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　爪　畢　６８
ＣａＣｏ３８０ｐＬ　ｒａ　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　２５アタリル変性塩ビ一酢ビービニルアル
コール共重合体　　分子量３０，０００　３０アクリル
変性ポリウレタン工ラストブー分子畢５０，０００　３
０ アクリル変性フェノキシ樹脂 分子ｆｆ１３５．０００　２０ 多官能アクリレート 分子量５００　　　　２０ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　４フツ素（電
解置換法）０．５ 溶剤（ＭＥＫ／）ルエン−１７１）３００これらを上記
と同様に処理、製造した。

（３）トップコート層の形成 ＯトップフートＡ［１ｒｌｔ。

ト　−　　　　コ　−　ト　、　　　　　１　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１寛　１１１　部２．６
ジ第三ブチルＰ−クレゾール ０．４ ペンタヱリスリトールテトラクリレート分子畢３５２　
　　０　、６ ミリスチン酸変性シリコーン　　　０．５オレイン酸変
性シリコーン　　　　０．５ミリスチン酸ブチル　　　
　　　　０．ＩＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　　　
１００ト・ソ　　プ　コ　−　ト　Ｍｌ　　成　２　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７ｒ、　　Ｉ
、シ　ｒｆｆｉモノグリコールサリチレートアクリレー
トペンタエリスリトールテトラアクリレート０．２ Ｎ−ビニルピロリドン　分子％　Ｉ　Ｌ　１０．３ ミリスチン酸　　　　　　　　　　　　０．３メタクリ
ル酸変性ミリスチン酸　　１．０ＭＥＫ／）ルエン（１
／Ｉ）　　　　　１００ト・プコー　　　３　　　　　
　　　　重量部ジメチルアミノエチルメタクリレート ０．５ ステアリンｍ　　　　　　　　　　　　ｏ、ｒＭＥＫ／
）ルエン（１／ｌ）　　　　　ｌ　００トツプコート、
　　４　　　　　　　　　屯革部メタアクリロイルエチ
ルホスフェ゛−ト０．７ ステアリン酸　　　　　　　　　　０．１ステアリン酸
変性シリコーン　　　０．１トルエン　　　　　　　　
　　　　１００ト　・ン　プ　コ　−　ト　Ｍ　　＋　
５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１４）　
８Ｒステアリルアルコールメタクリレートホスフエート
ｏ、２ スビラック変性体 分子量１０．０００ アクリル変性ポリウレタン　　　）０．１エラストマー
　　分子！１．３００ 多官能アクリレート分子３３００ アクリル酸変性ステアリン酸０．２ ＭＥＫ／）ルｚｙ（１／ｌ）　　　　　ｔｏ。

Ｏト・プコート　　　　　　　び トップコートＦりｌ　、　２はトップコート組成１．２
をそのまｔｐｓｔｓし、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極型
ｆ１１．６ｍＡ、３Ｍｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照射を行
なった。ｎａｎがそれぞれ６０人であった。

トップコート層３．４はトップコード層１゜２と同様の
条件で設けた。　膜厚３．０．４０人であった。

トップコートＬ？　５については、トップコート組ｌ＆
、５を塗布シ、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電ｊ＆１０
ｍＡ、５にｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照射を行′なった。

　　１！厚が２０人であった。　更にその上にフッ套（
電解置換法）０．２を４　Ｘ　ｌ　Ｏ−３Ｔｏｒｒの条
件の雰囲気中で吸着させた。Ｓ厚は３０人であった。

これら強磁性体薄膜およびトップコー）１１９ｉを用い
て表項に示される媒体を組成した。

特性を下記に示す。

なお、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５ｇｍ、トラック長２０μｍのも
のである。　この場合、コア半休２１．２２はフェライ
ト製、ギャップ端面は、スパッタリングにより形成した
３ｇｍ厚のＣｏ０．８．Ｎｉ０．１．Ｚｒ０．１　（原
子比）であり、ギャップ材はガラスとした。

また、比較用として、フェライト製ｒｅ気ヘッドを用い
た。

なお、上記特性の測定方法について、以下に記す。

ｌ、突起観察 ＳＥＭ（走査型電子１１１微鏡）およびＴＥＭ（透過型
電子ｊｉ微ｍ）を使用、　加速電圧０゜５に〜２０Ｋｅ
Ｖ（倍＝ｉｇ１万〜１０万倍）で１０Ｏ終ゴの視野で１
０点を数え、１００ｐＬは当りになおす。

？、磁性面［摩擦測定 磁気テープがシリンダー側に来るように巻きつけ、一方
の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリンダーを９０”回転
したときの張力変化を読みとって摩擦測定をする。

