JPS60181365U - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents

イオンプレ−テイング装置

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Publication number
JPS60181365U
JPS60181365U JP6765184U JP6765184U JPS60181365U JP S60181365 U JPS60181365 U JP S60181365U JP 6765184 U JP6765184 U JP 6765184U JP 6765184 U JP6765184 U JP 6765184U JP S60181365 U JPS60181365 U JP S60181365U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
evaporation material
substrate
ion
brating
Prior art date
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Pending
Application number
JP6765184U
Other languages
English (en)
Inventor
渡辺　完治
Original Assignee
日本電子株式会社
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Filing date
Publication date
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Priority to JP6765184U priority Critical patent/JPS60181365U/ja
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す構成略図、第２図及び
第３図は第１図の装置の動作説明を行な　　、うための
図である。 １：蒸着室、４：不活性ガスボンベ、７：坩堝、８：蒸
発材料、９：電子銃、１１：被蒸着基板、１２：第１の
高周波コイル、１３：第２の高周波コイル、１４：第１
の高周波電源、１５：第２の高周波電源、１６：第１の
直流電源、１７：第２のＫＦＥ電源、１８：シャッター
。

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）　　不活性ガスが注入される蒸着室内に蒸発物質
    源と被蒸着基板とを対向して配置し、前記蒸発物質源か
    らの蒸発物質をイオン化し、該イオン化された蒸発物質
    を前記被蒸着基板に向けて加速して蒸着を行なうように
    した装置において、前記蒸発物質源に近い側に第１のコ
    イルを設け、前記被蒸着基板に近い側に第２のコイルを
    設け、両コイルに夫々交流電流を供給して各コイルの内
    部に交番電磁界を形成可能となし、前記第１のコイルに
    は蒸着室に対して正の電圧を印加し、第２のコイルには
    蒸着室に対して負の電圧を印加可能に構成してなるイオ
    ンブレーティング装置。
  2. （２）　　前記第１のコイル及び第２のコイルには高周
    波電流が供給され、該高周波電流による電磁界によりイ
    オン化を行なう実用新案登録請求の範囲第１項記載のイ
    オンブレーティング装置。
  3. （３）　　前記少なくとも第１のコイルには低周波の電
    流が供給され、前記第１のコイルに印加される直流電圧
    による電界によりイオン化を行なう実用新案登録請求の
    範囲第１項記載のイオンブレーティング装置。
JP6765184U 1984-05-09 1984-05-09 イオンプレ−テイング装置 Pending JPS60181365U (ja)

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JP6765184U JPS60181365U (ja) 1984-05-09 1984-05-09 イオンプレ−テイング装置

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JP6765184U JPS60181365U (ja) 1984-05-09 1984-05-09 イオンプレ−テイング装置

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JPS60181365U true JPS60181365U (ja) 1985-12-02

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