JPS5969964U - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
- Publication number
- JPS5969964U JPS5969964U JP16349182U JP16349182U JPS5969964U JP S5969964 U JPS5969964 U JP S5969964U JP 16349182 U JP16349182 U JP 16349182U JP 16349182 U JP16349182 U JP 16349182U JP S5969964 U JPS5969964 U JP S5969964U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film forming
- electrodes
- forming equipment
- frequency discharge
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来の成膜装置、第２〜第４図は本考案の実施
例を示した成膜装置である。 １・・・・・・排気室、４′・・・・・・基板、９′・
・・・・・高周波電源、ＩＩＡ、ＩＩＢ・・・・・・電
極板。
例を示した成膜装置である。 １・・・・・・排気室、４′・・・・・・基板、９′・
・・・・・高周波電源、ＩＩＡ、ＩＩＢ・・・・・・電
極板。
Claims (1)
- 排気室内に少くとも２つの電極を配置し、該電極間に高
周波電力を印加して該電極間に高周波放電が発生する様
になし、蒸発源からの蒸発粒子を該高周波放電極を通し
て基板に付曹させる様になした成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16349182U JPS5969964U (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16349182U JPS5969964U (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5969964U true JPS5969964U (ja) | 1984-05-12 |
Family
ID=30358717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16349182U Pending JPS5969964U (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5969964U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5995157U (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-28 | 株式会社日立製作所 | イオンプレ−テイング装置 |
| JPS63170458U (ja) * | 1987-04-23 | 1988-11-07 |
-
1982
- 1982-10-28 JP JP16349182U patent/JPS5969964U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5995157U (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-28 | 株式会社日立製作所 | イオンプレ−テイング装置 |
| JPS63170458U (ja) * | 1987-04-23 | 1988-11-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5969964U (ja) | 成膜装置 | |
| JPS59187136U (ja) | 半導体薄膜形成装置 | |
| JPS58160309U (ja) | 膜厚モニタ | |
| JPS5983971U (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPS58160308U (ja) | 膜厚モニタ | |
| JPS59103756U (ja) | 高周波プラズマ励起用電極 | |
| JPS5878967U (ja) | イオンブレ−テイング装置 | |
| JPS5951061U (ja) | 高周波イオン・プレ−テイング装置 | |
| JPS5988459U (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPS5944770U (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPS5969965U (ja) | グロ−放電発生装置 | |
| JPS5969966U (ja) | グロ−放電発生装置 | |
| JPS5995157U (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPS592132U (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPS60140763U (ja) | プラズマ装置 | |
| JPS59178898U (ja) | プラズマ発生装置 | |
| JPS58160800U (ja) | 建造物構造体に穴をあける装置 | |
| JPS58172434U (ja) | イオン化成膜装置 | |
| JPS5868958U (ja) | グロ−放電ｃｖｄ装置 | |
| JPS59145564U (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPS5975790U (ja) | インバ−タの出力安定回路 | |
| JPS6093757U (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPS58138258U (ja) | イメ−ジ管装置 | |
| JPS60185653U (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS5980602U (ja) | 高周波加熱装置 |