JPS6150218A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6150218A JPS6150218A JP17059284A JP17059284A JPS6150218A JP S6150218 A JPS6150218 A JP S6150218A JP 17059284 A JP17059284 A JP 17059284A JP 17059284 A JP17059284 A JP 17059284A JP S6150218 A JPS6150218 A JP S6150218A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic
- recording medium
- magnetic recording
- ferromagnetic
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基体上に磁気記録層として強磁性薄膜を設け
てなる磁気記録媒体の製造方法に関し、とくに磁ス特性
にすぐれる全屈薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する
。
てなる磁気記録媒体の製造方法に関し、とくに磁ス特性
にすぐれる全屈薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する
。
従来磁気記録媒体とじてに、非磁性基体上にr Fe
2O3、Coiドープしir Fe203sFeaO
4、CofドープしたFe3O4、γ−F e 203
とF e 304のベルトライド化合物、CrO2等の
磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等全粉末磁性材料を塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バ
インダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布
型のものが広く使用されてきている。近年高密度記録へ
の要求の高まシと共に真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンブレーティング等のべ一7g−デポジション法あるい
は電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法によシ形成さ
れる強磁性全屈薄膜全磁気記録層とする、バインダーを
使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注
目を浴びており実用化への努力が種々性なわれている。
2O3、Coiドープしir Fe203sFeaO
4、CofドープしたFe3O4、γ−F e 203
とF e 304のベルトライド化合物、CrO2等の
磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等全粉末磁性材料を塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バ
インダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布
型のものが広く使用されてきている。近年高密度記録へ
の要求の高まシと共に真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンブレーティング等のべ一7g−デポジション法あるい
は電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法によシ形成さ
れる強磁性全屈薄膜全磁気記録層とする、バインダーを
使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注
目を浴びており実用化への努力が種々性なわれている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金箔よ
り飽和磁化の小さい金υiB化物を磁性材料として使用
しているため、高密度記録に必要な磁性層薄層化が信号
出力の低下をもたらすため限界にきており、かつその製
造工程も′m雑で、溶剤回収あるい扛公害防止のための
大きな附帝設備?要するという欠点ヲ有している。非バ
インダー型の磁気記録媒体では上記酸化物よシ大きな飽
和磁化を有する強磁性金属金バイ/ダーの如き非磁性物
質を含有しない状態で薄膜として形成せしめる几め、高
密式記録化の几めに超薄層化できるという利点を有し、
しかもその製造工程はよシ簡略化される。
り飽和磁化の小さい金υiB化物を磁性材料として使用
しているため、高密度記録に必要な磁性層薄層化が信号
出力の低下をもたらすため限界にきており、かつその製
造工程も′m雑で、溶剤回収あるい扛公害防止のための
大きな附帝設備?要するという欠点ヲ有している。非バ
インダー型の磁気記録媒体では上記酸化物よシ大きな飽
和磁化を有する強磁性金属金バイ/ダーの如き非磁性物
質を含有しない状態で薄膜として形成せしめる几め、高
密式記録化の几めに超薄層化できるという利点を有し、
