JPS6126941A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6126941A JPS6126941A JP14994184A JP14994184A JPS6126941A JP S6126941 A JPS6126941 A JP S6126941A JP 14994184 A JP14994184 A JP 14994184A JP 14994184 A JP14994184 A JP 14994184A JP S6126941 A JPS6126941 A JP S6126941A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- substrate
- mask
- ferromagnetic film
- ferromagnetic
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し発明の技術分野〕
この発明は真空蒸着法により強磁性薄膜層を形成して構
成した磁気記録媒体、特に磁気記録チーブに関するもの
で、耐摩耗性の優れた磁気記録テープの製造方法を提供
しようとするものである。
成した磁気記録媒体、特に磁気記録チーブに関するもの
で、耐摩耗性の優れた磁気記録テープの製造方法を提供
しようとするものである。
近年、篩密度記録の要求に答えるべく、真空蒸着法によ
る磁気記録媒体の開発が進められている。
る磁気記録媒体の開発が進められている。
これは、高分子成形物等の基板上に連続して強磁性薄膜
を形成することにより磁気記録媒体をうるわけであるが
、真空蒸着法により製造した磁気記録媒体は一般に付着
力が弱く、磁気ヘッドと摺動することにより強磁性薄膜
が剥離じゃすい。°また磁性合金の蒸着膜で磁気記録媒
体を形成しようとする場合、抗磁力の大きな蒸着膜を得
るためには蒸発粒子を基板に対して斜め方向から入射さ
せる、いわゆる斜方入射蒸着法をとるのが一般的である
が、この場合、磁性膜は緻密なものが得られず、結晶粒
間の隙間の比較的大きな構造となるため、耐摩耗性が悪
かった。そこで強磁性薄膜の表面を４９に酸化させ、耐
摩耗性を向上させることが成されてきた。従来、強磁性
薄膜の表面を特に酸化させる方法として、０２ガスによ
るイオンボンバード処理、強磁性薄膜層表面への偽イオ
ン打ちこみ、強磁性薄膜層の加熱処理等があったが、こ
れらの方法は特別な装置を用いるなど、製造工程が複雑
になるという欠点があった。
を形成することにより磁気記録媒体をうるわけであるが
、真空蒸着法により製造した磁気記録媒体は一般に付着
力が弱く、磁気ヘッドと摺動することにより強磁性薄膜
が剥離じゃすい。°また磁性合金の蒸着膜で磁気記録媒
体を形成しようとする場合、抗磁力の大きな蒸着膜を得
るためには蒸発粒子を基板に対して斜め方向から入射さ
せる、いわゆる斜方入射蒸着法をとるのが一般的である
が、この場合、磁性膜は緻密なものが得られず、結晶粒
間の隙間の比較的大きな構造となるため、耐摩耗性が悪
かった。そこで強磁性薄膜の表面を４９に酸化させ、耐
摩耗性を向上させることが成されてきた。従来、強磁性
薄膜の表面を特に酸化させる方法として、０２ガスによ
るイオンボンバード処理、強磁性薄膜層表面への偽イオ
ン打ちこみ、強磁性薄膜層の加熱処理等があったが、こ
れらの方法は特別な装置を用いるなど、製造工程が複雑
になるという欠点があった。
この発明は、以上述べた欠点を除去する為になされ、強
磁性膜を２層構造とするもので、走行する基板と強磁性
体蒸発源との間に、上記蒸発源における蒸発粒子の上記
基板に対する入射角を制限する斜方マスクを介在させ、
上記強磁性膜の１層目は上記斜方マスクの上流側で酸素
を導入しながら形成し、２層目は、上記斜方マスクの下
流側で酸素を導入しながら形成することによシ、簡単な
装置で目的の磁気記録媒体を容易に製造することを目的
としている。
磁性膜を２層構造とするもので、走行する基板と強磁性
体蒸発源との間に、上記蒸発源における蒸発粒子の上記
基板に対する入射角を制限する斜方マスクを介在させ、
上記強磁性膜の１層目は上記斜方マスクの上流側で酸素
を導入しながら形成し、２層目は、上記斜方マスクの下
流側で酸素を導入しながら形成することによシ、簡単な
装置で目的の磁気記録媒体を容易に製造することを目的
としている。
この発明を実施する為の装置の一例を、図面を用いて説
明する。図面において、（１）は真空槽、（２）はテー
プ巻き出し軸、（３）はテープ巻き取り軸、（４）（５
）はフリーローラー、（７）は冷却キャンである。（６
）は、高分子成形物である基板である。
明する。図面において、（１）は真空槽、（２）はテー
プ巻き出し軸、（３）はテープ巻き取り軸、（４）（５
）はフリーローラー、（７）は冷却キャンである。（６
）は、高分子成形物である基板である。
（２）は、真空槽（１）を真空に保つための真空排気口
