JPS59460U - スパツタ装置 - Google Patents
スパツタ装置Info
- Publication number
- JPS59460U JPS59460U JP9598882U JP9598882U JPS59460U JP S59460 U JPS59460 U JP S59460U JP 9598882 U JP9598882 U JP 9598882U JP 9598882 U JP9598882 U JP 9598882U JP S59460 U JPS59460 U JP S59460U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputtering device
- cathode
- anode
- sputtering apparatus
- recorded
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来のスパッタ装置の要部断面図、第２図は本
考案によるスパッタ装置の一実施例の要部断面図を示す
。 図において、１．２１は陰極、２．２２は陽極支持棒、
３は陽極、２１１はガス噴出口、２２２はガス導入通路
。
考案によるスパッタ装置の一実施例の要部断面図を示す
。 図において、１．２１は陰極、２．２２は陽極支持棒、
３は陽極、２１１はガス噴出口、２２２はガス導入通路
。
Claims (1)
- 低圧密封槽内に陰極と陽極とを具備してなるス−バッタ
装置において、前記陰極に複数個のガス噴出口を設けた
ことを特徴とするスパッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9598882U JPS59460U (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | スパツタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9598882U JPS59460U (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | スパツタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59460U true JPS59460U (ja) | 1984-01-05 |
Family
ID=30228965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9598882U Pending JPS59460U (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | スパツタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59460U (ja) |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP9598882U patent/JPS59460U/ja active Pending
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