JPS6144307B2 - - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 13
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 5
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 33
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- -1 alkyl vinyl ether Chemical compound 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 8
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012089 stop solution Substances 0.000 description 2
- NRUVOKMCGYWODZ-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenepalladium Chemical compound [Pd]=S NRUVOKMCGYWODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZBQKPDHUDKSCRS-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-oxidanyl acetate Chemical compound CC(=O)O[O] ZBQKPDHUDKSCRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQXNNJHMWSZHK-UHFFFAOYSA-L 1,3,2,4$l^{2}-dioxathiaplumbetane 2,2-dioxide Chemical compound [Pb+2].[O-]S([O-])(=O)=O KEQXNNJHMWSZHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016374 CuSO45H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052924 anglesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229910001622 calcium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- YYXLGGIKSIZHSF-UHFFFAOYSA-N ethene;furan-2,5-dione Chemical compound C=C.O=C1OC(=O)C=C1 YYXLGGIKSIZHSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPBDXRPQPOWRKR-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;methoxyethene Chemical compound COC=C.O=C1OC(=O)C=C1 UPBDXRPQPOWRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;styrene Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1.C=CC1=CC=CC=C1 WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229910000372 mercury(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000464 thioxo group Chemical group S=* 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
本発明は銀錯塩拡散転写法により平板印刷板
を、製造するための写真材料に関するものであ
る。平板印刷板は油脂性のインキを受理する親油
性の画線部分とインキを受け付けない揆油性の非
画線部分とからなり、一般に該非画線部は水を受
け付ける親水性部分から構成されている。 通常の平板印刷板では従つて、水とインキの両
方を板面の供給し、画線部は着色性のインキを、
非画線部は水を選択的に受け入れ、該画線上のイ
ンキを例えば紙などの基質に転写させることによ
つてなされている。従つて、良い印刷物を得るた
めには、画線部と背景非画線部の表面の親油及び
親水性の差が十分大きく、水およびインキを適用
したときに、画線部は十分量のインキを受け付
