JPS58136027A - 感光性エレメント - Google Patents

感光性エレメント

Info

Publication number
JPS58136027A
JPS58136027A JP1785182A JP1785182A JPS58136027A JP S58136027 A JPS58136027 A JP S58136027A JP 1785182 A JP1785182 A JP 1785182A JP 1785182 A JP1785182 A JP 1785182A JP S58136027 A JPS58136027 A JP S58136027A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
photosensitive
film
adhesive
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1785182A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Nobuyuki Hayashi
信行 林
Takashi Yamadera
山寺 隆
Kazutaka Masaoka
正岡 和隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP1785182A priority Critical patent/JPS58136027A/ja
Publication of JPS58136027A publication Critical patent/JPS58136027A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性エレメントに関する。
感光性樹脂組成物からなるフォトレジスト材料は印刷配
線板、印刷用刷版、銘板等の製造のためのレジストとし
て多用されている。これらのフォトレジスト材料は感光
性樹脂組成物溶液あるいは実質的に溶剤を含まない感光
性樹脂組成物フィルムとして供給されている。後者の場
合、フォトレジスト材料は無溶剤の感光性樹脂組成物層
(以下、単に感光層と言う)と透明なはく離性フィルム
とを積層した感光性エレメントである。かかる感光性エ
レメントを使用するにあたっては、捷ずレジスト画像を
形成すべき線 基体上に感光層を表面にはく離フィルムを積載△ した1ま積層し、ついでネガを通して露光し。
最後にはく離性フィルムを除去し7た後現像L7゜レジ
スト画像を形成する。溶液状レジスト材料に比較してか
かる感光性エレメントを用いたレジスト画像の形成法は
塗工、乾燥が年弱で単に積層するのみで基体上に感光層
を形成できる点で、多くの利点を有することが認められ
ている。
感光性エレメントの感光層は岸に積J−するのみで基体
上に十分に密着するような粘着性を有していることが必
要である。この感光層の粘着性は逆に露光時にネガ等の
マスク材料を直接感光層上に密着させることを不可能と
している。
露光後マスク材料をはがすことが困難であり。
マスク材料への感光層の転着、すなわちマスク材料の汚
染を生起するからである。現在の感光性エレメントの場
合には透明なはく離性フィルムがこの露光時のマスク材
料と感光層との遮断層となっている。はく離性フィルム
は積層時にも露光時と同様、積層用プレス表面あるいは
積層用ロール表面と感光層との粘着を遮断する役割を果
たしている。これらのことから現在の感光性エレメント
における透明なはく離性フィルムが重要な役割を果たし
ていることは十分理解されよう。しかし、一方、このは
く離性フィルムの存在は大きな不利益をも生起している
。その第一は解像性であり、第二は作業性の点である。
まず第一の解像性の点について述べると。
はく離性フィルムの存在は、良好な解像度を可能にする
だめの有効な手段である露光時のマスク材料と感光層と
の直接密着を採用不能としている。第二の作業性につい
て述べると、はく離性フィルムの除去が露光後、現像前
にしか行なえないため、はく離性フィルムの除去の自動
化が困難となっているのである。即ち、もしはく離性フ
イルノ、が露光時に不要で、従って露光前に除去してよ
いのであれば、連続したロール状の感光性エレメントの
個々の基体」二への積層時に、はく離性フィルムのみは
連続的に除去し。
感光層のみを個々の基体のザイズに合わせて切断するこ
とが可能になるが、現在の感光性エレメントの場合の露
光後のはく離性フィルムは個々の基体上から除去せざる
を得す、そのことがフィルムはく離の連続的自動化を困
難としているのである。
かかる現在の感光性エレメントの問題点をm決する試み
が特開昭46−2121号公報、特開昭54−2282
1号公報及び特開昭54−139720−Q公報に提案
されている。これらの提案は種々の態様を乱んでいるが
