JPS61267342A - 半導体チツプの製造方法 - Google Patents
半導体チツプの製造方法Info
- Publication number
- JPS61267342A JPS61267342A JP60108745A JP10874585A JPS61267342A JP S61267342 A JPS61267342 A JP S61267342A JP 60108745 A JP60108745 A JP 60108745A JP 10874585 A JP10874585 A JP 10874585A JP S61267342 A JPS61267342 A JP S61267342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- wafer
- blade
- pedestal
- platform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業−1二の利用分野〉
本発明は、半導体チップ、例えば圧力センサー等の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
〈従来の技術〉
従来、圧力センサー等の半導体チップを製造するには、
例えば、第4図に示すように、センサーのダイヤフラム
1や当該ダイヤフラム表面の電橋回路2等の必要な機能
素子部分を一つのウェーハー3に多数配列形成し、これ
をガラス板や金属板等の台座4に接合させた後、ウェー
ハー3の切断代(ストリート)5部分をブレード(切断
刃)6で一括切断して、個々の圧力センサー等を得てい
た。
例えば、第4図に示すように、センサーのダイヤフラム
1や当該ダイヤフラム表面の電橋回路2等の必要な機能
素子部分を一つのウェーハー3に多数配列形成し、これ
をガラス板や金属板等の台座4に接合させた後、ウェー
ハー3の切断代(ストリート)5部分をブレード(切断
刃)6で一括切断して、個々の圧力センサー等を得てい
た。
〈発明が解決しようとする問題点〉
ところが、この従来法の場合だと、台座4が厚い場合、
この台座4を容易に切断するためには、かなり刃の厚い
ブレード6を使用しなければならす、その分、ウェーハ
ー3の切断代5の巾が大きくなければならない。つまり
、ウェーハー3の製品歩留りが悪く、コストダウンのネ
ックとなっていた。
この台座4を容易に切断するためには、かなり刃の厚い
ブレード6を使用しなければならす、その分、ウェーハ
ー3の切断代5の巾が大きくなければならない。つまり
、ウェーハー3の製品歩留りが悪く、コストダウンのネ
ックとなっていた。
かっと言って、ブレード6はmmにレズノイド砥石を使
用しているため、丈夫なものは薄く作れないのが現状で
ある。
用しているため、丈夫なものは薄く作れないのが現状で
ある。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
ので、その特徴とする点は、使用する台座の裏面(ウェ
ーハー接合面の反対側)でつz−バーの切断代に対応す
る部分に予め予備切断溝を形成しておくことにある。
ので、その特徴とする点は、使用する台座の裏面(ウェ
ーハー接合面の反対側)でつz−バーの切断代に対応す
る部分に予め予備切断溝を形成しておくことにある。
〈作用〉
この予備切断溝により、略ウェーハーだけの切断でよい
ため、刃の薄いブレードでの切断が可能となる。
ため、刃の薄いブレードでの切断が可能となる。
〈実施例〉
第1図ないし第3図は本発明の一実施例を示したもので
ある。
ある。
図において、11はウェーハー、12は台座である。こ
のウェーハー11は、圧力センサーの場合を示し、一つ
の円形ウェーハー11には、−iの拡散法等により、多
数のダイヤフラム13・・・や、必要な電橋回路14・
・・等が、機能素子部分として形成しである。そして、
又、各センサーチップ部分を区分けする縦横の境界部分
は切断代(ストリート)15・・・とじて形成しである
。
のウェーハー11は、圧力センサーの場合を示し、一つ
の円形ウェーハー11には、−iの拡散法等により、多
数のダイヤフラム13・・・や、必要な電橋回路14・
・・等が、機能素子部分として形成しである。そして、
又、各センサーチップ部分を区分けする縦横の境界部分
は切断代(ストリート)15・・・とじて形成しである
。
上記台座12はウェーハー11と一体に接合されるわけ
であるが、その接合時、ウェーハー接合j
面と反対側(裏面)で、当該ウエーノ\−11の切断
代15・・・と対応する部分に予め予備切断溝16・・
・を形成しである。
であるが、その接合時、ウェーハー接合j
面と反対側(裏面)で、当該ウエーノ\−11の切断
代15・・・と対応する部分に予め予備切断溝16・・
・を形成しである。
しかして、本発明の場合、必要なダイヤフラム13・・
・や電橋回路14・・・等を多数配列形成した第1図に
示す如きウェーハー11を、第2図に示すように台座1
2と一体に接合し、丁度、ウェーハー11の切断代15
・・・と台座12の予備切断溝16・・・とが対応する
ようにした後、ブレード17でうニーバー11の切断代
15部分及び予備切断溝16の底部分を切断すれば、第
3図に示したような目的の圧力センサーSが一個の才導
体チップとして得られる。
・や電橋回路14・・・等を多数配列形成した第1図に
示す如きウェーハー11を、第2図に示すように台座1
2と一体に接合し、丁度、ウェーハー11の切断代15
・・・と台座12の予備切断溝16・・・とが対応する
ようにした後、ブレード17でうニーバー11の切断代
15部分及び予備切断溝16の底部分を切断すれば、第
3図に示したような目的の圧力センサーSが一個の才導
体チップとして得られる。
この場合、ガラス板や金属板からなり切断が大変な台座