け、非画線部はインキを全く受け付けないことが
必要である。 一般に、平版印刷における印刷ヨゴレの発生
は、決して単一の原因ではなく、各種の要因が重
なりあつて発生することは当業界においては、良
く知られている。それは例えば、版材固有の性質
に起因するものであつたり、あるいは又、印刷イ
ンキ、湿し水、印刷用紙に起因するものであつた
り、更には、印刷機の状態、又は、印刷時の温
度、湿度などの環境条件の影響等であつたりす
る。印刷時においては、それらの条件ならびに環
境等を適切に整備することが重要である。しかし
ながら実用的な見地からは、できるだけ広い条件
で、印刷可能な材料が要求されている。 本発明の目的は、インキ乗り特性に優れ、印刷
ヨゴレが極めて少なく、かつ画線再現性が優秀で
ある等、高耐刷力の印刷板として要求される諸特
性が優れた平板印刷材料を提供することである。 本発明は、銀錯塩拡散転写法を応用した平版印
刷材料であつて、重金属又はその硫化物よりなる
物理現像核を含む層または/およびその隣接する
層に該物理現像核に対して親和性を有する官能基
をもたず、親水化活性を与える官能基をもつた次
式() 〔上記式()において、nは、正の整数、好ま
しくは35〜3500である整数、R1はエチレン系不
飽和有機単量体の残基、Xは
を、製造するための写真材料に関するものであ
る。平板印刷板は油脂性のインキを受理する親油
性の画線部分とインキを受け付けない揆油性の非
画線部分とからなり、一般に該非画線部は水を受
け付ける親水性部分から構成されている。 通常の平板印刷板では従つて、水とインキの両
方を板面の供給し、画線部は着色性のインキを、
非画線部は水を選択的に受け入れ、該画線上のイ
ンキを例えば紙などの基質に転写させることによ
つてなされている。従つて、良い印刷物を得るた
めには、画線部と背景非画線部の表面の親油及び
親水性の差が十分大きく、水およびインキを適用
したときに、画線部は十分量のインキを受け付
け、非画線部はインキを全く受け付けないことが
必要である。 一般に、平版印刷における印刷ヨゴレの発生
は、決して単一の原因ではなく、各種の要因が重
なりあつて発生することは当業界においては、良
く知られている。それは例えば、版材固有の性質
に起因するものであつたり、あるいは又、印刷イ
ンキ、湿し水、印刷用紙に起因するものであつた
り、更には、印刷機の状態、又は、印刷時の温
度、湿度などの環境条件の影響等であつたりす
る。印刷時においては、それらの条件ならびに環
境等を適切に整備することが重要である。しかし
ながら実用的な見地からは、できるだけ広い条件
で、印刷可能な材料が要求されている。 本発明の目的は、インキ乗り特性に優れ、印刷
ヨゴレが極めて少なく、かつ画線再現性が優秀で
ある等、高耐刷力の印刷板として要求される諸特
性が優れた平板印刷材料を提供することである。 本発明は、銀錯塩拡散転写法を応用した平版印
刷材料であつて、重金属又はその硫化物よりなる
物理現像核を含む層または/およびその隣接する
層に該物理現像核に対して親和性を有する官能基
をもたず、親水化活性を与える官能基をもつた次
式() 〔上記式()において、nは、正の整数、好ま
しくは35〜3500である整数、R1はエチレン系不
飽和有機単量体の残基、Xは
【式】(式中の
R3は水素原子、低級アルキル基)、−O−、R2は
低級アルキレン基、3〜8個の炭素原子を有する
シクロアルキレン基又はフエニレン基、Yは水素
原子、カルボキシル基または
低級アルキレン基、3〜8個の炭素原子を有する
シクロアルキレン基又はフエニレン基、Yは水素
原子、カルボキシル基または
【式】(式中の
R4及びR5はそれぞれ水素原子、低級アルキル
基、またYが水素原子の場合には、R2は単なる
結合手を示す。〕で表わされる分子反復単位を有
する合成共重合体を含有することによつて達成さ
れる。 さらに本発明の実施態様としては、上記式
()で表わされる分子反復単位を有する合成共
重合体と、下記に示す(a)、(b) (a) 周期律表、第B、A、B、A、
A、族の有機及び無機の金属塩。(以下、「金
属塩」と略す。) (b) 一般式Z(−A)−nZ(式中のZは同じであつ
ても異なつていてもよく、それぞれ第1級、又
は第2級アミノ基、水酸基、アルデヒド基、又
は水素原子を表わし、2つのZが同時に水素原
子になることはない。Aは前記Zで示される基
で置換されていてもよい2価の残基又は結合
手、mは、正の整数、またZが水酸基でAがメ
チレン基である場合には、一般式はホルムアル
デヒドを示すものとする。)(以下、「多官能性
反応体」と略す。)から選択される少なくとも
1種とを含有することによつてさらに好ましく
達成される。ここに低級アルキル基、及び低級
アルキレン基とは、炭素数1−6を有する置換
されていてもよい直鎖もしくは分岐鎖炭化水素
を意味するものである。 本発明に係る合成共重合体()は、α−オレ
