JPS61287736A - ポリイミド−金属箔複合フイルム - Google Patents

ポリイミド−金属箔複合フイルム

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JPS61287736A
JPS61287736A JP13062585A JP13062585A JPS61287736A JP S61287736 A JPS61287736 A JP S61287736A JP 13062585 A JP13062585 A JP 13062585A JP 13062585 A JP13062585 A JP 13062585A JP S61287736 A JPS61287736 A JP S61287736A
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film
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、複合フィルムの状態だけではなく、金属箔
をエツチング除去した状態においてもカールを殆ど生じ
ず、しかも耐熱性、耐薬品性9寸法安定性等の特性にも
優れているポリイミド−金属箔複合フィルムに関するも
のである。
〔従来の技術〕
ポリイミド−金属箔複合フィルムは、フレキシブルプリ
ント回路用基板等として半導体装置に用いられている。
このようなポリイミド−金属箔複合フィルムは、回路形
成が施され、電子部品等を実装されて半導体装置等に組
み込まれる。最近では、半導体装置の実装密度を高める
ことが行われており、回路形成が施されたポリイミド−
金属箔複合フィルムに電子部品を実装する際、その製造
工程で複数回の半田処理を施し電子部品を高密度で実装
することが行われている。この場合、実装に際してはか
なり高温で半田を溶融させて行われており、上記ポリイ
ミド−金属箔複合フィルムについても耐熱性等の特性が
優れていることが要求されている。また操業性の問題等
から、回路形成に至る迄の段階、および金属箔をエツチ
ングして回路形成した後の段階のいずれの段階において
もフィルムが反ったすせず平面的な状態を保つことも要
求されている。
従来からこの種ポリイミドー金属箔複合フィルムの製造
法としてはつぎの3種類の方法がある。
第1の方法は、ポリイミドフィルムを接着剤を用いて金
属箔と接着するという方法であり、第2の方法は、ポリ
イミドフィルムを金属箔に熱融着する方法である。第3
の方法は、金属箔の箔面にポリイミド前駆体ないしはポ
リイミドの存機極性溶媒溶液を塗布し加熱処理をしてポ
リイミド膜を形成するという方法である。
上記の3種類の方法のうち、第1の方法はポリイミドフ
ィルムを接着剤を介して金属箔に接着するため、接着剤
の作用によりポリイミド−金属箔複合フィルム全体の耐
熱性や耐ヒートシヨツク性か低下するという難点がある
。また、ポリイミドをフィルム化する必要があるため、
工程が長くなるという難点もある。第2の方法は接着剤
を用いていないため、第1の方法のような難点は生じな
いがやはりポリイミドをフィルム化するという工程が必
要となり、工程が長くなるという難点がある。第3の方
法は接着剤を用いたり、あるいはポリイミドをフィルム
化したりする必要がないため、上記のような難点を生じ
ず、しかも薄手のポリイミド−金属箔複合フィルムが得
られるようになるという利点がある。しかしながら、こ
の方法により得られるポリイミド−金属箔複合フィルム
は、ポリイミド樹脂層の形成に高温を要するため、金属
箔とポリイミド樹脂層との熱膨張率の差から常温に温度
降下すると収縮率に差が生じるのであり、それによって
複合フィルムがカールするという難点がある。このよう
なカールが生じると後工程におけるフォトレジスト印刷
等に支障をきたすばかりでなく、運搬時等の取扱性にも
問題を生じる。
上記ポリイミド−金属箔複合フィルムのカールの問題を
解決する方法として2種類の方法が提案されている。第
1の方法は、上記複合シートを後処理してカールを矯正
する方法であり、例えば特開昭54−31480号公報
には複合シートをアーチ型乾燥炉(ドラムドライヤー)
等で延伸、圧延する方法が開示されており、また、特開
昭54−66966号公報には長時間高温で加熱処理す
ることによりカールを除去する方法が開示されている。