である０（２）は蒸発容器、αηは強磁性膜を蒸着する
ための蒸着母材、ＱＯは蒸発容器＠と蒸発母材αυがら
成る強磁性体蒸発源からの蒸発蒸気流を遮へいするため
の斜方マスクである。（８） 、 （９）は真空槽（１
）内に純酸素を導入するパイプで矢印方向に酸素が噴き
出るよう設計されている。
である０（２）は蒸発容器、αηは強磁性膜を蒸着する
ための蒸着母材、ＱＯは蒸発容器＠と蒸発母材αυがら
成る強磁性体蒸発源からの蒸発蒸気流を遮へいするため
の斜方マスクである。（８） 、 （９）は真空槽（１
）内に純酸素を導入するパイプで矢印方向に酸素が噴き
出るよう設計されている。
次に動作について説明する。基板（６）は、テープ巻き
出し軸（２）にセットされフリーローラー（４）を介し
て冷却キャン（７）の周側面に沿って移動搬送され、フ
リーローラー（５）を介して巻き取り軸（３）に巻きあ
げられる。その間、冷却キャン（７）の周側面に沿って
いる時に、蒸発容器＠と蒸発母材Ｕからなる強磁性体蒸
発源からの蒸発蒸気流にさらされる。この時、蒸発蒸気
流の基板（６）への入射角度は、斜方マスクαｑにより
制限されており、蒸発蒸気流は斜方マスクαｑの上流側
及び下流側に流れる。そこで斜方マスクａＱの上流側に
おいて、酸素ガス導入パイプ（８）から酸素が導入され
て蒸発源からの蒸発粒子が酸化され基板（６）に蒸着し
、第１強磁性膜が形成される０さらに、冷却キャン（７
）が矢印方向に回転しＣいる時、斜方マスクＱ０の下流
側で酸素ガス導入バイブ（９）から酸素が噴き出し、蒸
発源からの蒸発蒸気流が酸化され、第１強磁性膜上に蒸
着し第１強磁性膜の上に第２強磁性膜が形成される。
出し軸（２）にセットされフリーローラー（４）を介し
て冷却キャン（７）の周側面に沿って移動搬送され、フ
リーローラー（５）を介して巻き取り軸（３）に巻きあ
げられる。その間、冷却キャン（７）の周側面に沿って
いる時に、蒸発容器＠と蒸発母材Ｕからなる強磁性体蒸
発源からの蒸発蒸気流にさらされる。この時、蒸発蒸気
流の基板（６）への入射角度は、斜方マスクαｑにより
制限されており、蒸発蒸気流は斜方マスクαｑの上流側
及び下流側に流れる。そこで斜方マスクａＱの上流側に
おいて、酸素ガス導入パイプ（８）から酸素が導入され
て蒸発源からの蒸発粒子が酸化され基板（６）に蒸着し
、第１強磁性膜が形成される０さらに、冷却キャン（７
）が矢印方向に回転しＣいる時、斜方マスクＱ０の下流
側で酸素ガス導入バイブ（９）から酸素が噴き出し、蒸
発源からの蒸発蒸気流が酸化され、第１強磁性膜上に蒸
着し第１強磁性膜の上に第２強磁性膜が形成される。
この第２強磁性膜は大量に酸素を含ませているため耐摩
耗性に優れたものになっている。また、第２強磁性膜は
表面の保護膜として形成されるもので、膜厚は５０〜５
００ ＡＯが良いが、膜厚の制御は、斜方マスクａｑの
長さを変えることにより行なえる。
耗性に優れたものになっている。また、第２強磁性膜は
表面の保護膜として形成されるもので、膜厚は５０〜５
００ ＡＯが良いが、膜厚の制御は、斜方マスクａｑの
長さを変えることにより行なえる。
また、蒸発母材αｐは％および％を含む合金等、例えば
ＣｏＮｉ合金が多く用いられており、蒸発容器（６）の
材質としては一般にマグネシアを用いているが、それ以
外の材料でも特に問題は無い。なお蒸発母材ＣＩυの加
熱には、電子ビーム照射法が一般に用いられているが、
他の公知の加熱法によっても特に問題は無い。
ＣｏＮｉ合金が多く用いられており、蒸発容器（６）の
材質としては一般にマグネシアを用いているが、それ以
外の材料でも特に問題は無い。なお蒸発母材ＣＩυの加
熱には、電子ビーム照射法が一般に用いられているが、
他の公知の加熱法によっても特に問題は無い。
以下、上記装置を使用したこの発明の一実施例を説明す
る。
る。
実施例
蒸発母材αηとしてＣ０ＩＩＯＮ１２０を用い、基板（
６）には、１２μｍ厚のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタ
レート）を用いた。第１層目の第１強磁性薄膜が形成さ
れる際の蒸発蒸気流の基材に対する最低の入射角を４５
°とし、膜厚は１５００Ａ０とした。第２層目は膜厚が
１００ＡＯとなるように斜方マスクの長さを調整した。
６）には、１２μｍ厚のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタ
レート）を用いた。第１層目の第１強磁性薄膜が形成さ
れる際の蒸発蒸気流の基材に対する最低の入射角を４５
°とし、膜厚は１５００Ａ０とした。第２層目は膜厚が
１００ＡＯとなるように斜方マスクの長さを調整した。
酸素導入量は、２本とも１００ｍｊ／ａｘとした。
比較のため、酸素を導入して形成した第１層目だけの強
磁性薄膜を有する磁気配録テープをも作製した。得られ
た磁気テープはＶＨ８型ＶＴＲにて、スチル耐久性を測
定した。その結果、第１層目だけの磁気テープのスチル