フイン、スチレンまたはアルキルビニルエーテル
の如きエチレン系不飽和有機単量体と無水マレイ
ン酸との共重合体()とH−X−R2−Y
()(式中のX、R2、Yは、式()と同じも
のを示す。)との反応によつて合成される。エチ
レン系不飽和有機単量体と無水マレイン酸との共
重合体()は常法に従つて合成した。以下に数
種を例示する。 共重合体() モル比 エチレン/無水マレイン酸1:1(共重合体1) プロピレン/無水マレイン酸
1:1(共重合体2) イソプテン/無水マレイン酸
1:1(共重合体3) スチレン/無水マレイン酸1:1(共重合体4) メチルビニルエーテル/無水マレイン酸
1:1(共重合体5) 本発明で特に有用であるのは、次式() (式中のR3は、低級アルキル基、好ましくはメチ
ル基、nは35〜3500の正の整数)で表わされるア
ルキルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重
合体である。これら共重合体は、例えばジー・エ
ー・エフ・コーポレーシヨン(G、A、F、
CO、)より商品名ガントレツ(GANTREZ)AN
−119、ガントレツAN139、ガントレツAN169等
として市販されている。 合成共重合体()は、H−X−R2−Y
()と、エチレン系不飽和有機単量体と無水マ
レイン酸との共重合体()とを次式の反応式に
従つて反応させ製造することができる。 (式中のR1、R2、X、Y及びnは式()と同じ
ものを示す)式()と、式()との反応は、
特別な条件を必要とせず、有機溶媒中で、40℃、
還流下で両者を混合することによつて合成され
る。式()でYが第1アミノ基である場合(例
えば
基、またYが水素原子の場合には、R2は単なる
結合手を示す。〕で表わされる分子反復単位を有
する合成共重合体を含有することによつて達成さ
れる。 さらに本発明の実施態様としては、上記式
()で表わされる分子反復単位を有する合成共
重合体と、下記に示す(a)、(b) (a) 周期律表、第B、A、B、A、
A、族の有機及び無機の金属塩。(以下、「金
属塩」と略す。) (b) 一般式Z(−A)−nZ(式中のZは同じであつ
ても異なつていてもよく、それぞれ第1級、又
は第2級アミノ基、水酸基、アルデヒド基、又
は水素原子を表わし、2つのZが同時に水素原
子になることはない。Aは前記Zで示される基
で置換されていてもよい2価の残基又は結合
手、mは、正の整数、またZが水酸基でAがメ
チレン基である場合には、一般式はホルムアル
デヒドを示すものとする。)(以下、「多官能性
反応体」と略す。)から選択される少なくとも
1種とを含有することによつてさらに好ましく
達成される。ここに低級アルキル基、及び低級
アルキレン基とは、炭素数1−6を有する置換
されていてもよい直鎖もしくは分岐鎖炭化水素
を意味するものである。 本発明に係る合成共重合体()は、α−オレ
フイン、スチレンまたはアルキルビニルエーテル
の如きエチレン系不飽和有機単量体と無水マレイ
ン酸との共重合体()とH−X−R2−Y
()(式中のX、R2、Yは、式()と同じも
のを示す。)との反応によつて合成される。エチ
レン系不飽和有機単量体と無水マレイン酸との共
重合体()は常法に従つて合成した。以下に数
種を例示する。 共重合体() モル比 エチレン/無水マレイン酸1:1(共重合体1) プロピレン/無水マレイン酸
1:1(共重合体2) イソプテン/無水マレイン酸
1:1(共重合体3) スチレン/無水マレイン酸1:1(共重合体4) メチルビニルエーテル/無水マレイン酸
1:1(共重合体5) 本発明で特に有用であるのは、次式() (式中のR3は、低級アルキル基、好ましくはメチ
ル基、nは35〜3500の正の整数)で表わされるア
ルキルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重
合体である。これら共重合体は、例えばジー・エ
ー・エフ・コーポレーシヨン(G、A、F、
CO、)より商品名ガントレツ(GANTREZ)AN
−119、ガントレツAN139、ガントレツAN169等
として市販されている。 合成共重合体()は、H−X−R2−Y
()と、エチレン系不飽和有機単量体と無水マ
レイン酸との共重合体()とを次式の反応式に
従つて反応させ製造することができる。 (式中のR1、R2、X、Y及びnは式()と同じ
ものを示す)式()と、式()との反応は、
特別な条件を必要とせず、有機溶媒中で、40℃、
還流下で両者を混合することによつて合成され
る。式()でYが第1アミノ基である場合(例
えば
【式】でR4、R5が共に水素原子)に
は、Yを適当な保護基で保護する必要がある。ま
た、Xが第1級アミノ基である場合には、合成重
合体()の他に()式で表わされる環状イミ
ドを二次反応生成物として一部生成することがあ
る。 (式中、R1、R2、Yおよびnは式()と同じも