9本質的にはマスク材料を密着すべき感光層表面上に、
非粘着性で現像液で可溶な層(中間層)を設けた感光性
エレメントである。この中間層は露光時におけるマスク
材料と感光層との転着を防止することができ、そのため
、現在の感光性エレメントの場合のは゛、く離性フィル
ムは露光時にはもはや不要であり、はく離性フィルムは
積層前後に連続的に除去可能である。また、中間層は現
像液に可溶なため9個々の基体からのこの中間層の除去
は、自動化困難な機械的なはく離除去でなく、現像操作
中に同時に行なわれ、現像時間が感光層のみの場合より
延長されることはあるにしても、別途のはく離操作を要
しない点で前述した現在の感光性エレメントの第二の作
業性を改善し得る。−に述の提案には、かかる中間層を
薄くすることによって解像性の向上が可能なことが記載
されているが、この効果は現在の感光性エレメントにお
いてもはく離性フィルムを薄くすることによって得られ
る改善効果と同等であるに止まっている。
前述したようにかかる提案は作業性向上の点で有効なも
のであるが、マスク材料と感光層とを密着して露光でき
ないために解像性の向上には応えていない上に、更に新
たな問題を生起している。即ち、中間層は現像時に現像
液中に溶解除去されるものであるため、現像液の疲労が
激しいという問題である。現像液はそれ自体高価であり
、一方、現像液廃液の処理コストも大5− きい。従って、従来の感光性エレメントの倍以上(中間
層の厚みによって異なるが9通常の20μmの場合)の
現像液の疲労は容認できないことである。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものである。本発
明の目的は、解像性にすぐれた1/リ一フ画像を作業性
よく形成し得る感光性エレメントを提供するにある。
本発明は、感光層とはく離性フィルム又はさらにはく離
性フィルム上の感光層」二に更に第二のはく離性フィル
ムを有し、該感光層が実質的に非粘着性を有する表面と
、実質的に粘着性を有する反対表面とを有してなる感光
性エレメントに関する。
本発明の感光性エレメントの例を第1図、vK2図及び
第3図に示す。第1〜第3図においては感光層は非粘着
性感光層1.粘着性感光142とからなることによって
、非粘着性を有する表面と粘着性を有する反対表面とを
有している。
本発明における感光層は第4図のように、感光=6− 層中に任意の中間感光層5を有することもできる。第1
図の感光性エレメントは感光層の両側にはく離性フィル
ム3,4を有しており、第2図及び第3図の感光性エレ
メントは感光層の片側にのみはく離性フィルム3又は4
を有している点では同じであるが、はく離性フィルムが
積層されているのが感光層の非粘着性面であるか粘着性
面であるかにおいて異なっている。本発明になる感光性
エレメントははく離性フィルムを少なくとも片側に有し
ていることが必要である。このはく離性フィルムは感光
性エレメントを長尺のロール状で提供する際の、感光層
相互の融着を防止する効果があり、また保存時のゴミ付
着を防止する効果をも与えるものである。
本発明の感光性エレメントを用いて基体上にレリーフ画
像を形成する方法は以下の通りである。まず、感光層の
粘着性表面にはく離性フィルムが存在する場合には、こ
れを除去したのちレリーフ画像を形成すべき基体表面に
感光層の粘着性表面が基体表面に接するように積層する
感光層の非粘着性表面にはく離性フィルムが存在する場
合には、積層の前あるいは後にこのフィルムを除去する
。積層は必要ならば加熱下に行なわれ9通常は加圧して
行なわれる。感光層の非粘着性表面上のはく離性フィル
ムを積層時には、そのまま−緒に積層することは、特に
加熱積層時の積層プレスあるいは積層ロールへの感光層
の転着を完全に防止する点で好ましく。
また所望ならば次の露光工程までの保管時に感光層への
ゴミの付着を防止するために除去せずにおくこともでき
る。積層前後のはく離性フィルムの除去は簡単であり1
巻き取りロールを用いて連続的に除去し得、また、積層
時に非粘着性感光層上にはく離性フィルムが存在しない
場合には1%願昭55−107875号に提案された積
層装置を用いることも好ましい。該特杵出願には基体と
無加熱ないし低温加熱のガイドロールで感光層を積層し
、ついで加熱ロールで固く積層するに適当な装置が提案
されている。
このようにして感光性エレメントから基体上に感光層を
積層した後、?いてネガ等のマスク材料を感光層の非粘
着性表面上に直接密着せしめて露光が行なわれる。感光
j−とマスク材料との密着は通常行なわれているように
真空焼枠装置を用いて行なわれる。露光後現像を行なう
と基体−ヒにレリーフ画像が得られ、このレリーフ画像
を有する基体に画像的にエツチング、めっき等の処理を
行ないレリーフ画像をレジストとすることもできる。こ
れらの処理なしでレリーフ画像を表面に有する基体は印