さらに特開昭54−108272号公報には樹脂層を外
側にして円筒状に巻きつけ100〜200℃で長時間加
熱処理してカールを除去する方法が、特開昭59−22
388号公報には曲率半径0.5〜25鶴の曲面を有す
るバーの曲面の上を金属箔面を内側にして張力をかけな
がら連続的に接触させてカールを除去する方法が開示さ
れている。このような方法によればカールはかなり矯正
されるものの後処理用の各種の装置が必要となり、また
、後処理工程の付加により全体の工程が長くなるため、
実用化には問題がある。
第2の方法は、耐熱性樹脂にエポキシ、フェノキシ、ア
クリロニトリル−ブタジェン共重合体を反応させ、三次
元構造化させることにより硬化収縮を抑制しカールの発
生を防止する方法である。
この方法によればカールの発生防止にある程度の効果は
得られるものの、生成樹脂が三次元構造になっていて可
撓性に欠け、また架橋剤の導入により耐熱性も低下して
いるため得られる複合シートの性能が悪くなるという難
点がある。
ポリイミド−金属箔複合フィルムに対しては、先に述べ
たように、操業性等の観点から複合フィルムの状態でカ
ールしないことはもとより金属箔をエツチング除去した
状態でもカールしないことが求められている。
上記の各提案法は、複合フィルムの状態におけるカール
の発生の防止を主目的としており、金属箔をエツチング
したのちの状態のもののカールの防止については何ら考
慮していない。この点に関しては、特開昭58−155
790号公報に、4核体ジアミンを用いたポリイミドの
有機極性溶媒溶液を金属箔に流延塗布し金属箔を化学エ
ツチングにより除去したのちのポリイミド樹脂層(ポリ
イミドフィルム)にカールが生じないことが開示されて
いる。しかし、この提案法で用いるポリイミド樹脂は、
線膨張係数が銅箔等の金属箔に比べてかなり大きくなる
ため、複合フィルムの段階ではカールを生じてしまう。
したがって、ポリイミド−金属箔複合フィルムに対して
フォトレジスト印刷する際に支障をきたし、また、運搬
等においても問題を生じるのである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のように、これまでの提案法によれば、いずれも一
長一短があり、複合フィルムの状態のみならず金属箔を
エツチング除去した状態でもカールを生じず、しかも耐
熱性、耐薬品性1寸法安定性等の特性に優れたポリイミ
ド−金属箔複合フィルムが得られていないのが実情であ
る。
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、複
合フィルムの状態のみならず金属箔をエツチング除去し
た状態でもカールを殆ど生じず、しかも耐熱性、耐薬品
性1寸法安定性等の特性に優れたポリイミド−金属箔複
合フィルムの提供をその目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため、この発明のポリイミド−金
属箔複合フィルムは、導電性金属箔の箔面に、下記の一
般式(1)で表される繰返し単位および一般式(2)で
表される繰返し単位を主体とするポリイミド樹脂層が直
接形成されているという構成をとる。
本発明者らは、ポリイミド−金属箔複合フィルムのカー
ルの発生を防止するため、上記複合フィルムのポリイミ
ド樹脂層に着目し、ポリイミドの出発原料となる有機テ
トラカルボン酸二無水物類およびジアミノ化合物を中心
に研究を重ねた結果、有機テトラカルボン酸二無水物類
として3.3’、4.4° −ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物を用いるとともに、ジアミノ化合物として
p−フェニレンジアミンを用いると、金属箔と同程度の
線膨張係数を有するポリイミドが得られ、これをポリイ
ミド−金属箔複合フィルムに応用すると、カールの生じ
ない複合フィルムが得られるようになることを見いだし
た。しかしながら、この複合フィルムも複合状態におい
てこそカールの発生が防止されているのであり、金属箔
をエツチング除去した状態ではカールが生じていた。そ
こで本発明者らは、さらに研究を重ねた結果、上記ジア
ミノ化合物としてp−フェニレンジアミンのみを用いる
のではなく、p−フェニレンジアミンとそれ以外のジア
ミンとを併用し、しかも両者の割合をモル比でp−フェ