３、ヘッド付着、目づまり ＶＨ５のＶＴＲデツキを用い、０℃にて２０回走行時の
目付性を計測した。　計測は出力チャートから求めた。

４、トップコート削れ ０℃にて２０回走行後のトップコート削れを４０倍の光
学Ｒ微鏡にて観察し、下記の基準で評価した。

■・・・損傷なし Ｏ・・・走行面にや一キズ有り へ・・・走行面に許容出来るキズ ×・・・全体にキズないし剥離 ５　画像ゆらぎ 表２に示される結果から、未発１ηの効果があきらかで
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。 ｌ・・・・・・磁気ヘッド。 ２１．２２・・・・・・コア半休、 ３１．３２・・・・・・全屈強磁性体、４・・・・・・
ギャップ 特許出願人　　ティーディーケイ株式会社−ｒ−わ夕４
山正ｆ＃）（自発〕 昭和５９年　９月　４日 特許庁長官　　　志　賀　　学　殿 １　、　Ｉｓ件の表示 昭和５９年９月３日付提出の特許願 ２、発明の名称 磁気記録奴体 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　　　特許出願人住　　所　　　
　東京都中央区日木橘−丁目門番１号名　　称　　　　
（３０６）ティーディーケイ株式会社代表者　大歳　寛 ４、代理人　　　Ｔ１０１ 住　　所　　　　東京都千代田区岩本町３丁目２番２号
千代田岩本ビル４階 ｎ８６４−４４９８　　Ｆａｘ、８６４−６２８０６、
補正の内容 明細書Ｐｉｓ　６５頁第８行目と第９行目の１１１項に
、以下の文章を挿入する。 「　本発明のバックコート層は、無機顔料、有機バイン
ダーおよび潤滑剤を含有するものからなることが好まし
い。 無ａ顔料としては、　１）導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、また、２）無機充填剤とし”ｃｓｔ
ｏ２．Ｔ１０２。 ＡｆＬ２０ｓ　、Ｃｒ２０３　、ＳｉＣ，ＣａＯ１Ｃａ
Ｃｏ３，酸化亜鉛、ゲーサイト、 αＦｅ２Ｏ３，タルク、カオリン、 ＣａＳＯ４，窒化硼素、７ツ化黒墳、二硫化モリブデン
、ＺｎＳ等があり、中でも（ａｃＯ３やカオリ７．Ｚｎ
Ｏ，ゲーサイト、ＺｎＳやカーボンが使用される。 このような無機顔料の使用量はりに関してはバインダー
１００ｆｌ１部に対して２０〜２００１ｆｉ部、また２
）に関しては１０〜３００重量部が適当であり、無機顔
料があまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえってド
ロップアウトが多くなるという欠点がある。 ｆｆ１滑剤としては（分散剤をも含めて）、従来この種
バックコート層に用いられる種類のものはいずれも用い
ることができるが、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミルスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン
酸ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣｏ
ＯＨ，Ｒは炭素数１１以−ヒのアルキル基）、　前記の
脂肪酸のアルカリ全屈（Ｉ、ｉ、Ｎａ、に等）またはア
ルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）からなる金属石
鹸；　レシチン等が使用される。 この他に炭素数１２以上の高級アルコール、およびこれ
らの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング剤
、シランカップリング剤等も使用■ｒ能である。　これ
らの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に対し
て１〜２０重量部の範囲で添加される。 潤滑剤としては、上記の他にシリコンオイル、グラファ
イト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素数
１２〜１６（ｉｆの一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個
の一価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数
１７個以上の一塩基性脂肪酸とこの脂肪酸の炭素数と合
計して、炭素数が２１〜２３個よりなる一価のアルコー
ルとからなる脂肪酸エステル等が使用される。 これらの潤滑剤はバインダー１００４１１部に対して０
．２〜２０重量部の範囲で添加される。 また、その他の添加剤としては、この種のバックコート
に用いるものは何でも用いることができるが１例えば、
帯電防止剤としてサポニンなどの天然界面活性剤；　ア
ルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系
などのノニオン界面活性剤；　高級アルキルアミンヱ０
．第４級アン七ニウＪ、ＩＩＩ　５４　、　　ピリジノ
その他の複素環類、ホスホニルまたはスルホニル類など
のカチオン界面活性剤；　カルボン酸、スルホン酸、リ
ン酸、硫酸エステル基、リン酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；　アミノ耐用、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル
類等の両性活性剤などが使用される。」

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性基板の一面上に、平均粒径５０〜１００
   ０Åの微粒子を配設し、この上に強磁性薄膜層とトップ
   コート層が形成されている磁気記録媒体において、磁気
   ヘッドの摺動方向にて０．４〜４μｍの周期となるよう
   に前記微粒子を疎密に配設したことを特徴とする磁気記
   録媒体。
2. （２）微粒子の平均配設密度が１０＾５個／ｍｍ＾２以
   上である特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。
3. （３）配設された微粒子の疎な部分の密度が、密な部分
   の密度の０．０１〜０．６である特許請求の範囲第１項
   または第２項に記載の磁気記録媒体。
4. （４）強磁性薄膜層がＣｏを主成分とし、さらにＯを含
   む特許請求の範囲第１項ないし第３項に記載の磁気記録
   媒体。
5. （５）トップコート層が酸化防止剤を含有する特許請求
   の範囲第１項ないし第４項に記載の磁気記録媒体。
6. （６）トップコート層が潤滑剤を含有する特許請求の範
   囲第１項ないし第５項に記載の磁気記録媒体。
7. （７）酸化防止剤および／または潤滑剤が放射線硬化型
   のものである特許請求の範囲第１項ないし第６項に記載
   の磁気記録媒体。
8. （８）トップコート層が、さらに、放射線硬化型化合物
   を含むものである特許請求の範囲第１項ないし第７項に
   記載の磁気記録媒体。
9. （９）トップコート層の厚さが１０〜１００Åである特
   許請求の範囲第１項ないし第８項に記載の磁気記録媒体
   。
10. （１０）可とう性基板の一面上に、平均粒径５０〜１０
    ００Åの微粒子を配設し、この上に強磁性薄膜層とトッ
    プコート層とが形成されており、他方の面にバックコー
    ト層が形成されている磁気記録媒体において、磁気ヘッ
    ドの摺動方向にて０．４〜４μｍの周期となるように前
    記微粒子を疎密に配設したことを特徴とする磁気記録媒
    体。
11. （１１）バックコート層が、無機顔料と、有機バインダ
    ーと、潤滑剤とを含有する特許請求の範囲第１０項に記
    載の磁気記録媒体。
12. （１２）有機バインダーおよび／または純滑剤が放射線
    硬化型のものである特許請求の範囲第１１項に記載の磁
    気記録媒体。