刷刷版用の版材となり得る。
本発明の感光性エレメントは、はく離性フィルム上に感
光性樹脂組成物溶液を塗工し乾燥し。
更に別のはく離性フィルムを設ける場合には最後に該フ
ィルムを感光層に積層して製造できる。
感光層の形成は感光性樹脂組成物溶液を直接塗工、乾燥
するかわりに、別途に乾燥した感光層とし、これを積層
する方法、あるいは溶液の塗工、乾燥とこの乾燥した感
光層の積層との組合せによっても可能である。
9一 本発明の感光性エレメントの感光層表面の粘着性の程度
をあられす[実質的に1の意味は次の通りである。本発
明における「実質的に非粘着性を有する表面」とは、マ
スク材料をその表面に密着して露光後、マスク材料を感
光層からの転着なくはく離除去できる程度に非粘着性で
ある表面を意味し、一方1−実質的に粘着性を有する表
面」とは、感光層を基体表面に適用する際に積層という
工程によって円滑に適用可能であり、積層後に感光層の
反対表面のはく離性フィルムがある場合にはそれを感光
層と基体表面との密着に影響を及ぼさずにはく離除去で
き。
以後の露光、現像によって基体上にはく離せず。
良好に密着したレジスト画像が得られる程度に粘着性で
ある表面を意味する。
本発明の感光性エレメントに用いる感光層は従来公知の
感光性樹脂組成物から形成できるが。
膜厚の大きな感光層とし得る点で主と1−て光重合性樹
脂組成物から形成することが好ましい。
光重合性樹脂組成物としては2%公昭45−10− 25231号公報、前述の特開昭46−2121号公報
、特開昭54−22821号公報9%開昭54−139
720号公報等に記載されたものも用い得る。これらに
は、フィルム性付与のためのポリマーと光反応性成分と
しての多官能ビニルモノマー及び光重合開始剤を主要成
分とする組成物が記載されている。
本発明における感光層は層の両表面の粘着性が異なるも
のとなっており、このような感光層を得るもつとも簡単
な方法は、非粘着性感光層及び粘着性の感光1−をおの
おの最外層とすることである。
例えば、はく離性フィルム上に、非粘着性を有する感光
層を形成しうる感光性樹脂組成物を塗工、乾燥し、この
上にさらに粘着性を有する感光層を形成しうる感光性樹
脂組成物を塗工。
乾燥して得られる。この場〜、粘着性を有する1111 感光層を形成しつる感光性樹脂組成物中の溶媒は、既に
はく離性フィルム上に形成された非粘着性を有する感光
層を溶解しないものであることが好ましい。また、はく
離性フィルム上に非粘着性又は粘着性を有する感光層を
形成しつる感光性樹脂組成物を塗工、乾燥しこの感光層
の上に、既にはく離性フィルム上に塗工、乾燥された粘
着性又は非粘着性を有する感光層を貼り合わせてもよい
。感光層の両面の粘着性が異なる感光性エレメントを製
造する方法には9%に制限はない。
感光層の粘着性の調整は、前述した光重合性組成物の場
合には、フィルム性付与ポリマーの割合、フィルム性付
与ポリマーの分子量、更に。
モノマーの粘度の調整によって行なうのが最も容易であ
る。これらの手法は後述の実施例によっても明らかとな
る。
本発明になる感光性エレメントの非粘着性を有する感光
層表面は、酸素が光反応を阻害することを防ぐために、
酸素透過性の小さなものとすることが好ましい。そのた
めには感光層中のフィルム性付与ポリマーとして、酸素
透過性の小さいポリマー、例えばポリアクリルアミド共
重合体、塩化ビニリデン共重合体、ポリビニルアルコー
ル、ポリスチレン、メタクリル酸トメチルメタクリレ−
1・の共重合体等を用いることが好ましい。又、特開昭
46−2121号公報に記載されているポリケイ皮酸ビ
ニル系樹脂組成物、ビスアジド系樹脂組成物等のような
酸素による光反応阻害の少ない感光性樹脂組成物を感光
層、特に感光層の表面層とすることが好ましい。
本発明になる感光性エレメントに用いるはく離性フィル
ムとしては、特公昭45−25231号公報、特開昭4
6−2121号公報9%開昭54−22821号公報、
特開昭54−139720号公報等に記載されているフ
ィルムを用い得る。
感光層の粘着性表面側に用いるはく離性フィルムは感光
層表面から容易にはく離可能なフィルムとすべきであっ
てポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなど
が好ましい。またそのはく離性を保持する為に、特に粘
着性感光層表面へのはく離性フィルムの形成は乾燥した
感13− 光層とフィルムとの積層法が好ましい。非粘着性を有す
る感光層表面へのはく離性フィルムの形成の場合には、
感光層樹脂溶液の塗工、乾燥によっても良好なはく離性
が維持される。はく離性フィルムは感光層との離型性向
上のためにその表面に離型剤層を設けることも可能であ
り。
特に感光層の両表面にはく離性フィルムを有しない場合
には、感光層に接する側と反対側のはく離性フィルム上
