JPS6156498B2 - - Google Patents

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JPS6156498B2
JPS6156498B2 JP53156949A JP15694978A JPS6156498B2 JP S6156498 B2 JPS6156498 B2 JP S6156498B2 JP 53156949 A JP53156949 A JP 53156949A JP 15694978 A JP15694978 A JP 15694978A JP S6156498 B2 JPS6156498 B2 JP S6156498B2
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JP
Japan
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corrosion
support sheet
transfer material
photosensitive layer
sheet
Prior art date
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JP53156949A
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English (en)
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JPS5492724A (en
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Furanke Ueruneru
Zaiberu Marukusu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS5492724A publication Critical patent/JPS5492724A/ja
Publication of JPS6156498B2 publication Critical patent/JPS6156498B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/161Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一時的支持シート(temporary film
support)とその上の感光性熱可塑性耐食膜から
成る感光層転写材料に関し、該材料は永久支持体
(permanent layer support)に乾式転写するた
めに使用する。
このタイプの材料は例えば米国特許第3469982
号明細書に記載されている。該材料は特に食刻又
は電鋳によりプリント配線を製造することのでき
る材料の製造、グラビア印刷版、化学的腐食等に
好適であり、かつこれらの目的のために使用する
場合常用の溶液から耐食膜を適用するのに対して
著しい利点を有する。層の転写には感光層の表面
(これは裸であるか又は上張りシートが存在する
場合にはそれを外して裸にして)を熱及び圧力に
より一時的支持体上に積層し、かつ永久支持体、
一般には透明プラスチツクシートを露光後に感光
層から取り去る。
一時的支持シートから離れている、耐食膜の表
面をおおう前記の上張りシートは層転写材料を貯
蔵又は輸送のためにロールに巻き取る場合には常
に必要である。実地では常に巻取りは行なわれて
いるものなので、かかる上張りシートを有しない
工業製品は従来知られていない。支持シートの巻
き取りの間に保護されていない耐食膜表面が該シ
ートの裏面に直接接触した場合には耐食膜を支持
シートの裏面から制御され、かつ安全な仕方で剥
離するのはもはや不可能である。
しかし耐食膜に対する粘着性が支持シートの粘
着性よりも小さい保護又は上張りシートの使用も
また欠点を有する。
特に好適な上張りシートとしてポリオレフイ
ン、特にポリエチレンが挙げられ、かつ使用され
るのが公知の全ての層転写材料及び乾燥耐食膜ラ
ミネートの共通の特徴である。前記の材料から作
られるシートは寸法安定性、無斑点性及び均一性
が支持シートとして常用のポリエステルシートほ
ど良好ではなく、かつポリエステルシートほど折
り形成を僅かにできずかつ容易に取り扱うことが
できない不利を持つ。所望の可撓性、透明度、光
学的及び機械的均一性、機械内での処理の容易
さ、等を有し、かつ耐食膜が特に離層の間に間違
つたシートに付着しないようにするために必要で
あり、かつ他方耐食膜が支持体に余りにも強く付
