JPH0413050U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0413050U JPH0413050U JP5051190U JP5051190U JPH0413050U JP H0413050 U JPH0413050 U JP H0413050U JP 5051190 U JP5051190 U JP 5051190U JP 5051190 U JP5051190 U JP 5051190U JP H0413050 U JPH0413050 U JP H0413050U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high frequency
- electrodes
- electrode
- electrostatic chuck
- power source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の実施例を示す図である。第2
図は従来の例を示す図である。 1……ウエハー、2……絶縁物、3……静電吸
着用の正電極、4……静電吸着用の負電極、5…
…絶縁物、6……高周波印加用の電極、7……カ
バー、8……固定台、9……チヤンバー、10…
…静電吸着用の直流電源、11……ローパスフイ
ルター、12……高周波電源、13……整合回路
、14……ターゲツト、15……ターゲツト用サ
セプタ。
図は従来の例を示す図である。 1……ウエハー、2……絶縁物、3……静電吸
着用の正電極、4……静電吸着用の負電極、5…
…絶縁物、6……高周波印加用の電極、7……カ
バー、8……固定台、9……チヤンバー、10…
…静電吸着用の直流電源、11……ローパスフイ
ルター、12……高周波電源、13……整合回路
、14……ターゲツト、15……ターゲツト用サ
セプタ。
Claims (1)
- 電極間に吸着用の電流電圧を印加するための電
源と、一方の電極表面に絶縁物を被着して誘電体
を構成し、前記誘電体上に配置されたウエハーを
、静電気力により吸着する、少なくとも一対の静
電吸着用電極と、高周波電源に接続された高周波
印可用の電極とからなるスパツタ用静電チヤツク
式サセプタにおいて、チヤツク電極および高周波
電極の周囲に交換可能な非金属製のカバーを取り
付ける事を特徴とするスパツタ用静電チヤツク式
サセプタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5051190U JPH0413050U (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5051190U JPH0413050U (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0413050U true JPH0413050U (ja) | 1992-02-03 |
Family
ID=31569121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5051190U Pending JPH0413050U (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0413050U (ja) |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP5051190U patent/JPH0413050U/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4751609A (en) | Electrostatic holding apparatus | |
JPH0413050U (ja) | ||
JPS5681678A (en) | Method and apparatus for plasma etching | |
JP2000340640A (ja) | 非接触型静電吸着装置 | |
JPS6411542U (ja) | ||
JP2636590B2 (ja) | 静電吸着装置 | |
JPS6430167U (ja) | ||
JPS5647574A (en) | Plasma etching apparatus | |
JPS63257482A (ja) | 静電保持装置 | |
JPH044058U (ja) | ||
JPS6216962U (ja) | ||
SU1175692A1 (ru) | Схват робота | |
JPH0479420U (ja) | ||
JPS58159137U (ja) | 回転ア−ク形ガス遮断器 | |
JPH0330786U (ja) | ||
JPH0215735U (ja) | ||
JPS62135852A (ja) | 固体放電装置 | |
JPS6124469U (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPH0183750U (ja) | ||
JPS62126055U (ja) | ||
JPH01158977U (ja) | ||
JPH0145223B2 (ja) | ||
JPS5983971U (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPH0425491U (ja) | ||
JPH037949U (ja) |