ニレンジアミンが70〜80モル%に対してそれ以外の
ジアミンが30〜20渠ル%になるように設定すると複
合状態だけでなく金属箔をエツチング除去した状態にお
いてもカールを生じないポリイミド−金属箔複合フィル
ムが得られることをつきとめ、この発明に到達した。
上記のように複合状態だけでなく、金属箔をエツチング
除去した状態でもカールの生じないポリイミド−金属箔
複合フィルムに用いるポリイミド樹脂は前記の一般式(
1)および(2)で表される繰返し単位を主体とするポ
リイミド樹脂である。ここで、主体とするとは全体が主
体のみからなる場合も含めるものである。
上記のようなポリイミド樹脂を用いて、ポリイミド−金
属箔複合フィルムのポリイミド樹脂層を形成することに
より初めて複合フィルムの状態だけでなくエツチング除
去後の状態においてもカールの生じないポリイミド−金
属箔複合フィルムが得られるようになるのである。これ
は、上記ポリイミド樹脂が金属箔と近似した線膨張係数
を有しており、かつ前記一般式(2)の繰返し単位を構
成する、p−フェニレンジアミン以外のジアミンの作用
により、イミド化反応時における脱溶媒、脱水閉環時に
発生する応力が緩和されることに起因するものと考えら
れる。
前記一般式(1)で表される反覆単位と一般式(2)で
表される反覆単位の相互の割合は前記のように一般式(
1)で表される繰返し単位70〜80モル%に対し、一
般式(2)で表される繰返し単位が30〜20モル%で
ある。すなわち、前記一般式(1)で表される繰返し単
位が70モル%未満になると、金属箔とポリイミド樹脂
層との線膨張係数の差が太きくなりすぎ得られるポリイ
ミド−金属箔複合フィルムにカールが生じるようになる
。逆に80モル%を超えると、前記一般式(2)で表さ
れる繰返し単位の割合が少なくなりすぎ金属箔をエツチ
ングしたのちのカールの発生がかなり目立つようになる
からである。
上記一般式(1)で表される繰返し単位と一般式(2)
で表される繰返し単位を主体とするポリイミドの樹脂層
は、例えば、下記の一般式(3)で表されるp−フェニ
レンジアミンおよび下記の一般式(4) %式%(4) 〔Rはフェニレン基以外の2価の有機基〕で表されるp
−フェニレンジアミン以外のジアミンが前者70〜80
モル%に対して後者が30〜20モル%の割合になって
いるジアミノ化合物と、3.3’、4.4” −ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物ないしその誘導体等を主
体とするテトラカルボン酸二無水物類とを、有機極性溶
媒中で反応させることにより得られる。
上記一般式(4)で表されるp−フェニレンジアミン以
外のジアミン(以下「その他のジアミン」と略す)の代
表的なものはつぎのとおりである。これらのジアミンは
単独でもしくは併せて使用することができる。m−フェ
ニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、4,4°
 −ジアミノジフェニルエーテル、3.4’  −ジア
ミノジフェニルエーテル、3.3” −ジアミノジフェ
ニルエーテル、4.4’−ジアミノジフェニルメタン、
4,4゛−ジアミノジフェニルスルホン、3.3’  
−ジアミノジフェニルスルホン、4,4゛ −ジアミノ
ジフェニルプロパン、3.3” −ジアミノベンゾフェ
ノン、4.4” −ジアミノジフェニルへキサフルオロ
プロパン、4.4’  −ジアミノジフェニルスルフィ
ド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
4.4”−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
2.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
〕プロパン、2゜2−ビス(4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕へキサフルオロプロパン、4.4° −
ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4
.4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルスル
ホン等があげられる。これらのジアミンのなかでも4.