着して、積層された耐食膜が一時的支持体を剥ぎ
取る際に交代すべき永久支持体から引きはがされ
るのを回避するために異なる粘着特性を有する、
相互に適合したシートの組合せを見い出すことは
困難である。更に支持シートは、尚一時的支持シ
ートを有している、被覆した永久支持体、例えば
回路板を切断する際に一時的支持シートの縁部が
めくれ上るのを防止し、そうして耐食膜の損傷を
回避するために十分に可撓性、かつ同時に十分に
硬質でなければならない。もう一つの、特にポリ
エチレンシートの欠点は不規則性であり、これは
貯蔵の間に耐食膜中に押印され、かつ美的観点か
らも可能な用途の点からも重大な欠点となる場合
がある。
本発明の目的は感光層が処理直前まで機械的損
傷、例えば引つかき傷、及びダスト及び化学的作
用から保護され、かつ市販のポリエチレン・上張
りシートの使用に伴なう不利、例えば該シートの
不規則性(斑点)の押印及び引続く感光層内での
穴形成を持たない感光層転写材料を提供すること
である。
西ドイツ国特許出願第P2658422号には前記の
課題を、2つの層が一時的支持シートに対して異
なる粘着性を有する二重耐食膜層を用いることに
より解決することが提案されている。このように
して同一材料、例えばポリエステルシートを支持
シート及び上張りシートとして選択することがで
きる。
本発明は永久支持シート及び該支持体と分離可
能に結合せる感光性耐食膜から成る感光層転写材
料から出発する。本発明による感光層転写材料は
支持シートの下側が上側よりも耐食膜に対して小
さな粘着性を有することを特徴とする。
その際支持シートの“上側”とは、転写材料を
ロールから巻き出した後に耐食膜に付着したまま
である表面と理解すべきである。
感光層内に上張りシート中の不規則性による押
痕及び折れが形成されないという技術的利点に加
えて、上張りシートの省略は費用の節減及び重量
の軽減という利点を有する。
巻き上げられた材料を市販の積層装置で処理す
る際に耐食膜はこれと対面する支持シートのより
小さな強さで付着している下側から分離する。そ
の後の工程は常法で実施される。二層シートから
成る材料の場合に上張りシートによつて惹起され
る問題は本発明による構成の材料の場合には生じ
ないことは明らかである。
ロールから巻き出す際の低い粘着性を有する支
持シートの下側からの耐食膜の完全なかつ確実な
分離を達成するためには、シートの2つの表面の
耐食膜に対する粘着性を少なくとも8g/100
mm、有利に8〜50g/100mm異なるべきである。
他方より強く付着すべきシート表面の粘着性は、
(例えば銅に積層され、次いで露光される)耐食
膜が一時的支持体を剥離する際に銅表面から分離
するのを防止するために70g/100mmを越えては
ならず、かつ有利には15〜65g/100mmである。
シートの2つの表面の粘着性の前記の差異は公
知方法で支持シート、例えばポリエステルシート
の上側の粘着性をハロゲン化アルカンカルボン
酸、例えばトリクロル酢酸又はハロゲン化フエノ
ールでの処理により、又は好適なポリマー、特に
アクリレートポリマーで下塗りすることにより、
又はコロナ処理により増加することにより達成さ
れる。かかる処理は、例えば西ドイツ国特許公告
第1166616号公報、及び西ドイツ国特許公開第
2403054号、同第2438471号、同第2335465号、同
第2034407号、同第2528807号、同第2538550号、
同第1797348号、同第1694777号及び同第1572147
号公報に記載されている。
あるいは好適な接着層を例えば芳香族ジカルボ
ン酸と脂肪族ジオールとをベースとし、平均分子
量1800〜20000の高分子コポリマー(公知の市販
製品である)から製造してもよい。
増加した粘着性は回路板を縁削りする際に場合
により生じる耐食膜粒子がシートに粘着して静電
荷を帯びた漂遊粒子のように処理工程を防害しな
い。
あるいは粘着力の好適な差の付与は、シートの
片面を滑剤又は湿潤剤、特にアニオン活性又は非
イオン湿潤剤で処理することにより支持シートの
下側の粘着性を低下せしめることにより達成する
ことができる。高分子の飽和又は不飽和(C8
C20)−脂肪酸とアミノ又はヒドロキシアルカンス
ルホン酸又はそのアルカリ金属塩とのアミド又は
エステル、例えば C18H35COOCH2CH2SO3Na又は C18H35CON(CH3)CH2CH2SO3Naをアニオン活
性湿潤剤として使用してもよい。この処理は同時
に帯電防止効果を生み、かつ処理表面の湿潤性を
改良する。
使用することのできる他の湿潤剤は線状アルキ
ルアリールポリグリコールエーテル、例えばノニ
ルフエニルヘキサエチレングリコールエーテル、