のを表わす。) 合成共重合体()のR1に、特開昭53−21602
号に記載のような物理現像核に対して親和性をす
る官能基、例えば複素環、チオエーテル、チオー
ル、チオキソ基などは有していない。以下に式
()の代表例を示すがこれらに限定されるもの
ではない。 また金属塩の代表例を以下に示すが、これらに
限定されるものではない。 CaBr2、CaCl2、Ca(NO3)2、KCr
(SO4)212H2O、Cr(NO3)3、FeCl2、FeCl2、Fe
(CH3COO)2、Fe(CH3COO2)2、Fe(NO3)2、
Fe(NO3)2、COCl2、Co(CH3COO)2、CO
(NO3)2、Ni(NO3)2、Ni(CH3COO)2NiCl2、Cu
(NO3)2、CuSO45H2O、Cu(CH3COO)2、Pb
(CH3COO)2、PbSO4、Hg(CH3COO)2、
HgSO4、PdCl2、Pd(NO3)2 さらに、多官能性反応体の代表例を以下に示す
が、これらに限定されるものではない。 合成共重合体()、金属塩および多官能性反
応体のそれぞれを、本発明に係る平板印刷板に適
用するに当つては、物理現像核層又は/及びその
隣接層に含ましめるものであり、物理現像核を塗
布する前、若しくは、後に付与することもできる
が、品質の安定性及び製造上の容易性等から、物
理現像核とともに付与する方法が最も有利であ
る。又、合成共重合体()の使用され得る一般
的な量水準は、物理現像核としてのコロイド物質
の種類、量、及び性状に多少の依存性は有してい
るが、概して平方メートル当りの付与量によつて
その印刷特性は左右される。平均的には、0.1g/
m2以下の量で使われ、好ましくは0.0001g/m2〜
0.02g/m2の量になる様に塗布される。また、合
成共重合体()と金属塩との比率は、平板印刷
材料の構成によつて異なるため一概には言えない
が、前者1重量部に対して後者は0.0001〜1重量
部、好ましくは、0.01〜0.1重量部くらいが最適
である。又、合成共重合体()と多官能性反応
体との比率は、金属塩の場合と同様である。さら
に、金属塩と多官能性反応体を併用する場合に
は、両者の重量部の和が、合成共重合体()1
重量部に対して0.0001〜1重量部好ましくは0.01
〜0.1重量部ぐらいが最適である。 以上の如くして、銀錯塩拡散転写法を応用した
平版印刷材料であつて重金属又はその硫化物より
なる物理現像核を含む層、又は/及びその隣接す
る層に親水化活性を与える官能基をもつた合成共
重合体()を含むことによつて、インキ乗り特
性に優れ、印刷ヨゴレが少なく、かつ画像再現性
が優秀である高耐刷力の印刷板が得られた。即
ち、印刷機の水供給量を少なくした場合でもヨゴ
レの出難い印刷板が得られた。さらに合成共重合
体と、金属塩又は/及び多官能性反応体とを併用
することによつて、より高耐刷力の印刷板が得ら
れた。即ち、そのヨゴレ防止効果は、合成共重合
体()の単独使用の場合よりも、より長いラン
ニングにおいても消失することなく、維持され
た。 本発明は、銀錯塩拡散転写法を応用した平版印
刷板に於いて、その受像層を特定の構成にするも
のであり、従つて、その他の構成、あるいは支持
体、ハロゲン化銀乳剤層、および銀錯塩拡散転写
処理、その他によつて限定されるものではない。 例えば、支持体としては通常の写真感光材料の
支持体が使用できる。具体的には、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリス
チレンなどの合成樹脂フイルム、またはポリエチ
レン被覆紙などの耐水加工紙あるいはアルミニウ
ムで強化された複合支持体などを使用できる。感
光性ハロゲン化銀乳剤としては、塩化銀、塩臭化
銀、臭化銀のいずれの写真乳剤でもよく、それら
は沃化物を含むことができる。また、その写真乳
剤は、通常の硫黄増感、金などの貴金属増感など
を施すことができ、更に、青、緑、赤にスペクト
ル増感することもできる。その他、カブリ防止
剤、安定剤、その他の添加剤、例えば、現像主
薬、硬膜剤、マツト剤などを含むことができる。
受像層構成要素の1つである物理現像核として
は、一般の銀錯塩拡散転写法に於いて公知の物質
を使用し得る。例えば、金、銀、銅、白金、パラ
ジウム、亜鉛などの重金属もしくはそれらの硫化
物コロイドが使用できる。 かくして得られた材料は、銀錯塩拡散転写現像
処理後そのままもしくは、更にインキ受理性を有
利にする為の組成液例えば、特公昭48−29723号
に示されたごとき、−SHもしくは>C=S基を根
幹として有する有機化合物を含む液で処理した
後、印刷を行なうことができる。 以下実施例に従つて具体的に本発明を記述する
が、本発明は、これらによつて限定されるもので
はない。 I 合成共重合体()製造 合成例 1 20gの前記()で示される共重合体1〜5を
各々500mlのベンゼン及び200mlのエーテル混合溶