耐久時間は５分であったのに対し、この発明の製造方法
により迩遺された磁気テープのスチル耐久時間は約３０
分であった。
磁性薄膜を有する磁気配録テープをも作製した。得られ
た磁気テープはＶＨ８型ＶＴＲにて、スチル耐久性を測
定した。その結果、第１層目だけの磁気テープのスチル
耐久時間は５分であったのに対し、この発明の製造方法
により迩遺された磁気テープのスチル耐久時間は約３０
分であった。
以上説明したようＶＣ，この発明によれば、磁気記録媒
体の強磁性膜は２層構造とし、走行する基板と強磁性体
蒸発源との間に、上記蒸発源における蒸発粒子の上記基
板に対する入射角を制限する斜方マスクを介在させ、こ
の斜方マスクの上流側で１層目の第１強磁性膜を酸素を
導入しながら形成し、２層目の第２強磁性膜は、斜方マ
スクの下流側で酸素を導入しながら形成するようにした
ので、簡単な装置で目的の磁気記録媒体を容易に製造す
ることができるという効果がある。
体の強磁性膜は２層構造とし、走行する基板と強磁性体
蒸発源との間に、上記蒸発源における蒸発粒子の上記基
板に対する入射角を制限する斜方マスクを介在させ、こ
の斜方マスクの上流側で１層目の第１強磁性膜を酸素を
導入しながら形成し、２層目の第２強磁性膜は、斜方マ
スクの下流側で酸素を導入しながら形成するようにした
ので、簡単な装置で目的の磁気記録媒体を容易に製造す
ることができるという効果がある。
図面は、この発明の磁気記録媒体の製造方法を説明する
為の装置の断面図である。 （１）・・・真空槽、（２）・・・テープ巻き出し軸、
（３）・・・テープ巻き取り軸、（４） 、 （５）・
・・７リーローラ、（６）・・・基板、（７）・・・冷
却キャン、（８） 、 （９）・・・酸素導入パイプ、
αす・・・斜方マスク、０１）・・・蒸発母材、＠・・
・蒸発容器０なお、各図中同一符号は同一または相当部
分を示すものとする０
為の装置の断面図である。 （１）・・・真空槽、（２）・・・テープ巻き出し軸、
（３）・・・テープ巻き取り軸、（４） 、 （５）・
・・７リーローラ、（６）・・・基板、（７）・・・冷
却キャン、（８） 、 （９）・・・酸素導入パイプ、
αす・・・斜方マスク、０１）・・・蒸発母材、＠・・
・蒸発容器０なお、各図中同一符号は同一または相当部
分を示すものとする０
Claims (1)
- 走行する基板と強磁性体蒸発源との間に、上記蒸発源に
おける蒸発粒子の上記基板に対する入射角を制限する斜
方マスクを介在させ、上記蒸発源からの蒸発した強磁性
体が上記斜方マスクに遮られて上記斜方マスクの上流側
で酸素を導入しながら走行する上記基板に蒸着されて第
１強磁性膜を形成し、上記斜方マスクの下流側で酸素を
導入しながら上記第１強磁性膜上に蒸着されて、第２強
磁性膜を形成するようにした磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14994184A JPS6126941A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14994184A JPS6126941A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126941A true JPS6126941A (ja) | 1986-02-06 |
Family
ID=15485913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14994184A Pending JPS6126941A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126941A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2536252A (en) * | 2015-03-10 | 2016-09-14 | Bobst Manchester Ltd | Improved vacuum coater |
-
1984
- 1984-07-17 JP JP14994184A patent/JPS6126941A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2536252A (en) * | 2015-03-10 | 2016-09-14 | Bobst Manchester Ltd | Improved vacuum coater |
| GB2536252B (en) * | 2015-03-10 | 2018-10-10 | Bobst Manchester Ltd | Method of operating a vacuum coater for coating a web |
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