JPS5878967U - イオンブレ−テイング装置 - Google Patents
イオンブレ−テイング装置Info
- Publication number
- JPS5878967U JPS5878967U JP17279481U JP17279481U JPS5878967U JP S5878967 U JPS5878967 U JP S5878967U JP 17279481 U JP17279481 U JP 17279481U JP 17279481 U JP17279481 U JP 17279481U JP S5878967 U JPS5878967 U JP S5878967U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- bracing device
- evaporation source
- frequency electrode
- plasma discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
図は本考案番トよるイオンブレーティング装置の −二
例の構成図である。 １は容器、３は蒸発源、７はプラズマ発生用高周波電極
である。
例の構成図である。 １は容器、３は蒸発源、７はプラズマ発生用高周波電極
である。
Claims (1)
- 容器内に、蒸発源とプラズマ放電用高周波電極とを具備
し、該プラズマ放電用高周波電極を蒸発源金属の少くと
も一組成金属によって構成してなるイオンブレーティン
グ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17279481U JPS5878967U (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | イオンブレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17279481U JPS5878967U (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | イオンブレ−テイング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5878967U true JPS5878967U (ja) | 1983-05-28 |
Family
ID=29964676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17279481U Pending JPS5878967U (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | イオンブレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5878967U (ja) |
-
1981
- 1981-11-20 JP JP17279481U patent/JPS5878967U/ja active Pending
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