媒中に加え、撹拌しつつ無水のアンモニアを泡立
てながら1時間通じた。混合物を濾取し、エーテ
ルで洗滌し、乾燥し、乾燥すると白色粉末が得ら
れた。得られた化合物は赤外吸収スペクトル及び
元素分析より前記共重合体1〜5のハーフアイド
アンモニウム塩である事が認められた。該化合物
を各々合成共重合体1〜5とする。 合成例 2 500mlのアセトンに前記()で示される共重
合体1〜5を各々20g溶解し、式()で示され
る前記化合物1〜12から選ばれる化合物を所定量
加え2〜6時間加熱還流した。反応後アセトンの
約4/5をエバポレートしてから1のエーテル中
に撹拌しながら反応物を注ぐと白色もしくは淡黄
色の沈殿物が得られた。これらを数回エーテルで
洗滌後に乾燥した。得られた化合物は前記共重合
体1〜5のハーフエステル又はハーフアマイドで
ある事が赤外吸収スペクトル及び元素分析より認
められた。反応条件、乾燥収量を下記の表に示
す。該化合物を合成共重合体6〜18とする。
た、Xが第1級アミノ基である場合には、合成重
合体()の他に()式で表わされる環状イミ
ドを二次反応生成物として一部生成することがあ
る。 (式中、R1、R2、Yおよびnは式()と同じも
のを表わす。) 合成共重合体()のR1に、特開昭53−21602
号に記載のような物理現像核に対して親和性をす
る官能基、例えば複素環、チオエーテル、チオー
ル、チオキソ基などは有していない。以下に式
()の代表例を示すがこれらに限定されるもの
ではない。 また金属塩の代表例を以下に示すが、これらに
限定されるものではない。 CaBr2、CaCl2、Ca(NO3)2、KCr
(SO4)212H2O、Cr(NO3)3、FeCl2、FeCl2、Fe
(CH3COO)2、Fe(CH3COO2)2、Fe(NO3)2、
Fe(NO3)2、COCl2、Co(CH3COO)2、CO
(NO3)2、Ni(NO3)2、Ni(CH3COO)2NiCl2、Cu
(NO3)2、CuSO45H2O、Cu(CH3COO)2、Pb
(CH3COO)2、PbSO4、Hg(CH3COO)2、
HgSO4、PdCl2、Pd(NO3)2 さらに、多官能性反応体の代表例を以下に示す
が、これらに限定されるものではない。 合成共重合体()、金属塩および多官能性反
応体のそれぞれを、本発明に係る平板印刷板に適
用するに当つては、物理現像核層又は/及びその
隣接層に含ましめるものであり、物理現像核を塗
布する前、若しくは、後に付与することもできる
が、品質の安定性及び製造上の容易性等から、物
理現像核とともに付与する方法が最も有利であ
る。又、合成共重合体()の使用され得る一般
的な量水準は、物理現像核としてのコロイド物質
の種類、量、及び性状に多少の依存性は有してい
るが、概して平方メートル当りの付与量によつて
その印刷特性は左右される。平均的には、0.1g/
m2以下の量で使われ、好ましくは0.0001g/m2〜
0.02g/m2の量になる様に塗布される。また、合
成共重合体()と金属塩との比率は、平板印刷
材料の構成によつて異なるため一概には言えない
が、前者1重量部に対して後者は0.0001〜1重量
部、好ましくは、0.01〜0.1重量部くらいが最適
である。又、合成共重合体()と多官能性反応
体との比率は、金属塩の場合と同様である。さら
に、金属塩と多官能性反応体を併用する場合に
は、両者の重量部の和が、合成共重合体()1
重量部に対して0.0001〜1重量部好ましくは0.01
〜0.1重量部ぐらいが最適である。 以上の如くして、銀錯塩拡散転写法を応用した
平版印刷材料であつて重金属又はその硫化物より
なる物理現像核を含む層、又は/及びその隣接す
る層に親水化活性を与える官能基をもつた合成共
重合体()を含むことによつて、インキ乗り特
性に優れ、印刷ヨゴレが少なく、かつ画像再現性
が優秀である高耐刷力の印刷板が得られた。即
ち、印刷機の水供給量を少なくした場合でもヨゴ
レの出難い印刷板が得られた。さらに合成共重合
体と、金属塩又は/及び多官能性反応体とを併用
することによつて、より高耐刷力の印刷板が得ら
れた。即ち、そのヨゴレ防止効果は、合成共重合
体()の単独使用の場合よりも、より長いラン
ニングにおいても消失することなく、維持され
た。 本発明は、銀錯塩拡散転写法を応用した平版印
刷板に於いて、その受像層を特定の構成にするも
のであり、従つて、その他の構成、あるいは支持
体、ハロゲン化銀乳剤層、および銀錯塩拡散転写
処理、その他によつて限定されるものではない。 例えば、支持体としては通常の写真感光材料の
支持体が使用できる。具体的には、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリス
チレンなどの合成樹脂フイルム、またはポリエチ
レン被覆紙などの耐水加工紙あるいはアルミニウ
ムで強化された複合支持体などを使用できる。感