又はモノヒマシ油酸トリエタノールアミンエステ
ルであり、分散剤、例えばエチレンオキシド/脂
肪酸付加生成物約10%、更にジイソブテニルサク
シン酸ポリグリセリド又はナトリウムジエトキシ
エチルスルホサクシネートを添加してもよい。
一般にこの分野で使用される公知の支持シー
ト、例えば米国特許第3469982号明細書に記載さ
れているもの、ポリエステルシートを使用するこ
とができ、二軸延伸熱硬化性ポリエチレンテレフ
タレートフイルムが特に優れている。
耐食膜はポジテイブか又はネガテイブに作用す
る層であつてよい。好適なネガテイブ作用性膜は
前記の米国特許第3469982号明細書に記載されて
おり、少なくとも2個の未端ビニル又はビニリデ
ン基を有する光重合可能な化合物、特にアクリル
酸−又はメタクリル酸エステル、更にポリマーの
粘着剤、有利に水性アルカリに可溶の粘着剤及び
光重合開始剤から成る光重合可能な膜が優れてい
る。好適なポジテイブ作用性耐食膜は例えば米国
特許第3782939号明細書及び西ドイツ国特許公開
公報第2403054号に記載されている。
次に実施例につき本発明を詳説するが、例中で
重量部と容量部の関係はgとmlの関係に相応す
る。他に記載のない限り、%−値及び数量関係は
重量単位に関する。
例 1 厚さ23μmのポリエチレンテレフタレートシー
トの片面を10%−水性トリクロル酢酸溶液で処理
し、次いで135℃で乾燥した。このようにして処
理された表面の未露光の耐食膜(下記に定義)に
対する粘着性は62g/100mmであり、それに対し
て未処理の表面は約20g/100mmの粘着性を有し
ていた。次いで処理された表面を次の組成の被膜
で被覆した、得られる乾燥層は厚さ25μmを有す
る: 2,2,4−トリチルヘキサメ チレン−ジイソシアネート1モル とヒドロキシエチルメタクリレー ト2モルの反応生成物 173重量部 n−ヘキシル−メタクリレート・ メタクリル酸及びスチレンのター ポリマー 200 〃 9−フエニル−アクリジン 6.1 〃 ミヒラーケトン 0.4 重量部 トリエチレングリコールジメタ クリレート 4.6 〃 2,4−ジニトロ−6−クロル− ベンゼンジアゾニウム塩と2−メ トキシ−5−アセチルアミノ−N− シアノエチル−N−ヒドロキシエ チル−アニリンとのカツプリング により得られた青色アゾ染料 1.0 〃 このようにして被覆されたシートを135℃で乾
燥し、次いでロールに巻いた。
該材料は市販の積層装置で困難なくロールから
巻き出すことができ、光重合体層はトリクロル酢
酸で前処理されたシートの表面に確実に付着して
いる。
例 2 式:C18H35COOCH2CH2SO3Naに相当するアニ
オン活性湿潤剤の4%−水溶液で片面を粘着性を
低下させるために処理された、厚さ23μmのポリ
エチレンテレフタレートシートの未処理の表面に
例1に記載した組成の光重合体層を施し、135℃
で乾燥し、次いで巻き取つた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一時的支時シート及びこれと分離可能に結合
    している感光性熱可塑性耐食膜から成る感光層転
    写材料において、支持シートの下側が耐食膜に対
    して上側よりも小さな粘着性を有することを特徴
    とする、感光層転写材料。 2 支持シートの上側の耐食膜に対する粘着性が
    70g/100mmを越えず、かつ支持シートの上側と
    下側の粘着性の差が少なくとも8g/100mmであ
    る、特許請求の範囲第1項記載の感光層転写材
    料。 3 支持シートの上側の耐食膜に対する粘着性を
    粘着促進剤での処理により増加せしめた、特許請
    求の範囲第1又は2項記載の感光層転写材料。 4 支持シートの下側の粘着性を湿潤剤の溶液で
    の処理により低下せしめた、特許請求の範囲第1
    又は2項記載の感光層転写材料。 5 一時的支持シート及びこれと分離可能に結合
    している感光性熱可塑性耐食膜から成る感光層転
    写材料を加圧下に永久支持体上に積層し、かつ一
    時的支持体を耐食膜から剥離することにより感光
    性耐食膜を一時的支持体から永久支持体に転写す
    るに当り、その下側の耐食膜に対する粘着性がそ
    の上側の粘着性よりも小さな一時的支持体を使用
    することを特徴とする、感光性耐食膜を転写する
    方法。
JP15694978A 1977-12-29 1978-12-21 Photosensitive layer transfering material Granted JPS5492724A (en)