しかもその製造工程はよシ簡略化される。
高密式記録化の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度の大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度の大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
とくに真空蒸着による方法は、メッキの場合のような排
液処理全必要とせず製造工程もWR導で膜の析出速波も
大きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着に
よって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型性を有
する磁性膜を製造する方法とじてセ、米国特許33弘4
632号、同331121.33号等に述べられている
斜め蒸着法が知られている。
液処理全必要とせず製造工程もWR導で膜の析出速波も
大きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着に
よって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型性を有
する磁性膜を製造する方法とじてセ、米国特許33弘4
632号、同331121.33号等に述べられている
斜め蒸着法が知られている。
実際にテープ状基体に斜め蒸着法により強磁性金属薄膜
を設は磁気記録媒体を製造するに際して蝶、テープ状基
体を冷却キャ/に沿って搬送せしめ、蒸発源より蒸発せ
しめられ几磁性金属材料の蒸気流を1移動するテープ状
基体に斜めに入射蒸着せしめる方法が行なわれる。
を設は磁気記録媒体を製造するに際して蝶、テープ状基
体を冷却キャ/に沿って搬送せしめ、蒸発源より蒸発せ
しめられ几磁性金属材料の蒸気流を1移動するテープ状
基体に斜めに入射蒸着せしめる方法が行なわれる。
その際、基体に対し入射する蒸気流の入射角が大きいほ
ど高抗磁力の磁性薄膜が得られるが入射角が大きいと蒸
着効率が低下する傾向があり製造上好ましくない。比較
的低入射角にて抗磁力の高い磁性薄膜金形氏させる方法
として斜め蒸着の際に酸累ガスを導入させる方法が提案
されている。
ど高抗磁力の磁性薄膜が得られるが入射角が大きいと蒸
着効率が低下する傾向があり製造上好ましくない。比較
的低入射角にて抗磁力の高い磁性薄膜金形氏させる方法
として斜め蒸着の際に酸累ガスを導入させる方法が提案
されている。
例えば特開昭よl−≠l弘μ3号にに、テープ状移動基
体に対する蒸気流の入射角(θ)が高入射角(θmax
)から低入射角(0m1n)へと連続的に変化するよう
に前記基体を移動せしめると共に、低入射角(0m1n
)近傍に酸化性ガスを導入する方法が開示されている。
体に対する蒸気流の入射角(θ)が高入射角(θmax
)から低入射角(0m1n)へと連続的に変化するよう
に前記基体を移動せしめると共に、低入射角(0m1n
)近傍に酸化性ガスを導入する方法が開示されている。
この方法によれば高抗磁力の膜は得られるが、角型性が
劣化するという欠点を有していた。
劣化するという欠点を有していた。
本発明は、高密度記録に適し友高抗磁力と高角型比とt
−有する磁気記録媒体の製造方法を提供すること全目的
とする。
−有する磁気記録媒体の製造方法を提供すること全目的
とする。
本発明は、非磁性基体上に斜め蒸着法により強磁性金属
薄膜を形成してなる磁気記録媒体の製造方法において、
斜め蒸着による強磁性金属薄膜形成後、同一真空系内に
おいて該強磁性金属薄膜表面に該薄膜全加熱しつつ02
ガスを主成分とする気流を吹きつける、あるいはまた加
熱した02ガスを主成分とする気流を吹きつけることに
よる磁気6C触媒体の3!遣方法に関する。
薄膜を形成してなる磁気記録媒体の製造方法において、
斜め蒸着による強磁性金属薄膜形成後、同一真空系内に
おいて該強磁性金属薄膜表面に該薄膜全加熱しつつ02
ガスを主成分とする気流を吹きつける、あるいはまた加
熱した02ガスを主成分とする気流を吹きつけることに
よる磁気6C触媒体の3!遣方法に関する。
ここで基体としてはポリエチレンテレフタレート、ポリ
イミド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカポ
ネート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックベ
ース、1fcAts Ti、 ステンレス鋼等を使用
することができる。
イミド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカポ
ネート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックベ
ース、1fcAts Ti、 ステンレス鋼等を使用
することができる。
ま几、磁性層材料となる強磁性金属・合金としてにFe
%Co、Ni等の強磁性金属、ま九、F6−Co、Fe
−Ni、Co−Ni7F6−CONi% Fe−Rh、
Fe−Cu%Co−Cu 、 Co −A u 、 C
o −’f 、 Co −L a 、 C。
%Co、Ni等の強磁性金属、ま九、F6−Co、Fe
