JPS59103756U - 高周波プラズマ励起用電極 - Google Patents

高周波プラズマ励起用電極

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JPS59103756U
JPS59103756U JP20191782U JP20191782U JPS59103756U JP S59103756 U JPS59103756 U JP S59103756U JP 20191782 U JP20191782 U JP 20191782U JP 20191782 U JP20191782 U JP 20191782U JP S59103756 U JPS59103756 U JP S59103756U
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JP
Japan
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electrode
high frequency
plasma excitation
frequency plasma
metal
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Pending
Application number
JP20191782U
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English (en)
Inventor
一夫 佐藤
Original Assignee
クラリオン株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はＲＦイオン・ブレーティング装置の構造を説明
するための図式図、第２図は本考案による高周波プラズ
マ励起用電極の断面図である。 １・・・プラズマ励起用電極、２・・・基板、３・・・
真空容器、４・・・高周波電源、５・・・蒸発源、６・
・・熱伝導率の大きい第１の金属、７・・・スパッタ率
の小さい第２の金属。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 大きな熱伝導率を有する第１の金属と、該第１の金属を
    被覆する、小さなスパッタ率を有する第２の金属とから
    成ることを特徴とする高周波プラズマ励起用電極。
JP20191782U 1982-12-27 1982-12-27 高周波プラズマ励起用電極 Pending JPS59103756U (ja)

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JP20191782U JPS59103756U (ja) 1982-12-27 1982-12-27 高周波プラズマ励起用電極

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JPS59103756U true JPS59103756U (ja) 1984-07-12

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