にかかる層を設けることは。
感光性エレメントを長尺のロール状で提供する際に、は
く離性フィルムとその背面に位置する感光層間での感光
層の転着を防止する上で好ましい。
以下に本発明を実施例により説明する。実施例において
チ及び部はすべて重量%及び重量部である。
実施例1 溶液1−A 14− 2−エチルアントラキノン      2.5y−エチ
ルセロソルブ         130y−メチルエチ
ルケトン         10y−クロロホルム  
          IOP溶液1−B 2−エチルアントラキノン      25y−ビクト
リアビアブルー       0.09yエチルセロソ
ルブ         130yメチルエチルケトン 
        10pクロロホルム        
     1([’感光性樹脂溶液1−A、1−Bを調
製した。溶液1−Aは非粘着性感光層面、溶液1−Bは
粘着性感光面を各々形成するためのものである。まず。
厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に溶液1−Aを塗布し、120’Cの熱風乾燥機中で5
分間乾燥した。感光層の乾燥後の厚みは15μmであっ
た。一方、溶液1−Bを国策化工製のはく離紙(EK−
70D)上に塗工し、同様に120℃で乾燥して厚み3
51zmの感光層を得た。次に両者を感光層が互いに密
着するようにしてデュポン社製ラミネータ(A−24型
)を用いて常温ではり合わせた。
得られた感光性エレメントからはく離紙を除去し、あら
かじめ清浄化処理した銅張り積層板(El立化成工業株
式会社製、商品名MCL−E−61)に感光層側が銅表
面と接するようにして、前記のラミネータを用いて感光
性エレメントを積層した。
積層にあたっては積層板は60℃で10分間加熱した直
後のものを用い、ラミネータの加熱温度は120℃とし
て行なった。次に積層された感光性水銀灯(オーク製作
所製 商品名フェニックスaooo)で150 mJ/
cm”の露光を行なった。
露光後、ネガマスクを除去しく除去は容易であり感光層
の転着は認められなかった)、32℃の2チ炭酸ソーダ
水溶液で80秒間スプレー現像し。
最後に水を20秒間スプレーすると60μmのライン間
、ライン幅の解像度を有するレリーフ画像が得られた。
このレリーフ画像は塩化第二鉄、塩化第二銅等の通常の
エツチング液あるいは半田めっき液、硫酸鋼めっき液に
十分な耐性を有し、印刷配線板製造用のレジストとして
有用であることがわかった。
=17− 比較のためKこの実施例にかえて、露光時にポリエステ
ルフィルムを除去せずにポリエステルフィルムを残した
ままネガマスクを真空密着させた場合には、得られるレ
リーフ画像の解像度は80μmが最高であり、60μm
は得られなかった。
本実施例の感光性エレメントは、全体の厚みを減するた
めにはく離紙を除去し、はく離紙の代りに25μmの厚
みのポリエチレンフィルムあるいは、ポリプロピレンフ
ィルムを積層した感光性エレメントとして、長尺ロール
状で保存できる。またポリエチレンフィルムを用いない
で、はく離紙を除去したママ、すなわちポリエチレンテ
レフタレートフィルムと感光層とからなる感光性エレメ
ントとしても長尺のロール状で保存できる。
エチレングリコール         0.2チ18− 水                  残部第一の非
粘着性感光層用感光性組成物の溶液である溶液2−Aと
、第二の非粘着性感光層用感光性組成物の溶液として、
実施例1で用いた溶液1−Bを用いて実施例1と同様に
してポリエチレンフタレートフィルム上に感光層を有す
る感光性エレメントを得た。
第一の非粘着性感光層は約7μmであり、第二の非粘着
性感光層は約43μmであった。実施例1と同様にして
、基板−ヒに感光性エレメントをラミネートし露光した
。ポリエチレンフィルムは。
ラミネート直後容易に除去できた。また、ネガマスクは
感光層から抵抗なく除去することができた。
現像は35℃、1.0 ’ly Nat COs水溶液
を90秒間スプレーすることによって達成され、レリー
フ画像が得られた。     □ 得られたレリーフ画像は50μmのラインが解像でき、
良好な解像性を示した。更にこのレリーフ画像は塩化第
二銅、塩化第二鉄等の通常のエツチング液に耐性を有し
ており印刷配線板製造用レジストとして、使用できるも
のであった。
実施例3 溶液3−A トリメチロールプロパントリアクリレ−5,0’/ト ベンゾフェノン               3.0
y4.4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 
 0.21エチルセロソルブ         130
 Pメチルエチルケトン         107クロ
ロホルム             10ノ溶液3−B ベンゾフェノン            3.014.