4゛ −ジアミノジフェニルエーテルを用いることが耐
熱性、密着性、カールの低減等の点で最も好適である。
なお、上記のジアミンの一部もしくは全部に代えてつぎ
の(イ)〜(ト)に示すようなシリコン系ジアミンを使
用することができる。
CH:l   CH3 H,N−咲C)l z h−3i −0−S i −+
CHz h−N Hz  −・−・(イ)CL   C
H。
にH3UN3 ChHs   CbHs HJ−CHzh−Si−0−5i−GCHzh−NHz
  −−−−(ハ)CbHs   C6H5 C6H5CbHs I H,N禁CH2h−5i −0−S i宍CHth−N
Hz−(ニ)I ChHs   ChHs 上記のようなシリコン系ジアミンを用いることにより、
特に樹脂層が金属箔に強固に接合していて耐熱性に冨ん
だポリイミド−金属箔複合フィルムが得られるようにな
る。これは本発明者らがプリント回路用基板に用いるポ
リイミド樹脂の研究中に見いだした、ポリイミドの分子
鎖中にシロキサン結合を導入すると生成ポリイミドがガ
ラス等の珪素含有基材だけでなく金属箔に対しても強固
な密着性を発揮するという現象を応用したものであり、
それによって上記のような優れた効果が得られるのであ
る。
また、上記p−フェニレンジアミンとその他のジアミン
とからなるジアミノ化合物に対して反応させるテトラカ
ルボン酸二無水物類は、前記のように、3.3’ 、4
.4’  −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物ない
しはその酸ハロゲン化物。
ジエステル、モノエステル等の誘導体を主体とするもの
である。通常はこの二無水物ないしはその誘導体を70
モル%以上、その他のテトラカルボン酸二無水物ないし
はその酸ハロゲン化物、ジエステル、モノエステル等の
誘導体を30モル%以下の割合で含むものが用いられる
。3.3’ 、4.4゛ −ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物ないしはその誘導体の割合が少なすぎると、
金属箔とポリイミド樹脂との線膨張係数が大きくなるか
もしくはポリイミド樹脂の強度が極端に低下する等の不
都合を生じるため好ましくない。
上記その他のテトラカルボン酸二無水物ないしその誘導
体としては、ピロメリット酸二無水物、3.3’ 、4
.4” −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
3.3”、  4. 4’ −ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、2.3,6.7−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物等の酸二無水物ないしはその誘導体があ
げられ、単独でもしくは併せて使用することができる。
上記のその他のテトラカルボン酸二無水物類のなかでも
特にピロメリット酸二無水物ないしはその誘導体や3゜
3”、4.4’  −ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物ないしはその誘導体を用いることが好適である
。すなわち、これらのテトラカルボン酸二無水物類は、
これ単独で前記のジアミノ化合物と反応させても強度に
優れたポリイミド樹脂層(ポリイミド膜)を生成しにく
いのであるが、ポリイミド樹脂層の線膨張係数の低下に
は好ましい結果を与え、カール防止というこの発明の目
的に適合するようになるからである。
この発明における重合体の合成は、上記のジアミノ化合
物とテトラカルボン酸二無水物類等を略等モル有機極性
溶媒中において通常0〜90℃で1〜24時間反応させ
ポリアミド酸等のポリイミド前駆体とすることにより行
われる。
上記の有機極性溶媒としては、N−メチル−2−ピロリ
ドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルホス
ホアミド、m−クレゾール、p−クレゾール、p−クロ
ルフェノール等があげられる。なおキシレン、トルエン
、ヘキサン、ナフサ等を一部併用してもよい。
このようにして合成されるポリイミド前駆体はその対数
粘度(N−メチル−2−ピロリドン中0゜5g/100
mjlの濃度で30℃下で測定)がO04ないし7.0
の範囲にあるのが好適である。より好適なのは1.5な
いし3.0の範囲内、である。この値が小さすぎると、
得られるポリイミド樹脂層の機械的強度が低くなり逆に
この値が大きすぎると、金属箔の箔面への塗布作業性が
悪くなり好ましくない。
上記の対数粘度とはつぎの式で計算されるものであり式
中の落下時間は毛細管粘度により測定されるものである
この対数粘度は重合体の分子量と直接関係があることは
公知である。
この発明は上記のようにして得られたポリイミド前駆体
の有機極性溶媒溶液を用い、例えばつぎのようにしてポ