12にあっても、予備切断溝16・・・の形成により、
台座12部分の切断は予備切断溝16の底桟部のみでよ
いため、プレート17による切断は極めて容易である。
12にあっても、予備切断溝16・・・の形成により、
台座12部分の切断は予備切断溝16の底桟部のみでよ
いため、プレート17による切断は極めて容易である。
又、ブレード17の刃厚が薄く、且つ切断代15部分が
狭くてよいため、製品の歩留りか極めてよい。
狭くてよいため、製品の歩留りか極めてよい。
〈発明の効果〉
以、トの説明から明らかなように、本発明の半導体チッ
プの製造方法によれば、ガラス板や金属板からなり切断
が大変な台座において、その裏面に薄い底部分を少々残
して予備切断溝が形成しであるため、ブレードによる切
断は略ウェーハ一部分の切断のみでよい。従って、切断
そのものが極めて容易に行え、高精度での切断が可能と
なる。又、切断の際、従来のように不要な切粉が大量に
発生することはなくなり、切粉による他部分への悪影響
等も極力抑えられ、清掃等も簡単になる。
プの製造方法によれば、ガラス板や金属板からなり切断
が大変な台座において、その裏面に薄い底部分を少々残
して予備切断溝が形成しであるため、ブレードによる切
断は略ウェーハ一部分の切断のみでよい。従って、切断
そのものが極めて容易に行え、高精度での切断が可能と
なる。又、切断の際、従来のように不要な切粉が大量に
発生することはなくなり、切粉による他部分への悪影響
等も極力抑えられ、清掃等も簡単になる。
又、ブレードの刃厚が薄くてよくため、ブレード17自
体、特別品でなくてよく、通常の普及品(レズノイド砥
石等)でよく、ランニングコストの面からも極めて有利
である。
体、特別品でなくてよく、通常の普及品(レズノイド砥
石等)でよく、ランニングコストの面からも極めて有利
である。
更に又、それにもまして、一般に、うニーバーの切断代
の占有面積は、チップ数の増大につれて急増し、製品の
歩留り上、極めて重要な問題であるが、本発明の場合、
切断代部分の巾が従来に比較して相当狭くてよいため、
製品の歩留りがよく、大幅なコヒトダウンが達成できる
。
の占有面積は、チップ数の増大につれて急増し、製品の
歩留り上、極めて重要な問題であるが、本発明の場合、
切断代部分の巾が従来に比較して相当狭くてよいため、
製品の歩留りがよく、大幅なコヒトダウンが達成できる
。
第1しIないし第3図は本発明に係る半導体子ノブの製
造方法を説明するためのもので、第1図はウェーハーの
斜視図、第2図はウェーハーと台座の接合状態を示した
部分縦断面図、第3図は完成した半導体チップであり、
又、第4図は従来のウェーハーと台座の接合状態を示し
た部分縦断面図である。 図中、11・・・ウェーハー、 12・・・台座、 13.14・・・機能素子部分、 15・・・切断代、 16・・・予備切断溝。 第1図 第3図 ]2 第4図
造方法を説明するためのもので、第1図はウェーハーの
斜視図、第2図はウェーハーと台座の接合状態を示した
部分縦断面図、第3図は完成した半導体チップであり、
又、第4図は従来のウェーハーと台座の接合状態を示し
た部分縦断面図である。 図中、11・・・ウェーハー、 12・・・台座、 13.14・・・機能素子部分、 15・・・切断代、 16・・・予備切断溝。 第1図 第3図 ]2 第4図
Claims (1)
- 多数の機能素子部分が配列形成されたウェーハーを台
座に接合した後、各素子毎、当該ウェーハーと共に台座
を一体に切断して半導体チップを得る製造方法において
、上記台座のウェーハー接合側とは反対側で上記ウェー
ハーの切断代に対応する部分に予め予備切断溝を形成し
ておくことを特徴とする半導体チップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10874585A JPH06105754B2 (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 半導体チツプの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10874585A JPH06105754B2 (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 半導体チツプの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61267342A true JPS61267342A (ja) | 1986-11-26 |
JPH06105754B2 JPH06105754B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=14492434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10874585A Expired - Lifetime JPH06105754B2 (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 半導体チツプの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06105754B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2869455A1 (fr) * | 2004-04-27 | 2005-10-28 | Soitec Silicon On Insulator | Procede de fabrication de puces et support associe |