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンシフ   0.21
エノン ビクトリアビアブルー       0.14Pエチル
セロンルプ         1301メチルエチルケ
トン         101クロロホルム     
       1oz第一の非粘着性感光層用感光性組
成物の溶液である溶液3−Aと第二の非粘着性感光層用
感光性組成物の溶液である溶液3−Bを用いて実施例1
と同様にして感光性エレメントを得た。
実施例1と同様に基板に感光性エレメントをラミネート
し露光し現像した。現像は30℃、1.5%N a t
 COs水溶液を90秒間スプレーすることKよって行
なった。5011mのラインが解像でき良好な解像性を
示し9通常のエツチング液及び半田21− 相 メッキ、硫酸鋼メッキに対して耐性し、印刷配線△ 板製運用レジストに使用できるレリーフ画像を得た。
実施例4 カキマゼ機、還流冷却器1滴下ロートおよび温度計を備
えた21の四つロフラスコに反応溶媒としてエチルセロ
ソルブ500?を入れ窒素ガス置換を行ないながら、8
0℃に加熱した。滴下ロートにエチルセロソルブ640
 ?、メタクリル酸126P(1,463モル)、メチ
ルメタクリレート2341(2337モル)及び重合触
媒としてN、N’−アゾビスイソブチロニトリル0.7
2t(0,2チ対モノマ)を入れ、それを4時間かけて
均一に滴下し、更に5時間加熱fして第1段の重合反応
を完結した。
次いで110℃に昇温し、グリシジルメタクリレート5
6.9?(0,4モル)、付加反応触媒として塩化ベン
ジルトリメチルアンモニウム1.88P(3,3%対ダ
グリシジルメタクリレート9重合禁止剤としてハイドロ
キノン1.141 (2,o%対ク22− リシジルメタクリレート)及びエチルセロソルブ3o1
塩化ベンジルトリメチルアンモニウムは先にエチルセロ
ノルブに溶解させる)を1時間かけて滴下し、更に15
時間反応を続けた。反応終了後、室温に冷却して不揮発
分38.0%の重合体溶液を得た。重合体の還元粘度は
0.256dg/Pであり9重合体中のカルボキシル基
のうちの27モル係にグリシジルメタクリレートが付加
していた。
このようにして得た重合体溶液P−4を用いて第一の非
粘着性感光層用感光性組成物の溶液である溶液1−Aを
作成した。
溶液4−A 重合体溶液P−422454 ベンゾフエノン           3.5!!−4
,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンシフ   0.1
’エノン メチルエチルケトン         20yまた第二
の粘着性感光層用感光性組成物とL7て実施例1で用い
た溶液1−Bを用いた。
まず25μmの延伸したポリプロピレンフィルム上に溶
液1’ −Bをアプリケーター(上島製作所株式会社製
 商品名ペイカーフィルムアプリケーター)で塗布し5
()℃で20分間熱風乾燥した。
乾燥後の皮膜の厚さは35μmであった。更にその上に
別途に実施例1で用いたと同様のはく離紙上にアプリケ
ーターを用いて溶液4−Aを塗布し。
乾燥し15μmの厚みを有する感光層を実施例1と同様
にして積層し、ついではく離紙を除去し。
ポリプロピレンフィルム上に厚み150 tzmの感光
層を有する感光性エレメントを得た。次に感光性エレメ
ントからポリプロピンレフイルムを除去し1次に実施例
1と同様にあらかじめ清浄化処理した銅張り積層板に、
第二の非粘着性感光層が積層板に接するように積層し、
ついで120℃に加熱した2本のゴムロールの間を通し
た。次に実施例1と同様にして露光を行なった。露光後
ネガマスクを除去する際は、抵抗なく除去することがで
きた。次に現像液スプレーすることによってレリーフ画
像を得た。現像液及び現像条件は実施例1と同様であっ
た。レリーフ画像は第一層及び第二層の光硬化物より形
成されていた。また60μmのラインが解像でき良好な
解像性を示した。
更にこのレリーフ画像は塩化第二鉄、塩化第二銅等の通
常のエツチング液及び半田メッキ液、硫酸銅メッキ液の
通常の処理条件に耐性を有しており、印刷配線板製造用
レジストとして十分使用できるものであった。
実施例5 51四つロフラスコにメタクリル酸メチル132854
、アクリル酸エチル901.メタクリル酸シクロヘギシ
ル16051’、アクリルアミド321からなるモノマ
溶液のうち600y−を1000.7)ルエンとともに
いれ、窒素気流下=25− 90℃に加熱した。次いで残りのモノマ溶液にアゾビス
イソブチロニトリル1.96y−、)ルエン600?を
加えたものを3時間にわたって滴下した。滴下終了後更
に7時間保温後アゾビスイソブチロニトリル0.98L
i−をトルエン300yに溶解したものを30分で滴下
し9滴下終了後4時間保温した。これをトルエン30o
zで希釈することにより不揮発分41重量係、還元温度
038(0,2511/dl、 30°CMEK)を有
するポリマを得た。次にこのポリマを用い以下にt71
(べろ感電性組成物(溶液5−A)を得た。
溶液5−A ポリマ       1951(乾燥重駄80ff)ト