光性ハロゲン化銀乳剤としては、塩化銀、塩臭化
銀、臭化銀のいずれの写真乳剤でもよく、それら
は沃化物を含むことができる。また、その写真乳
剤は、通常の硫黄増感、金などの貴金属増感など
を施すことができ、更に、青、緑、赤にスペクト
ル増感することもできる。その他、カブリ防止
剤、安定剤、その他の添加剤、例えば、現像主
薬、硬膜剤、マツト剤などを含むことができる。
受像層構成要素の1つである物理現像核として
は、一般の銀錯塩拡散転写法に於いて公知の物質
を使用し得る。例えば、金、銀、銅、白金、パラ
ジウム、亜鉛などの重金属もしくはそれらの硫化
物コロイドが使用できる。 かくして得られた材料は、銀錯塩拡散転写現像
処理後そのままもしくは、更にインキ受理性を有
利にする為の組成液例えば、特公昭48−29723号
に示されたごとき、−SHもしくは>C=S基を根
幹として有する有機化合物を含む液で処理した
後、印刷を行なうことができる。 以下実施例に従つて具体的に本発明を記述する
が、本発明は、これらによつて限定されるもので
はない。 I 合成共重合体()製造 合成例 1 20gの前記()で示される共重合体1〜5を
各々500mlのベンゼン及び200mlのエーテル混合溶
媒中に加え、撹拌しつつ無水のアンモニアを泡立
てながら1時間通じた。混合物を濾取し、エーテ
ルで洗滌し、乾燥し、乾燥すると白色粉末が得ら
れた。得られた化合物は赤外吸収スペクトル及び
元素分析より前記共重合体1〜5のハーフアイド
アンモニウム塩である事が認められた。該化合物
を各々合成共重合体1〜5とする。 合成例 2 500mlのアセトンに前記()で示される共重
合体1〜5を各々20g溶解し、式()で示され
る前記化合物1〜12から選ばれる化合物を所定量
加え2〜6時間加熱還流した。反応後アセトンの
約4/5をエバポレートしてから1のエーテル中
に撹拌しながら反応物を注ぐと白色もしくは淡黄
色の沈殿物が得られた。これらを数回エーテルで
洗滌後に乾燥した。得られた化合物は前記共重合
体1〜5のハーフエステル又はハーフアマイドで
ある事が赤外吸収スペクトル及び元素分析より認
められた。反応条件、乾燥収量を下記の表に示
す。該化合物を合成共重合体6〜18とする。
【表】
平版印刷材料の製造
135g/m2のポリエチレン被覆紙をコロナ放電
加工した後、カーボンブラツクを含むゼラチン
液を塗布し、更にその上にオルト増感された高
コントラストのハロゲン化銀乳剤を塗布した。
この乳剤層は、硝酸銀としてのハロゲン化銀量
で平方メートル当たり1.5g、ゼラチン1.5gよ
り基本的に構成されて居り、硬化剤としてホル
マリン及びジメチロール尿素を含有していた。 該感光ハロゲン化銀乳剤含有写真材料を40℃
で3日間加温後下記の処方よりなる硫化パラジ
ウムゾルを塗布して、平版印刷材料を作つた。 A 液 塩化パラジウム 5g 塩 酸 40ml 水 1000ml B 液 硫化ソーダ 8.6g 水 1000 ml A液とB液とを撹拌しながら混合し、30分後
に純水製造用に作られたイオン交換樹脂(IR
−12CB、IRA−400)の入つたカラムの中を通
し、更にC−1液又はC−2液を加えて塗液と
した。 C−1液 合成共重合体() 10g 10%サポニン 20ml 水 18000ml C−2液 合成共重合体() 10g 多官能性反応体又は/及び金属塩 Xg 10%サポニン 20ml 水 18000ml 合成共重合体()と金属塩又は/及び多官
能性反応体は後記第1表、の如き組合せで使用
した。各の塗布量、各々の表中に記載する。 処 理 該感光性材料を像に従つて露光した後、下記
処方の転写現像液(D)に30℃で30秒間浸漬し、転
写現像を行ない、引き続いて、下記処方(E)より
なる停止液中に、30秒間(25℃)浸漬し、スク
イーズして余分な液を除き、材料を大気条件下
に乾燥した。 処方D転写現線液 水 1500ml 水酸化ナトリウム 20g 亜硫酸ナトリウム 100g ハイドロキノン 12g 1−フエニル−3−ピラゾリドン 1g チオ硫酸ナトリウム 15g 臭化カリウム 3g 水を加えて全量を2とする 処方E停止液 水 1 コロイダルシリカ(20%液) 1g クエン酸 10g クエン酸ナトリウム 35g 印刷方法 かくして得られた印刷板をオフセツト印刷機
エビー・デイツク350CD(A.B.Dick350CD商
品名)に装着し、版面を水で拭いた後印刷を行
なつた。印刷室は22℃、湿度60%であつた。湿
潤液としては通常水を使用し、印刷インキとし
てはガンツ(カンツ インク アンド サプラ
イ社製、GanS Ink and Supply Co.)を使用
した。当インキは本発明に至る以前の当該オフ
セツト印刷板に対しヨゴレが出易いインキの1
つであつた。インキ受容特性、及びヨゴレの出
易さは、次のような方法で判定した。 (1) インキ受容特性:版面にインキ付ローラー