−Ni、Co−Ni7F6−CONi% Fe−Rh、
Fe−Cu%Co−Cu 、 Co −A u 、 C
o −’f 、 Co −L a 、 C。
−p r%Co−Gd%Co−5m%Co −p t、
’N 1−Cu%Mn−B i、 Mn−8b%Mn
−At1pe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr。
’N 1−Cu%Mn−B i、 Mn−8b%Mn
−At1pe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr。
p6−Co−Ni%Fe−Co−Cr、Ni−Co−C
r等の強磁性合金が挙げられる。
r等の強磁性合金が挙げられる。
これらのうち特に好ましいのはCo、@るいはCo f
J O重f%以上含有する合金でおる。蒸着の際強磁
性金属の蒸気流に02ガス、N2ガス等全導入せしめて
も良い。
J O重f%以上含有する合金でおる。蒸着の際強磁
性金属の蒸気流に02ガス、N2ガス等全導入せしめて
も良い。
本発明において斜め蒸着法とは、米国特許3J←263
2号、同33μ2633号等に開示されている蒸着法で
ある。さらに本発明において同一真空系内とは真空中に
おいて斜め蒸着法により形成され′fC強磁性金属薄膜
を大気中に戻すことなく蒸着時の真空系と同じ真空系内
にて気流吹きつけを実施するものである。気流吹きつけ
は蒸着真空室と同一真空室内にて行なうのが好ましいが
、蒸H真空室と分離された別個の真空室で実施しても良
い。この際、気流吹きつけの真空室の真空開は蒸着真空
室のio ”〜102倍とすることができる。
2号、同33μ2633号等に開示されている蒸着法で
ある。さらに本発明において同一真空系内とは真空中に
おいて斜め蒸着法により形成され′fC強磁性金属薄膜
を大気中に戻すことなく蒸着時の真空系と同じ真空系内
にて気流吹きつけを実施するものである。気流吹きつけ
は蒸着真空室と同一真空室内にて行なうのが好ましいが
、蒸H真空室と分離された別個の真空室で実施しても良
い。この際、気流吹きつけの真空室の真空開は蒸着真空
室のio ”〜102倍とすることができる。
本発明において用いられる製造装置の一例が第1図に示
されている。真空槽lの内部には回転キャ/2、蒸発源
3が設けられており、蒸発源3からの蒸気流はマスクl
にニジ所望の蒸気流成分のみが回転キャンλに到達する
ように設計されている。真空槽l内には強磁性金属薄膜
表面に気流を吹きつけるためのノズルjが設けられてい
る。ノ18、よ、ゆh−z−+i=*ooゎ、いう。
されている。真空槽lの内部には回転キャ/2、蒸発源
3が設けられており、蒸発源3からの蒸気流はマスクl
にニジ所望の蒸気流成分のみが回転キャンλに到達する
ように設計されている。真空槽l内には強磁性金属薄膜
表面に気流を吹きつけるためのノズルjが設けられてい
る。ノ18、よ、ゆh−z−+i=*ooゎ、いう。
送り出しロール7エり供給され九基体rは回転キャン2
に沿って走行し、巻き取りロールタに巻き取られる。こ
の走行途中において蒸発源3内の強磁性金−・合金は基
体?上に真空蒸漕され、ひき続きヒーター!で加熱され
たガス気流がノズルjVCよシ基体r上の強磁性薄膜表
面に吹きつけられる。強磁性金属薄膜の形成の際には回
転キャ//の内部に冷媒全循環せしめて回転キャン表面
を/夕00以下に保持せしめることが好ましい。
に沿って走行し、巻き取りロールタに巻き取られる。こ
の走行途中において蒸発源3内の強磁性金−・合金は基
体?上に真空蒸漕され、ひき続きヒーター!で加熱され
たガス気流がノズルjVCよシ基体r上の強磁性薄膜表
面に吹きつけられる。強磁性金属薄膜の形成の際には回
転キャ//の内部に冷媒全循環せしめて回転キャン表面
を/夕00以下に保持せしめることが好ましい。
第2図には本発明において用いられる製造装置の他の一
例が示されている。真空槽21の内部にμ回転キャン2
2.23が設けられておシ、基体2≠は送り出しロール
2!から回転キャン22および回転キャ/23に沿って
搬送された後、巻き・ 取りロール2乙に巻き取られる
。回転キャン22の下方には蒸発源27が配設されてお
シ、蒸発源27からの蒸気流線マスク2ryc工り所望
の蒸気流成分のみが回転キャン22上の基体2≠表面に
達するようになっている。真空槽2/は排気口λりを介
して真空排気される一方、ガス供給管30にエリ02ガ
スを主取分とするガスが供給されるようになっている。
例が示されている。真空槽21の内部にμ回転キャン2
2.23が設けられておシ、基体2≠は送り出しロール
2!から回転キャン22および回転キャ/23に沿って
搬送された後、巻き・ 取りロール2乙に巻き取られる
。回転キャン22の下方には蒸発源27が配設されてお
シ、蒸発源27からの蒸気流線マスク2ryc工り所望
の蒸気流成分のみが回転キャン22上の基体2≠表面に
達するようになっている。真空槽2/は排気口λりを介
して真空排気される一方、ガス供給管30にエリ02ガ
スを主取分とするガスが供給されるようになっている。
ガス供給管30の先端にはノズル31が設けられていて
、回転キャンλJi/(沿って移動する基体2μ上に形
成された蒸着磁性金属薄膜表面に02ガスを主取分とす