) ベンゾフェノン             71−26
= トリブロモメチルフェニルスルホン     1..5
5’スピロンプル−2BNI−T        O,
1y−次いで以下に記した配合により感光液5−Bを調
整した。
溶液5−B NKエステルA−4()           101
i’ベンゾフエノン            4,8?
トリブロモメチルフエニルスルホン  1.5g−一。
スビロンプルー2BNHO,:1 メチルエチルケトン            501ト
ルエン               80y−厚み2
5μn〕を有する2軸延伸ポリプロピレンフイルムに先
に配合した溶液5−Bを乾燥後膜厚が25μmとなるよ
うに塗工し、60°CIO分熱風乾燥した。
次に厚み25/1mを有するポリエチレンテレフタレー
トフィルムに溶液5−Aを乾燥後膜厚が10μmとなる
ように塗工し、80°C2分熱風乾むかい合わせて50
℃に加熱されたラミネートロールを通すことにより貼り
合わせたものを感光性エレメントとした。
この感光性エレメントを、スコッチプライト■バフロー
ルで研磨することにより清浄にした銅張積層板に100
℃に加熱されたゴムロールを用いて積層した。このとき
鋼張積層板は60℃に予熱されておシ、また。積層は感
光性エレメントからポリプロピレンフィルムを積層前に
連続的に除去し、露出した感光層(溶液5−Bを塗付し
乾燥した層)を銅張積層板に圧着する形で行なわれた。
引き続き積層物から溶液5−Aを塗付し、乾燥した感光
層をおおっているポリエステルフィルムを除去し、感光
層を露光した。このときポリエステルフィルムの剥離は
容易に行なえた。父、露光した感光層は指触によるタッ
クは々く、粘着性は有していなかった。
この積層物を1時間以上放置したあと21段ステップタ
ブレットネガフィルムおよび解像度ネガフィルムを密着
しておき、真空焼付わくを有する2ICw超高圧水銀灯
(オーク社製HMW−2000)1゜ で減圧下100mJ/−露光した。露光後ネガはハ 抵抗なくとれ、ネガの汚れもなかった。15分放置後積
層物を1+1+1− ) ’)クロロエタンを現像液と
して60秒間噴霧しく18℃、 1.5 Kr/′cW
?)、次いて1,1.1−)リクロルエタン新液で15
秒間噴霧した。水洗、乾燥後現像によって洗い出されな
かったステップタブレット段数を測定したところ7段で
あった。また50μmの解像度が得られた。
29− ガマスフと感光層の粘着を防止するための中間層が存在
しないので、良好な解像度を有するレリーフ画像を基体
上に形成し得る。また、現像時に溶解除去される成分は
感光層の未露光部分のみであり、従来の現像液溶解性の
中間層を存在せしめた感光性エレメントの場合の現像液
の疲労は少ない。
また、感光性エレメントのはく離性フィルムは露光時に
は存在せしめる必要がなく、露光前、即ち基体への感光
性エレメントの積層の前後に除去できるため、ロール状
の長尺で感光性エレメントを使用する場合1個々の基体
上に感光性エレメントを積層する前後で、積層した基体
毎に切断する前に除去できるので、はく離性フィルムを
切断しないで連続的な長尺のままで除去できる。以上の
利・を償 点により1本発明になる感光層エレメントは作業性に優
れた方法によって解像度の良好なレリーフ画像を基体上
に形成することを可能とする。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図は本発明になる感光性エレメントの実施
例を模式的に示す図である。 −30= 符号の説明 1・・・非粘着性感光層  2・・・粘着性感光層3・
・・はく離性フィルム 4・・・はく離性フィルム5・
・・中間感光層 31−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、感光層とはく離性フィルム又はさらにはく離性フィ
    ルム上の感光層上に更に第2のはく離性フィルムを有し
    、該感光層が実質的に非粘着性を有する表面と実質的に
    粘着性を有する反対表面とを有してなる感光性エレメン
    ト。
JP1785182A 1982-02-05 1982-02-05 感光性エレメント Pending JPS58136027A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1785182A JPS58136027A (ja) 1982-02-05 1982-02-05 感光性エレメント

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1785182A JPS58136027A (ja) 1982-02-05 1982-02-05 感光性エレメント

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58136027A true JPS58136027A (ja) 1983-08-12

Family