Applications Claiming Priority (1)

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DE19772758575 DE2758575A1 (de) 1977-12-29 1977-12-29 Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial

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JPS5492724A JPS5492724A (en) 1979-07-23
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ID=6027571

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JP15694978A Granted JPS5492724A (en) 1977-12-29 1978-12-21 Photosensitive layer transfering material

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GB (1) GB2012976B (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE17211T1 (de) * 1981-07-20 1986-01-15 Interlock Sicherheitssyst Verfahren zur herstellung eines kartenfoermigen informationstraegers.
JPS58196971A (ja) * 1982-05-13 1983-11-16 Asahi Chem Ind Co Ltd サンドブラスト用マスクの製造方法
US4762766A (en) * 1986-01-14 1988-08-09 Kroy Inc. Dry transfer film with photosensitized color carrying layer and photosensitized pressure sensitive adhesive layer wherein photosensitizer is o-quinone diazide
JPH0614414B2 (ja) * 1986-06-17 1994-02-23 共同印刷株式会社 転写型光記録媒体
US5156941A (en) * 1986-06-17 1992-10-20 Kyodo Printing Co., Ltd. Method of producing an optical or magneto-optical recording card and transfer type optical or magneto-optical recording medium
US4976817A (en) * 1988-12-09 1990-12-11 Morton International, Inc. Wet lamination process and apparatus
CA2037804A1 (en) * 1990-03-13 1991-09-14 Richard P. Pankratz Polyolefin backside coating for photosensitive reproduction element
JPH05142777A (ja) * 1991-11-21 1993-06-11 Hitachi Chem Co Ltd 感光性積層体及びその製造方法
US5989689A (en) * 1991-12-11 1999-11-23 The Chromaline Corporation Sandblast mask laminate with blastable pressure sensitive adhesive
US5415971A (en) * 1993-04-02 1995-05-16 The Chromaline Corporation Photoresist laminate including photoimageable adhesive layer
US20040062896A1 (en) * 2002-09-26 2004-04-01 Picone Terrence F. Fractionally-releasable bonding layer for use in photo-sensitive laminate films
EP2748677A2 (en) 2011-08-24 2014-07-02 Digiflex Ltd. Process for dry-coating of flexographic surfaces
TWI595273B (zh) * 2011-11-28 2017-08-11 3M新設資產公司 製造提供高解析度影像之偏極化分光鏡的方法及使用此等分光鏡之系統

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3042522A (en) * 1958-06-13 1962-07-03 Gen Aniline & Film Corp Photographic film and a composition for improving the slippage characteristics thereof
US3359107A (en) * 1964-05-22 1967-12-19 Eastman Kodak Co Photographic element
DE1694534C3 (de) * 1967-04-25 1980-02-07 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Modifizierung der Oberfläche von Polyesterformkörpern
US3469982A (en) * 1968-09-11 1969-09-30 Jack Richard Celeste Process for making photoresists
US3690882A (en) * 1970-06-15 1972-09-12 Eastman Kodak Co Processes and elements for preparation of photomechanical images with cinnamylidene malonate copolyester
DE2123702B2 (de) * 1971-05-13 1979-11-08 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
US3782939A (en) * 1972-02-09 1974-01-01 Mining And Mfg Co Dry positive-acting photoresist
US4001023A (en) * 1972-05-26 1977-01-04 Agfa-Gevaert N.V. Adhesion of hydrophilic layers on polyester film
FR2258651A2 (en) * 1972-07-27 1975-08-18 Hoechst Ag Pretreating polyester support for photosensitive transfer layer - with compsn contg halogenated fatty acid, crosslinking agent, and water soluble polymer
US3961961A (en) * 1972-11-20 1976-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Positive or negative developable photosensitive composition
US4060656A (en) * 1973-04-02 1977-11-29 Teijin Limited Support for photosensitive resin
US3915709A (en) * 1973-04-13 1975-10-28 Gaf Corp Backwetting coating for diazo microfilm
GB1533555A (en) * 1975-11-07 1978-11-29 Agfa Gevaert Dimensionally stable polyester film supports
JPS52150104A (en) * 1976-06-07 1977-12-13 Fuji Photo Film Co Ltd Photoosensitive lithographic press plate material
US4157918A (en) * 1977-09-26 1979-06-12 American Hoechst Corporation Light sensitive film composition

Also Published As

Publication number Publication date
DE2758575A1 (de) 1979-07-05
GB2012976B (en) 1982-04-15
FR2413688A1 (fr) 1979-07-27
US4389480A (en) 1983-06-21
JPS5492724A (en) 1979-07-23
FR2413688B1 (ja) 1984-01-20
GB2012976A (en) 1979-08-01

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