を接触させると同時に紙送りを始め、良好な
画像濃度で印刷物が得られるまでの印刷枚数 (2) ヨゴレの評価:1000枚の印刷を行ない、そ
の時の印刷物のヨゴレの程度から次の3つの
水準で評価した。 〇 全くヨゴレが発生しない △ 部分的もしくは薄いヨゴレが発生する × 全面的な濃いヨゴレが発生する 画像再現特性及び耐刷性はそれぞれ下記の方
法で試験した。 (3) 画像再現性:軟調ウエツジを焼き付け製版
後印刷を行ない、印刷インキ画像として再現
する足先から肩までの原稿の濃度差で表示し
た。値が少ないほど硬調であることを示して
いる。 (4) 耐刷性:1000枚以上の印刷を行ないヨゴレ
が出始める時の印刷枚数により次の水準で評
価した。 ◎ 4000枚以上 〇 2000〜4000枚 △ 1000〜2000枚 × 1000枚以下 実施例 1 下記表−1に示すような組合せで、硫化パラジ
ウムゾルを塗布した。インキ受容特性、ヨゴレの
評価、画像再現性、耐刷性の結果を表−1に併記
する。
加工した後、カーボンブラツクを含むゼラチン
液を塗布し、更にその上にオルト増感された高
コントラストのハロゲン化銀乳剤を塗布した。
この乳剤層は、硝酸銀としてのハロゲン化銀量
で平方メートル当たり1.5g、ゼラチン1.5gよ
り基本的に構成されて居り、硬化剤としてホル
マリン及びジメチロール尿素を含有していた。 該感光ハロゲン化銀乳剤含有写真材料を40℃
で3日間加温後下記の処方よりなる硫化パラジ
ウムゾルを塗布して、平版印刷材料を作つた。 A 液 塩化パラジウム 5g 塩 酸 40ml 水 1000ml B 液 硫化ソーダ 8.6g 水 1000 ml A液とB液とを撹拌しながら混合し、30分後
に純水製造用に作られたイオン交換樹脂(IR
−12CB、IRA−400)の入つたカラムの中を通
し、更にC−1液又はC−2液を加えて塗液と
した。 C−1液 合成共重合体() 10g 10%サポニン 20ml 水 18000ml C−2液 合成共重合体() 10g 多官能性反応体又は/及び金属塩 Xg 10%サポニン 20ml 水 18000ml 合成共重合体()と金属塩又は/及び多官
能性反応体は後記第1表、の如き組合せで使用
した。各の塗布量、各々の表中に記載する。 処 理 該感光性材料を像に従つて露光した後、下記
処方の転写現像液(D)に30℃で30秒間浸漬し、転
写現像を行ない、引き続いて、下記処方(E)より
なる停止液中に、30秒間(25℃)浸漬し、スク
イーズして余分な液を除き、材料を大気条件下
に乾燥した。 処方D転写現線液 水 1500ml 水酸化ナトリウム 20g 亜硫酸ナトリウム 100g ハイドロキノン 12g 1−フエニル−3−ピラゾリドン 1g チオ硫酸ナトリウム 15g 臭化カリウム 3g 水を加えて全量を2とする 処方E停止液 水 1 コロイダルシリカ(20%液) 1g クエン酸 10g クエン酸ナトリウム 35g 印刷方法 かくして得られた印刷板をオフセツト印刷機
エビー・デイツク350CD(A.B.Dick350CD商
品名)に装着し、版面を水で拭いた後印刷を行
なつた。印刷室は22℃、湿度60%であつた。湿
潤液としては通常水を使用し、印刷インキとし
てはガンツ(カンツ インク アンド サプラ
イ社製、GanS Ink and Supply Co.)を使用
した。当インキは本発明に至る以前の当該オフ
セツト印刷板に対しヨゴレが出易いインキの1
つであつた。インキ受容特性、及びヨゴレの出
易さは、次のような方法で判定した。 (1) インキ受容特性:版面にインキ付ローラー
を接触させると同時に紙送りを始め、良好な
画像濃度で印刷物が得られるまでの印刷枚数 (2) ヨゴレの評価:1000枚の印刷を行ない、そ
の時の印刷物のヨゴレの程度から次の3つの
水準で評価した。 〇 全くヨゴレが発生しない △ 部分的もしくは薄いヨゴレが発生する × 全面的な濃いヨゴレが発生する 画像再現特性及び耐刷性はそれぞれ下記の方
法で試験した。 (3) 画像再現性:軟調ウエツジを焼き付け製版
後印刷を行ない、印刷インキ画像として再現
する足先から肩までの原稿の濃度差で表示し
た。値が少ないほど硬調であることを示して
いる。 (4) 耐刷性:1000枚以上の印刷を行ないヨゴレ
が出始める時の印刷枚数により次の水準で評
価した。 ◎ 4000枚以上 〇 2000〜4000枚 △ 1000〜2000枚 × 1000枚以下 実施例 1 下記表−1に示すような組合せで、硫化パラジ
ウムゾルを塗布した。インキ受容特性、ヨゴレの
評価、画像再現性、耐刷性の結果を表−1に併記
する。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷材料で
あつて重金属又はその硫化物よりなる物理現像核
を含む層または/およびその隣接する層に該物理
現像核に対して親和性を有する官能基をもたず、