ID=11955158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1785182A Pending JPS58136027A (ja) 1982-02-05 1982-02-05 感光性エレメント

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58136027A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61208047A (ja) * 1985-03-11 1986-09-16 Daicel Chem Ind Ltd 導電性膜のパタ−ン形成方法
JPS6275632A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Daicel Chem Ind Ltd 感光レジスト積層体
JPH01221735A (ja) * 1988-02-29 1989-09-05 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成方法
JP2001175000A (ja) * 1999-10-12 2001-06-29 E I Du Pont De Nemours & Co 複合感光性要素
WO2006011548A1 (ja) * 2004-07-30 2006-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. 感光性フィルム、感光性フィルム積層体及び感光性フィルムロール

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61208047A (ja) * 1985-03-11 1986-09-16 Daicel Chem Ind Ltd 導電性膜のパタ−ン形成方法
JPS6275632A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Daicel Chem Ind Ltd 感光レジスト積層体
JPH01221735A (ja) * 1988-02-29 1989-09-05 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成方法
JP2001175000A (ja) * 1999-10-12 2001-06-29 E I Du Pont De Nemours & Co 複合感光性要素
WO2006011548A1 (ja) * 2004-07-30 2006-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. 感光性フィルム、感光性フィルム積層体及び感光性フィルムロール

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59226346A (ja) プリント回路の製造方法
JP4535953B2 (ja) 感光性樹脂積層体
JPS6131855B2 (ja)
EP0025088B1 (en) Photoresist films, processes for their production and process for modifying substrate surfaces
JP3704296B2 (ja) フォトマスク保護用粘着テープの製造方法
JPS6156498B2 (ja)
JPS58136027A (ja) 感光性エレメント
JPH11237732A (ja) 巻上げに好適な構造のドライフィルム・フォトレジスト
JPH02230149A (ja) 画像形成方法
JP3614896B2 (ja) 感光性フィルム
JP3452597B2 (ja) 感光性樹脂組成物積層体
JP2003050459A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板の製造法
JPS61138253A (ja) 紫外線硬化性樹脂組成物
WO2002079878A1 (fr) Film photosensible pour la formation de circuit et procede de production de panneau de cablage de circuit imprime
JPH01221735A (ja) 画像形成方法
JPH0317650A (ja) 画像形成方法
JPH10128897A (ja) 積層フィルム及びプリント配線板の製造法
JPS5824035B2 (ja) 感光性エレメント
JPH04371957A (ja) フォトレジストフィルム
JPS589138A (ja) 感光性樹脂組成物
JP3410527B2 (ja) プリント回路基板の画像形成用フォトレジストフィルム
JP3414048B2 (ja) 水なし平版印刷版原版の製造方法
JP2003215793A (ja) 回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造法
JP3513659B2 (ja) 感光性樹脂組成物積層体
JPS593589Y2 (ja) プリント回路形成用積層物