リイミド−金属箔複合フィルムを製造する。すなわち、
まず上記のポリイミド前駆体の有機極性溶媒溶液を80
℃以下の温度に加温して粘度を低下させ、その状態で、
厚みが1〜500μm、好ましくは10〜100μm特
に好ましくは20〜50μmの金属箔上に、アプリケー
ター等の適宜の手段で流延塗布する。この場合、上記金
属箔の厚みが1μm未満であるとカール発生の防止効果
が小さくなり、また用途上の問題等が生じる恐れがあり
、逆に500μmを超えると得られるポリイミド−金属
箔複合フィルムが柔軟性に欠は電気回路板等の用途にあ
まりふされしくなくなる。したがって、使用する金属箔
は、厚みが1〜500μmの範囲内のものが好適である
上記金属箔の種類としては、銅箔、アルミニウム箔が好
ましく、銅箔を用いる場合は、電解銅箔、圧延銅箔もし
くはこれらをシランカップリング剤、アルミニウム系カ
ップリング剤等により表面処理したものを用いると、ポ
リイミド樹脂層との接着力が大きくなるため好ましい。
なお金属箔としては、上記のような厚みを有する銀、鉄
、ニッケルとクロムとの合金、ステンレス等の各種材質
からなるものを用いることができる。前記ポリイミド前
駆体溶液を塗布する際におけるこれら金属箔の長さは特
に規制されるものではない。しかし、幅は実際上20〜
200cm程度である。もちろん、上記範囲を逸脱して
も差支えはない。また、上記広幅の金属箔を用いて得ら
れたポリイミド−金属箔複合フィルムを最終工程におい
て所定幅に裁断して使用に供してもよいことはいうまで
もない。
なお、前記のようにして得られたポリイミド前駆体の有
機極性溶媒溶液を必要に応じて有機極性溶媒でさらに希
釈してもよい。この場合の希釈用有機極性溶媒としては
、それぞれのポリイミド前駆体の重合反応時に使用した
ものを使用できる。
また、上記溶液中のポリイミド前駆体の濃度は10〜3
0重量%程度に設定することが好ましい。
この濃度が低すぎるとポリイミド樹脂層の表面が荒れや
すく、逆に高くなりすぎると粘度が高くなって塗布作業
性が損なわれるようになる。この溶液の粘度は、塗布作
業性の面から一般的には加温塗布時の粘度で、5000
ポイズ以下とすることが好ましい。
つぎに、溶液塗布後、上記の金属箔を固定した状態で加
熱処理してポリイミド樹脂層を形成する。この加熱処理
は、通常、100〜230℃で30分〜2時間程度加熱
乾燥して溶媒を除去したのち、さらに昇温し最終的に2
30〜600℃の温度で1分〜6時間、好ましくは形成
されるポリイミドのガラス転移温度付近の温度、すなわ
ち250〜350℃の温度で、10分〜6時間加熱処理
することにより行われる。これにより、ポリイミド前駆
体塗布液のイミド化反応が完全に行われるとともに、上
記の溶媒除去およびイミド化時に塗膜に生じる応力が緩
和される。
なお、上記イミド化および応力緩和のための加熱処理を
230℃未満の温度で行うと、イミド化反応が完全に終
了しないばかりか応力緩和が不充分となり、得られるポ
リイミド−金属箔複合フイルムにカールが生じやすくな
る。逆に600℃を超える温度で行うと、ポリイミドが
分解するため好ましくない。
このような一連の工程を経て金属箔上に1.応力緩和が
なされたポリイミド樹脂層(ポリイミド膜)が形成され
ポリイミド−金属箔複合フィルムが得られる。この場合
、ポリイミド膜の厚みを5〜200μmに設定すること
が好ましい。より好ましくは10〜100μmであり、
最も好ましいのは20〜60μmである。この厚みが5
μm未満になるとフィルム特性が悪くなり、逆に200
μmを超えると可撓性に欠けるようになりポリイミド−
金属箔複合フィルムとしての用途にあまりふされしくな
くなる。したがって、ポリイミド膜の厚みは5〜200
μmに設定することが好ましい。
上記ポリイミド膜は一般に、50〜250℃における平
均線膨張係数が1.5X10−’〜3.0X10−’/
”Cの範囲にあるが、場合によっては上記値よりもさら
に小さい平均線膨張係数にすることも可能である。これ
に対して上記と同じ温度範囲にある金属箔、例えば1〜
500μm厚の金属箔の平均線膨張係数は、銅箔では、
1.5 X 10’−’〜1゜7 X 10−’/’C
の範囲にあり、またアルミニウム箔では2.4 X 1
0−’〜2.6 X 10−5/’Cの範囲にある。
このように、この発明においては上記ポリイミド膜のポ
リマー組成を前記特定範囲内に設定することにより、ポ
リイミド膜と金属箔との平均線膨張係数をほぼ同じ値に
設定できるという特徴を有している。
このようにして得られるポリイミド−金属箔複合フィル
ムは、幅方向、長さ方向ともに実質的なカールがなくし
かもポリイミド樹脂層内部の応力が緩和されているため
、金属箔をエツチングにより除去したあとにもカールを
生じないという優れた特性を備えている。しかも、ポリ
イミド樹脂が有する優れた特性により耐熱性、耐薬品性