親水化活性を与える官能基をもつた次式() 〔式中のnは正の整数、R1はエチレン系不飽和有
機単量体の残基、Xは【式】(式中のR3は水 素原子、低級アルキル基)、又は−O−、R2は低
級アルキレン基、3〜8個の炭素原子を有するシ
クロアルキレン基又はフエニレン基、Yは水素原
子、カルボキシル基又は【式】 (式中のR4及びR5はそれぞれ水素原子、低級アル
キル基)、またYが水素原子の場合には、R2は単
なる結合手を示す。〕で表わされる分子反復単位
を有する合成重合体を含むことを特徴とする平版
印刷材料。 2 nが35〜3500である特許請求の範囲第1項記
載の平版印刷材料。 3 R1がCH2【式】(R6は水素原子、低級ア ルキル基又は低級アルコキシ基、R7は水素原子
又は低級アルキル基)である特許請求の範囲第1
項記載の平版印刷材料。 4 R6が低級アルコキシ基であり、R7が水素原
子である特許請求の範囲第3項記載の平版印刷材
料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP504779A JPS5596954A (en) | 1979-01-18 | 1979-01-18 | Lithographic material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP504779A JPS5596954A (en) | 1979-01-18 | 1979-01-18 | Lithographic material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5596954A JPS5596954A (en) | 1980-07-23 |
JPS6144307B2 true JPS6144307B2 (ja) | 1986-10-02 |
Family
ID=11600491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP504779A Granted JPS5596954A (en) | 1979-01-18 | 1979-01-18 | Lithographic material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5596954A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4361635A (en) * | 1981-06-19 | 1982-11-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photolithographic element containing a silver-receptive polyaldehyde-containing receiving layer |
JPS6440947A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-13 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Planographic printing plate |
JPH01241558A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 平版印刷版 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5321602A (en) * | 1976-08-10 | 1978-02-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Lithographic printing material applying silver complex salt diffusion transfer method |
-
1979
- 1979-01-18 JP JP504779A patent/JPS5596954A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5321602A (en) * | 1976-08-10 | 1978-02-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Lithographic printing material applying silver complex salt diffusion transfer method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5596954A (en) | 1980-07-23 |
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