JP2010171240A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Denso Corp | 電子装置の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5821380A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-08 | Hitachi Ltd | 半導体圧力変換器の製造方法 |
-
1985
- 1985-05-21 JP JP10874585A patent/JPH06105754B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5821380A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-08 | Hitachi Ltd | 半導体圧力変換器の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2869455A1 (fr) * | 2004-04-27 | 2005-10-28 | Soitec Silicon On Insulator | Procede de fabrication de puces et support associe |
WO2005106948A1 (fr) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | S.O.I.Tec Silicon On Insulator Technologies | Procede de fabrication de puces et support associe |
JP2007535158A (ja) * | 2004-04-27 | 2007-11-29 | エス.オー.アイ.テック、シリコン、オン、インシュレター、テクノロジーズ | チップおよび関連する支持体を製作する方法 |
KR100836289B1 (ko) | 2004-04-27 | 2008-06-09 | 에스. 오. 이. 떼끄 씰리꽁 오 냉쉴라또흐 떼끄놀로지 | 칩 및 관련 지지기판 제조방법 |
US7544586B2 (en) | 2004-04-27 | 2009-06-09 | S.O.I. Tec Silicon On Insulator Technologies | Method of fabricating chips and an associated support |
JP4782107B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2011-09-28 | エス.オー.アイ.テック、シリコン、オン、インシュレター、テクノロジーズ | チップおよび関連する支持体を製作する方法 |
JP2010171240A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Denso Corp | 電子装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06105754B2 (ja) | 1994-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6051875A (en) | Semiconductor chip | |
JP3166122B2 (ja) | ワークプレートを使用して結晶を切断する方法 | |
JPS61267342A (ja) | 半導体チツプの製造方法 | |
JPS6211611A (ja) | 半導体ペレツトの製造方法 | |
US5686362A (en) | Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device | |
JP2007042953A (ja) | チップ型電子部品 | |
JP3584539B2 (ja) | ガラス付き半導体ウエハの切断方法 | |
JPS633774Y2 (ja) | ||
JP2665062B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS6050346B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2001358276A (ja) | 半導体装置およびリードフレーム | |
JPH0831608B2 (ja) | 半導体圧力センサの製造方法 | |
JPH08321478A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS6336154B2 (ja) | ||
JPH04162647A (ja) | 半導体装置 | |
JPS61156845A (ja) | 樹脂封止型半導体装置用リ−ドフレ−ム | |
JPH05102300A (ja) | 半導体装置 | |
JPH02305450A (ja) | 加速度センサの製造方法 | |
JPH07106467A (ja) | 光半導体装置およびその製造方法。 | |
JP2913724B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2002368177A (ja) | リードフレーム及び半導体装置 | |
JP2974309B1 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JPH0265154A (ja) | 半導体装置 | |
JPH03274749A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0371654A (ja) | チップ分離方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |