JPS62199767A - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
イオンプレ−テイング装置Info
- Publication number
- JPS62199767A JPS62199767A JP4103286A JP4103286A JPS62199767A JP S62199767 A JPS62199767 A JP S62199767A JP 4103286 A JP4103286 A JP 4103286A JP 4103286 A JP4103286 A JP 4103286A JP S62199767 A JPS62199767 A JP S62199767A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coils
- evaporation
- ion plating
- frequency
- sources
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 40
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はイオンプレーティング装置に関し、特に複数の
蒸発源を有するイオンプレーティング装置に関する。
蒸発源を有するイオンプレーティング装置に関する。
[従来の技術]
イオンプレーティング装置は、真空雰囲気中で蒸発源よ
り蒸発送出される蒸着材を途中高周波コイルでイオン化
し、これを電界で加速して被蒸着基板に衝突付着せしめ
るもので、上記基板に高密度かつ付着力の大きい良質の
薄膜を形成することができる。
り蒸発送出される蒸着材を途中高周波コイルでイオン化
し、これを電界で加速して被蒸着基板に衝突付着せしめ
るもので、上記基板に高密度かつ付着力の大きい良質の
薄膜を形成することができる。
上記装置において、るつぼ内に入れた蒸着材に電子ビー
ムを照射して蒸発せしめる蒸発源が多用されているが、
かかる蒸発源の蒸着材送給範囲には限りがあり、大型基
板の蒸着には複数の蒸発源と、各蒸発源に対応せしめて
それぞれ高周波コイルを設けている。
ムを照射して蒸発せしめる蒸発源が多用されているが、
かかる蒸発源の蒸着材送給範囲には限りがあり、大型基
板の蒸着には複数の蒸発源と、各蒸発源に対応せしめて
それぞれ高周波コイルを設けている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、上述の如く、各蒸発源にそれぞれ高周波コイ
ルを設けることは、多数の各コイルについて整合装置の
設置や配線を必要とし、コストアップを招くという問題
がある。また、上記高周波コイルの設置数に比例して各
コイル間に相互干渉が生じ、整合装置にによる効率の良
い電力供給が困難になるという問題もおる。
ルを設けることは、多数の各コイルについて整合装置の
設置や配線を必要とし、コストアップを招くという問題
がある。また、上記高周波コイルの設置数に比例して各
コイル間に相互干渉が生じ、整合装置にによる効率の良
い電力供給が困難になるという問題もおる。
一方、多数の蒸発源により共用される大型の高周波コイ
ルを設けることは、整合装置や高周波電源が非標準とな
るために、かえってコストアップとなる。
ルを設けることは、整合装置や高周波電源が非標準とな
るために、かえってコストアップとなる。
本発明はかかる問題点に鑑み種々実験した結果、市販の
整合装置が使用でき、かつ電源容量もそれ程大きくなら
ない、安価、かつ効率の良いイオンプレーティング装置
を提供することを目的とする。
整合装置が使用でき、かつ電源容量もそれ程大きくなら
ない、安価、かつ効率の良いイオンプレーティング装置
を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明の構成を第1図により説明すると、図において、
真空室1内の被蒸着基板7に対向して複数の蒸発源2が
設けてあり、蒸発源2と上記基板7間には蒸発源2の2
台ないし3台につき各1台の高周波コイル4A、4Bが
設けである。
真空室1内の被蒸着基板7に対向して複数の蒸発源2が
設けてあり、蒸発源2と上記基板7間には蒸発源2の2
台ないし3台につき各1台の高周波コイル4A、4Bが
設けである。
[作用、効果]
蒸発源2より蒸発送出される蒸着材3は、途中上記高周
波コイル4A、4Bによりイオン化され、電界で加速さ
れて上記基板7に衝突付着する。
波コイル4A、4Bによりイオン化され、電界で加速さ
れて上記基板7に衝突付着する。
本発明においては、2台ないし3台の蒸発源2で1台の
高周波コイル4A、4Bを共用しているから、コイル4
A、4Bの設置数を大幅に削減でき、整合装置の設置数
や配線が低減できる結果、大幅なコスト低下が実現可能
でおる。また、これにより高周波コイル4A、4Bの相
互干渉も小さくなって効率的な電力供給ができる。
高周波コイル4A、4Bを共用しているから、コイル4
A、4Bの設置数を大幅に削減でき、整合装置の設置数
や配線が低減できる結果、大幅なコスト低下が実現可能
でおる。また、これにより高周波コイル4A、4Bの相
互干渉も小さくなって効率的な電力供給ができる。
また、2台ないし3台の蒸発源2にて共用される高周波
コイルは、その整合装置を従来市販の整合装置で流用で
き、かつ電源容量もそれ程大きくならないから、この点
でもコスト低減が図られ得る。
コイルは、その整合装置を従来市販の整合装置で流用で
き、かつ電源容量もそれ程大きくならないから、この点
でもコスト低減が図られ得る。
[実施例]
第1図には本発明の一実施例におけるイオンプレーティ
ング装置の概略構成を示す。
ング装置の概略構成を示す。
図において、真空室1の底壁近くには4台の蒸発源2が
設けてあり、各蒸発源2のるつぼ内には蒸着材3が保持
せしめである。蒸発源2としては、例えば電子ビームを
上記蒸着材3に照射してこれを蒸発せしめる電子銃を設
けたものを使用する。
設けてあり、各蒸発源2のるつぼ内には蒸着材3が保持
せしめである。蒸発源2としては、例えば電子ビームを
上記蒸着材3に照射してこれを蒸発せしめる電子銃を設
けたものを使用する。
一方、上記真空室1の頂壁近くには上記蒸発源2に対向
ぜしめて電極板5が設けてあり、電極板5の下面にはこ
れに沿って被蒸着基板7が配設しである。上記電極板5
は室外の高電圧源6に接続されて数KV程度の負電圧が
印加されている。上記真空室1内は囲路の排気装置によ
り1O−4T。
ぜしめて電極板5が設けてあり、電極板5の下面にはこ
れに沿って被蒸着基板7が配設しである。上記電極板5
は室外の高電圧源6に接続されて数KV程度の負電圧が
印加されている。上記真空室1内は囲路の排気装置によ
り1O−4T。
rr程度の真空度に維持されている。
上記蒸発源2と基板7の間には2台の高周波コイル4A
、4Bが設けである。コイル4A、4Bは第2図に示す
如く長円形としてあって、それぞれ各2台の蒸発源2に
対応している。各コイル4A、4Bは炉外の整合装置4
1A、41Bに至り、これを介して高周波電源42A、
42Bに接続されている。上記蒸発源2として市販のも
のを使用した場合、上記コイル4A、4Bの長さは約4
TrLとなる。そして、本実施例では、上記高周波電源
4’2A、42Bはこれらの周波数を数10〜数100
KH2ずらしである。
、4Bが設けである。コイル4A、4Bは第2図に示す
如く長円形としてあって、それぞれ各2台の蒸発源2に
対応している。各コイル4A、4Bは炉外の整合装置4
1A、41Bに至り、これを介して高周波電源42A、
42Bに接続されている。上記蒸発源2として市販のも
のを使用した場合、上記コイル4A、4Bの長さは約4
TrLとなる。そして、本実施例では、上記高周波電源
4’2A、42Bはこれらの周波数を数10〜数100
KH2ずらしである。
各蒸発源2より蒸発した蒸着材3は、途中高周波コイル
4A、4Bを通過する間に正イオンとなり、電極板5方
向へ加速されて基板7上に衝突付着し、薄膜を形成する
。
4A、4Bを通過する間に正イオンとなり、電極板5方
向へ加速されて基板7上に衝突付着し、薄膜を形成する
。
本実施例においては、2台の蒸発源で1台の高周波コイ
ルを共用しているから、コイル設置数を大幅に少なくす
ることが可能であり、これに伴ない配線及び整合装置が
削減できて、コストの低下が実現できる。
ルを共用しているから、コイル設置数を大幅に少なくす
ることが可能であり、これに伴ない配線及び整合装置が
削減できて、コストの低下が実現できる。
本実施例では、高周波コイルのコイル長は約4mである
から、従来各蒸発源2についてそれぞれ設けていた約2
mの高周波コイルに使用した市販の整合装置と電源を流
用することができ、この点でもコストの低減が図られる
。
から、従来各蒸発源2についてそれぞれ設けていた約2
mの高周波コイルに使用した市販の整合装置と電源を流
用することができ、この点でもコストの低減が図られる
。
ざらに、コイル設置数が減少した結果、これらの間の干
渉が小ざくなり、効率の良い電力供給ができる。特に上
記実施例においては、高周波電源の周波数を互いに異な
らしめたから、相互干渉はほとんど生じない。
渉が小ざくなり、効率の良い電力供給ができる。特に上
記実施例においては、高周波電源の周波数を互いに異な
らしめたから、相互干渉はほとんど生じない。
なお、発明者らの実験によれば、高周波コイル ゛は3
台の蒸発源まで共用することができ、この場合には蒸発
源を三角形に配置して、上記コイルをこれに沿った形状
とする。この場合のコイル長は約6mである。
台の蒸発源まで共用することができ、この場合には蒸発
源を三角形に配置して、上記コイルをこれに沿った形状
とする。この場合のコイル長は約6mである。
第1図はイオンプレーティング装置の概略縦断面図、第
2図はその概略横断面図である。 1・・・・・・真空室 2・・・・・・蒸発源
3・・・・・・蒸着材 4A、4B・・・・・・高
周波コイル41A、41B・・・・・・整合装置 42A、42B・・・・・・高周波電源5・・・・・・
電極板 6・・・・・・高電圧源7・・・・・
・被蒸着基板 第2図
2図はその概略横断面図である。 1・・・・・・真空室 2・・・・・・蒸発源
3・・・・・・蒸着材 4A、4B・・・・・・高
周波コイル41A、41B・・・・・・整合装置 42A、42B・・・・・・高周波電源5・・・・・・
電極板 6・・・・・・高電圧源7・・・・・
・被蒸着基板 第2図
Claims (2)
- (1)真空室内に設けた蒸発源より蒸発送出される蒸着
材を高周波コイルにてイオン化し、これを電界で加速し
て被蒸着基板に衝突付着せしめるイオンプレーティング
装置において、蒸発源を複数設けるとともに、これら蒸
発源の2台ないし3台につき各1台の高周波コイルを設
けたことを特徴とするイオンプレーティング装置。 - (2)上記各高周波コイルに電力を供給する高周波電源
の周波数をそれぞれ異ならしめた特許請求の範囲第1項
記載のイオンプレーティング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4103286A JPS62199767A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4103286A JPS62199767A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62199767A true JPS62199767A (ja) | 1987-09-03 |
Family
ID=12597057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4103286A Pending JPS62199767A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62199767A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5474617A (en) * | 1992-08-31 | 1995-12-12 | Ricoh Company, Ltd. | Image holding-supporting member and regenerating method thereof |
US5534063A (en) * | 1993-07-21 | 1996-07-09 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus for removing image forming substance from sheet and sheet processing apparatus |
US5545381A (en) * | 1991-01-31 | 1996-08-13 | Ricoh Company, Ltd. | Device for regenerating printed sheet-like recording medium |
US5574538A (en) * | 1994-09-26 | 1996-11-12 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member forming processing situation mark |
US5605777A (en) * | 1992-08-31 | 1997-02-25 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for regenerating image holding member |
US5642550A (en) * | 1994-02-28 | 1997-07-01 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus for removing image forming substance from image holding member |
US5678158A (en) * | 1992-09-07 | 1997-10-14 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus for repetitively using a toner image carrier |
US5735009A (en) * | 1994-10-14 | 1998-04-07 | Ricoh Company, Ltd. | Device for removing a substance deposited on a sheet |
US5753400A (en) * | 1993-09-22 | 1998-05-19 | Ricoh Company, Ltd. | Method for repeatedly using image holding member |
US5813344A (en) * | 1994-10-24 | 1998-09-29 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member |
US6095164A (en) * | 1993-09-22 | 2000-08-01 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member |
-
1986
- 1986-02-26 JP JP4103286A patent/JPS62199767A/ja active Pending
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE37197E1 (en) * | 1991-01-31 | 2001-05-29 | Ricoh Company, Ltd. | Device for regenerating printed sheet-like recording medium |
US5545381A (en) * | 1991-01-31 | 1996-08-13 | Ricoh Company, Ltd. | Device for regenerating printed sheet-like recording medium |
US5612766A (en) * | 1991-01-31 | 1997-03-18 | Ricoh Company, Ltd. | Device for regenerating printed sheet-like recording medium |
US5474617A (en) * | 1992-08-31 | 1995-12-12 | Ricoh Company, Ltd. | Image holding-supporting member and regenerating method thereof |
USRE36963E (en) * | 1992-08-31 | 2000-11-21 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for regenerating image holding member |
US5605777A (en) * | 1992-08-31 | 1997-02-25 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for regenerating image holding member |
US6150066A (en) * | 1992-09-07 | 2000-11-21 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for repetitively using a toner image carrier sheet |
US5678158A (en) * | 1992-09-07 | 1997-10-14 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus for repetitively using a toner image carrier |
US5534063A (en) * | 1993-07-21 | 1996-07-09 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus for removing image forming substance from sheet and sheet processing apparatus |
US6095164A (en) * | 1993-09-22 | 2000-08-01 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member |
US5753400A (en) * | 1993-09-22 | 1998-05-19 | Ricoh Company, Ltd. | Method for repeatedly using image holding member |
US5642550A (en) * | 1994-02-28 | 1997-07-01 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus for removing image forming substance from image holding member |
US5896612A (en) * | 1994-02-28 | 1999-04-27 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member |
US5574538A (en) * | 1994-09-26 | 1996-11-12 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member forming processing situation mark |
USRE37645E1 (en) | 1994-09-26 | 2002-04-09 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member forming processing situation mark |
US6143091A (en) * | 1994-10-14 | 2000-11-07 | Ricoh Company, Ltd. | Method for removing a substance deposited on a sheet |
US5855734A (en) * | 1994-10-14 | 1999-01-05 | Ricoh Company, Ltd. | Device for removing a substance deposited on a sheet |
US6189173B1 (en) | 1994-10-14 | 2001-02-20 | Ricoh Company, Ltd. | Device for removing a substance deposited on a sheet |
US5735009A (en) * | 1994-10-14 | 1998-04-07 | Ricoh Company, Ltd. | Device for removing a substance deposited on a sheet |
US5813344A (en) * | 1994-10-24 | 1998-09-29 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for removing image forming substance from image holding member |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2065581A1 (en) | Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition | |
JPS62199767A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPS63310965A (ja) | スパッタリング装置 | |
US6468387B1 (en) | Apparatus for generating a plasma from an electromagnetic field having a lissajous pattern | |
EP0523695B1 (en) | A sputtering apparatus and an ion source | |
JPS6324068A (ja) | 連続真空蒸着メツキ装置 | |
JPS63307270A (ja) | スパッタリング装置 | |
JPH03123022A (ja) | プラズマ成膜装置 | |
JPS61210190A (ja) | 薄膜形成装置 | |
RU2023744C1 (ru) | Катодный узел для ионно-плазменного нанесения | |
JP3138810B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
JP3026142B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPS63238266A (ja) | スパツタリング装置 | |
JPS62247068A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPH042773A (ja) | 高速成膜スパッタリング装置 | |
JPS5928034Y2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
JP2000080470A (ja) | 偏向器を有するスパッタリング装置 | |
JPS61177367A (ja) | スパツタリング装置及びスパツタリング方法 | |
JPS6196067A (ja) | 高周波イオンプレ−テイング装置 | |
JPH0680185B2 (ja) | 膜作成装置 | |
JPH01279751A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPH06116719A (ja) | 高周波イオンプレーティング装置 | |
JPS635635U (ja) | ||
JPH02290243A (ja) | 硬質薄膜材料の平坦加工方法 | |
JPH0811823B2 (ja) | イオンプレ−テイング装置 |