JPS6124469U - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
イオンプレ−テイング装置Info
- Publication number
- JPS6124469U JPS6124469U JP10802184U JP10802184U JPS6124469U JP S6124469 U JPS6124469 U JP S6124469U JP 10802184 U JP10802184 U JP 10802184U JP 10802184 U JP10802184 U JP 10802184U JP S6124469 U JPS6124469 U JP S6124469U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion plating
- plating device
- evaporation
- insulating substrate
- applying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案の一実施例を示す回路図マある。
1・・・絶縁性基板、2・・・放電用コイル、3・・・
蒸発物質、4・・・電子銃フィラメント、5・・・蒸発
源、6・・・電子銃電源、7・・・イオン加速用交流電
源、訃・・イオン加速用直流電源、9・・・イオン化用
高周波電源、10・・・イオン化用直流電源、11・・
・排気導入管、12・・・薄膜形成室、13・・・膜厚
モニター。 4t
蒸発物質、4・・・電子銃フィラメント、5・・・蒸発
源、6・・・電子銃電源、7・・・イオン加速用交流電
源、訃・・イオン加速用直流電源、9・・・イオン化用
高周波電源、10・・・イオン化用直流電源、11・・
・排気導入管、12・・・薄膜形成室、13・・・膜厚
モニター。 4t
Claims (1)
- 交流電圧を原料蒸発源と絶縁性基板との間に印加して第
1次蒸着を行わしめる手段と次いで直流電圧を原料蒸着
源と第1次蒸着処理基板との間に印加して第2次蒸着を
行わしめる手段とを備えたイオンプレーテイング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10802184U JPS6124469U (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10802184U JPS6124469U (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6124469U true JPS6124469U (ja) | 1986-02-13 |
Family
ID=30667239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10802184U Pending JPS6124469U (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6124469U (ja) |
-
1984
- 1984-07-17 JP JP10802184U patent/JPS6124469U/ja active Pending
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