9寸法安定性等の特性にも優れており、かつ、ポリイミ
ド樹脂層と金属箔との密着性にも優れているため特に半
導体装置等の用途に好適に応用でき優れた効果を発揮し
うるちのである。なお、この発明のポリイミド−金属箔
複合フィルムは、上記のような用途だけでなく、それ以
外の用途、例えば、太陽電池用基板、耐熱防食用基板等
に好適に応用しうるのである。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明のポリイミド−金属箔複合フィル
ムは、p−フェニレンジアミンから誘導される前記一般
式(1)で表される繰返し単位と、それ以外のジアミン
から誘導される前記一般式(2)で表される繰返し単位
とが、モル比で70〜80:30〜20の割合に設定さ
れているポリイミドからなるポリイミド樹脂層を備えて
いるため、複合状態だけでなく金属箔をエツチング除去
した状態においてもカールを生じず、しかも、耐熱性、
耐薬品性2寸法安定性等の特性に優れており、半導体装
置等に好適に応用しうるちのである。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
〔実施例1〕 攪拌機および温度計を備えた5 00 ccのフラスコ
に、p−フェニレンジアミン(p−PDA)7゜56g
(0,07モル)およびジアミンフェニルエーテル(D
ADE) 6.0 g (0,03モル)ならびにN−
メチル−2−ピロリドン(NMP)  200 gを入
れて攪拌し、ジアミンを溶解させた。
つぎに、この系に3.3’ 、4.4’ −ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物(s−BPDA)29.4g
 (0,1モル)を徐々に加え、その後、30℃以下の
温度で3時間攪拌を続け、濃度17.7重量%のポリイ
ミド前駆体溶液を得た。このポリイミド前駆体溶液の固
有粘度(NMP中0.5g/100 m Itの濃度、
30℃で測定)は1.94であり、溶液粘度は8600
ボイズ(30℃)であった。
つぎに、上記ポリイミド前駆体溶液を60℃に加温し、
厚み35μmの圧延銅箔上に、アプリケーターを用いて
流延塗布し、100℃で30分。
200℃で1時間さらに300℃で2時間加熱しポリイ
ミド−金属箔複合フィルムを得た。つぎに、これを室温
に冷却し、複合フィルムのカールを下記の測定法によっ
て測定したところ、その曲率半径は74mであった。ま
た、上記複合フィルムの銅箔を塩化第二鉄水溶液にてエ
ツチングし除去した後のポリイミドフィルムのカールを
測定したところ、その曲率半径は105uであり、50
〜250℃における平均線膨張係数は2.33 X 1
0−′7℃であった。
〔曲率半径測定法〕
上記曲率半径は、図面に示すように、金属箔1とポリイ
ミド膜2からなる複合フィルム3を長さ10c11.幅
10cmの10cm角に切断した試験片につき、この試
験片が幅方向(ないし長さ方向)にカールしたときの曲
率の程度を中心Pからの半径rで表したものである。そ
して、この曲率半径rは、カール状態での幅方向(ない
し長さ方向)の長さを39幅方向(長さ方向)両端を結
ぶ水平線Mに中心Pから垂線Nを下ろしたときの交点R
より上記型iNの延長線上にあるフィルム中央部までの
高さをhとしたとき、h≧rのときはこのrを実測する
ことにより、またh<rのときは便宜的に上記a値とh
値とを実測して下記の式より算出することができる。
2 r h=h” + −a” 2    8h 〔平均線膨張係数測定法〕 平均線膨張係数は一定温度範囲における下記線膨張係数
の平均値として示されるものである。ここで、線膨張係
数とは、温度Tにおいて長さlの材料が、温度が1℃変
化したとき長さがΔβだけ変化したとすると、Δβ/l
で示されるものである。この線膨張係数の測定は、複合
フィルムを長さ25鶴1幅3flに切断した試験片につ
き、長さ方向の一端を上方にして固定し、チャック間距
離10nにおいて下端に15g/m”の荷重を加えた状
態で窒素ガス雰囲気中10℃/分の昇温速度で温度変化
を与え、このときの上記Δ1/lを求めることにより行
われる。
〔比較例1〕 攪拌機および温度計を備えた5 00 ccのフラスコ
に、p−PDAI 0.8 g (0,10モル)およ
びN−メチル−2−ピロリドン(NMP)  200 
gを入れて攪拌し、ジアミンを溶解させた。
つぎに、この系に3.3’ 、4.4’ −ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物(s−BPDA)29.4g
(0,1モル)を徐々に加え、その後30℃以下の温度
で3時間攪拌を続け、濃度16.7%のポリイミド前駆
体溶液を得た。このポリイミド前駆体溶液の固存粘度(
NMP中0.5g/100m1の濃度、30℃で測定)
は2.11であり、溶液粘度は5300ボイズ(30℃
)であった。
つぎに、上記ポリイミド前駆体溶液を60℃に加温し、
厚み35μmの圧延銅箔上にアプリケーターを用いて流
延塗布し、100℃で30分、200°Cで1時間、さ
らに300℃で2時間加熱した。室温に冷却し、複合フ
ィルムのカールを測定したところ、その曲率半径は32
0fiであった。
また、銅箔を塩化第二鉄水溶液にてエツチングし除去し
た後の塗膜のカールを測定したところ、その曲率半径は
15鶴であり、50〜250℃における平均粒線膨張係
数は1.55 xlO−5/’cであった。複合フィル
ムのカールが極めて小さかったにもかかわらず、ポリイ
ミドの分子構造があまりにも剛直であるために応力の緩
和がなされず、塗膜にカールが生じたものと考えられる
〔実施例2〜6.比較例2〜6〕 第1表に示すジアミノ化合物、芳香族テトラカルボン酸
二無水物類、重合溶媒および金属箔を用い、実施例1と
同様にしてポリイミド−金属箔複合フィルムを作製した
。得られた複合フィルムのカールの曲率半径およびエツ
チング後のポリイミドフィルムのカールの曲率半径、線
膨張係数は第1表に示す通りであった。なお、第1表に
おいて、曲率半径および線膨張係数は前記のようにして
測定したものである。
第1表の結果より、実施例の複合フィルムは、比較例の
ものに比べて、複合状態のみならず、金属箔をエツチン
グ除去した状態(ポリイミドフィルムのみ)においても
カールが極めて小さいことがわかる。
なお、第1表において、BAPPは、2,2−ビス(4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、BT
DAは、3.3’ 、4.4’  −ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、DMACはジメチルアセトア
ミドを示す。なお、p−PDA、DADE、5−BPD
A、NMPは前述の通りである。
(以下余白)
【図面の簡単な説明】
図面はポリイミド−金属箔複合フィルムの曲率半径を説
明する説明図である。 1−金属箔 2−・ポリイミド膜 3−複合フイルム

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性金属箔の箔面に、下記の一般式(1)で表
    される繰返し単位および一般式(2)で表される繰返し
    単位を主体とするポリイミド樹脂層が直接形成されてい
    ることを特徴とするポリイミド−金属箔複合フィルム。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) 〔上式において、Rはフェニレン基以外の2価の有機基
    であり、l:m=70〜80:30〜20である。〕
  2. (2)一般式(2)のRが▲数式、化学式、表等があり
    ます▼である 特許請求の範囲第1項記載のポリイミド−金属箔複合フ
    ィルム。
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JPS6482929A (en) * 1987-09-25 1989-03-28 Mitsui Toatsu Chemicals Flexible laminated plate of plastic and metal
US5374469A (en) * 1991-09-19 1994-12-20 Nitto Denko Corporation Flexible printed substrate
JP2006082228A (ja) * 2004-09-14 2006-03-30 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 樹脂複合銅箔とこれを用いた銅張積層板及びプリント配線板

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62282486A (ja) * 1986-05-30 1987-12-08 日東電工株式会社 フレキシブルプリント基板
JPS6482929A (en) * 1987-09-25 1989-03-28 Mitsui Toatsu Chemicals Flexible laminated plate of plastic and metal
US5374469A (en) * 1991-09-19 1994-12-20 Nitto Denko Corporation Flexible printed substrate
JP2006082228A (ja) * 2004-09-14 2006-03-30 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 樹脂複合銅箔とこれを用いた銅張積層板及びプリント配線板

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