るガスを吹きつける。回転キャ/22の内部には冷媒全
循環せしめて回転キャン表面i/j’(:’以下に保持
せしめると共に回転キャン23の内部には臨媒金循環せ
しめ蒸層磁性金稿薄膜全加熱せしめる機構になっている
。
、回転キャンλJi/(沿って移動する基体2μ上に形
成された蒸着磁性金属薄膜表面に02ガスを主取分とす
るガスを吹きつける。回転キャ/22の内部には冷媒全
循環せしめて回転キャン表面i/j’(:’以下に保持
せしめると共に回転キャン23の内部には臨媒金循環せ
しめ蒸層磁性金稿薄膜全加熱せしめる機構になっている
。
強磁性金属薄膜の形成後に02ガス、N2ガス等を吹き
つけ、しわの発生を防止する方法(特開昭j’j−/≠
562号)、強磁性金属薄膜の形成後に磁性膜を酸化性
雰囲気にさらし耐蝕性を改良する方法(特開昭j7−/
りrよμ3号)、強磁性金属薄膜の形成後に磁性膜を酸
化性ガス?用いたグロー放電雰囲気にさらし耐蝕性を改
良する方法(特開昭61−/7お1号)、さらには、強
磁性金I/jA薄膜を形成した後、磁性膜を加熱した状
態にてオゾン雰囲気にさらし、繰返し走行、高温高湿中
での耐久性を改良する方法(特開昭タター43031)
などが知られているが、本発明は、強磁性金属薄膜表面
め蒸着法にエリ形成した後、磁性金属薄膜を加熱し次状
態にて02ガスを主成分とするガスを磁性金属薄膜表面
に吹き付けることによυ、きわめて良好な磁気特性を有
する磁気記録媒体を得るものであって、上記公知の技術
では予想できない新規な磁気記録媒体の製造方法に関す
る。さらに、本発明では強磁性金属薄膜全斜め蒸着によ
る形成した後、加熱しfc02ガスを主成分とする気流
全磁性金属薄膜面に吹き付けることによりきわめて良好
な磁気特性を有する磁気記録媒体の得られることを見出
したもので、従来技術では予想できぬ新規な技術であ不
。
つけ、しわの発生を防止する方法(特開昭j’j−/≠
562号)、強磁性金属薄膜の形成後に磁性膜を酸化性
雰囲気にさらし耐蝕性を改良する方法(特開昭j7−/
りrよμ3号)、強磁性金属薄膜の形成後に磁性膜を酸
化性ガス?用いたグロー放電雰囲気にさらし耐蝕性を改
良する方法(特開昭61−/7お1号)、さらには、強
磁性金I/jA薄膜を形成した後、磁性膜を加熱した状
態にてオゾン雰囲気にさらし、繰返し走行、高温高湿中
での耐久性を改良する方法(特開昭タター43031)
などが知られているが、本発明は、強磁性金属薄膜表面
め蒸着法にエリ形成した後、磁性金属薄膜を加熱し次状
態にて02ガスを主成分とするガスを磁性金属薄膜表面
に吹き付けることによυ、きわめて良好な磁気特性を有
する磁気記録媒体を得るものであって、上記公知の技術
では予想できない新規な磁気記録媒体の製造方法に関す
る。さらに、本発明では強磁性金属薄膜全斜め蒸着によ
る形成した後、加熱しfc02ガスを主成分とする気流
全磁性金属薄膜面に吹き付けることによりきわめて良好
な磁気特性を有する磁気記録媒体の得られることを見出
したもので、従来技術では予想できぬ新規な技術であ不
。
本発明によりテープ状磁気記録媒体を製造する場合には
、強磁性金属薄W表面に02を主体とするガス気流金吹
き付ける際テープ状基体金回転キャンに沿って搬送させ
つつ実施するのが好ましい。
、強磁性金属薄W表面に02を主体とするガス気流金吹
き付ける際テープ状基体金回転キャンに沿って搬送させ
つつ実施するのが好ましい。
しかもこの際回転キャンの中心からガス導入部塩の距離
(rL)と回転キャ/の半径(r)との比R/rが/、
0/から1.20の範囲となるようにガス吹き付は部を
配設するのが好ましい。
(rL)と回転キャ/の半径(r)との比R/rが/、
0/から1.20の範囲となるようにガス吹き付は部を
配設するのが好ましい。
以下実地例に即して本発明の説明全行なう。本実施例が
本発明の適用範囲全限定するものではない。
本発明の適用範囲全限定するものではない。
実地例1
第1図に示す製造袋@金用いて/2.jμm厚のポリエ
チレンテレフタレートフィルム上l/c[厚1sooA
のコバルト蒸M磁性薄膜t02ガス金導入しながら斜め
蒸着法によシ形成し、磁気テープを作製した。得られ几
磁気テープの磁気特性全撮動型磁束計(VSM)VCて
測定した。この結果を下表に示す。
チレンテレフタレートフィルム上l/c[厚1sooA
のコバルト蒸M磁性薄膜t02ガス金導入しながら斜め
蒸着法によシ形成し、磁気テープを作製した。得られ几
磁気テープの磁気特性全撮動型磁束計(VSM)VCて
測定した。この結果を下表に示す。
表からみてとれるように、従来の製造方法による試料A
に対して斜め蒸M直後にa性膜全加熱しつつ02ガス気
流金さし向けた試料り、Eにおいては角型比SQの大巾
な良化が認められる。ここで、争に気流を吹きつけた場
合(B)、あるいは藝に磁性膜全加熱した場合(C)で
は磁気特性の変化が現われないことに注意すべきである
。
に対して斜め蒸M直後にa性膜全加熱しつつ02ガス気
流金さし向けた試料り、Eにおいては角型比SQの大巾
な良化が認められる。ここで、争に気流を吹きつけた場
合(B)、あるいは藝に磁性膜全加熱した場合(C)で
は磁気特性の変化が現われないことに注意すべきである
。
上記において蒸着膜形氏后、0□ガヌのかわりにオゾン
ガス全使用した場合VCは磁気特性の改良は得られなか
った。
ガス全使用した場合VCは磁気特性の改良は得られなか
った。
実施例2
第2図に示す製造装置音用いてり、jμm厚ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に膜w−i30QAのCo
Ni合金(Ni、zt重伏チ)蒸着磁性薄膜t02ガス
全導入しながら斜め蒸着法Vこより形成し、磁気テープ
金作成した。得られた磁気テープの磁気特性は下記のと
おりであった。
ンテレフタレートフィルム上に膜w−i30QAのCo
Ni合金(Ni、zt重伏チ)蒸着磁性薄膜t02ガス
全導入しながら斜め蒸着法Vこより形成し、磁気テープ
金作成した。得られた磁気テープの磁気特性は下記のと
おりであった。
六から明らかなように本発明により製造された磁気テー
プはすぐれた角型性を有する。
プはすぐれた角型性を有する。
以上のように本発明によれば品密度記録に適したきわめ
て良好なる磁気特性全方する磁気記録媒体全簡便なる工
程に工り得られる。
て良好なる磁気特性全方する磁気記録媒体全簡便なる工
程に工り得られる。
第1図に本発明に用いられる製造装置の概略図を示す。
/・・・真空槽、2・・・回転キャン、3・・・蒸発源
、←・・・マスク、!・・・ガス気流吹きつけノズル、
6・・・加熱用ヒーター、7・・・送り出しロール、t
・・・基体、り・・・巻取りロール 第2図は本発明l/Cよる製造装置の他の一例を示す。 2/・・・真空槽、22.23・・・回転キャ/、λ≠
・・・基体、2よ・・・送り出しロール、λ6・・・巻
取り口1 −ル、27・・・蒸発源、−2r・
・・マスク、2り・・・排気孔、30・・・ガヌ供給管
、31・・・ガス気流吹きつけノズル 第1図
、←・・・マスク、!・・・ガス気流吹きつけノズル、
6・・・加熱用ヒーター、7・・・送り出しロール、t
・・・基体、り・・・巻取りロール 第2図は本発明l/Cよる製造装置の他の一例を示す。 2/・・・真空槽、22.23・・・回転キャ/、λ≠
・・・基体、2よ・・・送り出しロール、λ6・・・巻
取り口1 −ル、27・・・蒸発源、−2r・
・・マスク、2り・・・排気孔、30・・・ガヌ供給管
、31・・・ガス気流吹きつけノズル 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 非磁性基体上に斜め蒸着法により、強磁性金属薄膜
を形成して磁気記録媒体を製造する方法において、斜め
蒸着法により強磁性金属薄膜を形成した後、同一真空系
内において該強磁性金属薄膜を加熱しつゝ該表面にO_
2ガスを主成分とする気流を吹きつけることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 2 非磁性基体上に斜め蒸着法により強磁性金属薄膜を
形成した後、同一真空系内において該強磁性金属薄膜表
面に加熱したO_2ガスを主成分とする気流を吹きつけ
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17059284A JPS6150218A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17059284A JPS6150218A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6150218A true JPS6150218A (ja) | 1986-03-12 |
JPH0434205B2 JPH0434205B2 (ja) | 1992-06-05 |
Family
ID=15907692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17059284A Granted JPS6150218A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6150218A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57164421A (en) * | 1981-04-01 | 1982-10-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57198543A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
-
1984
- 1984-08-16 JP JP17059284A patent/JPS6150218A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57164421A (en) * | 1981-04-01 | 1982-10-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57198543A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0434205B2 (ja) | 1992-06-05 |
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